JPS63808A - 複合磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS63808A JPS63808A JP14404386A JP14404386A JPS63808A JP S63808 A JPS63808 A JP S63808A JP 14404386 A JP14404386 A JP 14404386A JP 14404386 A JP14404386 A JP 14404386A JP S63808 A JPS63808 A JP S63808A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばフロッピーディスクドライブ装ｍ
ｕ）記録舟生に用いるトンネルエレーズ形の複合磁気ヘ
ッドの製造方１去ｌこ関するものである。
ｕ）記録舟生に用いるトンネルエレーズ形の複合磁気ヘ
ッドの製造方１去ｌこ関するものである。
第１２図は１例えば特開昭６０−２０１５１５号公報に
開示されている。従来の複合磁気ヘッドを示す斜視図で
ある。文において、１１は記録・再生用コアｃ以下、Ｒ
／Ｗコアと略称する）、１２は消去用コア（以下、Ｅコ
アと略称する）、１３はＲ，／Ｗココア１とＥコア１２
を共用するセンタコア、 ３１ 、３２は各々ａ／Ｗ巻
線窓、Ｅ巻線窓、４１〜４７はガラス等から成る非磁性
補強材、５はル／Ｗギャップ、６１゜６２はＥギャップ
である。
開示されている。従来の複合磁気ヘッドを示す斜視図で
ある。文において、１１は記録・再生用コアｃ以下、Ｒ
／Ｗコアと略称する）、１２は消去用コア（以下、Ｅコ
アと略称する）、１３はＲ，／Ｗココア１とＥコア１２
を共用するセンタコア、 ３１ 、３２は各々ａ／Ｗ巻
線窓、Ｅ巻線窓、４１〜４７はガラス等から成る非磁性
補強材、５はル／Ｗギャップ、６１゜６２はＥギャップ
である。
次に、上記第１２図に示す従来の複合磁気ヘッドの製造
方法について説明する。第１２図に示すα合磁気ヘッド
＃−！、ＦＬ／Ｗコア１１．センタコア１３．Ｅコア１
２の各々を回転砥石を使つ１こ溝加工と各種の砥粉を聞
った研摩加工により所要の寸法ζこ仕上げる。第１３図
は％第１２図の複合磁気ヘッドに２けるル／Ｗコアの４
９０１品の一例を示す斜視図である。
方法について説明する。第１２図に示すα合磁気ヘッド
＃−！、ＦＬ／Ｗコア１１．センタコア１３．Ｅコア１
２の各々を回転砥石を使つ１こ溝加工と各種の砥粉を聞
った研摩加工により所要の寸法ζこ仕上げる。第１３図
は％第１２図の複合磁気ヘッドに２けるル／Ｗコアの４
９０１品の一例を示す斜視図である。
図において、１１はＭｎ Ｚｎ、Ｎｉ Ｚｎｅの
単結晶又（ま多結晶のフェライトから成るル／Ｗコア。
単結晶又（ま多結晶のフェライトから成るル／Ｗコア。
１４は春情用の溝、１５はガラス等の非磁性材を充てん
する溝、４１２〜４６ ａは所要のＲ／Ｗトラック幅（
Ｔｗ）を得るための溝である。第１３図１こ示すような
谷溝１４ 、１５ 、４１ ａ〜４６ ａの溝加工の前
に、Ｒ／Ｗコア１１．センタコア１３．Ｅコア１２の各
ブロックのギャップ形成面をラップ加工し、鏡面に仕上
げておく。次ｌこ、この鏡面上に蒸着、スパッタリング
等１こより３ｉ０２． Ａｌ２Ｏ３等の非出性膜を形成
する。その後、第１４図１こ示すようｌこ、Ｋ／Ｗコア
１１．センタコア１３．Ｅコア１２を瞬間接触剤によっ
て仮止め一体化し、＠ Ｒ／ Ｗ巻侮窓引及びＥ巻線窓
３２．谷溝４１ａ、４２ａに各ガラス捧５１〜５４を挿
入し、温度を上げて一不的ｌこ浴着加工をした後、この
各ブロックを薄切りし、厚み出し研摩を行うことにより
、第１２図（こ示すような覆合磁気ヘッドが得られる。
する溝、４１２〜４６ ａは所要のＲ／Ｗトラック幅（
Ｔｗ）を得るための溝である。第１３図１こ示すような
谷溝１４ 、１５ 、４１ ａ〜４６ ａの溝加工の前
に、Ｒ／Ｗコア１１．センタコア１３．Ｅコア１２の各
ブロックのギャップ形成面をラップ加工し、鏡面に仕上
げておく。次ｌこ、この鏡面上に蒸着、スパッタリング
等１こより３ｉ０２． Ａｌ２Ｏ３等の非出性膜を形成
する。その後、第１４図１こ示すようｌこ、Ｋ／Ｗコア
１１．センタコア１３．Ｅコア１２を瞬間接触剤によっ
て仮止め一体化し、＠ Ｒ／ Ｗ巻侮窓引及びＥ巻線窓
３２．谷溝４１ａ、４２ａに各ガラス捧５１〜５４を挿
入し、温度を上げて一不的ｌこ浴着加工をした後、この
各ブロックを薄切りし、厚み出し研摩を行うことにより
、第１２図（こ示すような覆合磁気ヘッドが得られる。
上記のような従来の複合磁気ヘッドの製造方法では、ｉ
（、／Ｗココア１に金属酸化物であるフェライトを用い
ているので、高保磁力媒体には十分な記録かできす、ま
１こ、各Ｒ／Ｗコア１１．センタコア１３、Ｅコア１２
の各ブロックｔこ独立に溝加工をした後にトラック合わ
せを行うので、トラックずれの発生が加工上どうしても
避けられず、さらには溝加工の頻度が多い等の問題点が
あった。
（、／Ｗココア１に金属酸化物であるフェライトを用い
ているので、高保磁力媒体には十分な記録かできす、ま
１こ、各Ｒ／Ｗコア１１．センタコア１３、Ｅコア１２
の各ブロックｔこ独立に溝加工をした後にトラック合わ
せを行うので、トラックずれの発生が加工上どうしても
避けられず、さらには溝加工の頻度が多い等の問題点が
あった。
この発明は、かかる問題点を解決するためｔこなされた
もので、高保磁力媒体ｌども十分な記録ができ、トラッ
クずれの発生がなく、狭いトラック溝の加工頻度が少な
く、かつ高性能で葉産性に適した複合磁気ヘッドの製造
方法を得ることを目的とする。
もので、高保磁力媒体ｌども十分な記録ができ、トラッ
クずれの発生がなく、狭いトラック溝の加工頻度が少な
く、かつ高性能で葉産性に適した複合磁気ヘッドの製造
方法を得ることを目的とする。
この発明Ｉこ系る複合凪気ヘッドの製造方法は。
ル／Ｗコアとセンタコアとの対向面に高飽和磁束密度材
を形成し、さら（こ、）ｔ、／Ｗココアセンタコア、Ｅ
コアの各コアのギャップ形成面ｌこ非出性材を形成し、
この各コアを溶着用ガラス寺で一体的に溶着した後、各
コアの媒体が接する摺動面１こ糾めに溝加工を施して溝
加工部を形成し、この溝加工部ｌこガラス等をモールド
して製造するものである。
を形成し、さら（こ、）ｔ、／Ｗココアセンタコア、Ｅ
コアの各コアのギャップ形成面ｌこ非出性材を形成し、
この各コアを溶着用ガラス寺で一体的に溶着した後、各
コアの媒体が接する摺動面１こ糾めに溝加工を施して溝
加工部を形成し、この溝加工部ｌこガラス等をモールド
して製造するものである。
この発明の複合磁気ヘッドの製造方法においては、ル／
Ｗコアとセンタコアとの対向面に高飽和磁束密度材を形
成し、さらｌこ、 Ｒ，／Ｗココアセンタコア、Ｅコ
アの各コアのギャップ形成面に非磁性材を形成し、この
各コアを溶着用ガラス等で一体的に溶着し１こ後、各コ
アの媒体が接する摺動面に斜めに溝加工を施して溝加工
部を形成し、この溝カロエ部にガラス等をモールドして
凡／Ｗコア。
Ｗコアとセンタコアとの対向面に高飽和磁束密度材を形
成し、さらｌこ、 Ｒ，／Ｗココアセンタコア、Ｅコ
アの各コアのギャップ形成面に非磁性材を形成し、この
各コアを溶着用ガラス等で一体的に溶着し１こ後、各コ
アの媒体が接する摺動面に斜めに溝加工を施して溝加工
部を形成し、この溝カロエ部にガラス等をモールドして
凡／Ｗコア。
Ｅコアの各トラックを形成するようにしたので、簡保磁
力媒体にも十分な記録ができ、トラックずれの発生が少
なく、狭いトラック溝の加工頻度が少なく、かつ高性能
で故注性ｆこ適した複合−気ヘッドが製造できる。
力媒体にも十分な記録ができ、トラックずれの発生が少
なく、狭いトラック溝の加工頻度が少なく、かつ高性能
で故注性ｆこ適した複合−気ヘッドが製造できる。
第１図はこの発明の一実施例である複合磁気ヘッドの製
造方法によって作られた複合蜂気ヘッドを示す斜視図で
ある。因１こおいて、１１はル／Ｗコア、 １２はＥコ
ア、１３はセンタコアであり、この各コア（ばＭ。−Ｚ
ｎ、 Ｎ １−Ｚｎ等の単結晶又は多結晶のフェライト
から成る。３１ 、３２は各々Ｒ，／Ｗ巻線窓、Ｅ巻線
窓、４１〜４７はガラス等から成る非磁性補強材、５（
ばｌ（、／ Ｗギャップ、６１ 、６２はＥギャップ、
７はセンダスト、アモルファス合金等の高飽和磁束密度
材である。
造方法によって作られた複合蜂気ヘッドを示す斜視図で
ある。因１こおいて、１１はル／Ｗコア、 １２はＥコ
ア、１３はセンタコアであり、この各コア（ばＭ。−Ｚ
ｎ、 Ｎ １−Ｚｎ等の単結晶又は多結晶のフェライト
から成る。３１ 、３２は各々Ｒ，／Ｗ巻線窓、Ｅ巻線
窓、４１〜４７はガラス等から成る非磁性補強材、５（
ばｌ（、／ Ｗギャップ、６１ 、６２はＥギャップ、
７はセンダスト、アモルファス合金等の高飽和磁束密度
材である。
次に、上記第１因に示すこの発明の一実施例である複合
磁気ヘッドの製造方ｆＩ：ｉこついて説明する。
磁気ヘッドの製造方ｆＩ：ｉこついて説明する。
第２図ないし第４図は、それぞれ第１図の複合磁気ヘッ
ドにおける各）Ｌ／Ｗコア、Ｅコア、センタコアの各コ
アのブロックを示す斜視図である。各図（こおいて、１
１ 、１２ 、１３はそれぞれＭ、１− Ｚｎ。
ドにおける各）Ｌ／Ｗコア、Ｅコア、センタコアの各コ
アのブロックを示す斜視図である。各図（こおいて、１
１ 、１２ 、１３はそれぞれＭ、１− Ｚｎ。
Ｎｉ−Ｚｎ等の単結晶又は多結晶のフェライトから成る
凡／Ｗコア、Ｅコア、センタコアであり、１４は巻線用
の溝、１５はガラス等の非出性材を光てんする溝、［６
はテーパ加工面を形成し、各ブロックを一体的１こ溶着
する時にガラス＋４ｉ等を挿入するために用いる溝、各
４１ ａ 〜４６ａ 、 ４１ ｂ 〜４６ｂ 、 ４
１ ｃ〜４７ Ｇはセンダスト、アモルファス合金等の
高胞、＋１］磁束密度材７を埋設する溝である。これら
谷溝及びテーパ加工面の加工は回転砥石を用いた研訓加
工ｌこよって作られる。そして、Ｅコア１２のＥ巻線窓
３２がある面及びセンタコア１３の溝のない面はギャッ
プ形成面となるので、溝加工を施す以前に鏡面研摩加工
をしておく。次に、 Ｒ／Ｗココア１トセンタコア１
３の各ブロックの高飽和磁束密度材７を埋設する面（こ
スパッタリング、イオンブレーテインク等の手法により
センダスト又はアモルファス合金２０を％第５図１こ示
すように形成した後、その余剰材を除去してこれらの面
を、第６囚に示すように鏡面研摩する。なお、高飽和磁
束密度材７を形成する以前のフェライトコアの面ｊｃ、
ＳｉＯ□。
凡／Ｗコア、Ｅコア、センタコアであり、１４は巻線用
の溝、１５はガラス等の非出性材を光てんする溝、［６
はテーパ加工面を形成し、各ブロックを一体的１こ溶着
する時にガラス＋４ｉ等を挿入するために用いる溝、各
４１ ａ 〜４６ａ 、 ４１ ｂ 〜４６ｂ 、 ４
１ ｃ〜４７ Ｇはセンダスト、アモルファス合金等の
高胞、＋１］磁束密度材７を埋設する溝である。これら
谷溝及びテーパ加工面の加工は回転砥石を用いた研訓加
工ｌこよって作られる。そして、Ｅコア１２のＥ巻線窓
３２がある面及びセンタコア１３の溝のない面はギャッ
プ形成面となるので、溝加工を施す以前に鏡面研摩加工
をしておく。次に、 Ｒ／Ｗココア１トセンタコア１
３の各ブロックの高飽和磁束密度材７を埋設する面（こ
スパッタリング、イオンブレーテインク等の手法により
センダスト又はアモルファス合金２０を％第５図１こ示
すように形成した後、その余剰材を除去してこれらの面
を、第６囚に示すように鏡面研摩する。なお、高飽和磁
束密度材７を形成する以前のフェライトコアの面ｊｃ、
ＳｉＯ□。
ＡｌｔＯ，寺の非磁性材を約数１０〜数１０ＯＡ蒸着や
スパッタリングにより形成しておけば、フェライトコア
と高飽和磁束密度材７間の磁気的相互作用ｌこよる画材
の界面層の磁気特性の低下が防止できる。
スパッタリングにより形成しておけば、フェライトコア
と高飽和磁束密度材７間の磁気的相互作用ｌこよる画材
の界面層の磁気特性の低下が防止できる。
そして、Ｉ（、／Ｗコ了１１．Ｅコア１２．センタコア
１３の各ブロックの鏡面研摩した面にＳｉＯ□、 ＡＪ
、Ｏ。
１３の各ブロックの鏡面研摩した面にＳｉＯ□、 ＡＪ
、Ｏ。
等のギャップ材を蒸着やスパッタリング等により形成し
、各コアのブロックを第７図に示すように瞬間接着材に
よって仮止め一体化し、各ガラス棒５１〜５４を挿入し
、温度を上げて一体化１こ溶着加工する。その後に、媒
体が接する摺動面に、第８図に示すように斜角方向に谷
溝８１ 、８２の溝加工を施す。第８図中、６はＥギャ
ップ、７１〜７４はセンダスト、アモルファス合金等の
高飽和磁束密度材、９はガラス棒を挿入するための溝で
ある。本実施例で（ｉ、各コアのブロック製作時１こ溝
９の溝加工を施しているが、各コアのブロックを一体浴
Ｎ後に上記溝９の溝加工を施しても良い。また、；ｆ＋
用力方向谷＃４８１．８２の深さは各ＲＡＷ巻線窓３１
．Ｅ巻＃窓３２のアペックス部まで入れるが、多少浅く
しても又は深くしても良い。その後、第８図に示す溝９
Ｉこガラス棒を挿入し、温度を上げてトラック幅規制用
として役立つ谷溝８１ 、８２にガラスを流し込む、こ
の時に用いるガラスは、各コアのブロックを溶着する時
に用いるものよりも低融点のものが艮い。このようにガ
ラスのモールド後に、余剰のガラスを除去するためにＮ
摩加工を施す。
、各コアのブロックを第７図に示すように瞬間接着材に
よって仮止め一体化し、各ガラス棒５１〜５４を挿入し
、温度を上げて一体化１こ溶着加工する。その後に、媒
体が接する摺動面に、第８図に示すように斜角方向に谷
溝８１ 、８２の溝加工を施す。第８図中、６はＥギャ
ップ、７１〜７４はセンダスト、アモルファス合金等の
高飽和磁束密度材、９はガラス棒を挿入するための溝で
ある。本実施例で（ｉ、各コアのブロック製作時１こ溝
９の溝加工を施しているが、各コアのブロックを一体浴
Ｎ後に上記溝９の溝加工を施しても良い。また、；ｆ＋
用力方向谷＃４８１．８２の深さは各ＲＡＷ巻線窓３１
．Ｅ巻＃窓３２のアペックス部まで入れるが、多少浅く
しても又は深くしても良い。その後、第８図に示す溝９
Ｉこガラス棒を挿入し、温度を上げてトラック幅規制用
として役立つ谷溝８１ 、８２にガラスを流し込む、こ
の時に用いるガラスは、各コアのブロックを溶着する時
に用いるものよりも低融点のものが艮い。このようにガ
ラスのモールド後に、余剰のガラスを除去するためにＮ
摩加工を施す。
そして、上記のような余剰のガラスを除去し１こ後の研
摩面の拡大模式図を、ｉＸ３．９図に示している。
摩面の拡大模式図を、ｉＸ３．９図に示している。
第９図中で８１〜８４はトラック幅規制用としての斜角
方向に加工した溝である。しかして、余剰のガラスを除
去した時に、第８図に示すＡ−Ａ’線で溶着ブロックを
切断する。次いで、９図１こ示すＡ−に線、Ｂ−Ｂ’線
の線内を残すようにワイヤソーのような切断機で薄切り
すれば、第１図１こ示すような複合口８気ヘッドが得ら
れる。なお、第９図に示すＴＷ ＋ ＴＥ Ｉま各々Ｒ
／髪ｖトラック幅、Ｅトラック幅であり、斜角方向の各
０４８１〜８４の角度は各ル／Ｗトラック幅ｒｌＮｗ、
Ｅトラック１福ＴＥ及びＲ／Ｗギャップ５．Ｂギャッ
プ６間の距離により一義四１こ定まる。
方向に加工した溝である。しかして、余剰のガラスを除
去した時に、第８図に示すＡ−Ａ’線で溶着ブロックを
切断する。次いで、９図１こ示すＡ−に線、Ｂ−Ｂ’線
の線内を残すようにワイヤソーのような切断機で薄切り
すれば、第１図１こ示すような複合口８気ヘッドが得ら
れる。なお、第９図に示すＴＷ ＋ ＴＥ Ｉま各々Ｒ
／髪ｖトラック幅、Ｅトラック幅であり、斜角方向の各
０４８１〜８４の角度は各ル／Ｗトラック幅ｒｌＮｗ、
Ｅトラック１福ＴＥ及びＲ／Ｗギャップ５．Ｂギャッ
プ６間の距離により一義四１こ定まる。
第１０図はこの発明の他の実施例である複合磁気ヘッド
の製造方法によって作られた複合出猟ヘッドを示す斜視
図である。第１Ｏ図に示すものは、凡／Ｗコア１１と６
７７１２間のクロストークを防止するために、センタコ
ア１３を２つに分離し、２つのセンタコア２１ 、２２
の間に高融点のセラミックス等から成る非磁性補強材１
０を挿入したものである。
の製造方法によって作られた複合出猟ヘッドを示す斜視
図である。第１Ｏ図に示すものは、凡／Ｗコア１１と６
７７１２間のクロストークを防止するために、センタコ
ア１３を２つに分離し、２つのセンタコア２１ 、２２
の間に高融点のセラミックス等から成る非磁性補強材１
０を挿入したものである。
また、各センタコア２１ 、２２間を磁気的に分離する
方法としては、例えば８７０． 、 ｋ１２０． 等
を一方のセンタコアの表面に形成し、さらにその上面に
一体化するための溶着用ガラスを蒸着又はスパッタリン
グにより形成し、第７図に示すような各ブロックの溶着
工程を用いれば容易に製作が０１化である。なお、第１
Ｏ図に示す各部分（ま第１図に示す各部分とそれぞれ対
応している。また、４８ 、４９はガラス等から成る非
磁性補強材である。０！１１図は高飽和磁束密度材７を
形成する溝の形状を示したもので１不実施ν１］では、
第１１図（ａ）１こ示す形状の跡を使用したが、第１１
図＋ｂｉ ｔ ｌＣ）に示す形状の、樽であっても良い
。また、各ギャップ形成面と話題ｆＯｄ東密度材７の形
ｈＸ、面とを非平行／Ｃすること１こより、アジマス損
失を大きくし、コンタ−効果を低減することができるの
で、上記溝の形状としてはｌ！Ｉｔ々のものが考えられ
る。また、本実施例では、ｌｉ％ Ｊ和出束゛ぞ度付７
をル／Ｗコア１１のみに形成したが、Ｅコア１２１こも
高飽和磁束′、ぞ度付７を形成すａば。
方法としては、例えば８７０． 、 ｋ１２０． 等
を一方のセンタコアの表面に形成し、さらにその上面に
一体化するための溶着用ガラスを蒸着又はスパッタリン
グにより形成し、第７図に示すような各ブロックの溶着
工程を用いれば容易に製作が０１化である。なお、第１
Ｏ図に示す各部分（ま第１図に示す各部分とそれぞれ対
応している。また、４８ 、４９はガラス等から成る非
磁性補強材である。０！１１図は高飽和磁束密度材７を
形成する溝の形状を示したもので１不実施ν１］では、
第１１図（ａ）１こ示す形状の跡を使用したが、第１１
図＋ｂｉ ｔ ｌＣ）に示す形状の、樽であっても良い
。また、各ギャップ形成面と話題ｆＯｄ東密度材７の形
ｈＸ、面とを非平行／Ｃすること１こより、アジマス損
失を大きくし、コンタ−効果を低減することができるの
で、上記溝の形状としてはｌ！Ｉｔ々のものが考えられ
る。また、本実施例では、ｌｉ％ Ｊ和出束゛ぞ度付７
をル／Ｗコア１１のみに形成したが、Ｅコア１２１こも
高飽和磁束′、ぞ度付７を形成すａば。
さらｌこ消去幼果が改善される。
〔発明の効果〕
この発明（ま以上説明したとおり、複合磁気ヘッドの製
造方法において、Ｒ／Ｗコアとセンタコアとの対向面に
高飽和磁束密度材を形成し、さらｌこ。
造方法において、Ｒ／Ｗコアとセンタコアとの対向面に
高飽和磁束密度材を形成し、さらｌこ。
）ｔ、／Ｗココアセンタコア、Ｅコアの各コアのギャッ
プ形成面に非磁性材を形成し、この各コアを溶着用ガラ
ス寺で一体的に溶着した後、各コアの媒体が接する摺動
面ｌこ斜めｌこ溝加工を施して溝力ａ工部を形成し、こ
の溝加工部にガラス等をモールドして製造するようにし
たので、高保磁力媒体にも十分な記録ができ、コンタ−
効果により特性の低下がないなどの電磁変換特性が著し
く改善されると共に、トラックずれの発生が少なく、狭
いトラック溝の力０工頻度が少なく、かつ高性能でｋｊ
’、 ｋ性に適した複合保気ヘッドを晋価に提供できる
という優れた効果を委するものである。
プ形成面に非磁性材を形成し、この各コアを溶着用ガラ
ス寺で一体的に溶着した後、各コアの媒体が接する摺動
面ｌこ斜めｌこ溝加工を施して溝力ａ工部を形成し、こ
の溝加工部にガラス等をモールドして製造するようにし
たので、高保磁力媒体にも十分な記録ができ、コンタ−
効果により特性の低下がないなどの電磁変換特性が著し
く改善されると共に、トラックずれの発生が少なく、狭
いトラック溝の力０工頻度が少なく、かつ高性能でｋｊ
’、 ｋ性に適した複合保気ヘッドを晋価に提供できる
という優れた効果を委するものである。
第１図はこの発明の一実施例である複合磁気ヘッドの製
造方法によって作られた複合磁気ヘッドを示す斜視図、
第２（２）ないし第４図は、それぞれ′ｓ１図の複合磁
気ヘッドに２ける各凡／Ｗコア。 Ｅコア、センタコアの各コアのブロックを示す斜視図、
第５図ないし嬉９図は、それぞれ第１図の複合磁気ヘッ
ドの製造方法を説明するための図。 第１０図はこの発明の他の実施例である複合磁気ヘッド
の製造方法によって作られた複合磁気ヘッドを示す斜視
図、第１１図は、！１図及び第１０図に示す複合磁気ヘ
ッドにおける高飽和磁束密度材を形成る溝の形状を示す
図、第１２図は従来の抱合磁気ヘッドを示す斜視図、第
１３図は、第１２図の複合−気ヘッドにおけるＲ／Ｗコ
アの溝加工部の一例を示す斜視図、第１４崗は、第１２
図の複合磁気ヘッドの製造方法を説明するための図であ
る。 図において％ ５・・・Ｒ／Ｗギャップ、６，６１．６
２・・・Ｅギャップ、７．７１〜７４・・高飽和磁束ぞ
夏材。 ｔｏ 、 ４１〜４９・・・非磁性補強材、１１・・・
Ｒ／Ｗコア、１２・・・Ｅコア、 １３ 、２１ 、２
２・・・センタコア、９，１４，１５゜１６．４１ａ
〜４６ａ 、４１ｂ 〜４６ｂ 、４１ｃ 〜４７ｃ
、８１〜澗・・・＠、２０・・・センダスト又はアモル
ファス合成。 ３１・・・Ｒ／Ｗ巻勝窓、３２・・・Ｅ巻庫窓、５１〜
５４・・・ガラス棒である。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
造方法によって作られた複合磁気ヘッドを示す斜視図、
第２（２）ないし第４図は、それぞれ′ｓ１図の複合磁
気ヘッドに２ける各凡／Ｗコア。 Ｅコア、センタコアの各コアのブロックを示す斜視図、
第５図ないし嬉９図は、それぞれ第１図の複合磁気ヘッ
ドの製造方法を説明するための図。 第１０図はこの発明の他の実施例である複合磁気ヘッド
の製造方法によって作られた複合磁気ヘッドを示す斜視
図、第１１図は、！１図及び第１０図に示す複合磁気ヘ
ッドにおける高飽和磁束密度材を形成る溝の形状を示す
図、第１２図は従来の抱合磁気ヘッドを示す斜視図、第
１３図は、第１２図の複合−気ヘッドにおけるＲ／Ｗコ
アの溝加工部の一例を示す斜視図、第１４崗は、第１２
図の複合磁気ヘッドの製造方法を説明するための図であ
る。 図において％ ５・・・Ｒ／Ｗギャップ、６，６１．６
２・・・Ｅギャップ、７．７１〜７４・・高飽和磁束ぞ
夏材。 ｔｏ 、 ４１〜４９・・・非磁性補強材、１１・・・
Ｒ／Ｗコア、１２・・・Ｅコア、 １３ 、２１ 、２
２・・・センタコア、９，１４，１５゜１６．４１ａ
〜４６ａ 、４１ｂ 〜４６ｂ 、４１ｃ 〜４７ｃ
、８１〜澗・・・＠、２０・・・センダスト又はアモル
ファス合成。 ３１・・・Ｒ／Ｗ巻勝窓、３２・・・Ｅ巻庫窓、５１〜
５４・・・ガラス棒である。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- Ｒ／Ｗコア、センタコア、Ｅコアの各コアのブックを所
要の寸法に仕上げた後、このＲ／Ｗコアとセンタコアと
の対向面に高飽和磁束密度材を形成し、さらに、前記各
コアのギャップ形成面に非磁性材を形成し、この各コア
を溶着用ガラス等で一体的に溶着した後、Ｒ／Ｗトラッ
ク幅、Ｅトラック幅、及びＲ／ＷギャップとＥギャップ
間の距離により一義的に定まる角度で、前記各コアの媒
体が接する摺動面に斜めに溝加工を施して溝加工部を形
成し、この溝加工部にガラス等をモールドすることを特
徴とする複合磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14404386A JPS63808A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14404386A JPS63808A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63808A true JPS63808A (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=15352991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14404386A Pending JPS63808A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63808A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8547665B2 (en) * | 2008-01-03 | 2013-10-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic head having a material formed in one or more recesses extending into the media support surface of at least one of the substrate and the closure |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP14404386A patent/JPS63808A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8547665B2 (en) * | 2008-01-03 | 2013-10-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic head having a material formed in one or more recesses extending into the media support surface of at least one of the substrate and the closure |
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