JP3005273B2

JP3005273B2 - チアゾリルアセトアミド―３―セフェム系誘導体

Info

Publication number: JP3005273B2
Application number: JP2-272357A
Authority: JP
Inventors: 茂人根木; 博山内; 基資山中; 鎌政勝; 功杉山; 雄毅小松; 学佐生
Original assignee: Eisai Co Ltd
Current assignee: Eisai Co Ltd
Priority date: 1989-10-13
Filing date: 1990-10-12
Publication date: 2000-01-31
Anticipated expiration: 2015-01-31

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、医薬として優れた作用を有する新規なチア
ゾリルアセトアミド−３−セフェム系誘導体に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕

ヨーロッパ特許出願第30630号明細書には、式（ここで、Ｒは低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基又はカルボキシ低級アルキル基であ
る。）で表される化合物を含む７−アシルアミノ−３−
ビニルセファロスポラン酸誘導体が開示されている。

また、特開昭59−89089号公報には７−置換−３−ビ
ニル−３−セフェム化合物として、一般式（式中、R¹はアミノ基又は保護基で保護されたアミノ
基、R²はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボ
キシル基をそれぞれ意味する。）で表される化合物が開
示されている。

一方、特開昭62−491号公報には下記一般式で示され
る化合物が開示されている。

（式中、R³は水素原子又は通常のアミノ保護基であり、
R⁴は水素原子、１〜４個の炭素原子を有する直鎖又は枝
分かれ鎖のアルキル基、２〜４個の炭素原子を有するア
ルケニル又はアルキニル基、３〜６個の炭素原子を有す
るシクロアルキル基、３〜６員環及び４〜10個の炭素原
子を有するシクロアルキルアルキル基、あるいは２〜４
個の炭素原子を有するアルカノイル基であり、R⁵は水素
原子、１〜３個の炭素原子を有する低級アルキル基、１
〜３個の炭素原子を有する低級アルコキシ基、２〜３個
の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ基であり、
R⁶は水素原子又は生理的に加水分解可能なエステル基、
例えばアセトキシメチル、１−アセトキシエチル、ピバ
ロイルオキシメチル、５−メチル−２−オキソ−1,3−
ジオキソレン−４−イルメチル、１−（エトキシカルボ
ニルオキシ）エチル、又は４−グリシルオキシベンゾイ
ルオキシメチル基である）。

しかし、これらはいずれも十分な抗菌力が得られてい
ない。

〔課題を解決するための手段〕本発明者らは、３位にシクロプロピルビニル基を有す
る新規なチアゾリルアセトアミドセフェム誘導体が優れ
た抗菌力を有することを見い出し、既に特許出願した。

更に、検討の結果、このチアゾリルアセトアミドセフ
ェム誘導体の３位に上記と異なる特定の置換基を有する
ビニル基を導入することにより、優れた抗菌力を有する
化合物が得られることを見出し、この新規チアゾリルア
セトアミド−３−セフェム誘導体が種々の病原菌に対し
て高い活性を有する抗菌剤、特に経口投与用の抗菌剤と
して有用であることを見い出し本発明を完成するに到っ
た。

即ち、本発明は下記一般式（１）で表されるチアゾリ
ルアセトアミド−３−セフェム系誘導体及びその医薬と
して許容される塩、及びその製造法並びにそれからなる
抗菌剤を提供するものである。

（式中、R¹は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。R²は
カルボキシル基又は保護基で保護されたカルボキシル基
を示す。R³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アルケ
ニル基を示す。）上記式中、R¹で示される低級アルコキシ基としては、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキ
シ、ｎ−ブトキシ、sec−ブトキシ、ｔ−ブトキシなど
の炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。R³で示さ
れる低級アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、ｔ
−ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ
る。R²のカルボキシル基の保護基としては、メチル、エ
チル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル基;p−メトキシベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジル、3,4−ジメトキシベンジ
ル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルなどの置
換基を有していてもよいフェニル基で置換された低級ア
ルキル基;2,2,2−トリクロロエチル、２−ヨードエチル
などのハロゲン化低級アルキル基；ピバロイルオキシメ
チル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、
ブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチル、１−ア
セトキシエチル、２−アセトキシエチル、１−ピバロイ
ルオキシエチル、２−ピバロイルオキシエチルなどの低
級アルカノイルオキシ低級アルキル基；パルミトイルオ
キシエチル、ヘプタペカノイルオキシメチル、１−パル
ミトイルオキシエチルなどの高級アルカノイルオキシ低
級アルキル基；メトキシカルボニルオキシメチル、１−
ブトキシカルボニルオキシエチル、１−ｔ−ブトキシカ
ルボニルオキシエチル、１−エトキシカルボニルオキシ
エチル、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチ
ルなどの低級アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル
基；カルボキシメチル、２−カルボキシエチルなどのカ
ルボキシ低級アルキル基;3−フタリジルなどの複素環
基;4−グリシルオキシベンゾイルオキシメチル、４−
〔Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシルオキシ〕ベ
ンゾイルオキシメチルなどの置換基を有していてもよい
ベンゾイルオキシ低級アルキル基；（５−メチル−２−
オキソ−1,3−ジオキソレン−４−イル）メチルなどの
（置換ジオキソレン）低級アルキル基;1−シクロヘキシ
ルアセチルオキシエチルなどのシクロアルキル置換低級
アルカノイルオキシ低級アルキル基、１−シクロヘキシ
ルオキシカルボニルオキシエチルなどのシクロアルキル
オキシカルボニルオキシ低級アルキル基等が挙げられ
る。

また、医薬として許容される塩としては、例えばナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニ
ウム塩；テトラエチルアンモニウム塩、ベタイン塩など
の４級アンモニウム塩；カルシウム塩、マグネシウム塩
などのアルカリ土類金属塩；塩酸塩、臭化水素酸塩、沃
化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩などの無機酸
塩；酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩などを有
機カルボン酸；メタンスルホン酸塩、ヒドロキシメタン
スルホン酸塩、ヒドロキシエタンスルホン酸塩、タウリ
ン塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩な
どの有機スルホン酸塩；アルギニン塩、リジン塩、セリ
ン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン塩
などのアミノ酸塩；トリメチルアミン塩、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ブロカイン塩、ピコリン塩、ジシ
クロヘキシルアミン塩、N,N′−ジベンジルエチレンジ
アミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、ジエタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、トリス（ヒドロキシメ
チルアミノ）メタン塩、フェネチルベンジルアミン塩な
どのアミン塩などが挙げられる。

本発明化合物は次に示す方法により製造することがで
きる。

製法一般式（II）（式中、R²はカルボキシル基又は保護基で保護されたカ
ルボキシル基を示す。R⁴はアミノ基又は保護基で保護さ
れたアミノ基を示す。R⁵は水酸基又は保護基で保護され
た水酸基又は低級アルコキシ基を示す。）で表される化
合物あるいはそれらの塩と、式R³−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ（ここで
R³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アルケニル基を
示す。）で表されるイソシアネートと反応させ、必要に
よりアミノ基、水酸基又はカルボキシル基の保護基を脱
離することにより一般式（Ｉ）（式中、R¹、R²、R³は前記と同様の意味を有する。）で
表される化合物及びその医薬として許容される塩を得る
ことができる。

上記反応は、ジクロルメタン、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、メタノール、エ
タノール、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン等の不活性溶媒中、反応温度−10℃〜50℃
で行うことができる。保護基の脱離は、用いた保護基の
種類に応じて、常法により行うことができる。

R⁴のアミノ基の保護基としては、例えばホルミル基、
アセチル基、クロルアセチル基、ジクロルアセチル基、
フェニルアセチル基、チエニルアセチル基、ｔ−ブトキ
シカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリチ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、
ベンジリデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、ｍ−ニト
ロベンジリデン基、3,4−メチレンジオキシベンジリデ
ン基、ｍ−クロルベンジリデン基などが挙げられる。

R⁵の低級アルコキシ基としてはR¹と同様な基があげら
れる。R⁵の水酸基の保護基としてはトリチル基、テトラ
ハイドロピラニル基などが挙げられる。

上記の如き方法により得られる本発明の化合物は優れ
た抗菌活性を有し、特に経口用抗菌剤として有用であ
る。

本発明化合物の急性毒性値〔LD₅₀（マウス、経口）〕
はいずれも2g/kg以上であった。

本発明化合物を抗菌剤として使用する際には、通常１
日100mg〜5gを１〜４回にわけて経口あるいは非経口的
に投与することができる。なお、その投与量は年齢、症
状により増減される。

製剤としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、シ
ロップ剤、液剤などが挙げられる。これらは、公知の製
剤担体を加え、常法により製造することができる。

次に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

尚、本発明の化合物の原料となる化合物の合成例を製
造例として示す。式中Trtはトリチル基を意味する。

製造例１７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−〔（Ｚ）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−プロペニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸
４−メトキシフェニルメチル７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミ
ド〕−３−（トリフェニルホスホラニリデン）メチル−
３−セフェム−４−カルボン酸４−メトキシフェニルメ
チル9.07g（7.27mmol）とｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシアセトアルデヒド1.8g（10.34mmol）とのジクロロ
メタン100ml溶液を室温下16時間攪拌した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝2.5:1）で精製し、目的
化合物を4.99g（4.36mmol,60.0％）得た。

NMR（CDCl₃）δ： 0.20（6H,bs,CH₃×２）,1.04（9H,bs,C（CH₃）_３）,
3.40〜3.60（2H,m,CH₂）,3.88（3H,s,OCH₃）,4.20〜4.4
0（2H,m,−CH₂OSi）,5.00〜5.20（1H,m,CH）,5.28（2H,
s,CO₂CH₂）,5.60〜6.40（3H,m,CH,−CH＝CH−）,6.56
（1H,s,チアゾールＨ）,6.90〜7.80（34H,m）製造例２７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−〔（Ｚ）−３−ヒドロキシ−１−プロペニル〕−
３−セフェム−４−カルボン酸４−メトキシフェニルメ
チル製造例１で得られた化合物4.99g（4.36mmol）のアセ
トン50ml溶液に1N−塩酸10mlを加え、室温下２時間攪拌
した。アセトンの減圧留去後、水を加え酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムを加え乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝1:1）で精製し、目的化合物を2.2g（2.14m
mol,49.0％）得た。

NMR（CDCl₃）δ： 3.24（2H,ABq,J＝18.0Hz,CH₂）,3.80（3H,s,OCH₃）,
3.90〜4.10（2H,m,−CH₂O−）,5.02（1H,d,J＝4.8Hz,C
H）,5.16（2H,s,CO₂CH₂−）,5.60〜6.00（2H,m,CH,＝CH
−）,6.14（1H,d,J＝12.5Hz,−CH＝）,6.42（1H,s,チア
ゾールＨ）,6.80〜7.70（34H）ｐ Mass（m/z）： 1029（M⁺）,1030（M⁺＋１）製造例３７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−〔（Ｚ）−３−（Ｎ−（２−クロロエチル）カル
バモイルオキシ）−１−プロペニル〕−３−セフェム−
４−カルボン酸４−メトキシフェニルメチル製造例２で得られた化合物2g（1.944mmol）の乾燥テ
トラヒドロフラン40ml溶液に２−クロロエチルイソシア
ナート1.6g（15.2mmol）、触媒量のトリエチルアミンを
加え、60℃で４時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン：アセトン＝95:5）で精製し、目的化合物を0.6g
（0.53mmol、27％）得た。

NMR（CDCl₃）δ： 3.2〜3.7（6H,m,CH₂CH₂Cl,CH₂）,3.78（3H,s,OCH₃）,
4.3〜4.6（2H,m,CH₂）,5.05（1H,d,J＝5Hz,CH）,5.15
（2H,s,CO₂CH₂）,5.55〜6.00（2H,m,CH,CH＝）,6.22（1
H,d,J＝12Hz,CH＝）,6.38（1H,s,チアゾールＨ）,6.70
〜7.50（34H,m）製造例４７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−〔（Ｚ）−３−（Ｎ−（２−アリルカルバモイル
オキシ）−１−プロペニル〕−３−セフェム−４−カル
ボン酸４−メトキシフェニルメチル製造例２で得られた化合物2g（1.944mmol）の乾燥テ
トラヒドロフラン40ml溶液にアリルイソシアナート1.3g
（15.6mmol）、触媒量のトリエチルアミンを加え、60℃
で４時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：アセ
トン＝95:5）で精製し、目的化合物を1g（0.90mmol、46
％）得た。

実施例１７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔（Ｚ）−３−（Ｎ−（２−クロロエチル）カルバモイ
ルオキシ）−１−プロペニル〕−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム塩製造例３で得られた化合物0.6mg（0.53mmol）のアニ
ソール3ml溶液に氷冷下トリフルオロ酢酸3mlを滴下し、
その後室温で２時間攪拌した。減圧下濃縮後、濃縮溶液
をイソプロピルエーテル20ml、ｎ−ヘキサン80mlの混合
液に滴下し析出した結晶を濾取した。結晶を90％ギ酸10
mlに加え、室温下３時間攪拌した。減圧下溶媒留去後、
残留物をイソプロピルエーテルで摩砕し、結晶を濾取し
た。結晶をメタノール20mlを溶かし、酢酸ナトリウム30
0mg（5mmol）を加え減圧下溶媒留去した。粗生成物を２
−プロパノールで摩砕し粗結晶を濾取した。粗結晶をOD
Sカラムクロマトグラフィー（７％水性メタノール）で
精製し、溶出液を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、目的化合
物を140mg（0.25mmol,48％）得た。

NMR（DMSO−d₆）δ： 3.38（6H,m,NHCH₂）,3.59（2H,t,J＝6.8Hz,CH₂Cl）,
3.53（2H,ABq,J＝16.5Hz,CH₂）,4.60（2H,d,ABq,J＝7H
z,13.9Hz,CH₂）,5.03（1H,d,J＝4.8Hz,CH）,5.03（1H,
m,−CH＝）,5.58（1H,dd,J＝4.8Hz,8.4Hz,−CH）,6.64
（1H,d,J＝12.8Hz,−CH＝）,6.65（1H,s,チアゾール
Ｈ）,7.09（2H,s,NH₂）実施例２７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔（Ｚ）−３−（Ｎ−（２−クロロエチル）カルバモイ
ルオキシ）−１−プロペニル〕−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ピバロイルオキシメチル実施例１で得られた化合物80mg（0.14mmol）の乾燥ジ
メチルホルムアミド3ml溶液に氷冷下ヨードメチルピバ
レート37mg（0.16mmol）の乾燥ジメチルホルムアミド0.
5ml溶液を滴下し、30分間攪拌した。反応液に酢酸エチ
ルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
を加え乾燥した。減圧下濃縮し、濃縮溶液をｎ−ヘキサ
ン50mlに滴下した。析出した結晶を濾過後乾燥し、目的
化合物を63mg（0.1mmol,70％）得た。

NMR（DMSO−d₆）δ： 1.15（9H,s,C（CH₃）_３）,3.29（2H,dt,J＝5.9Hz,12.
1Hz,NHCH₂）,3.58（2H,t,J＝12.1Hz,CH₂Cl,3.5〜3.9（2
H,m,CH₂）,4.3〜4.6（2H,m,CH₂）,5.28（1H,d,J＝4.7H
z,CH）,5.5〜5.65（1H,m,＝CH−）,5.77（1H,dd,J＝4.7
Hz,7.8Hz,CH）,5.84（2H,ABq,J＝3.3Hz,CH₂O）,6.29（1
H,d,J＝11.7Hz,−CH＝）,6.83（1H,s,チアゾールＨ）,
7.45（1H,t,J＝5.9Hz,NH）,9.68（1H,d,J＝7.8Hz,NH）実施例３７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔（Ｚ）−３−（Ｎ−アリルカルバモイルオキシ）−１
−プロペニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩製造例４で得られた化合物1mg（0.9mmol）のアニソー
ル3ml溶液に氷冷下トリフルオロ酢酸3mlを滴下し、その
後室温で２時間攪拌した。減圧下濃縮後、濃縮溶液をイ
ソプロピルエーテル20ml、ｎ−ヘキサン80mlの混合液に
滴下し、析出した結晶を濾取した。結晶を90％ギ酸10ml
に加え、室温下３時間攪拌した。減圧下溶媒留去後、残
留物をイソプロピルエーテルで摩砕し結晶を濾取した。
結晶をメタノール20mlに溶かし、酢酸ナトリウム300mg
（5mmol）を加え、減圧下溶媒留去した。粗生成物を２
−プロパノールで摩砕し粗結晶を濾取した。粗結晶をOD
Sカラムクロマトグラフィー（10％水性メタノール）で
精製し、溶出液を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、目的化合
物を80mg（0.15mmol,17％）得た。

NMR（D₂O−d₆）δ： 3.62（2H,ABq,J＝17Hz,CH₂）,3.84（2H,d.J＝4.8Hz,N
HCH₂）,4.55〜4.85（2H,m,CH₂）,4.87（2H,ABq,J＝17.1
Hz,CH₂）,5.25（1H,dd,J＝1.5Hz,10.3Hz,＝CH₂）,5.30
（1H,dd,J＝1.5Hz,17.2Hz,＝CH₂）,5.42（1H,d,J＝4.7H
z,CH）,5.78〜5.87（1H,m,＝CH−）,5.92〜6.03（1H,m,
−CH＝）,5.97（1H,d,J＝4.7Hz,CH）,6.32（1H,d,J＝1
1.8Hz,−CH＝）,7.12（1H,s,チアゾールＨ）実施例４７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔（Ｚ）−３−（Ｎ−２−アリルカルバモイルオキシ）
−１−プロペニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチル実施例３で得られた化合物50mg（0.09mmol）の乾燥ジ
メチルホルムアミド3ml溶液に氷冷下ヨードメチルピバ
レート24mg（0.1mmol）の乾燥ジメチルホルムアミド0.5
ml溶液を滴下し、30分間攪拌した。反応液に酢酸エチル
を加え水洗、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを
加え乾燥した。減圧下濃縮し、濃縮溶液をｎ−ヘキサン
50mlに滴下した。析出した結晶を濾過後乾燥し、目的化
合物を35mg（0.06mmol,61％）得た。

NMR（DMSO−d₆）δ： 1.15（9H,s,C（CH₃）_３）,3.55〜3.77（4H,m,CH₂,C
H₂）,4.35〜4.65（2H,m,CH₂）,5.04（1H,dd,J＝1.4Hz,1
0.2Hz,＝CH₂）,5.10（1H,dd,J＝1.4Hz,17.2Hz,＝CH₂）,
5.25（1H,d,J＝5.1Hz,CH）,5.60〜5.70（1H,m,−CH
＝）,5.70〜5.90（4H,m,−CH＝,OCH₂,CH）,6.27（1H,d,
J＝11.7Hz,−CH＝）,6.67（1H,s,チアゾールＨ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き審査官内田淳子 (56)参考文献特開昭55−154981（ＪＰ，Ａ) 特開平３−128381（ＪＰ，Ａ) 米国特許4094978（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 501/00 - 501/62 A61K 31/00 - 31/80 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】式（式中、R¹は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。R²は
カルボキシキル基又は保護基で保護されたカルボキシル
基を示す。R³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アル
ケニル基を示す。）で表されるチアゾリルアセトアミド
−３−セフェム系誘導体又はその医薬として許容される
塩。
【請求項２】式（式中、R²はカルボキシル基又は保護基で保護されたカ
ルボキシル基を示す。R⁴はアミノ基又は保護基で保護さ
れたアミノ基を示す。R⁵は水酸基又は保護基で保護され
た水酸基又は低級アルコキシ基を示す。）で表わされる
化合物あるいはそれらの塩と、式R³−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ（ここ
でR³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アルケニル基
を示す。）で表されるイソシアネートと反応させ、必要
によりアミノ基、水酸基又はカルボキシル基の保護基を
離脱することを特徴とする式（式中、R¹は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。R²は
カルボキシキル基又は保護基で保護されたカルボキシル
基を示す。R³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アル
ケニル基を示す。）で表されるチアゾリルアセトアミド
−３−セフェム系誘導体又はその医薬として許容される
塩の製造法。
【請求項３】式：（式中、R¹は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。R²は
カルボキシキル基又は保護基で保護されたカルボキシル
基を示す。R³は低級ハロゲン化アルキル基又は低級アル
ケニル基を示す。）で表されるチアゾリルアセトアミド
−３−セフェム系誘導体又はその医薬として許容される
塩からなる抗菌剤。