JPS6386447A - 露光装置用被露光部材位置決め装置 - Google Patents

露光装置用被露光部材位置決め装置

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Publication number
JPS6386447A
JPS6386447A JP61231580A JP23158086A JPS6386447A JP S6386447 A JPS6386447 A JP S6386447A JP 61231580 A JP61231580 A JP 61231580A JP 23158086 A JP23158086 A JP 23158086A JP S6386447 A JPS6386447 A JP S6386447A
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Application number
JP61231580A
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English (en)
Inventor
Tatsuo Yamanaka
山中 立夫
Hideaki Koyanagi
秀昭 小柳
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NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • G03F7/70725Stages control

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体の製造過程において半導体ウェハ、
マスクブランク等の被露光部材を露光装置で露光する前
処理として、被露光部材を位置決めする露光装置用被露
光部材位置決め装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の露光装置用被露光部材位置決め装置としては、例
えば実開昭57−132454号公報に記載されている
ものがある。
この従来例は、半導体ウェハをOリングで保持して、一
対の生血状のコーンを対向させたセンタリング部に移動
させ、この状態で0リングを下降させて半導体ウェハを
センタリング部に保持し、次いでセンタリング部を吸着
チャックでなるウェハ載置部に移動させてからセンタリ
ング部を下降させることにより、半導体ウェハを吸着チ
ャック上に載置するように構成されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記従来の露光装置用被露光部材位置決
め装置にあっては、センタリング部で半導体ウェハをセ
ンタリングして位置決めを行うまでの間に半導体ウェハ
は、その自重によってのみ受は渡しが行われるので、半
導体ウェハを損傷するおそれが少なく、良好な位置決め
を行うことができるものであるが、半導体ウェハの位置
決めをセンタリング部のコーンで行うようにしており、
このコーンと半導体ウェハとの接触が線接触となるので
、その接触抵抗が大きく、半導体ウェハが傾斜状態で保
持されて位置決めを行うことができないおそれがあると
共に、このコーンにはOリングの通路を形成する必要が
あるので2つの半部に分割せざるを得なく、これら半部
を製作するには、円環状体を製作し、次いでこれを対称
位置で切断することが一般的であるが、円環状体を切断
して分割すると、その円環状体の製作過程における残留
応力(例えば表面処理、熱処理、研削等による歪)によ
る変形が生じ、更に、この変形分を是正するために雇研
削等が必要となるため、製作工程が複雑となると共に、
製作が面倒である。しかも、分割半部の取付けを行う場
合に、両者の軸心及び上下位置関係の位置決めが困難で
あり、その調整に時間が掛かる。
また、位置決めを行う半導体ウェハのサイズが複数種あ
る場合には、その曲率が異なるので、分割半部を移動さ
せたとしても異なるサイズの半導体ウェハをセンタリン
グすることはできず、したがって半導体ウェハのサイズ
に応じた種類のコーンを用意する必要があり、その保管
、管理が面倒であると共に、位置決めを行う半導体ウェ
ハのサイズに応じてセンタリング部のコーンを交換する
必要があり、その交換作業が面倒であり、しかも半導体
ウェハ以外のマスクブランクのように方形に形成されて
いる場合には、コーンの製作に手間が掛かる等の問題点
があった。
そこで、この発明は、上記従来例の問題点に着目してな
されたものであり、位置出し板と、これに着脱自在に取
付ける位置決めピンとによって、複数種のサイズの被露
光部材を容易且つ正確に位置決めすることができ、その
製作が容易であると共に、サイズの異なる被露光部材を
位置決めする場合でもその対応を容易に行うことができ
る露光装置用被露光部材位置決め装置を提供することを
目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、この発明は1、搬送装置に
よって搬送されて位置決めポジションに到達した被露光
部材を位置決めするようにした露光装置用被露光部材位
置決め装置において、前記被露光部材に対してその露光
面と垂直な方向に相対移動可能な位置出し板を備えた位
置合せ手段を有し、該位置合せ手段は、前記位置出し板
に着脱自在に固定された複数の位置決めピンを有し、該
位置決めピンは、前記被露光部材の周縁と接触し且つ当
該被露光部材を支持する面を下方に行くに従い被露光部
材の中心側に突出するように傾斜させた傾斜面としたこ
とを特徴としている。
〔作用〕
この発明においては、位置出し板上に、複数少なくとも
3本の位置決めピンを、位置決めを行う半導体ウェハ、
マスクブランク等の被露光部材のサイズに対応させて被
露光部材の周縁に各位置決めピンの傾斜面が被露光部材
の周縁において対向するように取付ける。この状態で、
搬送装置によって被露光部材を位置決めピンに対向する
位置決めポジションまで搬送し、次いで位置出し板及び
被露光部材を、被露光部材の露光面と直交する方向で且
つそれら間の距離が縮まる方向に相対移動させることに
より、被露光部材の周縁が位置決めピンの傾斜面部に接
触して、被露光部材をその露光面を水平面とした状態で
位置決めを行う。
〔実施例〕 以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図はこの発明の一実施例を示す平面図、第2図はそ
のn−n線上の断面図、第3図は第1図の側面図である
図中、1は基台であって、この基台1上に、移動機構2
と、吸着機構を有する載置台3とが固着され、且つ被露
光部材としてのマスクブランクMを右側から左側の位置
決めポジションに向けて搬送する搬送装置としてのベル
トコンベヤ4が移動機構5によって上下に移動可能に配
設されている。
移動機構2は、第2図に示すように、基台l上に固定さ
れた枠体6上に、タコジェネレータ7を備えた直流モー
タ8がその回転軸が下方に突出するように固定されてい
ると共に、その回転軸と平行にボールネジ軸9がボール
軸受10a、10bを介して回転自在に保持されている
。そして、直流モータ8の回転軸に取付けたタイミング
ギヤ11とボールネジ軸9の下端に取付けたタイミング
ギヤ12との間にタイミングベルト13が張設され、直
流モータ8の回転によってボールネジ軸9が回動するよ
うに構成されている。ボールネジ軸9には、その外周面
に円周方向の移動が規制されたボールナツト14が螺合
され、このボールナフト14に、摺動体16が固着され
ている。この摺動体16は、枠体6のボールネジ軸9を
挟む第1図における前後位置に上下方向に垂設された一
対の案内軸15a、15bによって案内され、且つ第1
図と共に参照して明らかな如く、平面がらみて中央部1
6aとその前後端部の右側縁から外方に僅かに延長する
突出部16b、16cとからコ字状に形成され、中央部
16aの前後端部に、前記案内軸15a、15bを挿通
する挿通孔16d。
16eが穿設されていると共に、中央部16aがボール
ナツト14に固着されている。
そして、摺動体16の突出部16b及び16cに後述す
る位置出し板を保持するL字状の保持ブラケット17が
ボルト締めされ、その平板部17aには載置台3を挿通
する挿通孔17bが穿設されている。
この保持ブラケット17の平板部17aには、方形状の
位置出し板18が載置されている。
この位置出し板18は、ベルトコンベヤ4によって位置
決めポジションに搬送されるマスクブランクMの前端に
対応する四半部にストッパ兼位置決めピン20を挿通案
内する複数の案内孔21が穿設され、残りの位置に位置
決めピン22を挿通案内する案内孔23と、各案内孔2
1.23に対応する位置にこれと同心的に雌ネジ24.
25が形成されている。ここで、各案内孔21.23及
び雌ネジ24.25は、ストッパ兼位置決めピン20及
び位置決めピン22を取付ける取付部として使用され、
図示の実施例では方形のマスクブランクMのサイズ即ち
2.5インチ、3インチ、3.5インチ、4インチ、5
インチ及び6インチに合わせて設けられ、ストッパ兼位
置決めピン20及び位置決めピン22を取付けた状態で
マスクブランクMをセンタリング保持可能に選定され、
各サイズ対応する案内孔21.23には該当するサイズ
表示線26が描かれている。
ストッパ兼位置決めピン20は、第4図に示す如く、上
端部に形成された円柱状のス)7バ部20aと、その下
端部に連接して形成された円錐台状の傾斜面部20bと
、その下端部に連接して形成され外周面にローレット掛
けされた把持部20Cと、下端部に形成された前記位置
出し板18の雌ネジ24に螺合する雄ネジ20dと、案
内孔21に係合する保合部20eとを備えており、係合
部20eの上部に軸部20hと一体加工された止め用環
体20gとから構成されている。
位置決めピン22は、第5図に示すように、前記ストッ
パ兼位置決めピン20のストッパ部20aが省略され、
これに応じて円錐台状の傾斜面部20bが円錐状の傾斜
面部22bに置換されていることを除いてはストッパ兼
位置決めピン20と同様に構成され、ストッパ兼位置決
めピン20との対応部分には符号22に対応するローマ
字を付し、その詳細説明はこれを省略する。ここで、各
ピン20.22の傾斜面部20b及び22bには、ニッ
ケルにテトラフルオロエチレン等の弗素樹脂を含浸させ
た鍍金を行うと共に、安息角が比較的小さく選定されて
マスクブランクMに接触した際にマスクブランクMを水
平方向に移動させる分力が大きくなるようにされている
。また、位置出し板18、位置決め兼ストッパピン20
及び位置決めピン22で位置合せ手段を構成している。
そして、位置出し板18の位置が摺動体16に突設され
た遮蔽板16fとこの遮蔽板16fの通路に沿って設け
られた3つのフォトインクラブタP1.〜P1.によっ
て検出される。この場合、フォトインタラプタPI、は
、第2図で実線図示のように位置出し板18が最下降し
てストッパ兼位置決めビン20の上端が!3!置装3の
載置部3aより下側となる最下位置を検出し、フォトイ
ンクラブタPI!は、位置出し板18が中位置部ちスト
ッパ兼位置決めビン20のストッパ部20aの先端がベ
ルトコンベヤ4の上側に突出してマスクブランクMの先
端が当接する位置にあることを検出し、さらにフォトイ
ンクラブタPI2は、位置出し板18が最上位置即ちス
トッパ兼位置決めビン20の傾斜面部20b及び位置決
めビン22の傾斜面部22bでマスクブランクMをセン
タリング保持する位置にあることを検出する。
また、載置台3は、上端部に真空吸着ヘッド(図示せず
)を形成した回転自在の載置部3aを有し、この載置部
3aがステップモータ等の回転駆動機構によって回転駆
動される。
さらに、ベルトコンベヤ4は、位置出し板18の上面に
対向してその前半部及び後半部にそれぞれ2本ずつ計4
本の丸ベル)4aがストッパ兼位置決めビン20及び位
置決めビン22を位置出し板18に取付けた状態でこれ
らと接触しないようにプーリ4b、4a間に張設され、
プーリ4cが回転駆動機構4dによって回転駆動される
と共に、プーリ4b、4cが上下移動機構5によって上
下動され、上側丸ベルト4a上にマスクブランクMを載
置して位置出し板18上に搬送する。ここで、前記移動
機構2と上下移動機構5とで相対移動機構が構成されて
いる。
通常状態では、下側から載置台3の載置面3a、ベルト
コンベヤ4に載置したマスクブランクMの下面、及びス
トッパ兼位置決めビン20のストッパ部20aの順に高
くなるように、それらの相対位置が選定されている。
そして、移動機構2の直流モータ8、ベルトコンベヤ4
の回転駆動機構4d及び上下移動機構5が制御装置30
によって制御される。この制御装置30には、位置出し
板18の位置を検出するフォトインクラブタP■1〜P
I3からの検出信号、タコジェネレータ7からの電圧信
号をA/D変換器31で変換したディジタル信号、位置
出し板18上に配設されたマスクブランクMの先端位置
を検出するフォトセンサPSからの検出信号、ベルトコ
ンベヤ4が上位置即ちベルトコンベヤ4で搬送されるマ
スクブランクMが載置台3の載置面3aに衝突しない位
置にあることを検出するリミットスイッチ32のスイッ
チ信号及び外部からの起動信号が入力されると共に、搬
送するマスクブランクMのサイズを選択するサイズ設定
器33の設定信号が入力され、これらに基づき直流モー
タ8、回転駆動機構4d及び上下移動機構5を制御する
すなわち、起動信号が入力されると、先ず、直流モータ
8を正転させて位置出し板18を上昇させ、フォトイン
クラブタP1.の検出信号が入力されたときに直流モー
タ8を停止させ、その駆動回路をインターロックすると
共に、上下移動機構5が上側位置にあることをリミット
スイッチ32の検出信号によって確認して上下移動機構
5の駆動回路をインターロックする0次いで、回転駆動
機構4dを駆動してマスクブランクMの搬送を開始し、
その先端をフォトセンサPSで検出してその検出信号が
入力されると、サイズ設定器33で設定されたマスクブ
ランクMのサイズに応じた時間だけタイマをセットし、
このタイマがタイムアンプしたときに、回転駆動機構4
dの駆動を停止し、次いで上下移動機構5を作動させて
、マスクブランクMを載置面3a上に載置し、その後直
流モータ8を正転させて位置出し仮18を上昇させ、フ
ォトインタラプタPI3から検出信号が出力されると直
流モータ8を停止させる。その停止と同時又は僅かに遅
れて直流モータ8を逆転させて位置出し板18を下降さ
せ、フォトインクラブタP■。
から検出信号が入力されると直流モータ8を停止させる
次に、上記実施例の動作を説明する。今、ベルトコンベ
ヤ4上にマスクブランクMが載置されておらず、且つ載
置台3の載置面3aにもマスクブランクMが載置されて
おらず、さらに、ベルトコンベヤ4が上位置にあると共
に、位置出し板18が最下位置にあるものとする。
この状態で、先ず、位置決めを行うマスクブランクMの
サイズをサイズ設定器33に設定すると共に、位置出し
板18の案内孔21.23中のマスクブランクMに相当
する案内孔21.23を選択する。この場合、マスクブ
ランクMが6インチである場合には、位置出し板18の
最外周の案内孔21.23を選択し、これらにそれぞれ
2本のストッパ兼位置決めピン20及び5本の位置決め
ピン22を取付ける。すなわち、両ビン20及び22の
雄ネジ20d及び22dをそれぞれ雌ネジ24及び25
に螺合させる。これによって、両ピン20及び22の係
合部20e及び22eが位置出し板18の案内孔21及
び23に係合すると共に、止め用環体20gの底面が位
置出し板18の上面と係合して正確な位置決めが行われ
る。
その後、ベルトコンベヤ4上にブーIJ 6 d側でマ
スクブランクMが載置され、この状態で起動信号が制御
装置30に入力されると、先ず、移動機構2の直流モー
タ8を正転させて、位置出し板18を中位置に上昇させ
る。これと同時にベルトコンベヤ40回転駆動機構6d
を駆動してマスクブランクMの搬送を開始する。そして
、マスクブランクMの前端がフォトセンサPS位置に達
すると、制御装置30内のセットされたタイマがタイム
アツプすると、回転駆動機構6dが停止されて、ベルト
コンベヤ4が停止状態となる。このベルトコンベヤ4の
停止直前に、マスクブランクMの前端がストッパ兼位置
決めピン20のストツバ部20aに当接してその左方へ
の移動が規制される。その後、コンベヤ4は、上下移動
機構5により作動され、載置面3aの下側に下降し、マ
スクブランクMを載置面3a上に載置する。
その後、制御装置30によって移動機構2の直流モータ
8が正転されて、位置出し板18が最上位置まで上昇さ
れる。このように位置出し板18が上昇すると、マスク
ブランクMの外周面にストッパ兼位置決めピン20及び
位置決めピン22の傾斜面部20b及び22bが係合す
ることになり、これら傾斜面部20b及び22bによっ
て、マスクブランクMが徐々に右寄せされながらセンタ
リングされ、位置出し板18が最上位置に達する前にマ
スクブランクMが完全にセンタリングされた状態で載置
面3aから上方に離間した位置に保持される。
これと同時又は僅かに遅れて制御装置30によって移動
機構2の直流モータ8が逆転され、位置出し板18が比
較的緩やかに下降し、その下降過程で、マスクブランク
Mが載置台3の載置面3aに当接して、これに受は渡さ
れる。このとき、載置台3の載置面3aでは真空吸着チ
ャックが作動されており、マスクブランクMが真空吸着
される。
そして、載置台3の載置面3aの上に位置決めされたマ
スクブランクMは、図示しない真空吸着チャックを備え
たスイングアームによってフォトリピータ等の露光装置
に転送される。
また、位置決めを行うマスクブランクMのサイズを変更
する場合には、そのサイズをサイズ設定器33に設定す
ると共に、位置出し板18上のストッパ兼位置決めピン
20及び位置決めピン22の取付位置をサイズに合わせ
て変更することにより、容易に行うことができる。
なお、上記実施例においては、位置出し板18が、マス
クブランクMをセンタリングするための案内孔21.2
3及び雌ネジ24.25を有する場合について説明した
が、これに限定されるものではなく、第6図に示すよう
に、略円形の半導体ウェハ40をセンタリング保持する
ようにそのウェハサイズに対応した案内孔21.23及
び雌ネジ24.25を設けるようにしてもよい。この場
合、マスクブランク用と半導体ウェハ用との2種類の位
置出し仮18が必要となるが、両者を1つの位置決め装
置で、位置決めを行うことはないので、別体としても何
ら支障はなく、位置決めするマスクブランク、半導体ウ
ェハの種類が少ない場合には、両者に対応する案内孔及
び雌ネジを1つの位置出し板18上に形成してマスクブ
ランク及び半導体ウェハの双方の位置決めを行うように
してもよい。
また、上記実施例においては、位置出し板18を移動機
構2によって移動させる場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、ベルトコンベヤ4、位置出
し板18及びil!置台3を相対的に移動させることに
より、これら間でのマスクブランクMの受は渡しを行う
ようにしてもよいことは勿論である。
さらに、上記実施例においては、位置出し板18にスト
ッパ兼位置決めピン20及び位置決めピン22を着脱自
在に取付ける場合について説明したが、これに限らず各
ピン20及び22を進退自在に位置出し板18に取付け
、各ピン20及び22をソレノイド等の駆動機構で進退
させて被露光部材のサイズに応じて選択するようにして
もよい。
またさらに、上記実施例においては、位置出し板18の
移動機構2として、直流モータ8によって回転駆動され
るボールネジ軸を適用した場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、ギャードモータやパルス
モータを使用したり、ワイヤで摺動体16を移動させた
りしてセンタリング保持した被露光部材に揺動を与える
ことなく比較的低速度で位置出し板18を移動させるこ
とが可能な他の移動機構を適用し得ることは言うまでも
ない。
また、上記実施例においては、位置出しFi18にスト
ッパ兼位置決めピン20及び位置決めピン22をネジ止
めする場合について説明したが、これに限らず他の着脱
自在の取付は手段を適用することもできる。
さらに、上記実施例においては、ストッパ兼位置決めピ
ン20及び位置決めピン22の傾斜面部20b及び22
bがそれぞれ円錐台状及び円錐状に形成されている場合
について説明したが、これに限らず被露光部材の外周面
に接触する面だけを傾斜面とするようにしてもよい。
またさらに、上記実施例においては、位置決め兼ストッ
パビン20を適用した場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、別途被露光部材のストッパを
設ける場合には、位置決めピンのみを使用するようにし
てもよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、位置決めピン
を位置出し板に着脱自在に取付け、この位置出し板と被
露光部材とを相対的に移動させることにより、搬送装置
によって搬送された被露光部材を位置決めピンでセンタ
リング保持するように構成されているので、その製造が
容易であると共に、位置決めピンによって被露光部材を
点接触で支持するので、被露光部材の位置決めを行う際
の接触抵抗が少なく、被露光部材が傾いたりすることな
く水平状態で保持することができると共に、円板上及び
方形上の被露光部材においても位置決めピンの取付は位
置を変更するだけで容易に異なるサイズの被露光部材を
位置決めすることができ、しかも位置決めピンを適用し
ているので、搬送装置の通路の確保が容易となり、さら
に上側のようにストッパ兼位置決めピンで被露光部材の
ストッパを兼ねてさせると、別途ストッパを設ける必要
がなくこの分部品点数を減少させることができる等の効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す平面図、第2図は第
1図の■−■線上の断面図、第3図は第1図の左側面図
、第4図はこの発明に適用し得るストッパ兼位置決めピ
ンの一例を示す正面図、第5図はこの発明に適用し得る
位置決めピンの一例を示す正面図、第6図は位置出し板
の他の実施例を示す平面図である。 図中、■は基台、2は移動機構、3は載置台、Mはマス
クブランク、4はベルトコンベヤ、4eは上下移動機構
、8は直流モータ、9はボールネジ軸、11はポールナ
ツト、18は位置出し板、20はストッパ兼位置決めピ
ン、20aはストッパ部、20bは傾斜面部、20dは
雄ネジ、20eは保合部、21.23は案内孔、22は
位置決めピン、22bは傾斜面部、22dは雄ネジ、2
2eは保合部、24.25は雌ネジ、30は制御装置、
33はサイズ設定器である。 第3図 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)搬送装置によって搬送されて位置決めポジション
    に到達した被露光部材を位置決めするようにした露光装
    置用被露光部材位置決め装置において、前記被露光部材
    に対してその露光面と垂直な方向に相対移動可能な位置
    出し板を備えた位置合せ手段を有し、該位置合せ手段は
    、前記位置出し板に着脱自在に固定された複数の位置決
    めピンを有し、該位置決めピンは、前記被露光部材の周
    縁と接触し且つ当該被露光部材を支持する面を下方に行
    くに従い被露光部材の中心側に突出するように傾斜させ
    た傾斜面としたことを特徴とする露光装置用被露光部材
    位置決め装置。
  2. (2)搬送される被露光部材の前端に前記着脱自在に固
    定する位置決めピンは、傾斜面部の上端に被露光部材の
    前端が当接するストッパ部を備えている特許請求の範囲
    第1項記載の露光装置用被露光部材位置決め装置。
JP61231580A 1986-09-30 1986-09-30 露光装置用被露光部材位置決め装置 Pending JPS6386447A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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