JPS634997Y2 - - Google Patents
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- JPS634997Y2 JPS634997Y2 JP1981089311U JP8931181U JPS634997Y2 JP S634997 Y2 JPS634997 Y2 JP S634997Y2 JP 1981089311 U JP1981089311 U JP 1981089311U JP 8931181 U JP8931181 U JP 8931181U JP S634997 Y2 JPS634997 Y2 JP S634997Y2
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- sample
- airtight chamber
- chamber
- gas
- partition wall
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は反応性ガスによる処理後、直ちに試料
面をコーテイングし得る電子顕微鏡等用試料処理
装置に関するものである。
面をコーテイングし得る電子顕微鏡等用試料処理
装置に関するものである。
電子顕微鏡、特に走査電子顕微鏡やＸ線マイク
ロアナライザー等において試料の形態観察や元素
分析を行う場合、試料にクリーニング、エツチン
グ或いは灰化などの処理を施こした後、その表面
に金やカーボンの導電性薄膜をコーテングする作
業がしばしば必要である。従来の処理装置として
はエツチング装置、灰化装置などが単独で存在
し、これらの装置において処理した試料を一旦装
置から取り出し、真空蒸着装置内に挿入し、表面
をコーテイングしている。この様に処理装置から
一旦取り出し、蒸着装置へ挿入するやり方は折
角、エツチングし、或いはクリーニングした試料
を大気中に取り出したとき汚ごしてしまうことに
なる。特に、灰化処理の場合には灰化された生体
試料は大変に壊れやすいので、該試料の移動時に
形態変形を起すことが大きな問題とされている。
ロアナライザー等において試料の形態観察や元素
分析を行う場合、試料にクリーニング、エツチン
グ或いは灰化などの処理を施こした後、その表面
に金やカーボンの導電性薄膜をコーテングする作
業がしばしば必要である。従来の処理装置として
はエツチング装置、灰化装置などが単独で存在
し、これらの装置において処理した試料を一旦装
置から取り出し、真空蒸着装置内に挿入し、表面
をコーテイングしている。この様に処理装置から
一旦取り出し、蒸着装置へ挿入するやり方は折
角、エツチングし、或いはクリーニングした試料
を大気中に取り出したとき汚ごしてしまうことに
なる。特に、灰化処理の場合には灰化された生体
試料は大変に壊れやすいので、該試料の移動時に
形態変形を起すことが大きな問題とされている。
本考案はこの様な欠点を解決することを目的と
するもので、気密室内に試料を置き、この気密室
内に任意ガスを導入し、これをイオン化して試料
と反応させ、該試料のエツチングや灰化を行う装
置において、回転可能な隔壁を介して補助室を設
け、該隔壁にコーテイング材微粒子発生手段を設
け、該隔壁の回転により該コーテイング材微粒子
発生手段が補助室内に封じ込まれた状態と、試料
と対向する位置に置かれた状態とに切り換え可能
とした電子顕微鏡等用試料処理装置に特徴を有す
る。
するもので、気密室内に試料を置き、この気密室
内に任意ガスを導入し、これをイオン化して試料
と反応させ、該試料のエツチングや灰化を行う装
置において、回転可能な隔壁を介して補助室を設
け、該隔壁にコーテイング材微粒子発生手段を設
け、該隔壁の回転により該コーテイング材微粒子
発生手段が補助室内に封じ込まれた状態と、試料
と対向する位置に置かれた状態とに切り換え可能
とした電子顕微鏡等用試料処理装置に特徴を有す
る。
以下本考案の一実施例を添付図面に基づき説明
する。図中１は気密室であり、パイプ２、バルブ
３を介して真空ポンプ４に連結され、内部を高真
空に排気できる。又、この気密室にはパイプ５、
バルブ６を介してガスボンベ７が接続され、処理
に必要なガス、例えば灰化処理の場合には酸素ガ
スが所定流量で気密室内に導入される。前記排気
用パイプ２の取付位置は気密室１の底板中央部で
あり、又ガス導入用パイプ５の取付位置は底板の
端部或いは気密室の側面部であり、両取付位置を
仕切るように多数のスリツトを有するシールド筒
８が設けられている。シールド筒の内部には試料
台９が置かれ、その上に試料１０が載せられる。
１１は高周波コイルであり、気密室１の下部の外
周に巻回されており、高周波発振器１２に接続さ
れている。１３は気密室に隣接して且つ試料１０
に対向する位置に設けた補助室で、パイプ１４、
バルブ１５を介して真空ポンプ１６に接続され、
内部の気体を排出できる。１７は気密室と補助室
との間に設けられた隔壁で、板状をなし、軸１８
を中心に矢印で示す如く少くとも180度回転可能
に構成されている。隔壁の片方の側にはヒーター
１９が設けられコーテイング材２０を加熱蒸発す
る。
する。図中１は気密室であり、パイプ２、バルブ
３を介して真空ポンプ４に連結され、内部を高真
空に排気できる。又、この気密室にはパイプ５、
バルブ６を介してガスボンベ７が接続され、処理
に必要なガス、例えば灰化処理の場合には酸素ガ
スが所定流量で気密室内に導入される。前記排気
用パイプ２の取付位置は気密室１の底板中央部で
あり、又ガス導入用パイプ５の取付位置は底板の
端部或いは気密室の側面部であり、両取付位置を
仕切るように多数のスリツトを有するシールド筒
８が設けられている。シールド筒の内部には試料
台９が置かれ、その上に試料１０が載せられる。
１１は高周波コイルであり、気密室１の下部の外
周に巻回されており、高周波発振器１２に接続さ
れている。１３は気密室に隣接して且つ試料１０
に対向する位置に設けた補助室で、パイプ１４、
バルブ１５を介して真空ポンプ１６に接続され、
内部の気体を排出できる。１７は気密室と補助室
との間に設けられた隔壁で、板状をなし、軸１８
を中心に矢印で示す如く少くとも180度回転可能
に構成されている。隔壁の片方の側にはヒーター
１９が設けられコーテイング材２０を加熱蒸発す
る。
この様な構成において、先ず隔壁１７を矢印Ａ
の方向に回転させ蒸発源（ヒーター１９）を補助
室１３内に封じ込め、試料１０を試料台９上に載
せた状態でバルブ３を開き、気密室１内部を真空
ポンプ４によつて排気する。この排気状態を保つ
たままバルブ６を開きボンベ７より酸素ガスを気
密室内に導入する。次に高周波発振器１２より高
周波電力を高周波コイル１１に供給すると、その
コイルから生ずる電磁界により前記気密室内に導
入された酸素ガスは電離され、プラズマ雰囲気が
形成される。このプラズマの発生領域は、シール
ド筒８が設けてあり、且つガスの導入口がシール
ド筒の外側であるため、シールド筒８と気密室の
側壁との間の円筒領域である。このプラズマ中の
酸素イオンは真空ポンプ４による排気によつてシ
ールド筒８のスリツトを通してその内部に浸入
し、試料１０に接触して反応を起す。反応に寄与
しなかつたガス及び反応により新たに生成された
ガスはポンプ４により外部に排出される。前記酸
素イオンとの反応により生体試料は原形を保つた
まま灰化されていき、金属などの元素はそのまま
残存する。灰化処理が終了したならばバルブ６を
閉じてガスの導入を止め、気密室１内を
10-3Torr以上の高真空に排気する。同時にバル
ブ１５を開けて補助室１３内も排気する。両室が
所定の真空度に達した場合、隔壁１７を矢印Ｂの
方向に回転し、ヒーター１９及びコーテイング材
２０を試料１０と対向せしめ、続いて該ヒーター
に通電してコーテイング材２０を加熱、蒸発せし
める。この蒸発粒子は飛散して灰化した試料１０
の表面に付着し、薄いコーテイング膜を形成す
る。所定の厚さに膜が形成されたならばヒーター
１９への通電を停止し、バルブ３及び１５を閉
じ、更に内部に大気をリークして試料を取り出
す。取り出された試料は直ちに走査電子顕微鏡等
の試料台に取り付けられ、形態観察や元素分析が
行われる。
の方向に回転させ蒸発源（ヒーター１９）を補助
室１３内に封じ込め、試料１０を試料台９上に載
せた状態でバルブ３を開き、気密室１内部を真空
ポンプ４によつて排気する。この排気状態を保つ
たままバルブ６を開きボンベ７より酸素ガスを気
密室内に導入する。次に高周波発振器１２より高
周波電力を高周波コイル１１に供給すると、その
コイルから生ずる電磁界により前記気密室内に導
入された酸素ガスは電離され、プラズマ雰囲気が
形成される。このプラズマの発生領域は、シール
ド筒８が設けてあり、且つガスの導入口がシール
ド筒の外側であるため、シールド筒８と気密室の
側壁との間の円筒領域である。このプラズマ中の
酸素イオンは真空ポンプ４による排気によつてシ
ールド筒８のスリツトを通してその内部に浸入
し、試料１０に接触して反応を起す。反応に寄与
しなかつたガス及び反応により新たに生成された
ガスはポンプ４により外部に排出される。前記酸
素イオンとの反応により生体試料は原形を保つた
まま灰化されていき、金属などの元素はそのまま
残存する。灰化処理が終了したならばバルブ６を
閉じてガスの導入を止め、気密室１内を
10-3Torr以上の高真空に排気する。同時にバル
ブ１５を開けて補助室１３内も排気する。両室が
所定の真空度に達した場合、隔壁１７を矢印Ｂの
方向に回転し、ヒーター１９及びコーテイング材
２０を試料１０と対向せしめ、続いて該ヒーター
に通電してコーテイング材２０を加熱、蒸発せし
める。この蒸発粒子は飛散して灰化した試料１０
の表面に付着し、薄いコーテイング膜を形成す
る。所定の厚さに膜が形成されたならばヒーター
１９への通電を停止し、バルブ３及び１５を閉
じ、更に内部に大気をリークして試料を取り出
す。取り出された試料は直ちに走査電子顕微鏡等
の試料台に取り付けられ、形態観察や元素分析が
行われる。
尚、酸素ガスに代えて水素ガスを用いれば試料
のクリーニングが行え、又フレオンガスを用いる
と試料のエツチングが可能である。これらのどれ
を用いるかは処理目的によつて適宜選択される。
のクリーニングが行え、又フレオンガスを用いる
と試料のエツチングが可能である。これらのどれ
を用いるかは処理目的によつて適宜選択される。
以上詳述した如き構成となせば、試料を一定位
置に置いたまま、灰化やエツチングなどの処理と
その表面への薄膜のコーテイングとが行えるので
試料の汚れをなくすことができると共に灰化され
た試料の破損を防止できる。
置に置いたまま、灰化やエツチングなどの処理と
その表面への薄膜のコーテイングとが行えるので
試料の汚れをなくすことができると共に灰化され
た試料の破損を防止できる。
また、コーテイング材は灰化処理中に補助室内
に封じ込まれるため、灰化処理における低真空状
態や反応ガス雰囲気に晒されることがなく、清浄
状態が保たれる。即ちコーテイング材の純度が保
たれる。更に、蒸着処理時に隔壁を回転してヒー
ター及びコーテイング材を対向することにより蒸
発源と試料を接近させることができるため、蒸着
処理時間を短くすることが可能となり、ヒーター
の輻射熱による試料の破壊を防ぐことができる。
に封じ込まれるため、灰化処理における低真空状
態や反応ガス雰囲気に晒されることがなく、清浄
状態が保たれる。即ちコーテイング材の純度が保
たれる。更に、蒸着処理時に隔壁を回転してヒー
ター及びコーテイング材を対向することにより蒸
発源と試料を接近させることができるため、蒸着
処理時間を短くすることが可能となり、ヒーター
の輻射熱による試料の破壊を防ぐことができる。
添付図面は本考案の一実施例を示す概略図であ
る。 １：気密室、４：真空ポンプ、７：ガスボン
ベ、８：シールド筒、１０：試料、１１：高周波
コイル、１２：高周波発振器、１３：補助室、１
７：隔壁、１９：ヒーター、２０：コーテイング
材。
る。 １：気密室、４：真空ポンプ、７：ガスボン
ベ、８：シールド筒、１０：試料、１１：高周波
コイル、１２：高周波発振器、１３：補助室、１
７：隔壁、１９：ヒーター、２０：コーテイング
材。
Claims (1)
- 気密室と、この気密室内に置かれた試料と、前
記気密室内に所望とする気体を導入する手段と、
前記気密室内を排気するポンプと、前記気密室内
の気体をイオン化する手段とを備え、該イオン化
された気体の衝突或いは反応により前記試料を処
理する装置において、回転可能な隔壁を介して補
助室を設け、該隔壁にコーテイング材微粒子発生
手段を設け、該隔壁の回転により該コーテイング
材微粒子発生手段が補助室内に封じ込まれた状態
と、試料と対向する位置に置かれた状態とに切り
換え可能としたことを特徴とする電子顕微鏡等用
試料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981089311U JPS634997Y2 (ja) | 1981-06-17 | 1981-06-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981089311U JPS634997Y2 (ja) | 1981-06-17 | 1981-06-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57199839U JPS57199839U (ja) | 1982-12-18 |
| JPS634997Y2 true JPS634997Y2 (ja) | 1988-02-10 |
Family
ID=29884459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981089311U Expired JPS634997Y2 (ja) | 1981-06-17 | 1981-06-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS634997Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5807995B2 (ja) * | 2010-03-23 | 2015-11-10 | 三谷セキサン株式会社 | 杭穴根固め部の未固結試料の養生方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55128583A (en) * | 1979-03-19 | 1980-10-04 | Xerox Corp | Method and apparatus for pretreating substrate and coating membrane |
-
1981
- 1981-06-17 JP JP1981089311U patent/JPS634997Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55128583A (en) * | 1979-03-19 | 1980-10-04 | Xerox Corp | Method and apparatus for pretreating substrate and coating membrane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57199839U (ja) | 1982-12-18 |
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