JPS6341914B2 - - Google Patents
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- JPS6341914B2 JPS6341914B2 JP52110970A JP11097077A JPS6341914B2 JP S6341914 B2 JPS6341914 B2 JP S6341914B2 JP 52110970 A JP52110970 A JP 52110970A JP 11097077 A JP11097077 A JP 11097077A JP S6341914 B2 JPS6341914 B2 JP S6341914B2
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- -1 Carboxylic acid compounds Chemical class 0.000 claims description 45
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 44
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N DMSO Substances CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- SIOVKLKJSOKLIF-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl)acetamide Chemical compound C[Si](C)(C)OC(C)=N[Si](C)(C)C SIOVKLKJSOKLIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEEYUHHXFJYOLG-XCGJVMPOSA-N (6R)-8-oxo-4-(1,3,4-thiadiazol-2-ylsulfanylmethyl)-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(=NN=C1)SCC1S[C@H]2N(C(=C1)C(=O)O)C(C2)=O YEEYUHHXFJYOLG-XCGJVMPOSA-N 0.000 description 1
- IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N (6r)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLCYMQZIPSODD-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-[chloro(2,2,2-trichloroethoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(=O)OCC(Cl)(Cl)Cl ORLCYMQZIPSODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMOYMEBHYUTMKJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethoxy)ethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCOCCC1=CC=CC=C1 AMOYMEBHYUTMKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004217 4-methoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005041 acyloxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960003116 amyl nitrite Drugs 0.000 description 1
- 150000001483 arginine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-L aspartate group Chemical class N[C@@H](CC(=O)[O-])C(=O)[O-] CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-L 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- QAWBXZYPFCFQLA-UHFFFAOYSA-N butanoyl bromide Chemical compound CCCC(Br)=O QAWBXZYPFCFQLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000006003 dichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N diketene Chemical compound C=C1CC(=O)O1 WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 1
- 239000003937 drug carrier Substances 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 150000002306 glutamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N n-pentyl nitrite Chemical compound CCCCCON=O CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007911 parenteral administration Methods 0.000 description 1
- 239000008194 pharmaceutical composition Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000829 suppository Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 238000003419 tautomerization reaction Methods 0.000 description 1
- NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N tes-adt Chemical class C1=C2C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C3C(SC=C3)=C3)C3=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C2=CC2=C1SC=C2 NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
この発明は抗菌性物質の製造用中間体として有
用な一般式 (式中、R1はアミノ基、R2はチアジアゾリルチ
オ基、R3は保護されたカルボキシ基をそれぞれ
意味する) で示される3,7−ジ置換−3−セフエム−4−
カルボン酸化合物、その塩類およびそれらの製造
方法に関するものである。 この発明の目的化合物である3,7−ジ置換−
3−セフエム−4−カルボン酸化合物は前記一般
式()で示され、シン異性体であるが、この化
合物には、その分子中の
用な一般式 (式中、R1はアミノ基、R2はチアジアゾリルチ
オ基、R3は保護されたカルボキシ基をそれぞれ
意味する) で示される3,7−ジ置換−3−セフエム−4−
カルボン酸化合物、その塩類およびそれらの製造
方法に関するものである。 この発明の目的化合物である3,7−ジ置換−
3−セフエム−4−カルボン酸化合物は前記一般
式()で示され、シン異性体であるが、この化
合物には、その分子中の
【式】の部分構造に由来
する、対応する幾何異性体であるアンチ異性体が
存在しうる。ここにおいてシン異性体とは式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有する幾何異
性体を意味し、一方対応するアンチ異性体とは式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有するもう一
方の幾何異性体を意味する。従つてこの明細書で
は目的化合物および原料化合物のシン異性体は、
その分子中に式
存在しうる。ここにおいてシン異性体とは式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有する幾何異
性体を意味し、一方対応するアンチ異性体とは式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有するもう一
方の幾何異性体を意味する。従つてこの明細書で
は目的化合物および原料化合物のシン異性体は、
その分子中に式
【式】で示される部分構
造を有する化合物として表わされる。
この発明の目的化合物()は新規化合物であ
り、例えば下記に示す方法により製造することが
できる。 方 法 (式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ意
味、Xは酸残基をそれぞれ意味する) 原料化合物のうち()は、新規化合物であ
り、例えば次に示す製造法により製造することが
できる。 (式中、R2、R3およびXはそれぞれ前と同じ意
味) この発明の目的化合物()は、その互変異性
体を包含する。即ち、この目的化合物の式
り、例えば下記に示す方法により製造することが
できる。 方 法 (式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ意
味、Xは酸残基をそれぞれ意味する) 原料化合物のうち()は、新規化合物であ
り、例えば次に示す製造法により製造することが
できる。 (式中、R2、R3およびXはそれぞれ前と同じ意
味) この発明の目的化合物()は、その互変異性
体を包含する。即ち、この目的化合物の式
【式】(式中、R1は前と同じ意味)で示さ
れる基はその互変異性体である式
【式】(式中、R1′はイミノ基)で示され
る基で表わすことも出来る。即ち、これらの基は
お互いに平衡関係にあり、下記の平衡式で示すこ
とが出来る。 (式中、R1およびR1′はそれぞれ前と同じ意味) 上記したようなアミノ化合物と対応するイミノ
化合物との互変異性は周知であり、両者は相互に
変換できるが、通常、両者は実質的に同じ化合物
として当業者に取扱われている。 この明細書の説明および特許請求の範囲では、
これらの目的化合物を便宜的に互変異性体の一方
の表現方法である式
お互いに平衡関係にあり、下記の平衡式で示すこ
とが出来る。 (式中、R1およびR1′はそれぞれ前と同じ意味) 上記したようなアミノ化合物と対応するイミノ
化合物との互変異性は周知であり、両者は相互に
変換できるが、通常、両者は実質的に同じ化合物
として当業者に取扱われている。 この明細書の説明および特許請求の範囲では、
これらの目的化合物を便宜的に互変異性体の一方
の表現方法である式
【式】(式中R1は前と
同じ意味)で示したが、これに限定されるもので
はなく、両者の互変異性体がこの発明の範囲に包
含されるものである。 この発明の目的化合物()の塩類としては、
例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンス
ルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸と
の塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等
の無機酸との塩、アルギニン塩、アスパラギン酸
塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げ
られる。 次に上記の一般式の定義について説明する。 この明細書中、「低級」なる語句は別に定義し
ないかぎり、一般に炭素数1〜6を意味するもの
として使用される。 チアジアゾリルチオ基としては、1,2,3−
チアジアゾリルチオ、1,2,4−チアジアゾリ
ルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチオ、1,
2,5−チアジアゾリルチオ等が挙げられる。 保護されたカルボキシ基としては、エステル化
されたカルボキシ基が挙げられ、エステル化され
たカルボキシ基におけるエステル部分としては、
例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第3級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、1−
シクロプロピルエチルエステル等のアルキルエス
テル、アセトキシメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエ
ステル、バレリルオキシメチルエステル、2−ア
セトキシエチルエステル、2−プロピオニルオキ
シエチルエステル、ピバロイルオキシメチルエス
テル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等のア
ルカノイルオキシアルキルエステル、メシルメチ
ルエステル、エタンスルホニルエチルエステル等
のアルカンスルホニルアルキルエステル、2−ヨ
ードエチルエステル、2,2,2−トリクロロエ
チルエステル等のモノ(もしくはジもしくはト
リ)ハロアルキルエステル等の1個以上の適当な
置換分を有するアルキルエステル、ビニルエステ
ル、アリルエステル等のアルケニルエステル、エ
チニルエステル、プロピニルエステル等のアルキ
ニルエステル、ベンジルエステル、4−メトキシ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステ
ル、フエネチルエステル、トリチルエステル、ジ
フエニルメチルエステル、ジフエニルエチルエス
テル、ビス(メトキシフエニル)メチルエステ
ル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−
ヒドロキシ−3,4−ジ第3級ブチルベンジルエ
ステル等の1個以上の適当な置換基を有していて
もよいアラルキルエステル、フエニルエステル、
トリルエステル、第3級ブチルフエニルエステ
ル、4−クロロフエニルエステル、キシリルエス
テル、メシチルエステル、クメニルエステル等の
1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ールエステルが挙げられ、好ましくは低級アルカ
ノイルオキシ低級アルキルエステル、トリハロ低
級アルキルエステル、ジフエニル低級アルキルエ
ステル等が挙げられる。 酸残基としては、例えば塩素、臭素、沃素、弗
素を含むハロゲンが挙げられる。 目的化合物()について上に説明した一般式
の定義のうち特に好ましい例を次に挙げる。 R1の好ましい例としては、アミノ基、R2の好
ましい例としては、チアジアゾリルチオ基、R3
の好ましい例としては、ジフエニルメトキシカル
ボニル、ジフエニルエトキシカルボニル等のジフ
エニル低級アルコキシカルボニル基がそれぞれ挙
げられる。 次にこの発明の目的化合物の製造法について説
明する。 方 法 目的化合物()もしくはその塩類は、化合物
()に化合物()を作用させることにより製
造することができる。 この反応は水、メタノール、エタノール等のア
ルコール、ベンゼン、塩化メチレン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン等の溶媒もしく
はその他の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中また
はこれらの混合溶媒中で行なわれることが多い。
反応温度は特に限定されないが、冷却下、室温な
いし加温下で行なわれることが多い。 この反応で目的化合物()、すなわちシン異
性体、を選択的にかつ高収率で得るためには、こ
の反応を中性付近の反応条件で行うのが好まし
い。 次にこの発明の原料化合物の製造法について説
明する。 化合物()は、化合物()もしくはそのア
ミノ基における反応性誘導体またはその塩類に、
化合物()もしくはそのカルボキシ基における
反応性誘導体を作用させることにより製造され
る。化合物()のアミノ基における反応性誘導
体としては、例えば化合物()とアセト酢酸エ
ステルの様なカルボニル化合物との反応により生
成するシツフの塩基(イミノ型)もしくはそのエ
ナミン型の異性体、化合物()とビス(トリメ
チルシリル)アセトアミドの様なシリル化合物と
の反応により生成するシリル誘導体または化合物
()と3塩化燐、ホスゲン等との反応により生
成する誘導体等のアミド化反応において慣用され
るものはすべて包含される。化合物()の塩類
としては、前記化合物()の塩類として例示し
た塩類が挙げられる。 また、化合物()のカルボキシ基における反
応性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、特に繁用されるものとしては、酸ブロミド、
酸クロリド等の酸ハライドが挙げられる。 この反応は通常水、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンまたは
その他の反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒
等の溶媒中で行なわれ、これらの溶媒は混合して
使用することもできる。 この反応において化合物()を遊離酸もしく
はその塩の状態で使用する際は、たとえばN,
N′−ジシクロヘキサンカルボジイミドの様な慣
用される縮合剤の存在下に行なうのが有利であ
る。 またこの反応は、塩基の存在下に行なつてもよ
い。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
ないしは室温で行なわれることが多い。 原料化合物()は、化合物()にニトロソ
化剤を作用させることにより製造される。ニトロ
ソ化剤としては、例えば亜硝酸、亜硝酸ナトリウ
ムのような亜硝酸アルカリ金属、亜硝酸アミルエ
ステルのような亜硝酸アルキルエステル等が挙げ
られる。この反応は、水、酢酸、ベンゼン、塩化
メチレン、テトラヒドロフラン、メタノール、エ
タノールもしくはこれらの混合溶媒またはその他
のこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行なわ
れることが多い。反応温度は、特に限定されない
が、冷却下ないし室温で行なわれることが多い。 前記したこの発明における互変異性体は、各工
程の反応中および(または)それらの反応の後処
理中に相互に別の異性体に変ることがあるが、も
ちろんこれらの場合もこの発明の範囲に包含され
る。 この発明において、目的化合物()が、7位
の置換基中に遊離のアミノ基を有する場合の様に
遊離の状態で得られる場合には、必要に応じて常
法により前記した様な塩類に導いてもよい。 この発明の目的化合物()およびその塩類、
すなわちシン異性体は、すべて新規化合物であつ
て、次式に示すように常法によりこれをカルボキ
シ保護基の脱離反応に付すことにより、高い抗菌
作用を有し医薬として有用な化合物()を製造
するための中間体として有用であつて、このよう
にして得られたシン異性体化合物()は、その
対応するアンチ異性体に比べて高い抗菌作用を有
している。 (式中、R1、R2およびR3は前と同じ意味) このようにして得られる化合物()を医薬と
して用いる場合は、医薬上許容される塩の形で使
用してもよい。 化合物()およびその医薬上許容される塩
は、その有効かつ非毒性量を含有する組成物の形
で投与される。この組成物は医薬の製剤において
慣用されている無機もしくは有機のあるいは固体
または液体の製剤用担体とともに、経口または非
経口投与に適した剤形で使用される。この場合の
経口剤としては、錠剤、カプセル剤、トローチ
剤、散剤等の固体製剤あるいはシロツプ剤等の液
剤が挙げられ、非経口剤としては注射剤、坐剤等
が挙げられる。これら各種の製剤は当業界周知の
方法で製造することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 実施例 (a) 原料化合物の製造 7−アミノ−3−(1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸のジフエニルメチルエステル
14.3g及びビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド8.5gを乾燥テトラヒドロフラン225mlに懸
濁した液を−25℃に冷却する。一方、ジケテン
2.82gを乾燥塩化メチレン6mlに加え、これに
臭素5.44gを乾燥塩化メチレン2.5mlに溶解し
た溶液を−25℃で滴下した後、同温度で30分間
撹拌して、3−オキソ−4−ブロモブチリルブ
ロマイドを含有する溶液を得る。この溶液を、
先に得られたテトラヒドロフラン溶液に、−25
℃で5分間を要して滴下した後、同温度で30分
間撹拌する。こうして得られた7−(3−オキ
ソ−4−ブロモブチルアミド)−3−(1,3,
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸のジフエニルメ
チルエステルを含有する混液に水6mlを加えた
後、亜硝酸ナトリウム2.31gを水6mlに溶解し
た溶液を氷冷下に15分を要して加える。混液を
同温度で50分間撹拌し7−(2−ヒドロキシイ
ミノ−3−オキソ−4−ブロモブチルアミド)
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸のジフエニルメチルエステル(シン異性体)
を含有する溶液を得る。 (b) 目的化合物の製造 上記で得られた7−(2−ヒドロキシイミノ
−3−オキソ−4−ブロモブチルアミド)−3
−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の
ジフエニルメチルエステル(シン異性体)を含
有する溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液でPHを
約5に調整し、これにチオ尿素2.12gを加え
る。得られた混液を10〜15℃で1時間撹拌した
後濃縮し、残渣を酢酸エチル100mlで洗浄する。
残渣に酢酸エチル250ml及び水250mlを加えた
後、炭酸水素ナトリウム水溶液でPH7に調整し
酢酸エチルで抽出する。水層をさらに酢酸エチ
ル200mlで抽出する。抽出液を合し、水150ml及
び飽和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチル
溶液を活性炭処理した後濃縮して溶積を約70ml
にする。析出物を取後、酢酸エチル50mlで洗
浄すると、7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(1,3,4−チアジアゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸のジフエニルメチルエステル(シン異性
体)2.45gを得る。液を濃縮し、析出物を
取し、同一目的化合物0.2gを得る。さらに同
様にして液から同一目的化合物0.2gを得る。 I.R.スペクトル(ヌジヨール) 3400〜3100、1755、1715、1645、1605cm-1 N.M.R.スペクトル(d6−DMSO、δ) 9.50(2H、broad s)、7.68〜6.95(10H、
m)、6.92(1H、s)、6.72(1H、s)、5.92
(1H、dd、J=5、8Hz)、5.24(1H、d、
J=5Hz)、4.38(2H、ABq、J=13Hz)、
3.66(2H、broad s) 参考例 7−[2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸のジフエ
ニルメチルエステル(シン異性体)2.70gを塩化
メチレン25mlに懸濁した液にアニソール3.46gを
加え、これにトリフルオロ酢酸9.12gを7℃で撹
拌下に加えた後室温で1時間撹拌する。反応液を
濃縮し残渣に水70ml及び酢酸エチル70mlを加え
る。得られた混液を撹拌下に炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH7.3に調整した後、水層を分取し、塩
酸でPH6.0に調整する。不溶物を濾去後、濾液を
酢酸エチル50mlで洗浄する。水層を塩酸でPH5.0
に調整した後、析出物を濾去する。濾液を酢酸エ
チル50mlおよび塩化メチレン60mlで洗浄し、次い
で水層中の有機溶媒を窒素ガスを通気することに
より除去する。水層を氷冷下に塩酸でPH2.5に調
整する。褐色の析出物を濾取し冷水50mlで洗浄
後、減圧下に乾燥すると、7−[2−ヒドロキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド]−3−(1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸(シン異性体)0.32gを得る。 I.R.スペクトル(ヌジヨール):3400〜3100、
1775、1655cm-1 N.M.R.スペクトル(d6−DMSO、δ):9.52
(1H、s)、9.42(1H、broad s)、7.32(2H、
broad s)、6.67(1H、s)、5.68(1H、dd、J
=5、8Hz)、5.07(1H、d、J=5Hz)、4.43
(2H、ABq、J=13Hz)、3.75(2H、broad
s)。
はなく、両者の互変異性体がこの発明の範囲に包
含されるものである。 この発明の目的化合物()の塩類としては、
例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンス
ルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸と
の塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等
の無機酸との塩、アルギニン塩、アスパラギン酸
塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げ
られる。 次に上記の一般式の定義について説明する。 この明細書中、「低級」なる語句は別に定義し
ないかぎり、一般に炭素数1〜6を意味するもの
として使用される。 チアジアゾリルチオ基としては、1,2,3−
チアジアゾリルチオ、1,2,4−チアジアゾリ
ルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチオ、1,
2,5−チアジアゾリルチオ等が挙げられる。 保護されたカルボキシ基としては、エステル化
されたカルボキシ基が挙げられ、エステル化され
たカルボキシ基におけるエステル部分としては、
例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピ
ルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第3級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、1−
シクロプロピルエチルエステル等のアルキルエス
テル、アセトキシメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエ
ステル、バレリルオキシメチルエステル、2−ア
セトキシエチルエステル、2−プロピオニルオキ
シエチルエステル、ピバロイルオキシメチルエス
テル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等のア
ルカノイルオキシアルキルエステル、メシルメチ
ルエステル、エタンスルホニルエチルエステル等
のアルカンスルホニルアルキルエステル、2−ヨ
ードエチルエステル、2,2,2−トリクロロエ
チルエステル等のモノ(もしくはジもしくはト
リ)ハロアルキルエステル等の1個以上の適当な
置換分を有するアルキルエステル、ビニルエステ
ル、アリルエステル等のアルケニルエステル、エ
チニルエステル、プロピニルエステル等のアルキ
ニルエステル、ベンジルエステル、4−メトキシ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステ
ル、フエネチルエステル、トリチルエステル、ジ
フエニルメチルエステル、ジフエニルエチルエス
テル、ビス(メトキシフエニル)メチルエステ
ル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−
ヒドロキシ−3,4−ジ第3級ブチルベンジルエ
ステル等の1個以上の適当な置換基を有していて
もよいアラルキルエステル、フエニルエステル、
トリルエステル、第3級ブチルフエニルエステ
ル、4−クロロフエニルエステル、キシリルエス
テル、メシチルエステル、クメニルエステル等の
1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ールエステルが挙げられ、好ましくは低級アルカ
ノイルオキシ低級アルキルエステル、トリハロ低
級アルキルエステル、ジフエニル低級アルキルエ
ステル等が挙げられる。 酸残基としては、例えば塩素、臭素、沃素、弗
素を含むハロゲンが挙げられる。 目的化合物()について上に説明した一般式
の定義のうち特に好ましい例を次に挙げる。 R1の好ましい例としては、アミノ基、R2の好
ましい例としては、チアジアゾリルチオ基、R3
の好ましい例としては、ジフエニルメトキシカル
ボニル、ジフエニルエトキシカルボニル等のジフ
エニル低級アルコキシカルボニル基がそれぞれ挙
げられる。 次にこの発明の目的化合物の製造法について説
明する。 方 法 目的化合物()もしくはその塩類は、化合物
()に化合物()を作用させることにより製
造することができる。 この反応は水、メタノール、エタノール等のア
ルコール、ベンゼン、塩化メチレン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン等の溶媒もしく
はその他の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中また
はこれらの混合溶媒中で行なわれることが多い。
反応温度は特に限定されないが、冷却下、室温な
いし加温下で行なわれることが多い。 この反応で目的化合物()、すなわちシン異
性体、を選択的にかつ高収率で得るためには、こ
の反応を中性付近の反応条件で行うのが好まし
い。 次にこの発明の原料化合物の製造法について説
明する。 化合物()は、化合物()もしくはそのア
ミノ基における反応性誘導体またはその塩類に、
化合物()もしくはそのカルボキシ基における
反応性誘導体を作用させることにより製造され
る。化合物()のアミノ基における反応性誘導
体としては、例えば化合物()とアセト酢酸エ
ステルの様なカルボニル化合物との反応により生
成するシツフの塩基(イミノ型)もしくはそのエ
ナミン型の異性体、化合物()とビス(トリメ
チルシリル)アセトアミドの様なシリル化合物と
の反応により生成するシリル誘導体または化合物
()と3塩化燐、ホスゲン等との反応により生
成する誘導体等のアミド化反応において慣用され
るものはすべて包含される。化合物()の塩類
としては、前記化合物()の塩類として例示し
た塩類が挙げられる。 また、化合物()のカルボキシ基における反
応性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、特に繁用されるものとしては、酸ブロミド、
酸クロリド等の酸ハライドが挙げられる。 この反応は通常水、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンまたは
その他の反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒
等の溶媒中で行なわれ、これらの溶媒は混合して
使用することもできる。 この反応において化合物()を遊離酸もしく
はその塩の状態で使用する際は、たとえばN,
N′−ジシクロヘキサンカルボジイミドの様な慣
用される縮合剤の存在下に行なうのが有利であ
る。 またこの反応は、塩基の存在下に行なつてもよ
い。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
ないしは室温で行なわれることが多い。 原料化合物()は、化合物()にニトロソ
化剤を作用させることにより製造される。ニトロ
ソ化剤としては、例えば亜硝酸、亜硝酸ナトリウ
ムのような亜硝酸アルカリ金属、亜硝酸アミルエ
ステルのような亜硝酸アルキルエステル等が挙げ
られる。この反応は、水、酢酸、ベンゼン、塩化
メチレン、テトラヒドロフラン、メタノール、エ
タノールもしくはこれらの混合溶媒またはその他
のこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行なわ
れることが多い。反応温度は、特に限定されない
が、冷却下ないし室温で行なわれることが多い。 前記したこの発明における互変異性体は、各工
程の反応中および(または)それらの反応の後処
理中に相互に別の異性体に変ることがあるが、も
ちろんこれらの場合もこの発明の範囲に包含され
る。 この発明において、目的化合物()が、7位
の置換基中に遊離のアミノ基を有する場合の様に
遊離の状態で得られる場合には、必要に応じて常
法により前記した様な塩類に導いてもよい。 この発明の目的化合物()およびその塩類、
すなわちシン異性体は、すべて新規化合物であつ
て、次式に示すように常法によりこれをカルボキ
シ保護基の脱離反応に付すことにより、高い抗菌
作用を有し医薬として有用な化合物()を製造
するための中間体として有用であつて、このよう
にして得られたシン異性体化合物()は、その
対応するアンチ異性体に比べて高い抗菌作用を有
している。 (式中、R1、R2およびR3は前と同じ意味) このようにして得られる化合物()を医薬と
して用いる場合は、医薬上許容される塩の形で使
用してもよい。 化合物()およびその医薬上許容される塩
は、その有効かつ非毒性量を含有する組成物の形
で投与される。この組成物は医薬の製剤において
慣用されている無機もしくは有機のあるいは固体
または液体の製剤用担体とともに、経口または非
経口投与に適した剤形で使用される。この場合の
経口剤としては、錠剤、カプセル剤、トローチ
剤、散剤等の固体製剤あるいはシロツプ剤等の液
剤が挙げられ、非経口剤としては注射剤、坐剤等
が挙げられる。これら各種の製剤は当業界周知の
方法で製造することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 実施例 (a) 原料化合物の製造 7−アミノ−3−(1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸のジフエニルメチルエステル
14.3g及びビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド8.5gを乾燥テトラヒドロフラン225mlに懸
濁した液を−25℃に冷却する。一方、ジケテン
2.82gを乾燥塩化メチレン6mlに加え、これに
臭素5.44gを乾燥塩化メチレン2.5mlに溶解し
た溶液を−25℃で滴下した後、同温度で30分間
撹拌して、3−オキソ−4−ブロモブチリルブ
ロマイドを含有する溶液を得る。この溶液を、
先に得られたテトラヒドロフラン溶液に、−25
℃で5分間を要して滴下した後、同温度で30分
間撹拌する。こうして得られた7−(3−オキ
ソ−4−ブロモブチルアミド)−3−(1,3,
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸のジフエニルメ
チルエステルを含有する混液に水6mlを加えた
後、亜硝酸ナトリウム2.31gを水6mlに溶解し
た溶液を氷冷下に15分を要して加える。混液を
同温度で50分間撹拌し7−(2−ヒドロキシイ
ミノ−3−オキソ−4−ブロモブチルアミド)
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸のジフエニルメチルエステル(シン異性体)
を含有する溶液を得る。 (b) 目的化合物の製造 上記で得られた7−(2−ヒドロキシイミノ
−3−オキソ−4−ブロモブチルアミド)−3
−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の
ジフエニルメチルエステル(シン異性体)を含
有する溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液でPHを
約5に調整し、これにチオ尿素2.12gを加え
る。得られた混液を10〜15℃で1時間撹拌した
後濃縮し、残渣を酢酸エチル100mlで洗浄する。
残渣に酢酸エチル250ml及び水250mlを加えた
後、炭酸水素ナトリウム水溶液でPH7に調整し
酢酸エチルで抽出する。水層をさらに酢酸エチ
ル200mlで抽出する。抽出液を合し、水150ml及
び飽和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチル
溶液を活性炭処理した後濃縮して溶積を約70ml
にする。析出物を取後、酢酸エチル50mlで洗
浄すると、7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(1,3,4−チアジアゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸のジフエニルメチルエステル(シン異性
体)2.45gを得る。液を濃縮し、析出物を
取し、同一目的化合物0.2gを得る。さらに同
様にして液から同一目的化合物0.2gを得る。 I.R.スペクトル(ヌジヨール) 3400〜3100、1755、1715、1645、1605cm-1 N.M.R.スペクトル(d6−DMSO、δ) 9.50(2H、broad s)、7.68〜6.95(10H、
m)、6.92(1H、s)、6.72(1H、s)、5.92
(1H、dd、J=5、8Hz)、5.24(1H、d、
J=5Hz)、4.38(2H、ABq、J=13Hz)、
3.66(2H、broad s) 参考例 7−[2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸のジフエ
ニルメチルエステル(シン異性体)2.70gを塩化
メチレン25mlに懸濁した液にアニソール3.46gを
加え、これにトリフルオロ酢酸9.12gを7℃で撹
拌下に加えた後室温で1時間撹拌する。反応液を
濃縮し残渣に水70ml及び酢酸エチル70mlを加え
る。得られた混液を撹拌下に炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH7.3に調整した後、水層を分取し、塩
酸でPH6.0に調整する。不溶物を濾去後、濾液を
酢酸エチル50mlで洗浄する。水層を塩酸でPH5.0
に調整した後、析出物を濾去する。濾液を酢酸エ
チル50mlおよび塩化メチレン60mlで洗浄し、次い
で水層中の有機溶媒を窒素ガスを通気することに
より除去する。水層を氷冷下に塩酸でPH2.5に調
整する。褐色の析出物を濾取し冷水50mlで洗浄
後、減圧下に乾燥すると、7−[2−ヒドロキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド]−3−(1,3,4−チアジアゾー
ル−2−イル)チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸(シン異性体)0.32gを得る。 I.R.スペクトル(ヌジヨール):3400〜3100、
1775、1655cm-1 N.M.R.スペクトル(d6−DMSO、δ):9.52
(1H、s)、9.42(1H、broad s)、7.32(2H、
broad s)、6.67(1H、s)、5.68(1H、dd、J
=5、8Hz)、5.07(1H、d、J=5Hz)、4.43
(2H、ABq、J=13Hz)、3.75(2H、broad
s)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1はアミノ基、R2はチアジアゾリルチ
オ基、R3は保護されたカルボキシ基をそれぞれ
意味する) で示される3,7−ジ置換−3−セフエム−4−
カルボン酸化合物およびその塩類。 2 一般式 (式中、Xは酸残基、R2はチアジアゾリルチオ
基、R3は保護されたカルボキシ基をそれぞれ意
味する) で示される化合物に式 H2NCS−R1 (式中、R1はアミノ基を意味する) で示される化合物を作用させることを特徴とする
一般式 (式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ意
味) で示される3,7−ジ置換−3−セフエム−4−
カルボン酸化合物もしくはその塩類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11097077A JPS5444695A (en) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid and its salt and their preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11097077A JPS5444695A (en) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid and its salt and their preparation |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59124050A Division JPS6034979A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 3,7−ジ置換−3−セフエム−4−カルボン酸化合物もしくはその塩類の製造方法 |
JP12405184A Division JPS6034977A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 3,7−ジ置換−3−セフエム−4−カルボン酸化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5444695A JPS5444695A (en) | 1979-04-09 |
JPS6341914B2 true JPS6341914B2 (ja) | 1988-08-19 |
Family
ID=14549110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11097077A Granted JPS5444695A (en) | 1977-09-13 | 1977-09-13 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid and its salt and their preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5444695A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5649387A (en) * | 1979-09-03 | 1981-05-02 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Novel cephem compound, its preparation, and remedy and preventive for microbism |
DK379581A (da) * | 1980-10-06 | 1982-04-07 | Hoffmann La Roche | Fremgangsmaade til fremstilling af acylderivater |
DK162718C (da) * | 1982-09-30 | 1992-05-11 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Analogifremgangsmaade til fremstilling af 7-substitueret-3-vinyl-3-cephemforbindelser |
JPS60190783A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-09-28 | Sumitomo Seiyaku Kk | セフエム系化合物 |
JPS60223840A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-08 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | タイヤトレッドゴム組成物 |
GB8519606D0 (en) * | 1985-08-05 | 1985-09-11 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 3 7-d substituted-3-cephem compounds |
Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPS51149296A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-22 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephems or penams and their preparation |
JPS52102293A (en) * | 1976-01-23 | 1977-08-27 | Roussel Uclaf | Novel oxim derivative of 77 aminothiazolylacetoamide cephalospolanate process for preparing same and pharmaceutical composition |
JPS53149993A (en) * | 1978-01-23 | 1978-12-27 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives, their salts, and their preparation |
JPS545046A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-16 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin preparation for oral administration |
JPS549296A (en) * | 1977-04-02 | 1979-01-24 | Hoechst Ag | Cephem derivative and its preparation |
-
1977
- 1977-09-13 JP JP11097077A patent/JPS5444695A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS51149296A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-22 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephems or penams and their preparation |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5444695A (en) | 1979-04-09 |
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