JPS635232A - 圧力検出器 - Google Patents

圧力検出器

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JPS635232A
JPS635232A JP14915086A JP14915086A JPS635232A JP S635232 A JPS635232 A JP S635232A JP 14915086 A JP14915086 A JP 14915086A JP 14915086 A JP14915086 A JP 14915086A JP S635232 A JPS635232 A JP S635232A
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JP
Japan
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pressure
diaphragm
sensing body
bonded
pressure receiving
Prior art date
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Pending
Application number
JP14915086A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Fujino
藤野 誠二
Minoru Nishida
実 西田
Naohito Mizuno
直仁 水野
Tadashi Hattori
正 服部
Keiji Aoki
啓二 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Soken Inc
Original Assignee
Nippon Soken Inc
Toyota Motor Corp
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Publication date
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Publication of JPS635232A publication Critical patent/JPS635232A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野 本発明は圧力検出器に関し、特に内燃機関の燃焼室の如
き高温雰囲気の高圧を精度良く測定するに適した圧力検
出器に関する。
[従来の技術] 圧力検出器の一般的構造としてはハウジングに受圧用ダ
イヤフラムを保持せしめてこれに歪ゲージを付設したも
のが多用されている。歪ゲージとしては従来は金属歪ゲ
ージが使用されてきたが、近年ではリニヤで高感度な出
力が得られ、かつ極めて小型化が可能な半導体歪ゲージ
が注目されている。
かかる半導体歪ゲージとしては、シリコン(Si)単結
晶基板の表面にボロン(B)あるいはリン(P)等の不
純物をドープして歪ゲージ素子を形成し圧力検出素子と
したものが良く知られている。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、上記半導体式圧力検出素子は従来の金属歪ゲ
ージに比して上述の如き長所を有するものであるが、P
N接合構造を有することから温度上昇と共に生じるリー
ク電流により使用温度としては比較的低温域(約150
℃以下)に限られていた。
これに対して、米国特許箱3,858.150号には単
結晶シリコン基板上に絶縁膜を介して多結晶シリコン層
を形成し、該シリコン層に不純物をドープして歪ゲージ
素子を形成した圧力検出器が開示されており、これによ
れば、PN接合を有しないため、より高温域での圧力測
定が可能である。
しかしながら、ここに開示された圧力検出器は単結晶シ
リコン基板の中心部をエツチングにより薄肉として受圧
用ダイヤフラムとする構造であり、比較的低圧(30K
g/cd)を測定する用途にしか使用できないという問
題点があった。
内燃機関の燃焼圧を測定するには高温雰囲気(約500
℃)で高圧(例えばディーゼルエンジンの場合は最高圧
的100に!j/d)を測定する必要があり、本発明は
かかる高温下での高圧測定を精度良く行なうことが可能
な圧力検出器を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明の構成を第1図、第2図で説明すると、筒状ハウ
ジング3には先端開口にセンシングボデー2が保持せし
めており、該センシングボデー2は一部を薄肉として受
圧ダイヤフラム21としである。該ダイヤフラム21の
受圧面の反対面には圧力検出素子1が接合しである。上
記センシングボデー2は強度が大きく、かつ熱膨張係数
の小さい材料で構成され、かつ上記圧力検出素子1はシ
リコン基板11上に絶縁層12を介して形成した多結晶
シリコン層13に不純物をドープして半導体歪ゲージ素
子となしたもので構成されている。
そして、上記シリコン基板を上記受圧ダイヤフラムの受
圧面の反対面に共晶接合により接合しである。
[作用、効果] 圧力が印加されると受圧ダイヤフラム21はこれに応じ
て変形し、上記ダイヤフラム21に一体に接合された圧
力検出素子1からは変形歪に応じた出力信号が発せられ
る。
本発明によれば、上記圧力検出素子1上の半導体歪ゲー
ジ素子がPN接合構造を有しないから高温雰囲気での使
用が可能であり、しかも圧力検出素子1を強度が大きく
、かつ熱膨張係数の小さい材料よりなる受圧ダイヤフラ
ム21に充分な接合強度で共晶接合しであるから、高圧
を良好に測定することができる。
[実施例] 第4図には圧力検出器の全体構造を示す。圧力検出器は
筒状ハウジング4を有し、該ハウジング4の小径の下半
部外周には取付用ネジ部4aが形成され、大径の上半部
外周は六角面としである。
上記ハウジング4の先端開口には金属製筒状のセンシン
グヘッド3が溶接固定してあり、該センシングヘッド3
の先端開口には厚肉板状のセンシングボデー2が嵌着固
定しである。その詳細を第1図に示す。
図において、センシングボデー2は中心部に向けて段階
的に薄肉としてあり、最小薄肉部を受圧用ダイアフラム
21となしてこれの直上に圧力検出素子1が接合される
。センシングボデー2は熱膨張係数が3iのそれと同程
度に小さい(2〜5X10−6i℃程度)Fe−Ni−
Go系合金(例えば三菱金属株式会社 商品名「コバー
ル」)よりなり、下面外周縁に設けた突壁2aをセンシ
ングヘッド3の開口縁に溶接固定しである。
圧力検出素子]の構造を第2図、第3図に示す。
基板11は100〜300μm厚さのシリコン単結晶板
であり、該基板11には上面全面に熱酸化により0.3
〜1.0μmの厚さで8102層12が形成され、この
上に減圧CVDにより約1μmの厚さで多結晶シリコン
層13が形成しである。
該多結晶シリコン層13にはボロン(B)ないしリン(
P)を熱拡散によりドープし、これをドライエッチによ
ってパターンニングして半導体歪ゲージ素子13a、1
3.b、13c、13dを形成する。
上記多結晶シリコン層13上にはPtよりなる電極パタ
ーン14を形成し、各電極パターン14のパッド部14
1を除いて全体をSi3N4等のパッシベーション膜1
5で覆っである。上記各歪ゲージ素子13a〜13dは
受圧用ダイヤフラム21の周縁部直上に位置し、フルブ
リッジ回路を構成している。
かかる構造の圧力検出素子1は接合層5(第1図)を介
してセンシングボデー2に接合固定しである。上記接合
層5はセンシングボデー2の上面にActをメッキし、
これをシリコン基板11のSiと共晶せしめることによ
り形成する。3iとAQは、第5図の状態図に示す如(
,3i含有率14.5%、温度830℃に共晶点を有し
、この温度付近で一定時間保持した後冷却して共晶接合
することができる。
上記圧力検出素子1の周囲にはアルミナ製リング板61
が配設してあり、該リング板61上に形成した複数の電
極(閃格)と圧力検出素子1上の上記各パッド部141
をAU線等のワイヤ線62で接続しである。上記リング
板61はろう付は等によりセンシングボデー2に固定す
る。リング板61の上記各電極にはリードピン63の下
端がろう付は固定してあり、各リードピン63はハウジ
ング4(第4図)内を通ってその上端部内に配設したタ
ーミナル板64に半田付は固定しである。
ターミナル板64の上方には増@および温度補償用の信
号処理回路を形成したセラミック基板65が配設され、
該基板65はリードピン67により上記ターミナル板6
4上に支持されるとともにこれに導通している。ハウジ
ング4の上端開口にはカバー体41が覆着してあり、そ
の中心を貫通せしめたリード線66の先端が上記基板6
5上の信号処理回路に接続しである。
上記構造の圧力検出器をネジ部4aにより燃焼室壁に固
定するとセンシングヘッド3のテーパ部31(第1図)
が室壁に接する。この状態で燃焼圧が受圧用ダイヤフラ
ム21に印加されるとこれが変形し、変形歪に応じて半
導体歪ゲージ素子13a、13dの抵抗値が変化して出
力の度合に応じた信号が得られる。
この際、ダイヤフラム21には高圧の燃焼圧が印加され
るが、Fe−Ni−Co系合金よりなる上記ダイヤフラ
ム21は充分な強度と対熱性を有し、かつこのダイヤフ
ラム21に共晶接合により圧力検出素子1が強固に接合
されていることにより、ダイヤフラム21の変形に応じ
た高感度の出力信号が得られる。
また、センシングボデー2が受ける熱はこれよりセンシ
ングヘッド3のテーパ部31を経て燃焼室壁に放散され
て、センシングボデー2の温度上昇が抑制され、かつ上
記圧力検出素子1は絶縁層としての8102層12上に
不純物をドープした多結晶シリコン層13を設けて半導
体歪ゲージ素子を形成したから500℃程度の高温雰囲
気でも高精度な測定が可能である。
センシングボデー2にはAg2O3、あるいはAg2O
3を含むSi3N4のセラミックを使用することができ
、これを第6図に示す。センシングボデー2は上面外周
縁をセンシングヘッド3の段付部に接合してあり、その
接合は第7図に示す如くセンシングボデー2側よりMo
メタライズ層71、N rメッキ層72、A(Jペース
トのろう付層73を積層して行なう。センシングボデー
2の下面外周縁は、リングシート74(第6図)を介し
てセンシングヘッド3の下端部を巻き締めし保持しであ
る。
この場合の圧力検出素子1とセンシングボデー2の接合
は、第8図に示す如く、センシングボデー面にMoない
しWのメタライズ層51を形成し、この上にAQ層52
をメッキしてこれとシリコン基板を共晶接合する。
かかる構造によっても上記実施例と同様の効果が得られ
る。
なお、上記各実施例のACIに代えてPtを使用するこ
ともできる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第5図は本発明の一実施例を示し、第1図
は圧力検出器先端部の拡大断面図、第2図は圧力検出素
子の横断面図で、第3図の■−■線断面図、第3図は圧
力検出素子の平面図、第4図は圧力検出器の全体断面図
、第5図はAg−3iの状態図、第6図ないし第8図は
本発明の他の実施例を示し、第6図は圧力検出器先端部
の拡大断面図、第7図、第8図は要部断面図でそれぞれ
第6図のA部拡大断面図およびB部拡大断面図である。 1・・・・・・圧力検出素子 11・・・・・・シリコン基板 12・・・・・・絶縁層 13・・・・・・多結晶シリコン層 13a、13b、13c113CJ・−・−・半導体歪
ゲージ素子 2・・・・・・センシングポデー 21・・・・・・受圧ダイヤフラム 3・・・・・・センシングヘッド 4・・・・・・ハウジング 5・・・・・・共晶接合層 @1 図 第3図 第2図 第40 第5図 Ag     Sit肩4’ (QiOm ’10) 
  S!@6図 第8図       第7図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)圧力室内へ突出する筒状ハウジングの先端開口に
    センシングボデーを保持せしめ、該センシングボデーの
    一部を薄肉として受圧ダイヤフラムとなすとともに該ダ
    イヤフラムの受圧面の反対面に圧力検出素子を接合して
    なり、上記センシングボデーを強度が大きく、かつ熱膨
    脹率の小さい材料で構成するとともに、上記圧力検出素
    子を、シリコン基板上に絶縁層を介して形成した多結晶
    シリコン層に不純物をドープして半導体歪ゲージ素子と
    なしたもので構成し、上記シリコン基板を上記受圧ダイ
    ヤフラムに共晶接合により接合したことを特徴とする圧
    力検出器。
  2. (2)上記センシングボデーをFe−Ni−Co系合金
    で構成し、上記ダイヤフラムの受圧面の反対面にAgな
    いしPtのメッキ層を形成して該メッキ層を上記シリコ
    ン基板と共晶接合してなる特許請求の範囲第1項記載の
    圧力検出器。
  3. (3)上記センシングボデーをAl_2O_3、ないし
    Al_2O_3を含むSi_3N_4セラミックで構成
    し、上記ダイヤフラムの受圧面の反対面にMoないしW
    のメタライズ層を形成した後、該メタライズ層上にAg
    ないしPtのメッキ層を形成して該メッキ層を上記シリ
    コン基板と共晶接合してなる特許請求の範囲第1項記載
    の圧力検出器。
JP14915086A 1986-06-25 1986-06-25 圧力検出器 Pending JPS635232A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5872315A (en) * 1996-02-26 1999-02-16 Denso Corporation Pressure detecting apparatus
JP2002257658A (ja) * 2001-02-27 2002-09-11 Minebea Co Ltd 高温計測用半導体式圧力センサ
EP2783395A1 (en) 2011-11-23 2014-10-01 S3C, Inc. Mechanical packaging technique of attaching mems and flex circuit

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