JPS6348261A - ビスフエノ−ルスルホン類の精製方法 - Google Patents
ビスフエノ−ルスルホン類の精製方法Info
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- JPS6348261A JPS6348261A JP19214886A JP19214886A JPS6348261A JP S6348261 A JPS6348261 A JP S6348261A JP 19214886 A JP19214886 A JP 19214886A JP 19214886 A JP19214886 A JP 19214886A JP S6348261 A JPS6348261 A JP S6348261A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビスフェノールスルホン類の精製方法に関す
るものである。さらに詳しくは、本発明は、フェノール
類と硫酸との反応によって得られる粗製のビスフェノー
ルスルホン類の着色を除去する方法に関するものである
。
るものである。さらに詳しくは、本発明は、フェノール
類と硫酸との反応によって得られる粗製のビスフェノー
ルスルホン類の着色を除去する方法に関するものである
。
ビスフェノールスルホン類は、近年ポリカーゲネート、
ポリエステルなどのエンジニアリングプラスチックの原
料、感熱記録紙の顕色剤などとして用いられている。
ポリエステルなどのエンジニアリングプラスチックの原
料、感熱記録紙の顕色剤などとして用いられている。
フェノール類と硫酸との脱水によって得られる粗製ビス
フェノールスルホン類は、通常it、<着色している。
フェノールスルホン類は、通常it、<着色している。
前述のような用途においては着色が極めて少ないことが
要求されるので、粗製ビスフェノールスルホン類の着色
を除き、精製することが必要である。
要求されるので、粗製ビスフェノールスルホン類の着色
を除き、精製することが必要である。
着色の少ないビスフェノールスルホン類ヲ得るために、
従来から種々の方法が提案されている。
従来から種々の方法が提案されている。
たとえば、特公昭38−5274号公報には、脱色炭素
で処理する方法が述べられているが、その溶液はなお薄
桃色に着色している。特公昭55−37550号公報に
は、反応生成物をフェノール水溶液に溶解し、2層に分
液することによって着色原因たる油状不純物を含む下層
を分離除去するエノールが新たな着色の原因となるとい
う問題がある。
で処理する方法が述べられているが、その溶液はなお薄
桃色に着色している。特公昭55−37550号公報に
は、反応生成物をフェノール水溶液に溶解し、2層に分
液することによって着色原因たる油状不純物を含む下層
を分離除去するエノールが新たな着色の原因となるとい
う問題がある。
特公昭58−500615号公報には、粗製ビスフェノ
−ルスルホン如を水溶性水酸化アンモニウム中に溶解し
たのち、加熱してアンモニアを気化させ、スルホンの選
択的沈殿を行ない、上層溶液から除去することによシ精
製品を得る方法が述べられているが、この方法ではアン
モニアの留去に長時間を要し、工業的に有利には実施し
がたい。
−ルスルホン如を水溶性水酸化アンモニウム中に溶解し
たのち、加熱してアンモニアを気化させ、スルホンの選
択的沈殿を行ない、上層溶液から除去することによシ精
製品を得る方法が述べられているが、この方法ではアン
モニアの留去に長時間を要し、工業的に有利には実施し
がたい。
本発明者等は、これらの従゛来技゛術の欠点のない、
。
。
工業的に有利に実施し得る、着色の′ないビスフェ
□ノールスルホン類を得るための精製法を種々検討した
結果、粗製の着色したビスフェノールスルホン類を特定
の極性媒体中で加熱処理することにょシ、容易に着色不
純物が除去されることを見出し、本発明に到達したもの
である。
□ノールスルホン類を得るための精製法を種々検討した
結果、粗製の着色したビスフェノールスルホン類を特定
の極性媒体中で加熱処理することにょシ、容易に着色不
純物が除去されることを見出し、本発明に到達したもの
である。
本発明は、フェノール類と硫酸との脱水反応によって得
られる粗製ビスフェノールスルホン類ヲ、ヒドロキシル
基を有する有機化合物および水よりなる群か5選ばれた
1種または2種以上の媒体中で、100〜200℃に加
熱処理することを特徴とする、ビスフェノールスルホン
類の精製方法を提供する。
られる粗製ビスフェノールスルホン類ヲ、ヒドロキシル
基を有する有機化合物および水よりなる群か5選ばれた
1種または2種以上の媒体中で、100〜200℃に加
熱処理することを特徴とする、ビスフェノールスルホン
類の精製方法を提供する。
本発明において用いられる粗製のビスフェノールスルホ
ン類は、フェノール類と硫酸の脱水反応によりて得られ
る。゛ここに、フェノール類とは、□フェノール及び核
アルキル化フェノール、例えば、オルトクレゾール、メ
タクレゾール、パラクレゾール、2,4−キシレノール
、灸、6−キシレノール、オルトエチルフェノール、レ
ゾルシノールなどを示す。また、精製に用いられるヒド
ロキシル基を有する有機化合物としては、n−ブタノー
ル、2−エチルヘキザノールのような脂肪族アルコール
、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレ
ングリコールのようなグリコール類、フェノール、クレ
ゾール、キシレノールのようなフェノール類、メチルセ
ルソルブ、エチルセロソルツ、ブチルセロソルブのよう
なアルキレングリコールモノエーテル類などを用い・る
こと゛ができる。 。
ン類は、フェノール類と硫酸の脱水反応によりて得られ
る。゛ここに、フェノール類とは、□フェノール及び核
アルキル化フェノール、例えば、オルトクレゾール、メ
タクレゾール、パラクレゾール、2,4−キシレノール
、灸、6−キシレノール、オルトエチルフェノール、レ
ゾルシノールなどを示す。また、精製に用いられるヒド
ロキシル基を有する有機化合物としては、n−ブタノー
ル、2−エチルヘキザノールのような脂肪族アルコール
、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレ
ングリコールのようなグリコール類、フェノール、クレ
ゾール、キシレノールのようなフェノール類、メチルセ
ルソルブ、エチルセロソルツ、ブチルセロソルブのよう
なアルキレングリコールモノエーテル類などを用い・る
こと゛ができる。 。
粗製ビスフェノールスルホン類の精製には、こ′れらの
有機化合物及び水よりなる群から選ばれた□1種の媒体
を使用するとともできるし゛、また2種以上の媒体を混
合して使用することもできる。フェノール類と硫酸の脱
水反応によって得られた、着色した不純物を含む粗製の
ビスフェノールスルホン類を、鉛源で媒体中に分散させ
たのち、100℃〜200℃の温度で加熱処理する。処
理温度が100℃未満であると脱色効巣は少麦い。処理
麺皮が媒体の沸点またはそれ以下の場合には還i冷却器
を備えた攪拌装置つきの容器で常圧で処理することがで
きる。童た、処理温度が媒体の沸点以上である場谷には
、オートクレーブのような高圧′容器を糸いる事によυ
加熱処理が可能である。
有機化合物及び水よりなる群から選ばれた□1種の媒体
を使用するとともできるし゛、また2種以上の媒体を混
合して使用することもできる。フェノール類と硫酸の脱
水反応によって得られた、着色した不純物を含む粗製の
ビスフェノールスルホン類を、鉛源で媒体中に分散させ
たのち、100℃〜200℃の温度で加熱処理する。処
理温度が100℃未満であると脱色効巣は少麦い。処理
麺皮が媒体の沸点またはそれ以下の場合には還i冷却器
を備えた攪拌装置つきの容器で常圧で処理することがで
きる。童た、処理温度が媒体の沸点以上である場谷には
、オートクレーブのような高圧′容器を糸いる事によυ
加熱処理が可能である。
200℃よシ高い処理温度になると、ビスフェノールス
ルホン類が熱によシ再i着色す之ため好ましくない。媒
体の使用量は、′好ましくは粗製ビスフェノールスルホ
ンの1人いし10倍“量であシ、さらに好まし′くは2
ないし5倍量である。粗製ビスフェノールスルホン類は
、処理温度において媒体中に完全に溶解しても゛よい゛
し、また完全には溶解せずに分散状態にとどまっていて
もよい。粗製ビスフェノールスルホン類が媒体中に完岑
に溶解しない場合で亀、加熱処理することにより着色分
は媒体中に移行し、精製め目的は達せられる。加熱処理
はン’10分間ないし5時間行なうととが好ましい。次
に、加熱処理を終っ庭ビスフェ〉ニルスルホン類と媒体
を含む混合物を室温まで冷却口、適当なり過装置i用い
せビスフェノールスルホン類をP吻1」す蔦。この際、
濾過後適当な溶媒を用いて、精製されたビスフェノール
スルホン類に付着ことか望ましい。通常は加゛熱処理に
用いた媒体と均一に混合し、比較的沸点の低い溶媒を用
いることが好都合である。濾過洗浄後、精製されたビス
フェノールスルホン類を乾燥する。
ルホン類が熱によシ再i着色す之ため好ましくない。媒
体の使用量は、′好ましくは粗製ビスフェノールスルホ
ンの1人いし10倍“量であシ、さらに好まし′くは2
ないし5倍量である。粗製ビスフェノールスルホン類は
、処理温度において媒体中に完全に溶解しても゛よい゛
し、また完全には溶解せずに分散状態にとどまっていて
もよい。粗製ビスフェノールスルホン類が媒体中に完岑
に溶解しない場合で亀、加熱処理することにより着色分
は媒体中に移行し、精製め目的は達せられる。加熱処理
はン’10分間ないし5時間行なうととが好ましい。次
に、加熱処理を終っ庭ビスフェ〉ニルスルホン類と媒体
を含む混合物を室温まで冷却口、適当なり過装置i用い
せビスフェノールスルホン類をP吻1」す蔦。この際、
濾過後適当な溶媒を用いて、精製されたビスフェノール
スルホン類に付着ことか望ましい。通常は加゛熱処理に
用いた媒体と均一に混合し、比較的沸点の低い溶媒を用
いることが好都合である。濾過洗浄後、精製されたビス
フェノールスルホン類を乾燥する。
以下、実施例によυ本発明をさらに説明する。
なお、実施例中の吸光度は、下記の方法によって測定し
た値である。
た値である。
ビスフェノールスルホン類の25%アンモニア水溶液(
281アンモニア水、試薬特級使用)を調製し、光路長
IQmのセルによシ、■島津製作所製のディジタルI2
左ビーム分光光度計UV−150−02形を用い、48
011mにおける吸光度を測定した。
281アンモニア水、試薬特級使用)を調製し、光路長
IQmのセルによシ、■島津製作所製のディジタルI2
左ビーム分光光度計UV−150−02形を用い、48
011mにおける吸光度を測定した。
実施例1
2.6−キシレノール250Q、9と98チ硫酸750
gを5ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水
を留去しつつ、140〜180℃で4時間反応させた。
gを5ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水
を留去しつつ、140〜180℃で4時間反応させた。
反芯混合物を取シ出し、放冷して、紫赤色粉末のビス(
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
を得た。このものの吸光度は0.219であった。
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
を得た。このものの吸光度は0.219であった。
50 Qlnlのフラスコ中に、上記で得られた粗製の
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルホン1001:2.6−キシレノール300I!を加
え、140〜160℃で、15分間攪拌した後、冷却し
、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
スルホンの結晶をF別L、10.0Fのメタノールで結
晶を洗浄した後、乾燥して、85gの精製ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た
゛(白色粉末)。このものの吸光度は0.031であっ
た。
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルホン1001:2.6−キシレノール300I!を加
え、140〜160℃で、15分間攪拌した後、冷却し
、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
スルホンの結晶をF別L、10.0Fのメタノールで結
晶を洗浄した後、乾燥して、85gの精製ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た
゛(白色粉末)。このものの吸光度は0.031であっ
た。
実施例2
500R1のフラスコ中に実施例1と同様にして合成し
た粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン100iエチレングリコール200gを加
え、170〜180℃で4時間攪拌した後、冷却し、実
施例1と同様の方法で結晶をF別し、洗浄し、乾燥して
、801!のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸
光度は0.030であった。
た粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン100iエチレングリコール200gを加
え、170〜180℃で4時間攪拌した後、冷却し、実
施例1と同様の方法で結晶をF別し、洗浄し、乾燥して
、801!のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸
光度は0.030であった。
比較例1
5001117のフラスコ中に実施例1と同様にして合
成した粗製のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホン100iエチレングリコール200
Iを加え、80〜90℃で15分間攪拌した後、冷却し
、実施例1と同様の方法で結晶をヂ別し、洗浄し、乾燥
して、9211のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホンを得た(紫赤色粉末)。このも
のの吸光度はQ、117でありた。
成した粗製のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホン100iエチレングリコール200
Iを加え、80〜90℃で15分間攪拌した後、冷却し
、実施例1と同様の方法で結晶をヂ別し、洗浄し、乾燥
して、9211のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホンを得た(紫赤色粉末)。このも
のの吸光度はQ、117でありた。
実施例3
500dのフラスコ中に実施例1と同様にして合成した
粗製ビス(3,5−ジメチ/L/ −4−ヒト0キシフ
エニル)スルホン1ooyとブチルセロソルブ350g
を加え、150〜165℃で1時間攪拌した後、実施例
1と同様の方法でp別し、洗浄し、乾燥を行って、88
Iiのビス(3,5−ジメチ/I/−4−ヒドロキシフ
ェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光
度は0.027でありた。
粗製ビス(3,5−ジメチ/L/ −4−ヒト0キシフ
エニル)スルホン1ooyとブチルセロソルブ350g
を加え、150〜165℃で1時間攪拌した後、実施例
1と同様の方法でp別し、洗浄し、乾燥を行って、88
Iiのビス(3,5−ジメチ/I/−4−ヒドロキシフ
ェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光
度は0.027でありた。
実施例4゜
500dのフラスコ中に、実施例1と同様に合成した粗
製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
スルホン1001!と2−エチルヘキサノール250I
it−加え、180〜190℃で30分間攪拌した後、
実施例1と同様の方法でF別し、洗浄し、乾燥して、9
0IIのビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光度
は0.035であった。
製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
スルホン1001!と2−エチルヘキサノール250I
it−加え、180〜190℃で30分間攪拌した後、
実施例1と同様の方法でF別し、洗浄し、乾燥して、9
0IIのビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光度
は0.035であった。
実施例5
1QQQa/のガラス製オートクレーブに実施例1と同
様にして合成した粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホン100Iと水400Iiを
加え、140〜160℃で2時間撹拌した後、冷却し、
結晶tP別し、1009の水で結晶を洗浄した後、乾燥
して、95.9のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このもの
の吸光度は0.060であった・ 実施例6 500g/のフラスコ中に、実施例1と同様にして合成
した粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホン100gと、エチレングリコール200
#と水16Iよシなる混合溶媒とを加え、130〜14
5℃で20分攪拌した後、冷却し、実施例1と同様の方
法で沖過し、洗浄し、乾燥を行ない、83.9のビス(
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
ヲ得た(白色粉末)。このものの吸光度は0.018で
あった。
様にして合成した粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホン100Iと水400Iiを
加え、140〜160℃で2時間撹拌した後、冷却し、
結晶tP別し、1009の水で結晶を洗浄した後、乾燥
して、95.9のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホンを得た(白色粉末)。このもの
の吸光度は0.060であった・ 実施例6 500g/のフラスコ中に、実施例1と同様にして合成
した粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホン100gと、エチレングリコール200
#と水16Iよシなる混合溶媒とを加え、130〜14
5℃で20分攪拌した後、冷却し、実施例1と同様の方
法で沖過し、洗浄し、乾燥を行ない、83.9のビス(
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
ヲ得た(白色粉末)。このものの吸光度は0.018で
あった。
比較例2
500dのフラスコ中に実施例1と同様にして合成した
粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル
)スルホン100.9とキシレン200gを加え、14
0〜143℃で60分攪拌後、冷却し、実施例1と同様
の方法で炉別し、洗浄し、乾燥を行って、98gのビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ンヲ得た(紫赤色粉末)。このものの吸光度は0.19
5であった。
粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル
)スルホン100.9とキシレン200gを加え、14
0〜143℃で60分攪拌後、冷却し、実施例1と同様
の方法で炉別し、洗浄し、乾燥を行って、98gのビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ンヲ得た(紫赤色粉末)。このものの吸光度は0.19
5であった。
比較例3
500dのフラスコ中に、実施例1と同様にして合成し
た粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン1001ケロシン200gを加え、140
〜150℃で60分攪拌後、冷却し、実施例1と同様の
方法でr別し、洗浄し、乾燥を行って、98Iのビス(
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
ヲ得た(紫赤色粉末)。このものの吸光度は0.182
であった。
た粗製ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン1001ケロシン200gを加え、140
〜150℃で60分攪拌後、冷却し、実施例1と同様の
方法でr別し、洗浄し、乾燥を行って、98Iのビス(
3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
ヲ得た(紫赤色粉末)。このものの吸光度は0.182
であった。
実施例7
オルトクレゾール216(lと98係硫酸830Iを5
ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水を留去
しつつ、140〜180℃で5時間反応させた。反応混
合物を取シ出し、放冷して、赤褐色塊状のビス(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニ/I/)スルホンを得た。
ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水を留去
しつつ、140〜180℃で5時間反応させた。反応混
合物を取シ出し、放冷して、赤褐色塊状のビス(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニ/I/)スルホンを得た。
このものの吸光度は1.22であった。
500dのフラスコ中に、上記で得られた粗製のビス(
3−メチ/I/−4−ヒト胃キシフェニル)xyホyl
oOgと2−エチルへキサノー/L/3o。
3−メチ/I/−4−ヒト胃キシフェニル)xyホyl
oOgと2−エチルへキサノー/L/3o。
Iを加え、130〜140’Cで1時間攪拌した後、冷
却し、結晶をF別し、100.9のメタノールで洗浄し
た後、乾燥して、839のビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホンを得り(白色粉末)。このも
のの吸光度は0.057であった。
却し、結晶をF別し、100.9のメタノールで洗浄し
た後、乾燥して、839のビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホンを得り(白色粉末)。このも
のの吸光度は0.057であった。
実施例8
フェノ−y1900I!と98チ硫酸100011を5
ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水を留去
しつつ、160℃で3時間、170Cで2時間、さらに
180℃で2時間反応させた。
ノのステンレス鋼製反応器に仕込み、生成する水を留去
しつつ、160℃で3時間、170Cで2時間、さらに
180℃で2時間反応させた。
反応混合物を取シ出し、放冷して、赤褐色塊状のビス(
4−ヒドロキシフェニル)スルホンヲ得た。
4−ヒドロキシフェニル)スルホンヲ得た。
このものの吸光度は2.16であった。
500WLlフラスコ中に、上記で得られた粗製のビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン100Iとエチレ
ングリコール300#を加え、130〜150℃で30
分間攪拌した後、冷却し、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホンの結晶’e F別し、50.9のメタノー
ルで結晶を洗浄した後。
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン100Iとエチレ
ングリコール300#を加え、130〜150℃で30
分間攪拌した後、冷却し、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホンの結晶’e F別し、50.9のメタノー
ルで結晶を洗浄した後。
乾燥して、65Iのビス(4−ヒドロキシフェニル)ス
ルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光度は0.0
35であった。
ルホンを得た(白色粉末)。このものの吸光度は0.0
35であった。
実施例9
100014のガラス製オートクレーブに実施例8と同
様にして合成した粗製のビス(4−ヒドロキシフェニル
)スルホン100と水300#を加え、100〜130
℃で2時間攪拌した後、冷却し、結晶t−F別し、50
gのメタノールで結晶を洗浄した後、乾燥して、91.
9のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た(
白色粉末)。
様にして合成した粗製のビス(4−ヒドロキシフェニル
)スルホン100と水300#を加え、100〜130
℃で2時間攪拌した後、冷却し、結晶t−F別し、50
gのメタノールで結晶を洗浄した後、乾燥して、91.
9のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た(
白色粉末)。
このものの吸光度は0.041であった。
比較例4
500dの7−)クコ中に実施例8と同様にして合成し
た粗製のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン10
09とキシレン300I!llO,t、120〜130
℃で1時間攪拌した後、冷却し、ビス(4−ヒドロキシ
フェニ/L/)スルホンの結晶t−F別し、5011の
メタノールで結晶を洗浄した後、 Jiflして、96
9のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た(
赤褐色粉末)。乙のものの吸光度は0.871であった
。
た粗製のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン10
09とキシレン300I!llO,t、120〜130
℃で1時間攪拌した後、冷却し、ビス(4−ヒドロキシ
フェニ/L/)スルホンの結晶t−F別し、5011の
メタノールで結晶を洗浄した後、 Jiflして、96
9のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを得た(
赤褐色粉末)。乙のものの吸光度は0.871であった
。
上記データによって明らかな如く、本発明に従って、粗
製ビスフェノールスルホン類をとドルキシル基を有する
有機化合物および水よりなる群から選ばれた1種または
2種以上の媒体中で、100〜200℃に加熱する事に
よシ容易に脱色精製され、ポリカーゴネート々どのエン
ジニアリングプラスチック、感熱記録紙の顕色剤など、
着色が極めて少ないことが要求される分野に対しても十
分使用に耐え得るビスフェノールスルホン類ヲ提供する
ことができる。
製ビスフェノールスルホン類をとドルキシル基を有する
有機化合物および水よりなる群から選ばれた1種または
2種以上の媒体中で、100〜200℃に加熱する事に
よシ容易に脱色精製され、ポリカーゴネート々どのエン
ジニアリングプラスチック、感熱記録紙の顕色剤など、
着色が極めて少ないことが要求される分野に対しても十
分使用に耐え得るビスフェノールスルホン類ヲ提供する
ことができる。
Claims (1)
- 1、フェノール類と硫酸との脱水反応によって得られる
粗製ビスフェノールスルホン類を、ヒドロキシル基を有
する有機化合物および水よりなる群から選ばれた1種ま
たは2種以上の媒体中で、100〜200℃に加熱処理
することを特徴とする、ビスフェノールスルホン類の精
製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61192148A JPH07107043B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | ビスフエノ−ルスルホン類の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61192148A JPH07107043B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | ビスフエノ−ルスルホン類の精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6348261A true JPS6348261A (ja) | 1988-02-29 |
JPH07107043B2 JPH07107043B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=16286496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61192148A Expired - Fee Related JPH07107043B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | ビスフエノ−ルスルホン類の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07107043B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02286645A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | 高融点ジブロモプロピルエーテル化合物の製造方法 |
US4996367A (en) * | 1989-12-20 | 1991-02-26 | Amoco Corporation | Process for making 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
WO1992014698A1 (en) * | 1991-02-13 | 1992-09-03 | Amoco Corporation | Process for purifying impure mixtures containing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
US5788663A (en) * | 1994-10-21 | 1998-08-04 | Uni-Charm Corporation | Sanitary tampon applicator |
JP2002255925A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Nippon Soda Co Ltd | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
JP2003055338A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | 高純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
US7456321B2 (en) * | 2002-09-25 | 2008-11-25 | Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. | Process for producing high-purity 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6124559A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-02-03 | Nikka Chem Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフエニルスルホンの精製方法 |
-
1986
- 1986-08-19 JP JP61192148A patent/JPH07107043B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6124559A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-02-03 | Nikka Chem Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフエニルスルホンの精製方法 |
Cited By (7)
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JPH02286645A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | 高融点ジブロモプロピルエーテル化合物の製造方法 |
US4996367A (en) * | 1989-12-20 | 1991-02-26 | Amoco Corporation | Process for making 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
WO1992014698A1 (en) * | 1991-02-13 | 1992-09-03 | Amoco Corporation | Process for purifying impure mixtures containing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
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JP2002255925A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Nippon Soda Co Ltd | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
JP2003055338A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | 高純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
US7456321B2 (en) * | 2002-09-25 | 2008-11-25 | Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. | Process for producing high-purity 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07107043B2 (ja) | 1995-11-15 |
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