JP2627322B2 - 浮動型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
浮動型磁気ヘッドの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （イ） 産業上の利用分野 本発明はハードディスク型の記録媒体に対して用いら
れる浮動型磁気ヘッドの製造方法に関する。
れる浮動型磁気ヘッドの製造方法に関する。
（ロ） 従来の技術 近年、ハードディスクドライブ装置は高密度記録によ
る大容量化が図られており、磁気ディスクのディスク径
が5.25インチや3.5インチの小型のものが登場し、大型
コンピュータ用だけでなく、パーソナルコンピュータ等
の民生機器用としても急速に普及している。
る大容量化が図られており、磁気ディスクのディスク径
が5.25インチや3.5インチの小型のものが登場し、大型
コンピュータ用だけでなく、パーソナルコンピュータ等
の民生機器用としても急速に普及している。
従来、このハードディスクドライブ装置用の磁気ヘッ
ドとしては、第12図に示すように浮動体（１）と磁気コ
ア（２）とがフェライトで形成されたモノリシック型の
磁気ヘッドが主流であった。しかし乍ら、この構造の磁
気ヘッドにおいて高密度記録を図るためにトラック幅ｔ
を20μｍ以下にしようとする場合、加工が困難であると
同時に完成品においてもトラック部を側面から補強する
ものがないため、トラック部にカケやワレが発生する虞
れがあった。
ドとしては、第12図に示すように浮動体（１）と磁気コ
ア（２）とがフェライトで形成されたモノリシック型の
磁気ヘッドが主流であった。しかし乍ら、この構造の磁
気ヘッドにおいて高密度記録を図るためにトラック幅ｔ
を20μｍ以下にしようとする場合、加工が困難であると
同時に完成品においてもトラック部を側面から補強する
ものがないため、トラック部にカケやワレが発生する虞
れがあった。
そこで、上述の欠点を解決するために、特開昭61−61
222号公報（G11B5/60）等に開示されているようなコン
ポジット型の磁気ヘッドが提案されている。
222号公報（G11B5/60）等に開示されているようなコン
ポジット型の磁気ヘッドが提案されている。
次に、このコンポジット型の浮動型磁気ヘッドの製造
方法について説明する。
方法について説明する。
先ず、第13図（ａ）（ｂ）に示すようにフェライト等
の強磁性酸化物材料よりなる第１、第２の基板（3a）
（3b）の上面及び下面を鏡面研磨した後、第１の基板
（3a）の上面にSiO2、ガラス等よりなるギャップスペー
サ（４）をスパッタリング等によって被着し、第２の基
板（3b）の上面に巻線溝（５）を複数形成する。
の強磁性酸化物材料よりなる第１、第２の基板（3a）
（3b）の上面及び下面を鏡面研磨した後、第１の基板
（3a）の上面にSiO2、ガラス等よりなるギャップスペー
サ（４）をスパッタリング等によって被着し、第２の基
板（3b）の上面に巻線溝（５）を複数形成する。
次に、第14図に示すように前記第１、第２の基板（3
a）（3b）の上面同士を衝き合わせた状態で、前記巻線
溝（５）内にガラス棒（６）を挿入し、該ガラス棒
（６）を溶融固化して溶着ブロックを形成する。
a）（3b）の上面同士を衝き合わせた状態で、前記巻線
溝（５）内にガラス棒（６）を挿入し、該ガラス棒
（６）を溶融固化して溶着ブロックを形成する。
次に、前記溶着ブロックを破線Ａ−Ａ′に沿って切断
して第15図に示すようなコアブロック（７）を複数形成
する。（８）は前記ガラス棒（６）が溶融固化してなる
溶着用のガラスである。
して第15図に示すようなコアブロック（７）を複数形成
する。（８）は前記ガラス棒（６）が溶融固化してなる
溶着用のガラスである。
次に、前記コアブロック（７）を破線Ｂ−Ｂ′に沿っ
て切断して第16図に示すような第１、第２コア半体（16
a）（16b）からなるヘッドチップ（９）を形成する。
て切断して第16図に示すような第１、第２コア半体（16
a）（16b）からなるヘッドチップ（９）を形成する。
次に、前記ヘッドチップ（９）の両側面を鏡面研磨し
た後、上面（9a）にトラック加工を施して第17図に示す
所望のトラック幅ｔの作動ギャップ（10）を有する媒体
対向部（11）を形成する。
た後、上面（9a）にトラック加工を施して第17図に示す
所望のトラック幅ｔの作動ギャップ（10）を有する媒体
対向部（11）を形成する。
次に、第18図に示すような切り溝（12）を有するスラ
イダ（13）を用意し、該スライダ（13）の切り溝（12）
に第17図に示す前記ヘッドチップ（９）を挿入した後、
第19図に示すように前記ヘッドチップ（９）の上にガラ
ス片（14）を載置し、該ガラス片（14）を溶融固化する
ことにより第20図に示すように前記ヘッドチップ（９）
と前記切り溝（12）との間にガラス（15）を充填して前
記ヘッドチップ（９）を前記スライダ（13）に固定す
る。
イダ（13）を用意し、該スライダ（13）の切り溝（12）
に第17図に示す前記ヘッドチップ（９）を挿入した後、
第19図に示すように前記ヘッドチップ（９）の上にガラ
ス片（14）を載置し、該ガラス片（14）を溶融固化する
ことにより第20図に示すように前記ヘッドチップ（９）
と前記切り溝（12）との間にガラス（15）を充填して前
記ヘッドチップ（９）を前記スライダ（13）に固定す
る。
そして最後に、ヘッドチップ（９）が固定されたスラ
イダ（13）にチャンファー加工等の外形成形を施すこと
により第21図に示すコンポジット型の浮動型磁気ヘッド
が完成する。
イダ（13）にチャンファー加工等の外形成形を施すこと
により第21図に示すコンポジット型の浮動型磁気ヘッド
が完成する。
しかし乍ら、上記従来の製造方法では、ギャップスペ
ーサ（４）としてSiO2を用いると、第16図において第
１、第２コア半体（16a）（16b）同士が接合されている
のは巻線溝（５）内のガラス（８）が存在する部分だけ
であるので前記第１、第２コア半体（16a）（16b）同士
の接合強度は弱く、第16図から第17図の製造工程中の側
面研磨時やトラック加工時にヘッドチップ（９）が割れ
たり、作動ギャップ（10）のギャップ長が拡大したりし
て、製造歩留りが悪い。
ーサ（４）としてSiO2を用いると、第16図において第
１、第２コア半体（16a）（16b）同士が接合されている
のは巻線溝（５）内のガラス（８）が存在する部分だけ
であるので前記第１、第２コア半体（16a）（16b）同士
の接合強度は弱く、第16図から第17図の製造工程中の側
面研磨時やトラック加工時にヘッドチップ（９）が割れ
たり、作動ギャップ（10）のギャップ長が拡大したりし
て、製造歩留りが悪い。
また、ギャップスペーサ（４）としてガラスを用いる
と、このガラスの軟化点が溶着温度よりも低い場合は、
第１、第２コア半体（16a）（16b）同士は強固に接合さ
れるが、溶着時の圧力によりガラスの厚みが大幅に変化
し、ギャップ長を制御するのが困難である。また、ガラ
スの軟化点が溶着温度よりも高い場合は、ガラスの厚み
の変化は少ないものの第１、第２コア半体（16a）（16
b）同士の十分な接合強度は得られない。
と、このガラスの軟化点が溶着温度よりも低い場合は、
第１、第２コア半体（16a）（16b）同士は強固に接合さ
れるが、溶着時の圧力によりガラスの厚みが大幅に変化
し、ギャップ長を制御するのが困難である。また、ガラ
スの軟化点が溶着温度よりも高い場合は、ガラスの厚み
の変化は少ないものの第１、第２コア半体（16a）（16
b）同士の十分な接合強度は得られない。
（ハ） 発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み成されたものであ
り、ヘッドチップ外形加工時に、ヘッドチップが割れた
り、ギャップ長が拡大するのを防止し、更に、ギャップ
長の精度を劣化させることなく、ヘットチップのコア半
体同士の接合を強固にした浮動型磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とするものである。
り、ヘッドチップ外形加工時に、ヘッドチップが割れた
り、ギャップ長が拡大するのを防止し、更に、ギャップ
長の精度を劣化させることなく、ヘットチップのコア半
体同士の接合を強固にした浮動型磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とするものである。
（ニ） 課題を解決するための手段 本発明の第１の浮動型磁気ヘッドの製造方法は、強磁
性酸化物よりなる第１、第２コア半体が、該第２コア半
体の接合面中央に形成されたガラス充填溝に充填したガ
ラスにより前記ガラス充填溝の側方に位置するギャップ
スペーサを介して接合されているヘッドチップを形成し
た後、前記ヘッドチップの上面のうち前記ガラス充填溝
形成部を除去して所定のトラック幅の作動ギャップを有
する媒体対向部を形成し、その後、前記ヘッドチップを
非磁性材料よりなるスライダの切り溝に固定することを
特徴とする。
性酸化物よりなる第１、第２コア半体が、該第２コア半
体の接合面中央に形成されたガラス充填溝に充填したガ
ラスにより前記ガラス充填溝の側方に位置するギャップ
スペーサを介して接合されているヘッドチップを形成し
た後、前記ヘッドチップの上面のうち前記ガラス充填溝
形成部を除去して所定のトラック幅の作動ギャップを有
する媒体対向部を形成し、その後、前記ヘッドチップを
非磁性材料よりなるスライダの切り溝に固定することを
特徴とする。
また、本発明の第２の浮動型磁気ヘッドの製造方法
は、前記第１、第２コア半体が前記ガラス充填溝及び作
動ギャップの下端を規定するギャップ下端規定溝に充填
されているガラスにより接合されていることを特徴とす
る。
は、前記第１、第２コア半体が前記ガラス充填溝及び作
動ギャップの下端を規定するギャップ下端規定溝に充填
されているガラスにより接合されていることを特徴とす
る。
更に、本発明の上記第１の浮動型磁気ヘッドの製造方
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝に充填されて
いるガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して
接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充
填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成する
ことを特徴とする。
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝に充填されて
いるガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して
接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充
填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成する
ことを特徴とする。
また、本発明の上記第２の浮動型磁気ヘッドの製造方
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝及び該ガラス
充填溝と直交するギャップ下端規定溝に充填されている
ガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して接合
してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充填溝
未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成すること
を特徴とする。
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝及び該ガラス
充填溝と直交するギャップ下端規定溝に充填されている
ガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して接合
してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充填溝
未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成すること
を特徴とする。
更に、本発明の上記第１、第２の浮動型磁気ヘッドの
製造方法は、前記第１の基板と前記第２の基板とをガラ
スにより接合してブロックを形成する際、ガラス充填溝
形成部の側部において前記ギャップ長規定材料は前記ガ
ラスと反応する部分と反応しない部分とを有することを
特徴とする。
製造方法は、前記第１の基板と前記第２の基板とをガラ
スにより接合してブロックを形成する際、ガラス充填溝
形成部の側部において前記ギャップ長規定材料は前記ガ
ラスと反応する部分と反応しない部分とを有することを
特徴とする。
（ホ） 作用 第１の製造方法に依れば、ヘッドチップの第１、第２
コア半体はガラス充填溝に充填されているガラスにより
強固に接合される。
コア半体はガラス充填溝に充填されているガラスにより
強固に接合される。
また、第２の製造方法に依れば、前記第１、第２コア
半体の接合はギャップ下端規定溝に充填されたガラスに
より更に強固になる。
半体の接合はギャップ下端規定溝に充填されたガラスに
より更に強固になる。
また、前記ヘッドチップを形成するにおいて、前記第
１の基板と第２の基板とをガラス接合する際、ギャップ
長規定材料が前記ガラスと反応する部分と反応しない部
分とを有する上記製造方法に依れば、前記反応する部分
は前記第１、第２の基板の接合力を強化し、前記反応し
ない部分はギャップ長を高精度に保つ。
１の基板と第２の基板とをガラス接合する際、ギャップ
長規定材料が前記ガラスと反応する部分と反応しない部
分とを有する上記製造方法に依れば、前記反応する部分
は前記第１、第２の基板の接合力を強化し、前記反応し
ない部分はギャップ長を高精度に保つ。
（ヘ） 実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説
明する。
明する。
第１図乃至第11図は本実施例の浮動型磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。
造方法を示す図である。
先ず、第２図（ａ）（ｂ）に示すようなフェライト等
の強磁性酸化物材料よりなる一対の第１、第２の基板
（17a）（17b）の上面及び下面に鏡面研磨を施した後、
第２の基板（17b）の上面にガラス充填溝（18）を複数
形成する。
の強磁性酸化物材料よりなる一対の第１、第２の基板
（17a）（17b）の上面及び下面に鏡面研磨を施した後、
第２の基板（17b）の上面にガラス充填溝（18）を複数
形成する。
次に、第３図（ａ）（ｂ）に示すように前記第１の基
板（17a）の上面にはSiO2やガラス等によりなる所望の
ギャップ長に等しい膜厚のギャップ長規定薄膜（19）を
スパッタリング等により被着し、前記第２の基板（17
b）の上面には前記ガラス充填溝（18）と直交する方向
にギャップ下端規定溝（20）を複数形成する。
板（17a）の上面にはSiO2やガラス等によりなる所望の
ギャップ長に等しい膜厚のギャップ長規定薄膜（19）を
スパッタリング等により被着し、前記第２の基板（17
b）の上面には前記ガラス充填溝（18）と直交する方向
にギャップ下端規定溝（20）を複数形成する。
次に、第４図に示すように前記第２の基板（17b）の
ガラス充填溝（18）及びギャップ下端規定溝（20）に第
１のガラス（21）を充填した後、前記第２の基板（17
b）の上面に鏡面研磨を施す。
ガラス充填溝（18）及びギャップ下端規定溝（20）に第
１のガラス（21）を充填した後、前記第２の基板（17
b）の上面に鏡面研磨を施す。
次に、前記第２の基板（17b）の上面に前記ギャップ
下端規定溝（20）と平行に巻線溝（22）を複製形成し、
その後前記第１、第２の基板（17a）（17b）の上面同士
を衝き合わせた後、第５図に示すように前記第１のガラ
ス（21）を溶融固化して前記第１、第２の基板（17a）
（17b）を接合しブロック（23）を形成する。尚、前記
第１のガラス（21）の溶融条件（加熱ピーク温度、保持
時間等）を調整することにより、前記ブロック（23）の
要部拡大図である第６図に示すようにギャップ長規定薄
膜（19）と第１のガラス（21）とを反応させ、反応部分
（24a）（24b）の距離TX、TY及び未反応部分（25）の距
離Ｓを調整する。
下端規定溝（20）と平行に巻線溝（22）を複製形成し、
その後前記第１、第２の基板（17a）（17b）の上面同士
を衝き合わせた後、第５図に示すように前記第１のガラ
ス（21）を溶融固化して前記第１、第２の基板（17a）
（17b）を接合しブロック（23）を形成する。尚、前記
第１のガラス（21）の溶融条件（加熱ピーク温度、保持
時間等）を調整することにより、前記ブロック（23）の
要部拡大図である第６図に示すようにギャップ長規定薄
膜（19）と第１のガラス（21）とを反応させ、反応部分
（24a）（24b）の距離TX、TY及び未反応部分（25）の距
離Ｓを調整する。
次に、前記ブロック（23）を破線Ｃ−Ｃ′に沿って切
断して第７図に示すコアブロック（26）を複数形成す
る。
断して第７図に示すコアブロック（26）を複数形成す
る。
次に、前記コアブロック（26）の前記ガラス充填溝
（18）未形成部分を破線Ｄ−Ｄ′に沿って切断して第８
図に示す第１、第３コア半体（32a）（32b）よりなるヘ
ッドチップ（27）を複数形成する。このヘッドチップ
（27）は前述の切断工程後、該切断面が鏡面研磨されて
おり、前記ガラス充填溝（18）両側の衝き合わせ部の距
離T1、T2は所望のトラック幅ｔよりも大きい。また、前
記衝き合わせ部（28a）（28b）の距離T1、T2と第６図に
示す反応部分（24a）（24b）の距離TX、TYとの関係は
TX、TY≧T1、T2である。このため、このヘッドチップ
（27）の衝き合わせ部（28a）（28b）は全域がギャップ
長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反応部分
（24a）（24b）である。
（18）未形成部分を破線Ｄ−Ｄ′に沿って切断して第８
図に示す第１、第３コア半体（32a）（32b）よりなるヘ
ッドチップ（27）を複数形成する。このヘッドチップ
（27）は前述の切断工程後、該切断面が鏡面研磨されて
おり、前記ガラス充填溝（18）両側の衝き合わせ部の距
離T1、T2は所望のトラック幅ｔよりも大きい。また、前
記衝き合わせ部（28a）（28b）の距離T1、T2と第６図に
示す反応部分（24a）（24b）の距離TX、TYとの関係は
TX、TY≧T1、T2である。このため、このヘッドチップ
（27）の衝き合わせ部（28a）（28b）は全域がギャップ
長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反応部分
（24a）（24b）である。
次に、前記ヘッドチップ（27）の上面（27a）のうち
第９図の斜線部分（29）、即ち衝き合わせ部（28b）、
ガラス充填溝（18）形成部及び衝き合わせ部（28a）の
一部分を除去して第10図に示すようにトラック幅ｔの作
動ギャップ（30）を有する媒体対向部（31）を形成す
る。尚、前記作動ギャップ（30）のギャップスペーサは
ギャップ長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反
応部分（24b）のみである。
第９図の斜線部分（29）、即ち衝き合わせ部（28b）、
ガラス充填溝（18）形成部及び衝き合わせ部（28a）の
一部分を除去して第10図に示すようにトラック幅ｔの作
動ギャップ（30）を有する媒体対向部（31）を形成す
る。尚、前記作動ギャップ（30）のギャップスペーサは
ギャップ長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反
応部分（24b）のみである。
以後は、従来の第18図乃至第21図と同様にして第10図
に示すヘッドチップ（27）を前記第１のガラス（21）よ
りも低融点の第２のガラス（33）によりスライダ（13）
の切り溝（12）に取り付けた後、チャンファー加工等の
外形成形を行って第１図に示す本実施例の浮動型磁気ヘ
ッドが完成する。
に示すヘッドチップ（27）を前記第１のガラス（21）よ
りも低融点の第２のガラス（33）によりスライダ（13）
の切り溝（12）に取り付けた後、チャンファー加工等の
外形成形を行って第１図に示す本実施例の浮動型磁気ヘ
ッドが完成する。
上述のような浮動型磁気ヘッドの製造方法では、第８
図に示すヘッドチップ（27）の第１、第２コア半体（32
a）（32b）間の接合がガラス充填溝（18）及びギャップ
下端規定溝（20）に充填された第１のガラス（21）によ
り強固に行われているので、第８図のヘッドチップ（2
7）の切断面研磨や第９図及び第10図のトラック幅加工
によりヘッドチップ（27）が割れたり、作動ギャップ
（30）のギャップ長が拡大するのが防止される。また、
第１、第２の基板（17a）（17b）とをガラス接合してブ
ロック（23）を形成する際、第６図に示すようにギャッ
プ長規定薄膜（19）の一部が第１のガラス（21）の未反
応であるため、作動ギャップ（30）のギャップ長を高精
度に保つことが出来る。しかも、第１、第２コア半体
（32a）（32b）はギャップ長規定薄膜（19）と第１のガ
ラス（21）との反応部分（24b）であるギャップスペー
サによっても接合されており、ギャップ接合が強力とな
る。
図に示すヘッドチップ（27）の第１、第２コア半体（32
a）（32b）間の接合がガラス充填溝（18）及びギャップ
下端規定溝（20）に充填された第１のガラス（21）によ
り強固に行われているので、第８図のヘッドチップ（2
7）の切断面研磨や第９図及び第10図のトラック幅加工
によりヘッドチップ（27）が割れたり、作動ギャップ
（30）のギャップ長が拡大するのが防止される。また、
第１、第２の基板（17a）（17b）とをガラス接合してブ
ロック（23）を形成する際、第６図に示すようにギャッ
プ長規定薄膜（19）の一部が第１のガラス（21）の未反
応であるため、作動ギャップ（30）のギャップ長を高精
度に保つことが出来る。しかも、第１、第２コア半体
（32a）（32b）はギャップ長規定薄膜（19）と第１のガ
ラス（21）との反応部分（24b）であるギャップスペー
サによっても接合されており、ギャップ接合が強力とな
る。
また、他の実施例として、第１の基板（17a）にもギ
ャップ下端規定溝を設け、該ギャップ下端規定溝にガラ
スを充填した後、前記第１の基板（17a）上面に鏡面研
磨を行ってからギャップ長規定薄膜を形成し、その後、
前記第１、第２の基板（17a）（17b）のギャップ下端規
定溝同士を位置合わせした状態で前記第１、第２の基板
（17a）（17b）同士を接合してブロックを形成する方法
もある。第11図はこの他の実施例の製造方法により形成
されるヘッドチップの外観を示す斜視図である。
ャップ下端規定溝を設け、該ギャップ下端規定溝にガラ
スを充填した後、前記第１の基板（17a）上面に鏡面研
磨を行ってからギャップ長規定薄膜を形成し、その後、
前記第１、第２の基板（17a）（17b）のギャップ下端規
定溝同士を位置合わせした状態で前記第１、第２の基板
（17a）（17b）同士を接合してブロックを形成する方法
もある。第11図はこの他の実施例の製造方法により形成
されるヘッドチップの外観を示す斜視図である。
（ト） 発明の効果 本発明に依れば、ヘットチップの割れやギャップ精度
の劣化を防止し、製造歩留りのよい浮動型磁気ヘッドの
製造方法を提供し得る。
の劣化を防止し、製造歩留りのよい浮動型磁気ヘッドの
製造方法を提供し得る。
第１図乃至第11図は本発明に係り、第１図は浮動型磁気
ヘッドの外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、
第５図、第６図、第７図、第８図、第９図及び第10図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図、第11図は他
の実施例のヘッドチップの外観を示す斜視図である。第
12図乃至第21図はは従来例に係り、第12図は浮動型磁気
ヘッドの外観を示す斜視図、第13図、第14図、第15図、
第16図、第17図、第18図、第19図、第20図及び第21図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図である。 （12）……切り溝、（13）……スライダ、（17a）……
第１の基板、（17b）……第２の基板、（18）……ガラ
ス充填溝、（19）……ギャップ長規定薄膜（ギャップ長
規定材料）、（20）……ギャップ下端規定溝、（21）…
…第１のガラス、（23）……ブロック、（24a）（24b）
……反応部分、（25）……未反応部分、（26）……コア
ブロック、（ブロック）、（27）……ヘッドチップ、
（27a）……上面、（30）……作動ギャップ、（31）…
…媒体対向部、（32a）……第１コア半体、（32b）……
第２コア半体。
ヘッドの外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、
第５図、第６図、第７図、第８図、第９図及び第10図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図、第11図は他
の実施例のヘッドチップの外観を示す斜視図である。第
12図乃至第21図はは従来例に係り、第12図は浮動型磁気
ヘッドの外観を示す斜視図、第13図、第14図、第15図、
第16図、第17図、第18図、第19図、第20図及び第21図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図である。 （12）……切り溝、（13）……スライダ、（17a）……
第１の基板、（17b）……第２の基板、（18）……ガラ
ス充填溝、（19）……ギャップ長規定薄膜（ギャップ長
規定材料）、（20）……ギャップ下端規定溝、（21）…
…第１のガラス、（23）……ブロック、（24a）（24b）
……反応部分、（25）……未反応部分、（26）……コア
ブロック、（ブロック）、（27）……ヘッドチップ、
（27a）……上面、（30）……作動ギャップ、（31）…
…媒体対向部、（32a）……第１コア半体、（32b）……
第２コア半体。
Claims (5)
- 【請求項１】強磁性酸化物よりなる第１、第２コア半体
が、該第２コア半体の接合面中央に形成されたガラス充
填溝に充填したガラスにより前記ガラス充填溝の側方に
位置するギャップスペーサを介して接合されているヘッ
ドチップを形成した後、該ヘッドチップの上面のうち前
記ガラス充填溝形成部を除去して所定のトラック幅の作
動ギャップを有する媒体対向部を形成し、その後、前記
ヘッドチップを非磁性材料よりなるスライダの切り溝に
固定することを特徴とする浮動型磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】前記第１、第２コア半体が前記ガラス充填
溝及び作動ギャップの下端を規定するギャップ下端規定
溝に充填されているガラスにより接合されていることを
特徴とする請求項（１）記載の浮動型磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項３】強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の
基板とを該第２の基板の接合面上のガラス充填溝に充填
されているガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を
介して接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガ
ラス充填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形
成することを特徴とする請求項（１）記載の浮動型磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の
基板とを該第２の基板の接合面上のガラス充填溝及び該
ガラス充填溝と直交するギャップ下端規定溝に充填され
ているガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介し
て接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス
充填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成す
ることを特徴とする請求項（２）記載の浮動型磁気ヘッ
ドの製造方法。 - 【請求項５】前記第１の基板と前記第２の基板とをガラ
スにより接合してブロックを形成する際、ガラス充填溝
形成部の側部において前記ギャップ長規定材料は前記ガ
ラスと反応する部分と反応しない部分とを有することを
特徴とする請求項（３）又は（４）記載の浮動型磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26457288A JP2627322B2 (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26457288A JP2627322B2 (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02110806A JPH02110806A (ja) | 1990-04-24 |
| JP2627322B2 true JP2627322B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=17405154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26457288A Expired - Fee Related JP2627322B2 (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2627322B2 (ja) |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26457288A patent/JP2627322B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02110806A (ja) | 1990-04-24 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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