JPS63313832A - ウェハプローブ - Google Patents

ウェハプローブ

Info

Publication number
JPS63313832A
JPS63313832A JP63014365A JP1436588A JPS63313832A JP S63313832 A JPS63313832 A JP S63313832A JP 63014365 A JP63014365 A JP 63014365A JP 1436588 A JP1436588 A JP 1436588A JP S63313832 A JPS63313832 A JP S63313832A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground
probe
wafer
conductor
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63014365A
Other languages
English (en)
Inventor
エリツク・ダブリユ・ストリツド
キンバリー・アール・グリーソン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FormFactor Beaverton Inc
Original Assignee
Cascade Microtech Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cascade Microtech Inc filed Critical Cascade Microtech Inc
Publication of JPS63313832A publication Critical patent/JPS63313832A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/0735Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card arranged on a flexible frame or film
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06772High frequency probes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はウェハ状の集積回路(IC)の複数の点にアク
セスして特性測定/試験を行うウェハプローブ、プロー
ブ装置及びプローブ方法に関する。
[従来技術とその問題点コ ウェハプローブは半導体ウェハ上に製造したIC素子の
如きプレーナ(平面状)デバイスの極小ボンディングパ
ッドと試験機器間に一時的に電気的接触を行う為のもの
である。ウェハプローブを使用することにより、ウェハ
上に製造している多数のIC素子を分割しボンディング
(リード付け)及びパッケージを行う前に、ICを動作
させたり試験を行うことが可能になる。しかし、現存す
るウェハプローブの多くは、IC素子のボンディングパ
ッドを測定機器に接続する為にプローブが形成する信号
路は一定特性インピーダンスを有しないので、例えば2
GHz以上の高周波信号を高精度で測定することができ
ない。信号路のインピーダンス不整合は信号反射を生じ
、信号測定時に誤差を生じることとなる。
1984年4月30日付で出願した米国特許出願第60
5,462号(米国特許第4697143号)は先端が
傾斜するアルミナ製基板の底面に被着形成したコプラナ
状(同一平面上)の接地及び信号導体より成り、各信号
導体の近傍の接地導体とにより別個で且つ一定インピー
ダンスの伝送線を形成するようにしたウェハプローブを
開示している。これら接地導体は金属性チャンネルによ
り電気的に相互接続される。このチャンネルは信号導体
をまたぐが接触することはない。各伝送線は基板の幅広
端に設けた同軸ケーブルコネクタから延びて基板の幅の
狭い部分の端部に設けた接触パッドに達し、この接触パ
ッドはIC素子のボンディングパッドと位置合せされて
いる。このプローブは次のようなIC素子にアクセスす
る場合に特に有用である。即ち、アクセスされるべき信
号を流すボンディングパッドが一列に配置され、この列
に少くとも1個の接地されるボンディングパッドを含ん
でいるIC素子である。プローブの各伝送線は信号導体
と接地導体とを含み、接地導体はすべてチャンネルによ
り相互接続されているので、各伝送線の定インピーダン
ス状態はケーブルコネクタからIC素子まで存在する。
このことは1つの伝送線の1個の接地導体がIC素子の
1つの接地ボンディングパッドに接触する場合につぃて
も同じである。
IC素子は2列のボンディングパッドを有する場合があ
り、この場合には別の10−ブを用いて各列にアクセス
してもよい。しかし、多くのIC素子では、接地ボンデ
ィングパッドは2列のうちいずれか一方にしかなく、他
方にはないので、両プローブの一方の接地導体はICの
接地端子に直接アクセスできない、ジャンパ線を用いて
両10−ブの接地導体の先端間を結線し、一方のプロー
ブの接地導体が間接的に他方のプローブの接地導体にア
クセスし、これにより一方のプローブの伝送線からIC
素子まで継続して一定特性インピーダンスとなるように
する。しかし、プローブは大変小形であり、両プローブ
の接地導体間を相互接続するジャンパ線も極めて小さい
ので取付けが困誼であり且つ破損の虞れがある。
従って、本発明の目的は、IC素子の接近する2列のボ
ンディングパッドにアクセスができ、両プローブの導体
をボンディングパッドの接触点近傍で電気的に容易に相
互接続が行えるようにしたウェハプローブ、プローブ装
置及びウェハプローブのブロービング方法を提供するこ
とである。
[発明の概要] 本発明によるウェハプローブによれば、テーパを施した
プローブ基板の底面に交互に複数の接地及び信号導体を
有し、各信号導体と接地導体とで一定の特性インピーダ
ンスを有する複数の伝送線を構成している。複数の接地
導体は信号導体をまたぐ金属チャンネルによりすべて相
互に接続している。各伝送線は同軸ケーブルコネクタを
プローブ基板の幅広端部で他端(狭い)にある接触パッ
ドと接続する。この接触パッドはIC素子のボンディン
グパッドと同様の配置となっている。
本発明によれば、接地コンタクトがプローブ板の狭い端
部の上側に取付けられ、この接地コンタクトは導電路に
よりプローブ板の下側の接地導体に接続される。2個の
ウェハプローブにより同一のIC素子の並列配置のボン
ディングパッドに同時にアクセスする場合には、両ウェ
ハプローブのプローブ板の上側の接地コンタクトに導電
被膜のシートをのせることにより両プローブの接地導体
を相互接続してもよい。このようにすれば、プローブの
一方がIC素子の接地に直接アクセスできなくとも、他
のプローブを介してIC素子の接地に間接的にアクセス
できる。従って一定インピーダンスの伝送線を、実質的
に不連続性を生じさせることなく、IC素子のボンディ
ングパッドまで延長することが可能である。
更に、本発明によれば、ゴム、プラスチック又は他の抵
抗材料より成るフィンガ(指状部)をプローブ板の上部
に取付け、このフィンガの一端をプローブ板に固定する
と共に他端により基板の上側の接地コンタクトを押圧す
る。両プローブの接地コンタクトを相互接続する箔が各
プローブの接地コンタクトとフィンガ間に挿入されると
、各プローブのフィンガはプローブの接地コンタクト上
に箔を保持する。
更にまた、本発明によれば、導電箔は透明開口を有し、
箔をプローブ上に配置すると、開口はアクセスされるボ
ンディングパッド上に位置する。
この開口により、オペレータはボンディングパッドに対
する各プローブ位置を観察することができる。
[実施例] 第1図は本発明によるウェハプローブ11の分解斜視図
である。本発明によれば、半導体ウェハ上に形成した平
面状IC素子の接続用ボンディングパッド伝送線を構成
し、この伝送線と同軸ケーブルを介してボンディングパ
ッドと試験機器間の信号伝送が行われるようにしている
。第2図及び第3図は夫々第1図のウェハプローブ11
の上面及び側面図であり、第4図及び第5図は夫々第2
図のウェハプローブ11の線4−4及び5−5に沿う正
面断面図である。第2図乃至第4図は、ウェハ16上の
平面状ICデバイス15のボンディングパッド13と殆
んど接触状態にあるが極く僅かに間隙を有しているプロ
ーブを示す。
第1図乃至第5図を参照すると、プローブ11はプロー
ブ取付ブッロク17を有し、このブロック17にテーパ
状伝送線アセンブリ19の幅広い一端が取付けられてい
る。テーパ状の金属チャンネル35が伝送線アセンブリ
19の下側に接続され、1対の中間吸収層23が金属チ
ャンネル35の下側に且つテーパ状縁部に沿って取付け
られる。
テーパ状の吸収層21がテーパ状伝送線アセンブリ19
の狭い端部上に取付けられる。プローブ取付はブロック
17の下側に取付けた下側吸収層25は伝送線アセンブ
リ19の幅広端の下に伸び、チャンネル35と中間吸収
層23とにより伝送線アセンブリ19から離間している
。好ましくは金である金属接地コンタクト30が伝送線
アセンブリ19の上側の狭い先端部41付近に取付けら
れる。好ましくはゴム、プラスチック又はその他の弾性
絶縁材料からなるフィンガ22が上側吸収層21の狭い
端部に取付けられ、フィンガ22の下側が接地コンタク
ト30を押圧するようにする。
同軸ケーブル27がプローブ取付ブロック17の上部に
取付けられる。
第6図は伝送線アセンブリ19の先端41の底面図であ
る。第1図乃至第6図を参照して説明する。伝送線アセ
ンブリ19は信号導体29及び接地導体31より構成さ
れ、共に約10ミル(1ミル=1/1000インチ=0
.0254mm)の厚さのアルミナ(A I 203 
)の如き誘電体材料製のテーパ状プローブ板33上に取
付けられる。
信号導体29と接地導体31とはプローブ板33のアル
ミナ基板上に被着した例えば金等の導体片である。第6
図に最もよく示される如く、導体29と31とはプロー
ブ板の先端41に向かって狭くなり、被試験デバイス1
5のボンディングパッド上にアライメントされる。デバ
イス15のボンディングパッド13との接触は、信号導
体29及び接地導体31の端部に取付けた例えば小さい
ニッケル又は金の接触パッド37を介して行われる。
信号導体29の幅と接地導体31からの距離はプローブ
板の先端41からのごく僅かの距離の所まで一定に保持
される6次に信号導体29と接地導体31は、例えば、
10ミル幅からプローブ板の先端41の1ミル幅までテ
ーパがつけられる。
信号導体29と接地導体31との間隙は先端41まで相
対的にテーパが設けられ、信号導体29と接地導体31
のなす伝送線の特性インピーダンスが被試験デバイス1
5のボンディングパッド13との接触点まで伝送線の全
長にわたり一定(例えば50Ω)であるようにする。ボ
ンディングパッドは通常約2ミル平方の正方形の表面を
有し、幅はプローブ板の先端41における導体29及び
31と同じであり、各パッドの中心間の間隔は約4ミル
である。しかし、導体29及び31には上述の場合と異
なる幅と間隔でテーパをつけ、特性インピーダンスを一
定に維持しつつ、異なるボンディングパッド配置にアラ
イメントするようにすることも可能である。
第3図乃至第5図に示すとおり、伝送線アセンブリ19
は一般に吸収層2’l、23及び25で略凹まれる。こ
れら吸収層は相対特性インピーダンスが自由空間の特性
インピーダンスと近く即ち、1z1/lZo l=0.
5〜0.7且つ高い磁性損失係数を有するマイクロ波吸
収材料製でもよい。この特性インピーダンスを有する材
料は、マイクロ波エネルギを反射せず、誘電体伝送線モ
ードを生じることもない。この吸収体の適当な材料とし
ては、エマーソンアンドカミング社の商品名ECC08
OftBの鉄又はフェライトを含むGDS、ME−3,
MF及びCR−Sモデルの吸収体がある。第5図に示す
如く、上側吸収層21は信号導体29から吸収体が空間
的に離間するよう凹部を有し、プローブ板33の上側に
取付けられる。中間及び下側吸収層23及び25はプロ
ーブ板33の下側に金属チャンネル35と接触して取付
けられる。両接地導体31と接触し信号導体29をまた
ぐ金属チャンネル35は、信号導体29と離間する吸収
体を有し、伝送線アセンブリ19の構造的一体性を改善
し、両側の接地導体31と電気的に結合され、信号導体
29の遮蔽を行う。
伝送線アセンブリ19とコネクタ27とは、第4図に最
もよく示されている如く、取付ブロック17に取付けら
れる。好適実施例では、取付ブロック17も吸収層と同
様のマイクロ波吸収材料で形成する。信号導体29の一
端は導体タブ39によリコネクタ27に接続される。コ
ネクタ27は外部の50Ω同軸ケーブル(図示せず)を
ウェハプローブ11に接続して外部試験機器との間の信
号の送受信に使用する。プローブ先端41の各接触パッ
ド間の間隔はプローブでアクセスしたいデバイス15の
ボンディングパッド13の間隔に応じて自由に変更可能
である。
ウェハプローブ11はIC素子15上に直線状に配置し
たボンディングパッド13にアクセスするように設計さ
れている。典型的なIC素子は、素子の互いに反対側の
端に沿って設けた2列のボンディングパッドを有するの
で、2個のウェハプローブを用いて2列のボンディング
パッドに同時にアクセスしてもよい。しかし、接地ボン
ディングパッドは通常一方のボンディングパッド列のみ
にあり他の列にはないので、プローブの一方の接地導体
はIC素子の接地パッドに直接アクセスすることはでき
ない。もしプローブの一方の接地導体がICデバイスの
接地パッドに接続されないと、プローブの伝送線とアク
セスされるボンディングパッド間の接続点にインピーダ
ンスの不連続が生じる。
本発明のウェハプローブによると、伝送線アセンブリ1
9のプローブ板33の先端41の上側に取付けられてい
る金属コンタクト30は、プローブ板の上側の接地導体
31に導電路により接続されている。よって、2個のウ
ェハプローブを同じIC素子の2列のボンディングパッ
ドに同時にアクセスすると、2個のプローブの接地導体
は両ウェハプローブの接地コンタクト30上に配した導
電箔により相互接続できる。つまり、プローブの一方が
IC素子の接地ボンディングパッドに直接アクセスでき
ない場合には、他のプローブによりIC素子の接地パッ
ドに間接的にアクセスでき、これによりその一定インピ
ーダンスの伝送線に不連続を生じることな(IC素子ま
で延長することができる。接地コンタクト30に接触す
る弾性フィンガ22は、箔がフィンガ22と接地コンタ
クト30間に挿入されるとき、所定位置にこれを保持す
る。
 A 第7図及び第8図は導電箔50の係合前後の2個のプロ
ーブの伝送線アセンブリの先端部41a。
41bの側面図である。各プローブの接地コンタクト3
0はプローブ先端の側縁を覆う導電性エポキシ塗料36
の薄膜により、プローブ先端の下側の接地導体31に電
気的に接続される。箔50は弱い接着剤により支柱51
の頂部に一時的に取付けられ、この支柱51はガラス製
スライド52上に取付けられる。ガラス製スライド52
は通常プローブでアクセスされたウェハを支持する可動
チャック上に保持される。最初、両プローブ先端41a
及び41bは相互に離間しており、箔50は各プローブ
の接地コンタクト30とフィンガ22間に入り込み、箔
は各フィンガを僅か上方に押し上げる。−反省50がフ
ィンガ22と接地コンタクト30間の所定位置に来ると
、フィンガ22は十分な保持力を与え、その後スライド
52と支柱51とを両プローブ先端から取除くと、箔5
0は支柱51に弱く接着しているのみであるので、支柱
から外れて各プローブのフィンガ22及び接地コンタク
ト30間にとどまる。第8図に示す如く、箔50が所定
位置となると、ウェハ16はチャック55上に載せられ
てチャック55が持ち上がるので、ウェハ16のIC素
子15のボンディングパッドがプローブの接触パッド3
7と接触する。
第9図はプローブ先端41a及び41bと第8図の相互
接続用箔50の平面図である。開口56が箔50に形成
され、その下のICデバイスのボンディングパッドに対
する接触パッド37の位置が上方から見え、その結果、
接触パッド及びボンディングパッド間の正しいアライメ
ントが行える。
以上、本発明によるウェハプローブを説明した。
このウェハプローブは誘電体基板の下側の1縁に配置し
た接触パッドを有し、アクセスしたい平面状デバイスの
ボンディングパッドとアライメントが行われ、また基板
の下側に被着したコプレーナ状接地及び信号導体を有し
一定インピーダンスの伝送線を形成して接触パッドに試
験機器を接続する。接地コンタクトが基板の接触パッド
を有する端部近傍の上側に取付けられ、この接地コンタ
クトは導電路により基板の下側の接地導体に導電路で接
続される。可撓性フィンガがコンタクトに接触する。斯
るウェハプローブの2個が同時に同じ平面状デバイスの
ボンディングパッドに同時にアクセスすると、2個のプ
ローブの接地導体は、各ウェハプローブの接触フィンガ
と接地コンタクト間に導電性箔(シート)を挿入するこ
とにより相互接続できる。
尚、好適実施例について本発明のウェハプローブを説明
したが、本発明の要旨をi脱することなく種々の変形変
更が可能である。例えば、2個のウェハプローブは同じ
列の異なるボンディングパッド或はウェハの互いに直交
する2辺に形成されたボンディングパッドにアクセスす
る場合の接地導体間の相互接続に使用することも可能で
ある。
従って、本発明の技術的範囲には実施例のみならず変形
変更をも包含されることは勿論である。
[発明の効果] 本発明のウェハプローブによると、プローブ板の先端部
には、下面に被着形成された接地及び信号導体を有する
と共に上面にも接地コンタクトを有し、接地導体と接地
コンタクト間は側縁部の導体層で相互接続され、その上
に弾性フィンガを有する。弾性導電箔が接地コンタクト
とフィンガ間に挿入できる。従って複数のウェハプロー
ブを同じウェハのボンディングパッドにアクセスする場
合、接地導体間をこの導電箔を介して相互接続できるの
で、ウェハプローブの伝送線に特性インピーダンスが一
定値に維持され、高精度且つ広帯域の信号測定が可能で
ある。また、この箔の被測定ウェハ上部には開口を設は
ウェハプローブの接触パッドとウェハのボンディングパ
ッドのアライメントを容易に行うことができるので、各
種ウェハのプロービングへの応用に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるウェハプローブの一実施例の分解
斜視図、第2図は本発明のウェハグローブと被試験ウェ
ハ素子との位置関係を示す平面図、第3図は第2゜図の
ウェハプローブの側面図、第4図は第2図のウェハプロ
ーブの4−4線に沿う断1只 面図、第5図は第2図のウェハグローブの5−5線に沿
う断面図、第6図は第2図に示すウェハプローブの先端
部の底面図、第7図は2個のウェハプローブを導電性箔
膜で相互接続する直前の状態を示す側面図、第8図は2
個のウェハプローブを導電性箔膜で相互接続した状態を
示す側面図、第9図は第8図の導電性箔膜と2個のウェ
ハプローブ先端部の平面図を示す。 15・・・ウェハ 33・・・誘電体基板 29・・・信号導体 31・・・接地導体 30・・・接地コンタクト 36・・・相互接続手段 22・・・絶縁弾性体 50・・・導電性シート 51.52.55・・・支持台 FIG、7

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)誘電体基板の一面に被着形成した信号導体及び接
    地導体と、上記基板の先端部の他面に形成した接地コン
    タクトと、該接地コンタクト及び上記接地導体間を電気
    的に接続する相互接続手段とを具えるウェハプローブ。
  2. (2)誘電体基板の一面に被着形成した信号導体及び接
    地導体と、上記基板の先端部の他面に形成し上記接地導
    体と電気的に相互接続した接地コンタクトと、上記基板
    の上記接地コンタクトに接して取付けた絶縁弾性体と、
    該絶縁弾性体及び上記接地コンタクト間に間挿する導電
    性シートとを具えるウェハプローブ。
  3. (3)被試験ウェハの複数のボンディングパッドと外部
    機器間の相互接続を行うプローブ装置であって、各々誘
    電体基板の一面に被着形成した信号導体及び接地導体、
    上記基板他面に形成し上記接地導体と相互接続する接地
    コンタクトを有する複数のプローブと、該複数のプロー
    ブの各接地コンタクト間を接続する導電性シートとを具
    えるプローブ装置。
  4. (4)支持台上に固定したウェハの複数のボンディング
    パッドに各々信号導体及び接地導体とを有する誘電体基
    板を含む複数のウェハプローブを接続するに際し、上記
    各ウェハプローブの上記誘電体基板に接地コンタクトを
    形成し、導電性シートを上記支持体に比較的弱く取付け
    、上記導電性シートを上記各接地コンタクトに弾性的に
    挿入固定し、上記導電性シートの上記支持台への固定を
    外すことにより成るウェハプローブのプロービング方法
JP63014365A 1987-01-30 1988-01-25 ウェハプローブ Pending JPS63313832A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/008,847 1987-01-30
US07/008,847 US4827211A (en) 1987-01-30 1987-01-30 Wafer probe

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63313832A true JPS63313832A (ja) 1988-12-21

Family

ID=21734039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63014365A Pending JPS63313832A (ja) 1987-01-30 1988-01-25 ウェハプローブ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4827211A (ja)
JP (1) JPS63313832A (ja)

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5061894A (en) * 1988-10-25 1991-10-29 Tokyo Electron Limited Probe device
US4998062A (en) * 1988-10-25 1991-03-05 Tokyo Electron Limited Probe device having micro-strip line structure
US5066907A (en) * 1990-02-06 1991-11-19 Cerprobe Corporation Probe system for device and circuit testing
KR0138752B1 (ko) * 1990-09-03 1998-06-15 이노우에 아키라 프로우브 장치
US5162728A (en) * 1990-09-11 1992-11-10 Cray Computer Corporation Functional at speed test system for integrated circuits on undiced wafers
JP2511621B2 (ja) * 1991-09-03 1996-07-03 エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション ウェ―ハ検査装置
US5293516A (en) * 1992-01-28 1994-03-08 International Business Machines Corporation Multiprobe apparatus
US5345170A (en) * 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US5382898A (en) * 1992-09-21 1995-01-17 Cerprobe Corporation High density probe card for testing electrical circuits
JPH06334004A (ja) * 1993-05-25 1994-12-02 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波帯用プロービング装置
US5479110A (en) * 1994-01-13 1995-12-26 Advanpro Corporation Printed flexible circuit terminations and method of manufacture
US5561378A (en) * 1994-07-05 1996-10-01 Motorola, Inc. Circuit probe for measuring a differential circuit
GB9503953D0 (en) * 1995-02-28 1995-04-19 Plessey Semiconductors Ltd An mcm-d probe tip
US5561377A (en) 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
US5608337A (en) * 1995-06-07 1997-03-04 Altera Corporation Method and apparatus of testing an integrated circuit device
JPH0926457A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体素子評価装置
US5734268A (en) * 1996-04-08 1998-03-31 Motorola, Inc. Calibration and measurment technique and apparatus for same
US5914613A (en) 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6172413B1 (en) 1997-10-09 2001-01-09 Micron Technology, Inc. Chip leads constrained in dielectric media
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6445202B1 (en) 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6838890B2 (en) * 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6914423B2 (en) 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
US6965226B2 (en) 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
DE20114544U1 (de) 2000-12-04 2002-02-21 Cascade Microtech Inc Wafersonde
US6447328B1 (en) 2001-03-13 2002-09-10 3M Innovative Properties Company Method and apparatus for retaining a spring probe
WO2003052435A1 (en) 2001-08-21 2003-06-26 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6759859B2 (en) * 2001-12-19 2004-07-06 Chung-Shan Institute Of Science And Technology Resilient and rugged multi-layered probe
US6902416B2 (en) 2002-08-29 2005-06-07 3M Innovative Properties Company High density probe device
US7492172B2 (en) 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US7250626B2 (en) 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
US7388279B2 (en) * 2003-11-12 2008-06-17 Interconnect Portfolio, Llc Tapered dielectric and conductor structures and applications thereof
US7466021B2 (en) * 2003-11-17 2008-12-16 Interconnect Portfolio, Llp Memory packages having stair step interconnection layers
WO2005065258A2 (en) 2003-12-24 2005-07-21 Cascade Microtech, Inc. Active wafer probe
US7187188B2 (en) 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
US20050194961A1 (en) * 2004-03-04 2005-09-08 Summers Steven M. On board built in test
WO2006031646A2 (en) 2004-09-13 2006-03-23 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US20080186036A1 (en) * 2007-02-06 2008-08-07 Brian Shumaker High Speed Electrical Probe
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
WO2010059247A2 (en) 2008-11-21 2010-05-27 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
US8319503B2 (en) 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test
US9366697B2 (en) 2010-05-21 2016-06-14 University Of Virginia Patent Foundation Micromachined on-wafer probes and related method
CN117836635A (zh) * 2021-06-16 2024-04-05 沙朗特股份有限公司 具有可更换探针板的探针头

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3963986A (en) * 1975-02-10 1976-06-15 International Business Machines Corporation Programmable interface contactor structure
US4574235A (en) * 1981-06-05 1986-03-04 Micro Component Technology, Inc. Transmission line connector and contact set assembly for test site
US4697143A (en) * 1984-04-30 1987-09-29 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe
US4593243A (en) * 1984-08-29 1986-06-03 Magnavox Government And Industrial Electronics Company Coplanar and stripline probe card apparatus
US4686463A (en) * 1984-12-24 1987-08-11 Logan John K Microwave probe fixture

Also Published As

Publication number Publication date
US4827211A (en) 1989-05-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63313832A (ja) ウェハプローブ
US4697143A (en) Wafer probe
US4731577A (en) Coaxial probe card
US4780670A (en) Active probe card for high resolution/low noise wafer level testing
US4764723A (en) Wafer probe
US6232669B1 (en) Contact structure having silicon finger contactors and total stack-up structure using same
US6965244B2 (en) High performance probe system
KR100309889B1 (ko) 프로우브장치
US6097203A (en) Integrated or intrapackage capability for testing electrical continuity between an integrated circuit and other circuitry
US7145323B2 (en) Apparatus for measuring parasitic capacitance and inductance of I/O leads on an electrical component using a network analyzer
US20040046579A1 (en) High performance probe system
KR100500452B1 (ko) 모듈기판 상에 실장된 볼 그리드 어레이 패키지 검사장치및 검사방법
KR20000004854A (ko) 멀티핀장치의 검사에 적합한 프로브카드
JPH01502451A (ja) 電気装置用の試験コネクタ
US4686463A (en) Microwave probe fixture
US3319166A (en) Fixture for securing and electrically testing an electronic component in flat package with coplanar leads
JP2734412B2 (ja) 半導体装置のソケット
JPS6365638A (ja) 集積回路ウエハ・プローブ装置
JPS58173841A (ja) プロ−ブカ−ド
US5175496A (en) Dual contact beam assembly for an IC test fixture
JPS612338A (ja) 検査装置
US6144213A (en) Ball grid array probing technique
JPS6276733A (ja) ウエハプロ−ブヘツド
JPH0384470A (ja) 半固定プローブボード
JP2533431Y2 (ja) Icウエーハ試験用プローブ