JPS6383052A - アミノフエノ−ル誘導体 - Google Patents
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
11上匹■里旦!
本発明は、アミンフェノール誘導体及びその塩関する。
炙米五韮庸
本発明に係わる化合物は、文献未載の新規化合物である
。
。
明が 決しようとする問題点
本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。
提供することを目的とする。
間 点を °するための手又
本発明によれば、下記一般式(1)で表わされるアミン
フェノール誘導体及びその塩が提供される。
フェノール誘導体及びその塩が提供される。
〔式中R1及びR2は各々低級アルキル基を示す。R3
は水素原子又は低級アルキル基を示す。
は水素原子又は低級アルキル基を示す。
基Aは低級アルコキシカルボニル基、ピペリジノカルボ
ニル基、フェニル低級アルキルカルバモイル基、アルキ
ルカルバモイル ルキルカルバモイル基、置換基として低級アルコキシカ
ルボニル イル、低級アルキルカルバモイル及びシクロアルキルカ
ルバモイル基から選ばれた基を有する低級アルケニル基
、置換基としてシクロアルキルカルバモイル、フェニル
低級アルキルカルバモイル基 ルボニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を
有する低級アルキル基又は −NR’ R5基(R’は水素原子又は低級アルキル基
を、またR5は置換基としてフェニル基を有することの
ある低級アルキル基、フェニル基、置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるベンゾイル基、置換基とし
て低級アルコキシカルボニル基を有することのある低級
アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基又は〕工二
ルスルホニル基を示す。)を示す。〕本明細書において
、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基
等の炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示
できる。
ニル基、フェニル低級アルキルカルバモイル基、アルキ
ルカルバモイル ルキルカルバモイル基、置換基として低級アルコキシカ
ルボニル イル、低級アルキルカルバモイル及びシクロアルキルカ
ルバモイル基から選ばれた基を有する低級アルケニル基
、置換基としてシクロアルキルカルバモイル、フェニル
低級アルキルカルバモイル基 ルボニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を
有する低級アルキル基又は −NR’ R5基(R’は水素原子又は低級アルキル基
を、またR5は置換基としてフェニル基を有することの
ある低級アルキル基、フェニル基、置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるベンゾイル基、置換基とし
て低級アルコキシカルボニル基を有することのある低級
アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基又は〕工二
ルスルホニル基を示す。)を示す。〕本明細書において
、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基
等の炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示
できる。
フェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、1
−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、2−フェニル−1−メチルエチル、4−フェ
ニルブチル、2−フェニル−1、1−ジメチルエチル、
5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル基等を例
示できる。
−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、2−フェニル−1−メチルエチル、4−フェ
ニルブチル、2−フェニル−1、1−ジメチルエチル、
5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル基等を例
示できる。
低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル 低級アルカノイル基としては、例えばアセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例示できる。
カルボニル ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル 低級アルカノイル基としては、例えばアセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例示できる。
低級アルキルカルバモイル基としては、例えばメチルカ
ルバモイル ピルカルバモイル ブチルカルバモイル ペンチルカルバモイル 等を例示できる。
ルバモイル ピルカルバモイル ブチルカルバモイル ペンチルカルバモイル 等を例示できる。
シクロアルキルカルバモイル基としては、例えばシクロ
プロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル ロへキシルカルバモイル基等を例示できる。
プロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル ロへキシルカルバモイル基等を例示できる。
アルキルカルバモイル基としては、上記例示の低級アル
キルカルバモイル基の外、例えばヘプチルカルバモイル
、オクチルカルバモイル、ノナニルカルバモイル バモイル、ドデカニルカルバモイル基等を例示できる。
キルカルバモイル基の外、例えばヘプチルカルバモイル
、オクチルカルバモイル、ノナニルカルバモイル バモイル、ドデカニルカルバモイル基等を例示できる。
ピペリジノカルボニル基としては、例えば1−ピペリジ
ノカルボニル、2−ピペリジノカルボニル、3−ピペリ
ジノカルボニル、4−ピペリジノカルボニル基等を例示
できる。
ノカルボニル、2−ピペリジノカルボニル、3−ピペリ
ジノカルボニル、4−ピペリジノカルボニル基等を例示
できる。
フェニル低級アルキルカルバモイル基としては、例えば
ベンジルカルバモイル、1−フェニルエチルカルバモイ
ル、2−フェニルエチルカルバモイルエ二ルー1−メチ
ルエチルカルバモイルェニルブチルカルバモイル、2−
フェニル−1。
ベンジルカルバモイル、1−フェニルエチルカルバモイ
ル、2−フェニルエチルカルバモイルエ二ルー1−メチ
ルエチルカルバモイルェニルブチルカルバモイル、2−
フェニル−1。
1−ジメチルエチルカルバモイル
ンチルカルバモイル
ルバモイル基等を例示できる。
低級アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、イ
ンプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテ
ニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニ
ル、4−ペンテニル、1−へキセニル、2−ヘキセニル
、3−へキセニル、4−へキセニル、5−へキセニル基
等を例示できる。
ンプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテ
ニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニ
ル、4−ペンテニル、1−へキセニル、2−ヘキセニル
、3−へキセニル、4−へキセニル、5−へキセニル基
等を例示できる。
モルホリノカルボニル基としては、例えば2−モルホリ
ノカルボニル、3−モルホリノカルボニル、4−モルホ
リノカルボニル基等を例示できる。
ノカルボニル、3−モルホリノカルボニル、4−モルホ
リノカルボニル基等を例示できる。
置換基として低級アルキル基を有することのおるベンゾ
イル基としては、ベンゾイル基の外、例えば2−メチル
ベンゾイル、3−メチルベンゾイル、4−メチルベンゾ
イル、3−エチルベンゾイル、4−プロピルベンゾイル
、4−ブチルベンゾイル、3−ペンチルベンゾイル、4
−へキシルベンゾイル基等を例示できる。
イル基としては、ベンゾイル基の外、例えば2−メチル
ベンゾイル、3−メチルベンゾイル、4−メチルベンゾ
イル、3−エチルベンゾイル、4−プロピルベンゾイル
、4−ブチルベンゾイル、3−ペンチルベンゾイル、4
−へキシルベンゾイル基等を例示できる。
置換基として低級アルコキシカルボニル基を有すること
の必る低級アルカノイル基としては、前記例示の低級ア
ルカノイル基の外、例えばメトキシカルボニルアセチル チル、3−(メトキシカルボニル)プロピオニル、3−
(エトキシカルボニル)プロピオニル、2−(メトキシ
カルボニル)プロピオニル基等を例示できる。
の必る低級アルカノイル基としては、前記例示の低級ア
ルカノイル基の外、例えばメトキシカルボニルアセチル チル、3−(メトキシカルボニル)プロピオニル、3−
(エトキシカルボニル)プロピオニル、2−(メトキシ
カルボニル)プロピオニル基等を例示できる。
低級アルキルスルホニル基としては、例えばメチルスル
ホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソ
プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、tert−ブ
チルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホ
ニル基等を例示できる。
ホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソ
プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、tert−ブ
チルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホ
ニル基等を例示できる。
上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物及びその
塩は、動物、とりわ【プ哺乳動物に対して例えば抗炎症
、抗リウマチ、抗アレルギー、解熱、鎮痛、利尿、血小
板凝集阻止、血圧降下等の薬理作用を示し、従って、こ
れは例えば抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレルギー剤、
解熱剤、鎮痛剤、抗血栓剤、利尿剤、降圧剤等の医薬品
として有用で必る。
塩は、動物、とりわ【プ哺乳動物に対して例えば抗炎症
、抗リウマチ、抗アレルギー、解熱、鎮痛、利尿、血小
板凝集阻止、血圧降下等の薬理作用を示し、従って、こ
れは例えば抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレルギー剤、
解熱剤、鎮痛剤、抗血栓剤、利尿剤、降圧剤等の医薬品
として有用で必る。
本発明のアミンフェノール誘導体は、各種の方法により
製造することができる。その具体例を下記反応工程式に
示す。
製造することができる。その具体例を下記反応工程式に
示す。
〈反応工程式−1〉
2 R3
(1a)
〔式中、R+ 、R2及びR3は前記に同じ。Bは一N
R’ R” aM (R’ は?7Hi2に同U。R5
aはフェニル基及びフェニル基を有することのある低級
アルキル基を示す。)、低級アルコキシカルボニル基又
は置換基として低級アルコキシカルボニル、カルボキシ
及び低級アルカノイル基から選ばれる基を有する低級ア
ルケニル基を示す。〕 上記反応工程式−1に示す縮合反応は、例えば塩化アル
ミニウム、塩化第二鉄、四塩化チタン、塩化第二錫、塩
化亜鉛等のハロゲン化物系ルイス酸の存在下に、ベンゾ
キノン誘導体(2)と、脱酸剤を兼ねたアニリン誘導体
(3)とを、不活性有機塩基、例えば1,2−ジクロロ
エタン、クロロホルム、トルエン、ベンゼン等の溶媒中
で、室温〜約120℃の温度で反応させることにより実
施される。上記反応系には又脱酸剤として例えばピリジ
ン、トリエチルアミン等の不活性有機塩基を添加使用す
ることもできる。ベンゾキノン誘導体(2)とアニリン
誘導体(3)との使用割合は、特に限定はないが、通常
前者に対して後者を約1〜10倍モル量、好ましくは約
1〜3倍モル量用いるのが望ましい。
R’ R” aM (R’ は?7Hi2に同U。R5
aはフェニル基及びフェニル基を有することのある低級
アルキル基を示す。)、低級アルコキシカルボニル基又
は置換基として低級アルコキシカルボニル、カルボキシ
及び低級アルカノイル基から選ばれる基を有する低級ア
ルケニル基を示す。〕 上記反応工程式−1に示す縮合反応は、例えば塩化アル
ミニウム、塩化第二鉄、四塩化チタン、塩化第二錫、塩
化亜鉛等のハロゲン化物系ルイス酸の存在下に、ベンゾ
キノン誘導体(2)と、脱酸剤を兼ねたアニリン誘導体
(3)とを、不活性有機塩基、例えば1,2−ジクロロ
エタン、クロロホルム、トルエン、ベンゼン等の溶媒中
で、室温〜約120℃の温度で反応させることにより実
施される。上記反応系には又脱酸剤として例えばピリジ
ン、トリエチルアミン等の不活性有機塩基を添加使用す
ることもできる。ベンゾキノン誘導体(2)とアニリン
誘導体(3)との使用割合は、特に限定はないが、通常
前者に対して後者を約1〜10倍モル量、好ましくは約
1〜3倍モル量用いるのが望ましい。
尚、上記において四塩化チタンを利用する反応は、例え
ばジャーナル オブ オーガニック ケミストリー[J
、Orl:1.Chem、、32.3246(1967
)]に記載のワインガルテン(Weingarten
)らの方法に準じて実施できる。
ばジャーナル オブ オーガニック ケミストリー[J
、Orl:1.Chem、、32.3246(1967
)]に記載のワインガルテン(Weingarten
)らの方法に準じて実施できる。
また、上記縮合反応は、例えば三弗化硼素・エチルエー
テル等の上記したハロゲン化物系ルイス酸以外のルイス
酸を用いて、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の適当
な溶媒中で両原料化合物を室温〜約100℃の温度で反
応させることによっても実施できる。この方法は、フイ
グエラス(F igueras )らの方法[J、 O
rg、 Chem、。
テル等の上記したハロゲン化物系ルイス酸以外のルイス
酸を用いて、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の適当
な溶媒中で両原料化合物を室温〜約100℃の温度で反
応させることによっても実施できる。この方法は、フイ
グエラス(F igueras )らの方法[J、 O
rg、 Chem、。
■、3497 (1971)]に準じて実施することが
できる、 かくして、化合物(4)を収得できる。
できる、 かくして、化合物(4)を収得できる。
更に化合物(4)は、ベンゾキノン誘導体(2)とアニ
リン誘導体(3)とを、約100〜200℃に加熱して
反応させることによっても製造できる。この方法は、ラ
イカー(Reiker )とケスラ−(Kessler
)により、テトラヘドロン[丁etrahedron、
23.3723 (1976) ]に記載された方法
に準じるものである。
リン誘導体(3)とを、約100〜200℃に加熱して
反応させることによっても製造できる。この方法は、ラ
イカー(Reiker )とケスラ−(Kessler
)により、テトラヘドロン[丁etrahedron、
23.3723 (1976) ]に記載された方法
に準じるものである。
上記のごとくして得られる化合物(4)は、反応系内よ
り単離して引続く還元反応に供することもできるが、単
離することなく引続く反応に供してもよい。
り単離して引続く還元反応に供することもできるが、単
離することなく引続く反応に供してもよい。
上記に引続く化合物(4)の還元反応は、通常の方法、
例えばハイドロサルファイドナトリウム、亜鉛と酢酸を
用いる方法等により実施でき、かくして目的化合物(1
a)を収得できる。また上記還元反応は、例えばパラジ
ウム炭素、白金等の触媒の存在下に水素ガスを用いても
実施することができる。
例えばハイドロサルファイドナトリウム、亜鉛と酢酸を
用いる方法等により実施でき、かくして目的化合物(1
a)を収得できる。また上記還元反応は、例えばパラジ
ウム炭素、白金等の触媒の存在下に水素ガスを用いても
実施することができる。
〈反応工程式−2〉
(1b) エステル化
(1C)
〔式中R1、R2及びR3は前記に同じ。Cはアミノ基
、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ基、カルボキ
シ置換低級アルケニル基を示す。
、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ基、カルボキ
シ置換低級アルケニル基を示す。
Dは−NR4R51)基(R’は前記に同じ。
R5bは置換基として低級アルキル基を有することのあ
るベンゾイル基、置換基として低級アルコキシカルボニ
ル基を有することのある低級アルカノイル基、低級アル
キルスルホニル基又はフエニルスルホニル基を示す。)
、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル
カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、シクロアル
キルカルバモイル ル、低級アルコキシカルボニル及びシクロアルキルカル
バモイル基から選ばれた基を有する低級アルケニル基、
置換基としてシクロアルキルカルバモイル、低級アルキ
ルカルバモイル、低級アルコキシカルボニル、フェニル
低級アルキルカルバモイル、ピペリジノカルボニル ニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有す
る低級アルキル基を示す。〕 反応工程式−2によれば、化合物(1b)のアシル化、
アミド化、スルホニル化又はエステル化反応により化合
物(1C)を収得できる。
るベンゾイル基、置換基として低級アルコキシカルボニ
ル基を有することのある低級アルカノイル基、低級アル
キルスルホニル基又はフエニルスルホニル基を示す。)
、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル
カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、シクロアル
キルカルバモイル ル、低級アルコキシカルボニル及びシクロアルキルカル
バモイル基から選ばれた基を有する低級アルケニル基、
置換基としてシクロアルキルカルバモイル、低級アルキ
ルカルバモイル、低級アルコキシカルボニル、フェニル
低級アルキルカルバモイル、ピペリジノカルボニル ニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有す
る低級アルキル基を示す。〕 反応工程式−2によれば、化合物(1b)のアシル化、
アミド化、スルホニル化又はエステル化反応により化合
物(1C)を収得できる。
上記アシル化及びスルホニル化反応は、基Cがアミン基
である化合物(1b)について行なわれるものでおり、
各々以下のごとくして実施される。
である化合物(1b)について行なわれるものでおり、
各々以下のごとくして実施される。
即ち、アシル化反応は、適当なアシル化剤を用いて、不
活性?8媒中で実施される。アシル化剤としては、例え
ばアセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオ
ニルクロライド、ブチリルクロライド、イソブチリルク
ロライド、バレリルクロライド、イソバレリルクロライ
ド、ピバロイルクロライド、ヘプタノイルクロライド等
の低級アルキルカルボニルハライド ロライド、モノメチルマロン酸クロライド、モノメチル
コハク酸クロライド、モノプロピルゲルタール酸クロラ
イド、モノエチルアジピン酸クロライド、モノメチルス
ペリン酸クロライド等の低級アルコキシカルボニル低級
アルキルカルボニルハライド;低級アルキル基で置換さ
れていてもよいベンゾイルクロライド等を使用できる。
活性?8媒中で実施される。アシル化剤としては、例え
ばアセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオ
ニルクロライド、ブチリルクロライド、イソブチリルク
ロライド、バレリルクロライド、イソバレリルクロライ
ド、ピバロイルクロライド、ヘプタノイルクロライド等
の低級アルキルカルボニルハライド ロライド、モノメチルマロン酸クロライド、モノメチル
コハク酸クロライド、モノプロピルゲルタール酸クロラ
イド、モノエチルアジピン酸クロライド、モノメチルス
ペリン酸クロライド等の低級アルコキシカルボニル低級
アルキルカルボニルハライド;低級アルキル基で置換さ
れていてもよいベンゾイルクロライド等を使用できる。
不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン(THF)
、ジエチルエーテル、クロロホルム、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド(DMF>、N,N−ジメチルア
セトアミド(DMA)等を使用できる。アシル化反応は
、例えばトリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の適
当な塩基の存在下に、一般に約−20℃〜30’Cの温
度範囲で良好に進行する。
、ジエチルエーテル、クロロホルム、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド(DMF>、N,N−ジメチルア
セトアミド(DMA)等を使用できる。アシル化反応は
、例えばトリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の適
当な塩基の存在下に、一般に約−20℃〜30’Cの温
度範囲で良好に進行する。
アシル化剤の原料化合物に対する使用割合は、適宜決定
できるが、通常約1〜3倍モル量、好ましくは約1〜1
.1倍モル量の範囲から選択されるのが適当である。
できるが、通常約1〜3倍モル量、好ましくは約1〜1
.1倍モル量の範囲から選択されるのが適当である。
スルホニル化反応は、適当なスルホニル化剤を利用して
、上記アシル化反応と同様にして、同様の不活性有機溶
媒中、塩基の存在下に実施することができる。ここで用
いられるスルホニル化剤としては、例えばメタンスルホ
ニルクロライド、エタンスルホニルクロライド、ブタン
スルホニルクロライド、ヘキサンスルホニルクロライド
等の低級アルキルスルホニルハライドやベンゼンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルブロマイド等のベ
ンゼンスルホニルハライド等を例示できる。
、上記アシル化反応と同様にして、同様の不活性有機溶
媒中、塩基の存在下に実施することができる。ここで用
いられるスルホニル化剤としては、例えばメタンスルホ
ニルクロライド、エタンスルホニルクロライド、ブタン
スルホニルクロライド、ヘキサンスルホニルクロライド
等の低級アルキルスルホニルハライドやベンゼンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルブロマイド等のベ
ンゼンスルホニルハライド等を例示できる。
また、上記反応工程式−2に示すアミド化反応は、基C
がカルボキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキ
シ低級アルケニル基である化合物(1b)について実施
されるものでおり、該アミド化反応は、通常のアミド結
合形成反応、例えば酸ハライド法、混合酸無水物法、活
性エステル法、N.N’ 〜ジシクロへキシルカルボジ
イミド(DCC>法、アジド法、シアノリン酸ジエチル
法等に従い実施することができる。シアノリン酸ジエチ
ル法につき詳述すれば、該方法は、例えばDMF,TH
F、酢酸エチル等の適当な溶媒中、化合物(1b)に対
して約1〜1,5倍モル量の対応するアミン類、例えば
アルキルアミン、フェニル低級アルキルアミン、シクロ
アルキルアミン、ヒドラジン、モルホリン、ピペリジン
等を用い、約1〜1.2倍モル量のシアノリン酸ジエチ
ル及び約1〜5倍モル量の有機アミン、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン等を用いて行なわれる。該反応は、
通常約O〜30℃にて約2〜20時間撹拌することによ
り実施できる。
がカルボキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキ
シ低級アルケニル基である化合物(1b)について実施
されるものでおり、該アミド化反応は、通常のアミド結
合形成反応、例えば酸ハライド法、混合酸無水物法、活
性エステル法、N.N’ 〜ジシクロへキシルカルボジ
イミド(DCC>法、アジド法、シアノリン酸ジエチル
法等に従い実施することができる。シアノリン酸ジエチ
ル法につき詳述すれば、該方法は、例えばDMF,TH
F、酢酸エチル等の適当な溶媒中、化合物(1b)に対
して約1〜1,5倍モル量の対応するアミン類、例えば
アルキルアミン、フェニル低級アルキルアミン、シクロ
アルキルアミン、ヒドラジン、モルホリン、ピペリジン
等を用い、約1〜1.2倍モル量のシアノリン酸ジエチ
ル及び約1〜5倍モル量の有機アミン、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン等を用いて行なわれる。該反応は、
通常約O〜30℃にて約2〜20時間撹拌することによ
り実施できる。
なお、基りがヒドラジノカルボニル基を有する低級アル
キル基である化合物(1C)は、基Cが低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基である化合物(1b)と、ヒ
ドラジン水和物とを反応させることによっても収得する
ことができる。該反応は、より詳しくは通常エタノール
、メタノール、tert−ブタノール等のアルコール溶
媒中で、約50〜300倍モル量のヒドラジン水和物を
用いて、約1〜20時間、溶媒の沸点温度に加熱するこ
とにより行なわれる。
キル基である化合物(1C)は、基Cが低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基である化合物(1b)と、ヒ
ドラジン水和物とを反応させることによっても収得する
ことができる。該反応は、より詳しくは通常エタノール
、メタノール、tert−ブタノール等のアルコール溶
媒中で、約50〜300倍モル量のヒドラジン水和物を
用いて、約1〜20時間、溶媒の沸点温度に加熱するこ
とにより行なわれる。
ざらに、反応工程式−2に示す化合物(1b)のエステ
ル化反応は、MCがカルボキシ基、カルボキシ低級アル
キル基及びカルボキシ低級アルケニル基である化合物に
ついて実施される。該エステル化反応は、通常の方法、
例えば塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、三弗化硼
素エーテル錯体[BF3 ・(C2R5>201等の酸
触媒の存在下に、化合物(1b)を低級アルコールと共
に加熱して反応させる方法や化合物(1b)に対して約
1〜10倍モル量の塩基性化合物、例えばピリジン、ト
リエチルアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等の存在下に、不活性溶媒、例えばDMF
、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA) 、ジメ
チルスルホキシド(DMSO>、ピリジン、クロロホル
ム、ジクロルメタン、THF、酢酸エチル、ベンゼン、
トルエン等の溶媒中で、低級アルキルハライドの約1〜
10倍モル量(対化合物(1b))を反応させる方法等
により実施できる。
ル化反応は、MCがカルボキシ基、カルボキシ低級アル
キル基及びカルボキシ低級アルケニル基である化合物に
ついて実施される。該エステル化反応は、通常の方法、
例えば塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、三弗化硼
素エーテル錯体[BF3 ・(C2R5>201等の酸
触媒の存在下に、化合物(1b)を低級アルコールと共
に加熱して反応させる方法や化合物(1b)に対して約
1〜10倍モル量の塩基性化合物、例えばピリジン、ト
リエチルアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等の存在下に、不活性溶媒、例えばDMF
、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA) 、ジメ
チルスルホキシド(DMSO>、ピリジン、クロロホル
ム、ジクロルメタン、THF、酢酸エチル、ベンゼン、
トルエン等の溶媒中で、低級アルキルハライドの約1〜
10倍モル量(対化合物(1b))を反応させる方法等
により実施できる。
尚、一般式(1b)において、Cがカルボキシ基、アミ
ノ基、カルボキシ低級アルキル基である化合物は、前記
反応工程式−1に示した方法に準じて製造することがで
きる。
ノ基、カルボキシ低級アルキル基である化合物は、前記
反応工程式−1に示した方法に準じて製造することがで
きる。
く反応工程式−3〉
2 R3
(1d)
(1e)
〔式中R1、R2及びR3は前記に同じ。Eは−NR’
R5C基(R’は前記に同じ。R5゜は低級アルカノ
イル基又はベンゾイル基を示す)ヲ示ス。14;t−N
R’ aR5dl (R’ aG;[r記に同じ。R2
Oはフェニル基を有することのある低級アルキル基を示
す)を示す。〕上上記反応工程−3に示す方法によれば
、化合物(1d)の還元反応により、化合物(1e)を
収得できる。該還元反応は、例えばジエチルエーテル、
THF等の不活性溶媒中、LiAQHtを用いて好適に
実施できる。上記LfA9Hzの量は、通常化合物(1
d)に対して約1〜10倍モル量の範囲とするのがよ(
、反応は一般に約O′C付近〜溶媒の沸点範囲の温度条
件下に進行する。
R5C基(R’は前記に同じ。R5゜は低級アルカノ
イル基又はベンゾイル基を示す)ヲ示ス。14;t−N
R’ aR5dl (R’ aG;[r記に同じ。R2
Oはフェニル基を有することのある低級アルキル基を示
す)を示す。〕上上記反応工程−3に示す方法によれば
、化合物(1d)の還元反応により、化合物(1e)を
収得できる。該還元反応は、例えばジエチルエーテル、
THF等の不活性溶媒中、LiAQHtを用いて好適に
実施できる。上記LfA9Hzの量は、通常化合物(1
d)に対して約1〜10倍モル量の範囲とするのがよ(
、反応は一般に約O′C付近〜溶媒の沸点範囲の温度条
件下に進行する。
上記各反応工程式に示す反応により得られる本発明化合
物は、慣用の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、再結
晶法、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。
物は、慣用の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、再結
晶法、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。
またかくして得られる本発明化合物は、これに常法に従
い適当な酸性化合物を付加反応させることにより、容易
に医薬的に許容される酸付加塩とすることができ、該酸
付加塩は遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有
しており、本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記
酸付加塩を形成する酸性化合物としては、例えば塩簾、
硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機駿及びマレイン酸、
フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、
ベンゼンスルホン酸等の有世酸を例示できる。
い適当な酸性化合物を付加反応させることにより、容易
に医薬的に許容される酸付加塩とすることができ、該酸
付加塩は遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有
しており、本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記
酸付加塩を形成する酸性化合物としては、例えば塩簾、
硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機駿及びマレイン酸、
フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、
ベンゼンスルホン酸等の有世酸を例示できる。
実 施 例
以下、本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
実施例1
2.6−シーtert−ブチル−4−(4−ジメチルア
ミノフェニルアミノ)フェノール・2塩酸塩[化合物1
]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
2.1g及び4−ジメチルアミノアニリン2.60をT
HF60m2に溶解し、これに三弗化硼素エーテル錯体
[BF3 ・Et20コ0.3鵬を加え、7時間加熱還
流した。S縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:ヘ
キサン=1:5)で精製して、赤紫色結晶を得た。
ミノフェニルアミノ)フェノール・2塩酸塩[化合物1
]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
2.1g及び4−ジメチルアミノアニリン2.60をT
HF60m2に溶解し、これに三弗化硼素エーテル錯体
[BF3 ・Et20コ0.3鵬を加え、7時間加熱還
流した。S縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:ヘ
キサン=1:5)で精製して、赤紫色結晶を得た。
これをTHF150mi2に溶かし、得られた液に空温
下にNa2320a 21gの水溶液150m1を加え
、10分間撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエー
テルにて抽出し、有機層を乾燥(MqSOa)し、濃縮
した。1qられた油状物を少量のジエチルエーテルに溶
解し、これに4−N塩酸/酢酸エチルを加え、析出結晶
を戸取した。
下にNa2320a 21gの水溶液150m1を加え
、10分間撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエー
テルにて抽出し、有機層を乾燥(MqSOa)し、濃縮
した。1qられた油状物を少量のジエチルエーテルに溶
解し、これに4−N塩酸/酢酸エチルを加え、析出結晶
を戸取した。
この結晶をエタノール−ジエチルエーテルより再結晶し
て、目的化合物1.8gを得た。
て、目的化合物1.8gを得た。
得られた化合物の物性(融点及び’H−NMR値)を第
1表に示す。
1表に示す。
実施例2〜10
化合物2〜化合物10の製造
実施例1と同様にして、目的とする化合物(化合物2〜
化合物10)を製造した。
化合物10)を製造した。
得られた各化合物の物性を第1表に示す。
実施例11
エチル−3−(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチ
ルフェニルアミノ)−シンナミックアシッド・塩酸塩[
化合物1]の製造 ピリジン2.2mQのジクロルエタン60mG溶液に、
T:CQ< 0.73mりを加え、90℃にて加熱滉拌
し、これに2.3.6−ドリメチルー1゜4−ベンゾキ
ノン2g及び3−アミノシンナミックアシッド エチル
エステル・@酸塩3qを加え、ざらに30分間、90℃
にて加熱した。その後、溶媒を減圧下に留去して濃縮し
、油状の反応混合物を、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:ヘキサン=1:
9→1:4)にて精製して、赤黄色の油状物1gを得た
。
ルフェニルアミノ)−シンナミックアシッド・塩酸塩[
化合物1]の製造 ピリジン2.2mQのジクロルエタン60mG溶液に、
T:CQ< 0.73mりを加え、90℃にて加熱滉拌
し、これに2.3.6−ドリメチルー1゜4−ベンゾキ
ノン2g及び3−アミノシンナミックアシッド エチル
エステル・@酸塩3qを加え、ざらに30分間、90℃
にて加熱した。その後、溶媒を減圧下に留去して濃縮し
、油状の反応混合物を、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:ヘキサン=1:
9→1:4)にて精製して、赤黄色の油状物1gを得た
。
これをTHF150mGに溶かし、これに室温下にNa
2320410CIの水溶液150m12を加え、10
分間撹拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで抽出し
、有機層を水洗、乾燥(MgS04)、濃縮して、得ら
れた油状物をジエチルエーテルに溶解し、4−N塩酸/
酢酸エチル1 mQを加え、析出した塩を3戸数し、ざ
らにエタノール−ジエチルエーテルより再結晶して、目
的化合物0.75gを得た。
2320410CIの水溶液150m12を加え、10
分間撹拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで抽出し
、有機層を水洗、乾燥(MgS04)、濃縮して、得ら
れた油状物をジエチルエーテルに溶解し、4−N塩酸/
酢酸エチル1 mQを加え、析出した塩を3戸数し、ざ
らにエタノール−ジエチルエーテルより再結晶して、目
的化合物0.75gを得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例12
4−(4−ベンゾイルアミノフェニルアミノ)−2,6
−シーtert−ブチルフェノール・塩酸塩[化合物1
2]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
1.6g、p−フェニレンジアミン・2塩敢塩1.3g
、酢酸ナトリウム1.20及び三弗化硼素エーテル錯体
0.23mQを、丁HF50m12に懸濁させ、15時
間加熱還流した。冷却した後、N82320420gの
水溶液150mH−加え、空温で30分間撹拌した後、
酢酸エチルにて抽出し、有機層をM CJ S Odで
乾燥し、)9縮して得られる主生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:
ヘキサン=1:1)で精製して、油状物質1.5gを得
た。
−シーtert−ブチルフェノール・塩酸塩[化合物1
2]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
1.6g、p−フェニレンジアミン・2塩敢塩1.3g
、酢酸ナトリウム1.20及び三弗化硼素エーテル錯体
0.23mQを、丁HF50m12に懸濁させ、15時
間加熱還流した。冷却した後、N82320420gの
水溶液150mH−加え、空温で30分間撹拌した後、
酢酸エチルにて抽出し、有機層をM CJ S Odで
乾燥し、)9縮して得られる主生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:
ヘキサン=1:1)で精製して、油状物質1.5gを得
た。
これをクロロホルム100mGに溶かし、水冷下にトリ
エチルアミン538mg、次いで塩化ベンゾイル748
mQを加え、室温で1.5時間撹拌した。
エチルアミン538mg、次いで塩化ベンゾイル748
mQを加え、室温で1.5時間撹拌した。
その後、水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を
M Q S O&で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒ニジエチルエーテル:
ヘキサン=1:1)で精製して得られた油状物を、少量
のジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸/酢酸
エチルを加えて、目的化合物1.70を得た。
M Q S O&で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒ニジエチルエーテル:
ヘキサン=1:1)で精製して得られた油状物を、少量
のジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸/酢酸
エチルを加えて、目的化合物1.70を得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例13〜16
化合物13〜化合物16の製造
実施例12と同様にして、目的とする化合物(化合物1
3〜化合物16)を製造した。
3〜化合物16)を製造した。
得られた各化合物の物性を第1表に示す。
実施例17
2.6−シーtert−ブチル−4−(2−フェニルス
ルホニルアミノフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[
化合物17]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
1g及び0−フェニレンジアミン0.80をTI−fF
50mffに溶解し、これに三弗化硼素エーテル錯体0
.15111Qを加え、15時間加熱還流した。
ルホニルアミノフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[
化合物17]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
1g及び0−フェニレンジアミン0.80をTI−fF
50mffに溶解し、これに三弗化硼素エーテル錯体0
.15111Qを加え、15時間加熱還流した。
冷接、N82320420gの水溶液150m1を加え
、室温で30分間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出し、
有機層をM Q S Oaで乾燥し、濃縮して得られる
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒ニジエチルエーテル:ヘキサン−1:5)で精製して
、油状物質1gを得た。
、室温で30分間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出し、
有機層をM Q S Oaで乾燥し、濃縮して得られる
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒ニジエチルエーテル:ヘキサン−1:5)で精製して
、油状物質1gを得た。
これをDMA10m12に溶かし、水冷下にピリジン1
.28Q、次いでベンゼンスルホニルクロライド570
maを加え、室温で1.5時間撹拌した。
.28Q、次いでベンゼンスルホニルクロライド570
maを加え、室温で1.5時間撹拌した。
その後、水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を
M (j S Otで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム:ヘ
キサン=1:1)で精製して得られた油状物を、少量の
ジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸/酢酸エ
チルを加えて、目的化合物1q22得た。
M (j S Otで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム:ヘ
キサン=1:1)で精製して得られた油状物を、少量の
ジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸/酢酸エ
チルを加えて、目的化合物1q22得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例18
化合物18の製造
実施例17と同様にして、目的とする化合物(化合物1
8)を製造した。
8)を製造した。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例19
2.6−シーtert−ブチル−4−(2−エトキシカ
ルボニルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[化合物
19]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
109、アントラニルIQ6.3c]及び酢酸0.2m
12の混合物を150〜160℃にて1時間加熱した。
ルボニルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[化合物
19]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
109、アントラニルIQ6.3c]及び酢酸0.2m
12の混合物を150〜160℃にて1時間加熱した。
得られた反応混合物を冷接、THF200Trl12に
溶解し、これにNa2320a 50Qの水溶液500
m12を加え、室温で30分間撹拌した。その後、酢酸
エチルにて抽出し、有殿層を水洗し、M Q S Oa
で乾燥し、濃縮して得られた結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒ニジクロルメタン:ジエチ
ルエーテル=8=1)で精製して、4−(2−カルボキ
シフェニルアミノ)−2,6−シーtert−ブチルフ
ェノール5.5gを得た。
溶解し、これにNa2320a 50Qの水溶液500
m12を加え、室温で30分間撹拌した。その後、酢酸
エチルにて抽出し、有殿層を水洗し、M Q S Oa
で乾燥し、濃縮して得られた結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒ニジクロルメタン:ジエチ
ルエーテル=8=1)で精製して、4−(2−カルボキ
シフェニルアミノ)−2,6−シーtert−ブチルフ
ェノール5.5gを得た。
融 点:215〜225℃(分解)
上記で得られた化合物1gをDMF5mf2に溶かし、
炭酸カリウム500mg及び弗化エチル350mgを加
え、室温で20時間撹拌した。その後、反応混合物を1
0%Na23204水溶液に移し、酢酸エチルで抽出し
、有機層を水洗、乾燥(MQSOa)、濃縮後、得られ
た油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒;ジエチルエーテル:ヘキサン=1:5)で精製
した後、ジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸
/酢酸エチル2戒を加え、結晶を枦取して、目的化合物
0.75CIを淡黄色結晶として得た。
炭酸カリウム500mg及び弗化エチル350mgを加
え、室温で20時間撹拌した。その後、反応混合物を1
0%Na23204水溶液に移し、酢酸エチルで抽出し
、有機層を水洗、乾燥(MQSOa)、濃縮後、得られ
た油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒;ジエチルエーテル:ヘキサン=1:5)で精製
した後、ジエチルエーテルに溶解し、これに4−N塩酸
/酢酸エチル2戒を加え、結晶を枦取して、目的化合物
0.75CIを淡黄色結晶として得た。
1qられた化合物の物性を第1表に示す。
実施例20
4−(2−ベンジルアミノカルボニルフェニルアミノ)
−2,6−シーtert−ブチルフェノール[化合物2
01の製造 4−(2−カルボキシフェニルアミノ 6−シーtert−ブチルフェノール1gをDMF20
111Gに溶解し、水冷下にベンジルアミン340mg
及びシアノリン酸ジエチル570m(Itを加え、ざら
にトリエチルアミン330m(JのDMF5mG溶液を
20分間を要して加え、その後、反応混合物を20時間
室温で撹拌した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで
抽出し、有機層を水洗、乾燥(MgS04)、濃縮後、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー ジエチルエーテル:ヘキザン=1:10→1:5)で精
製して、目的化合物1.1gを白色結晶として得た。
−2,6−シーtert−ブチルフェノール[化合物2
01の製造 4−(2−カルボキシフェニルアミノ 6−シーtert−ブチルフェノール1gをDMF20
111Gに溶解し、水冷下にベンジルアミン340mg
及びシアノリン酸ジエチル570m(Itを加え、ざら
にトリエチルアミン330m(JのDMF5mG溶液を
20分間を要して加え、その後、反応混合物を20時間
室温で撹拌した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで
抽出し、有機層を水洗、乾燥(MgS04)、濃縮後、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー ジエチルエーテル:ヘキザン=1:10→1:5)で精
製して、目的化合物1.1gを白色結晶として得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例21〜34
実施例20と同様にして、第1表に示す化合物21〜化
合物34を製造した。
合物34を製造した。
得られた各化合物の物性を第1表に併記する。
実施例35
2、6−シーtert−ブチル−4−(4−ヒドラジノ
カルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール[化合物
35コの製造 2、6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
6g、4−7ミノフ工ニル酢酸エチル15g、THF1
20mi2及び三弗化硼素エーテル錯体0、5mf2の
混合物を16時間加熱還流した。得られた反応混合物に
冷接、N82 32 04 50gの水溶液250m1
2を加え、30分間撹拌した。その後、反応混合物を水
に移し、酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗し、M
CJ S O 4で乾燥し、濃縮して得られる粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ニジ
エチルエーテル:ヘキサン=1 :4)で精製して、2
,6−シーtert−ブチル−4−(4−エトキシカル
ボニルメチルフェニルアミノ 融点:119〜120℃ 上記で得られた化合物2.4gを、ヒドラジン水和物2
5鵬及びエタノール25−に溶解し、100℃にて40
分間加熱した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽
出し、有機層を10%Na232 04水溶液、次いで
水で洗浄し、乾燥(Mc+SOt ) 、濃縮後、得ら
れる結晶をジエチルエーテル:ヘキサン=1:4から再
結晶して、目的化合物1.8gを白色結晶として得た。
カルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール[化合物
35コの製造 2、6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
6g、4−7ミノフ工ニル酢酸エチル15g、THF1
20mi2及び三弗化硼素エーテル錯体0、5mf2の
混合物を16時間加熱還流した。得られた反応混合物に
冷接、N82 32 04 50gの水溶液250m1
2を加え、30分間撹拌した。その後、反応混合物を水
に移し、酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗し、M
CJ S O 4で乾燥し、濃縮して得られる粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ニジ
エチルエーテル:ヘキサン=1 :4)で精製して、2
,6−シーtert−ブチル−4−(4−エトキシカル
ボニルメチルフェニルアミノ 融点:119〜120℃ 上記で得られた化合物2.4gを、ヒドラジン水和物2
5鵬及びエタノール25−に溶解し、100℃にて40
分間加熱した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽
出し、有機層を10%Na232 04水溶液、次いで
水で洗浄し、乾燥(Mc+SOt ) 、濃縮後、得ら
れる結晶をジエチルエーテル:ヘキサン=1:4から再
結晶して、目的化合物1.8gを白色結晶として得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例36
4−(4−ベンジルアミノフェニルアミン)−2。
6−シーtert−ブチルフェノール・2塩敢塩[化合
物36]の製造 L ! AQ H4 466mUのTHF溶液30mi
2に、水冷下に4−(4−ベンゾイルアミノフェニルア
ミノ)−2.6−シーtert−ブチルフェノール1、
79のTHF溶液30回を加え、その後、5、5時間還
流した。冷接、Na202 32 0415gの水溶液
601Tl12を加え、空温で10分間撹拌した。その
後、水を加え、ジエチルエーテルにて抽出し、有機層を
M CJ S O tで乾燥し、濃縮した。得られた油
状物を少量のジエチルエーテルに溶解し、これに4−N
塩酸/酢酸エチル2戒を加え、析出結晶を枦取した。こ
の結晶をイソプロピルアミン(IPA)−ジエチルエー
テルより再結晶して、目的化合物450mgを白色結晶
として得た。
物36]の製造 L ! AQ H4 466mUのTHF溶液30mi
2に、水冷下に4−(4−ベンゾイルアミノフェニルア
ミノ)−2.6−シーtert−ブチルフェノール1、
79のTHF溶液30回を加え、その後、5、5時間還
流した。冷接、Na202 32 0415gの水溶液
601Tl12を加え、空温で10分間撹拌した。その
後、水を加え、ジエチルエーテルにて抽出し、有機層を
M CJ S O tで乾燥し、濃縮した。得られた油
状物を少量のジエチルエーテルに溶解し、これに4−N
塩酸/酢酸エチル2戒を加え、析出結晶を枦取した。こ
の結晶をイソプロピルアミン(IPA)−ジエチルエー
テルより再結晶して、目的化合物450mgを白色結晶
として得た。
得られた化合物の物性を第1表に示す。
実施例37
実施例36と同様にして、第1表に示す化合物37を製
造した。
造した。
得られた化合物の物性を第1表に併記する。
第 1 表
(以 上)
゛−ジ
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1及びR^2は各々低級アルキル基を示す。 R^3は水素原子又は低級アルキル基を示す。基Aは低
級アルコキシカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、
フエニル低級アルキルカルバモイル基、アルキルカルバ
モイル基、シクロアルキルカルバモイル基、置換基とし
て低級アルコキシカルボニル、カルボキシ、低級アルカ
ノイル、低級アルキルカルバモイル及びシクロアルキル
カルバモイル基から選ばれた基を有する低級アルケニル
基、置換基としてシクロアルキルカルバモイル、低級ア
ルキルカルバモイル、フエニル低級アルキルカルバモイ
ル、ピペリジノカルボニル、モルホリノカルボニル及び
ヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有する低級ア
ルキル基又は−NR^4R^5基(R^4は水素原子又
は低級アルキル基を、またR^5は置換基としてフエニ
ル基を有することのある低級アルキル基、フエニル基、
置換基として低級アルキル基を有することのあるベンゾ
イル基、置換基として低級アルコキシカルボニル基を有
することのある低級アルカノイル基、低級アルキルスル
ホニル基又はフエニルスルホニル基を示す。)を示す。 〕 で表わされるアミノフエノール誘導体及びその塩。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61230484A JPH0610174B2 (ja) | 1986-09-29 | 1986-09-29 | アミノフエノ−ル誘導体 |
US07/007,044 US4906662A (en) | 1986-09-29 | 1987-01-27 | Phenol derivatives, their preparation and the use thereof |
EP87101109A EP0263229A1 (en) | 1986-09-29 | 1987-01-27 | Phenol derivatives, their preparation and the use thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61230484A JPH0610174B2 (ja) | 1986-09-29 | 1986-09-29 | アミノフエノ−ル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6383052A true JPS6383052A (ja) | 1988-04-13 |
JPH0610174B2 JPH0610174B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=16908508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61230484A Expired - Fee Related JPH0610174B2 (ja) | 1986-09-29 | 1986-09-29 | アミノフエノ−ル誘導体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4906662A (ja) |
EP (1) | EP0263229A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US5237070A (en) * | 1985-07-22 | 1993-08-17 | Riker Laboratories, Inc. | Substituted DI-t-butylphenols |
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DE69129611T2 (de) * | 1990-08-20 | 1998-12-17 | Eisai Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Sulfonamid-Derivate |
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LU69456A1 (ja) * | 1974-02-22 | 1975-12-09 | ||
LU69459A1 (ja) * | 1974-02-22 | 1975-12-09 | ||
LU69457A1 (ja) * | 1974-02-22 | 1975-12-09 | ||
LU77316A1 (ja) * | 1977-05-11 | 1979-01-19 | ||
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DE3126083A1 (de) * | 1981-07-02 | 1983-01-20 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | N-substituierte 2-methylnaphthylamide, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende fungizide |
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US4539429A (en) * | 1983-07-11 | 1985-09-03 | Sterling Drug Inc. | Substituted aminophenylalkyl ketones, their preparation and use |
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-
1986
- 1986-09-29 JP JP61230484A patent/JPH0610174B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-01-27 US US07/007,044 patent/US4906662A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-01-27 EP EP87101109A patent/EP0263229A1/en not_active Withdrawn
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Publication number | Publication date |
---|---|
US4906662B1 (ja) | 1992-07-14 |
JPH0610174B2 (ja) | 1994-02-09 |
EP0263229A1 (en) | 1988-04-13 |
US4906662A (en) | 1990-03-06 |
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