JPS6332338A - 光学特性測定装置 - Google Patents

光学特性測定装置

Info

Publication number
JPS6332338A
JPS6332338A JP61176466A JP17646686A JPS6332338A JP S6332338 A JPS6332338 A JP S6332338A JP 61176466 A JP61176466 A JP 61176466A JP 17646686 A JP17646686 A JP 17646686A JP S6332338 A JPS6332338 A JP S6332338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
detector
test sample
mirror
optical
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61176466A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0554902B2 (ja
Inventor
Takeo Murakoshi
村越 武雄
Sadao Minagawa
定雄 皆川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61176466A priority Critical patent/JPS6332338A/ja
Priority to US07/076,292 priority patent/US4810872A/en
Publication of JPS6332338A publication Critical patent/JPS6332338A/ja
Publication of JPH0554902B2 publication Critical patent/JPH0554902B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/255Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/42Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
    • G01J2003/425Reflectance
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/08Beam switching arrangements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/42Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N2021/1738Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement
    • G01N2021/1742Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement either absorption or reflection

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学特性測定装置,特に、微小なビームスプ
リッタプリズムなどの被検試料の反射率及び透過率測定
用の光学特性測定装置に関するものである。
〔従来の技術〕
ビームスピリツタ−プリズムはレーザーディスクの録音
,録画及び再生における重要な光学素子であって、第3
図及び第4図に示すように45″のプリズム2個を貼り
合せた立方体、又はその変形よりなる形状をもち、接合
面には、特殊な処理を施して入射光が透過光と反射光に
分雛される比率を制御している。なお、第3図及び第4
図で。
1は接合面、I、T及びRはそれぞれ入射光、透過光及
び反射光を示している。
このような特性を管理するために平面の反射率を測定す
る方法には、例えば発明協会公開技報第79−1150
号に開示されてるような、絶対反射率測定用光学系を用
いる方法がある。この方法は測定すべき被検試料が第3
図及び第4図に示すような立方体であったりその大きさ
が微小であるときは。
入射光束が被検試料の中心部に正しく入射し、かつ反射
面(この場合接合面)が正規の方向に向かうように保持
するには複雑な機構と高度な操作技術が必要である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
例えば、公開技報第79−1150号に開示されている
方法を用いる場合、被検試料が3飾立力体程度の微小の
ビームスプリッタプリズムを測定するには、投射する光
束は1.5mm角度でなければならない。またビームス
プリッタプリズムの保持具は被検ビームスプリッタプリ
ズムを正規の位置に対し0.2on程度の誤差で設置し
正規の方向に対し1/200程度の傾斜で設置しなけれ
ば反射光が積分球の受光面より外れて測定誤差を生ずる
一方ビームスプリッタプリズムの接合面は第5図の斜視
図に示すように製作技術上および製品として必要がない
ため20ミクロン程度以上の段差を持つ可能性があり、
これを平面状の試料ホールダ上に設置すれば必然的に1
/200以上の傾斜を生ずる。すなわち、試料ホールダ
に対する試料の取付は方が少しても傾くと再現性がなく
なり、迅速かつ精度の高い測定ができず、したがって保
持の方法一つで同一製品を測定しても異った測定値とな
るなどの欠点があった。
本発明はビームプリンタプリズムなどの被検試料の反射
率及び透過率の測定、特に微小なビームスプリッタプリ
ズムを再現性良く測定可能とする光学特性測定装置を提
供することを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
前述の如き問題点を解決するためになされた本発明の構
成は、被検試料に照射した光を検知器で検知し、該被検
試料の光学特性を測定する装置において、前記光の微小
仮想光源と前記被検試料との間に設置され該微小仮想光
源の像を該被検試料の測定面付近に結像させる第1の光
学系、及び前記被検試料と前記検知器との間に設置され
該被検試料の測定面付近と該検知器の受光部付近とに共
役点をもった第2の光学系を有していることを特徴とす
るものである。
〔作用〕
本発明の作用を、第1図の本発明の光学系統の説明図に
基づく構造の具体的な説明とともに説明する。第1図に
おいて、2は光源、3は分光器、4は偏光器、5はしぼ
り、6は被検試料、7は検知器、8は競9と例えば球面
鏡よりなる光学素子10とからなる第1の光学系、11
は例えば球面鏡よりなる光学素子12と鏡13とからな
る第2の光学系で、球面銀12は、被検試料6の接合中
心6aと検知器7の受光点7a結ぶ線x−x’ に。
対して対称の位置に移動できるようになっており。
鏡13は前述の線x−x’に対して対称角度回転可能に
なっている。12′と13′がそれぞれ交換後の球面鏡
と鏡の位置を示している。なお、14.15及び16は
鏡で光源の輝度変動による測定値の誤差を補償する補償
光路を構成している。
本発明では、しぼり5は光学素子10によって被検試料
6のほぼ中心6aに結像するように配置され、また被検
試料6の中心6aは検知器7の受光点7aとはほぼ共役
関係にあるように光学素子12が配置されている。
そして、光源2より分光器3を経て出射される光を偏光
子4によって偏光として第1図に示す光学配置によって
被検試料6の中心6a、例えばビームスプリッタプリズ
ムの接合部の接合中心付近にしぼり5の微小像を投射し
接合面を透過した光束17又は接合面で反射した光束1
8を検知器7に投射し検知する。
透過率を測定するには、被検試料6を設置せずに第2の
光学系11の光学素子及び鏡をそれぞれ12.13の位
置に配置した状態で、検知器7に入射する光量を測定記
憶し、次に被検試料6を所定の位置に設置して検知器7
に入射する光量を測定し、この測定値を記憶されている
値で除することによって、鏡9.光学素子10.光学素
子12゜鏡13の透過率の影響が除去され被検試料6の
透過率が求められる。
また、反射率を測定するには、透過率を測定する場合と
同様に、被検試料6を設置せずに第2の光学系11の光
学素子及び鏡をそれぞれ12゜13の位置に配置した状
態で検知器7に入射する光量を測定記憶し、次に被検試
料6を所定の位置に設置して、第2の光学系11の光学
素子及び鏡の位置をそれぞれ12’ 、13’の位置に
交換した状態で検知器7に入射する光量を測定し、この
測定値を記憶されている光量で除することによって、鏡
9.光学素子10.光学素子12.鏡13の反射率の影
響が除去され、被検試料6の反射率が求められる。
本発明の光学特性測定装置は、以上の如く、構成され使
用されるため、被検試料、例えば、ビームスプリンタプ
リズムが少し傾いても必ず、検出器の受光面付近に結像
させることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第2図及び第6〜第11図を
用いて説明する。これらの図において、第1図、第3図
、第4図及び第5図と同一部分には同一符号が付しであ
る。
第2図は分光光度計と外置き大形試料室積分球との組合
せよりなる光学特性測定装置の光学系統図、第6図は第
2図の要部の平面図、第7図は同じく正面図、第8図は
同じく右側面図、第9図は第2図のしぼりの正面図、第
10図及び第11図はそれぞれ第2図の被検試料のホー
ルダの平面図および側面図を示している。
これらの図で、19は光源2と白色光を単色光に分光し
対照光20と試料光21に分割する機能とを持ち、分光
光度計で各部の制御機能、データ処理機能を有する分光
光度計を示している。22は溶液等の測定を行うとき使
用する試料室でこの組合せでは対照光2oと試料光21
を大形試料室23に導くためにトロイダル鏡24を介し
て各々の光を直角に曲げている。25は被検試料で、例
えば第5図に示すようなビームスプリッタプリズムを示
している。
しぼり5は、第9図に示すようなしぼり板26に設けら
れた孔よりなり、しぼり板26には複数個の形状、大き
さの異なる孔が設けられており。
被検試料25の大きさによって交換できるようになって
いる。球面110によって被検試料25のほぼ中心25
a付近に結像するように配置され。
また被検試料25の中心25aは積分球検知器7の受光
点7aとほぼ共役関係にあるように球面鏡12が配置し
である。
球面鏡12は線x−x’ に対して対称の位置12′に
移動可能なように、第7図及び第8図に示すようなガイ
ドピン付アッセンブリとなっている。第8図は12′の
位置に移動させた球面鏡と12の位置における軸受はガ
イド26を示している。
鏡13は、その位置で線x−x’ に対して対称角度回
転して13′に位置させることが可能になっている。第
6図に示す27及び28は回転角度規正用のピン及びス
トップを示している。
被検試料25の固定には第10図及び第11図に示すよ
うな試料保持具29が用いられる。被検試料25は試料
押えがね30によって固定され、ねじ31及び調節ねじ
32によって位置合せが実施可能になっている。
この実施例の光学特性測定装置は、このように構成され
ているので被検試料25の設置角度誤差が1150傾い
て設置されても被検試料25の中心付近のしぼり5の像
は球面鏡12によって積分球検知器7の受光点7aに結
像するので正規光路をほどんと逸脱せずに積分球の受光
点7aに到達する。
従って、試料保持具29は被検試料25、例えばビーム
スプリッタプリズムの設置方向は厳密を要せずビームス
プリッタプリズムの接合面の中心が常に定位置になるよ
うに保持すれば、ビームスプリッタプリズム光学特性の
測定が可能である。
本実施例の被検試料の中心と検知器の受光点が共役にあ
るため被検試料の設置位置の方向がわずかに偏角しても
反射光は確実に受光部に投射される。
また、しぼりの像を被検試料の設置位置の中心付近に結
像させるためしぼりの窓の大きさを被検試料の大きさに
応じ変化させることにより測定点の光束の大きさを調節
することができるまた測定光束の位置を微細に調節する
ことができるなどの効果がある。
なお、前述の実施例においては、第1及び第2の光学系
で球面鏡を用いた例を示し、球面鏡を用いる場合には、
安価な光学系を得ることができるが、球面鏡に代りに、
楕円面鏡、トロイダル鏡及びレンズと平面鏡との組み合
せを用いることもできる。また、前述の実施例では、検
知器に、積分球形検知器を用いた例を示したが、光電子
増倍管。
半導体検知器を検知器として用いることもできる。
また、前述の実施例においては、被検試料の透過率及び
反射率の両方を測定可能な光学特性測定装置について説
明したが、同様の原理に基づいて、被検試料の反射率又
は透過率専用の光学特性測定装置を提供することが可能
なことは言う迄もない。
〔発明の効果〕 本発明はビームスプリンタプリズムなどの被検試料の反
射率及び透過率の測定、特に微小なビームスプリッタプ
リズムを再現性良く測定可能とする光学特性測定装置を
提供可能とするもので、産業上の効果の大なるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光学特性測定装置の光学系統の説明図
、第2図は同じく一実施例の光学系統図。 第3図、第4図及び第5図はそれぞれ異なるビームスプ
リッタ−プリズムの斜視図、第6図は第2図の要部の平
面図、第7図は同じく平面図、第8図は同じく右側面図
、第9図は第2図のしぼりの正面図、第10図及び第1
1図はそれぞれ第2図の被検試料のホールダの平面図及
び側面図である。 5・・・しぼり、6・・・被検試料、7・・・検知器、
8・・・第1の光学系、9・・・鏡、1o・・・光学素
子、11・・・第2の光学系、12.12’・・・光学
素子、13゜13′・・・鏡、17・・・接合面を透過
した光束、18第3図 [1 乃9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検試料に照射した光を検知器で検知し該被検試料
    の光学特性を測定する装置において、前記光の微小仮想
    光源と前記被検試料との間に設置され該微小仮想光源の
    像を該被検試料の測定面付近に結像させる第1の光学系
    、及び前記被検試料と前記検知器との間に設置され該被
    検試料の測定面付近と該検知器の受光部付近とに共役点
    をもつ第2の光学系を有していることを特徴とする光学
    特性測定装置。 2、前記第1及び第2の光学系が、それぞれ楕円面鏡、
    トロイダル鏡、球面鏡及びレンズと平面鏡と鏡との組み
    合せの何れかであり、前記検知器が、積分球形検知器、
    光電子増倍管、半導体検知器の何れかである特許請求の
    範囲第1項記載の光学特性測定装置。 3、前記微小仮想光源が、分光器に後置されているしぼ
    りである特許請求の範囲第1項又は第2項記載の光学特
    性測定装置。 4、前記第2の光学系が、前記被検試料と前記検知器と
    を結ぶ線に対して対称関係にある位置の間で交換可能に
    なつている特許請求の範囲第1項又は第2項又は第3項
    記載の光学特性測定装置。
JP61176466A 1986-07-26 1986-07-26 光学特性測定装置 Granted JPS6332338A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61176466A JPS6332338A (ja) 1986-07-26 1986-07-26 光学特性測定装置
US07/076,292 US4810872A (en) 1986-07-26 1987-07-22 Optical property measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61176466A JPS6332338A (ja) 1986-07-26 1986-07-26 光学特性測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6332338A true JPS6332338A (ja) 1988-02-12
JPH0554902B2 JPH0554902B2 (ja) 1993-08-13

Family

ID=16014174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61176466A Granted JPS6332338A (ja) 1986-07-26 1986-07-26 光学特性測定装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4810872A (ja)
JP (1) JPS6332338A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05172742A (ja) * 1991-07-29 1993-07-09 Shimadzu Corp 色分解プリズムの分光透過率測定装置
US6734967B1 (en) 1995-01-19 2004-05-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system
KR100485562B1 (ko) * 2001-09-19 2005-04-28 세이코 엡슨 가부시키가이샤 광학 소자의 검사 장치 및 광학 소자의 검사 방법
US7773899B2 (en) 2003-03-14 2010-08-10 Ricoh Company, Ltd. Image forming apparatus and method of calculating an amount of toner transfer by converting diffuse reflection output into a conversion value
JP2016535854A (ja) * 2013-08-29 2016-11-17 コーニング インコーポレイテッド プリズム結合システム及び湾曲部品を特徴付ける方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5157459A (en) * 1989-08-29 1992-10-20 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Wave front aberration measuring apparatus
EP0572336B1 (en) * 1992-05-29 2001-03-14 Eastman Kodak Company Coating density analyzer and method using image processing
US5298346A (en) * 1992-07-27 1994-03-29 Motorola, Inc. Battery identification system
US5400116A (en) * 1993-11-03 1995-03-21 Eastman Kodak Company Apparatus and method for producing gradated exposures on radiation sensitive material
JPH0741303U (ja) * 1993-12-27 1995-07-21 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー ガス容器の誤装填防止装置
JPH0741302U (ja) * 1993-12-27 1995-07-21 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー ガス容器の誤装填防止装置
US5608526A (en) * 1995-01-19 1997-03-04 Tencor Instruments Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system
US5745234A (en) * 1995-07-31 1998-04-28 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Variable angle reflectometer employing an integrating sphere and a light concentrator
US9983064B2 (en) 2013-10-30 2018-05-29 Corning Incorporated Apparatus and methods for measuring mode spectra for ion-exchanged glasses having steep index region
US9919958B2 (en) 2014-07-17 2018-03-20 Corning Incorporated Glass sheet and system and method for making glass sheet

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2146904A (en) * 1936-05-07 1939-02-14 Eastman Kodak Co Reflection and transmission densitometer
DE2047952C3 (de) * 1970-09-30 1973-10-18 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Verfahren zur photometrischen Auswertung der sich bei der Auftrennung von Substanz gemischen in dünnen Schichten aus licht streuendem Material ergebenden Zonen
US4040750A (en) * 1976-05-28 1977-08-09 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Real time reflectometer
NL8006097A (nl) * 1980-11-07 1982-06-01 Nl Bank Nv Inrichting voor het automatisch vaststellen en beoordelen van kwaliteiten van afdrukken.
US4589776A (en) * 1982-09-27 1986-05-20 Chiratech, Inc. Method and apparatus for measuring optical properties of materials
US4591271A (en) * 1983-03-21 1986-05-27 Byers Donald W Method and apparatus for coating detection and surface evaluation
US4672196A (en) * 1984-02-02 1987-06-09 Canino Lawrence S Method and apparatus for measuring properties of thin materials using polarized light

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05172742A (ja) * 1991-07-29 1993-07-09 Shimadzu Corp 色分解プリズムの分光透過率測定装置
US6734967B1 (en) 1995-01-19 2004-05-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system
KR100485562B1 (ko) * 2001-09-19 2005-04-28 세이코 엡슨 가부시키가이샤 광학 소자의 검사 장치 및 광학 소자의 검사 방법
US7773899B2 (en) 2003-03-14 2010-08-10 Ricoh Company, Ltd. Image forming apparatus and method of calculating an amount of toner transfer by converting diffuse reflection output into a conversion value
JP2016535854A (ja) * 2013-08-29 2016-11-17 コーニング インコーポレイテッド プリズム結合システム及び湾曲部品を特徴付ける方法
US10495530B2 (en) 2013-08-29 2019-12-03 Corning Incorporated Prism-coupling systems and methods for characterizing curved parts

Also Published As

Publication number Publication date
US4810872A (en) 1989-03-07
JPH0554902B2 (ja) 1993-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6621578B1 (en) Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer
US6738138B2 (en) Small spot ellipsometer
US5581350A (en) Method and system for calibrating an ellipsometer
US6323946B1 (en) Spectroscopic measurement system using curved mirror
US4360275A (en) Device for measurement of optical scattering
JPS6332338A (ja) 光学特性測定装置
US6118532A (en) Instrument for determining static and/or dynamic light scattering
CN107941477B (zh) 一种能精确控制入射角的分光镜测量方法及装置
JP4399126B2 (ja) 分光エリプソメータ
JPH0216443B2 (ja)
US4105335A (en) Interferometric optical phase discrimination apparatus
US3825343A (en) Optical devices
US20220276044A1 (en) Device and method for measuring a semifinished prism
JPH0530761U (ja) 欠陥観察装置
JPH04127004A (ja) エリプソメータ及びその使用方法
JP2000292347A (ja) 旋光度測定装置
JPS60211304A (ja) 平行度測定装置
JPH0262801B2 (ja)
EP0204090A1 (en) Spectrophotometer
JPH07146213A (ja) 収差測定装置
JPH0650260B2 (ja) 積分球を用いる分光光度計
JPS6244215B2 (ja)
SU1058875A1 (ru) Лазерный профилограф
JPS60140314A (ja) 光姿勢合わせ装置
JPS59214730A (ja) レンズ偏心測定器

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term