JPS63301880A - 5−フルオロウラシル誘導体 - Google Patents

5−フルオロウラシル誘導体

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JPS63301880A
JPS63301880A JP61181027A JP18102786A JPS63301880A JP S63301880 A JPS63301880 A JP S63301880A JP 61181027 A JP61181027 A JP 61181027A JP 18102786 A JP18102786 A JP 18102786A JP S63301880 A JPS63301880 A JP S63301880A
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JP
Japan
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pyridyloxycarbonyl
fluoro
chloro
tetrahydrofuranyl
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Setsuo Fujii
藤井 節郎
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1栗よ五旦里匁1 本発明は新規な5−フルオロウラシル誘導体に関する。
i−米一五一盈一遣 本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬として有用な化合物を提
供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 上記目的は下記一般式(1)で表わされる5−フルオロ
ウラシル誘導体により達成される。
一般式 〔式中R1は置換基として水酸基、ハロゲン原子、アミ
ノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、オキソ基
、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルキルカル
バモイル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子
、低級アルコキシ基及び低級アルキル基から選ばれる基
の1〜3個を有することのあるフェニルカルバモイル基
、低級アルケニル基、低級アルコキシカルボニル基、テ
トラヒドロフラニル基、フタリジル基、低級アルコキシ
低級アルキル基、フェニル基を有する低級アルコキシ低
級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
カルバモイル基及びアシルオキシ基なる群から選ばれた
基の1〜4個を有するピリジル基を示し、Aはアリーレ
ン基を示す。R2は生体内で5−フルオロウラシルに変
換できる5−フルオロウラシル誘導体残基であって、該
基と、隣接するカルボニル基との結合はエステル結合又
はアミド結合であるa) 本発明者等は公知の5−フルオロウラシル誘導体の抗腫
瘍効果の強化向上及び/又は低毒性化を企てるべく鋭意
検討を重ねた結果、上記一般式ると共に、該化合物が上
記目的に合致した優れた制癌作用を発揮し、抗腫瘍剤と
して極めて有用であることを見い出した。
本明細書において定義される各基は、夫々以下の通りで
ある。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基等の炭素数1〜6のアルキル基を、低級アルコキシ
基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基を、
低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−ペンテニ
ル、2−へキセニル基等の炭素数2〜6のアルケニル基
を、またハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、
沃素原子を夫々例示できる。更に本明細書において定義
される各基は、それぞれ以下の通りである。
低級アルキルカルバモイル基としては、N−メチルカル
バモイル、N−エチルカルバモイル、N−ブロピルカル
バモイイル、N−インプロピルカルバモイル チルカルバモイル N−ヘキシルカルバモイル ルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N。
N−ジプロピルカルバモイル、N−イソプロピル−N−
メチルカルバモイル、N−エチル−N−メチルカルバモ
イル ルバモイル、N−プロピル−N−ペンチルカルバモイル
、N.N−ジエチルカルバモイル、N−エチル−N−へ
キシルカルバモイル、N−へキシル−N−ペンチルカル
バモイル、N,N−ジエチルカルバモイル基等の炭素数
1〜6のアルキル基の1〜2個を有するアルキルカルバ
モイル基を例示できる。
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アルコ
キシ基及び低級アルキル基から選ばれる基の1〜3@を
有することのあるフェニルカルバモイル基としては、N
−(2−クロルフェニル)カルバモイル ルカルバモイル、N−(3−メトキシフェニル)カルバ
モイル、N−(4−プロポキシフェニル)カルバモイル
、N−(2−メチルフェニル)カルバモイル、N− (
4−エチル)フェニルカルバモイル、N− (3−イソ
プロピルフェニル)カルバモイル、N− (4−ヘキシ
ルフェニルイル、N−フェニルカルバモイル、N,N−
ジフェニルカルバモイル基等の、フェニル環上に置換基
としてハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及び
炭素数1〜6のアルキル基から選ばれた基の1〜3個を
有することのあるフェニル基が1個又は2個置換された
カルバモイル基を例示できる。
低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等の炭素数1〜6のアルコキシ基
を有するカルボニル基を例示できる。
低級アルコキシ低級アルキル基としては、メトキシメチ
ル、3−メトキシプロピル、4−エトキシブチル、6−
プロポキシヘキシル、5−イソプロポキシペンチル、1
,1−ジメチル−2−ブトキシエチル、2−メチル−3
−t−ブトキシプロピル、2−ペンチルオキシエチル、
2−へキシルオキシエチル基等のアルコキシ部分及びア
ルキル部分が夫々炭素数1〜6であるアルコキシアルキ
ル基を例示できる。
フェニル基を有する低級アルコキシ低級アルキル基とし
ては、ベンジルオキシメチル、2−ベンジルオキシエチ
ル、5− (2−フェニルペンチルオキシ)ペンチル、
6−ベンジルオキシヘキシル、6−(4−フェニルヘキ
シルオキシ)ヘキシル、2−フェニルエトキシメチル、
2−(フェニルメトキシ)エチル、2−(フェニルメト
キシ)プロピル、4−(フェニルメトキシ)ブチル、5
−(フェニルメトキシ)ペンチル、6−(フェニルメト
キシ)ヘキシル、2−(2−フェニルエトキシ)エチル
、2−(4−フェニルブトキシ)エチル、4−(4−フ
ェニルブトキシ)ブチル、6−フエニルメドキシヘキシ
ル基等の、フェニル基を置換基として有しており、且つ
アルコキシ部分及びアルキル部分が夫々炭素数1〜6で
あるアルコキシアルキル基を例示できる。
低級アルコキシカルボニル低級ア冗キルカルバモイル基
としては、メトキシカルボニルメチルカルバモイル、3
−メトキシカルボニルプロピルカルバモイル、4−エト
キシカルボニルブチルカルバモイル ルバモイル、5−イソプロポキシカルボニルペンチルカ
ルバモイル キシカルボニルエチルカルバモイル、2−メチル−3−
t−ブトキシカルボニルプロビルカルバモイル、2−ペ
ンチルオキシカルボニルエチルカルバモイル、ヘキシル
オキシカルボニルエチルカルバモイルあって且つアルキ
ル部分が炭素数1〜6であるアルコキシカルボニルアル
キル基が1個置換されたカルバモイル基を例示できる。
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アルコ
キシ基及び低級アルキル基から選ばれた基の1〜3個を
有することのあるフェニル低級アルキルオキシ基のフェ
ニル低級アルキル基としては、ベンジル、2−メチルベ
ンジル、3−メチルベンジル、4−メチルベンジル、2
−エチルベンジル、3−エチルベンジル、4−エチルベ
ンジル、2−プロピルベンジル、3−プロピルベンジル
、4−プロピルベンジル、2−ブチルベンジル、3−ブ
チルベンジル、4−ブチルベンジル、2−t−ブチルベ
ンジル、3−t−ブチルベンジル、4−1−ブチルペン
シル、2−ペンチルベンジル、3−ペンチルベンジル、
4−ペンチルベンジル、2−へキシルベンジル、3−へ
キシルベンジル、4−へキシルベンジル、2,3−ジメ
チルベンジル、2,4−ジメチルベンジル、2,5−ジ
メチ、ルベンジル、2.6−ジメチルベンジル、3,4
−ジメチルベンジル、3.5−ジメチルベンジル、2.
3,4−トリメチルベンジル、2,4.5−トリメチル
ベンジル、2.3.5−トリメチルベンジル、2,4.
6−トリメチルベンジル、3゜ベンジル、2,4−ジエ
チルベンジル、2,5−ジエチルベンジル、2,6−ジ
エチルベンジル、2.4.6−トリエチルベンジル、2
,4−ジプロピルベンジル、3,4.5−トリエチルベ
ンジル、3−メチル−4−エチルベンジル、1−フェニ
ルエチル、2−フェニルエチル、2−フェニル−1−メ
チルエチル、1− (2−メチルフェニル)エチル、2
− (2−メチルフェニル)エチル、2−(3−メチル
フェニル)エチル、2−(4−メチルフェニル)エチル
、1− (2,4−ジメチルフェニル)エチル、2− 
(2,4−ジメチルフェニル)エチル、1−(2,4,
6−ドリメチルフエ二ル)エチル、2− (2,4,6
−トリメチルフエニル)エチル、3−フェニルプロピル
、3−(4−メチルフェニル)プロピル、4−フェニル
ブチル、4− (2−メチルフェニル)ブチル、5−フ
ェニルペンチル、5− (3−メチルフェニル)ペンチ
ル、6−フェニルヘキシル、6− (4−メチルフェニ
ル)ヘキシル、2−メトキシベンジル、3−メトキシベ
ンジル、4−メトキシベンジル、2.3−ジメトキシベ
ンジル、2,4−ジメトキシベンジル、2.5−ジメト
キシベンジル、3−メトキシ−4−エトキシベンジル、
2.6−ジメトキシベンジル、3,4−ジメトキシベン
ジル、3.5−ジメトキシベンジル、2,3.4−トリ
メトキシベンジル、2,4.5−トリメトキシベンジル
、2,3.5−トリメトキシベンジル、2゜4.6−ト
リメトキシベンジル、3,4.5−トリメトキシベンジ
ル、2−エトキシベンジル、4−プロボキシベンジル、
3−ブトキシベンジル、2−1−ブトキシベンジル、3
−ペンチルオキシベンジル、4−へキシルオキシベンジ
ル、2,3−ジェトキシベンジル、1−(4−メトキシ
フェニル)エチル、2− (3,4−ジメトキシフェニ
ル)エチル、3− (4−メトキシフェニル)プロピル
、4− (2−メトキシフェニル)ブチル、5−(4−
メトキシフェニル)ペンチル、6−(4−メトキシフェ
ニル)ヘキシル、6− (3,4゜5−トリペンチルオ
キシフェニル)ヘキシル、2−フルオロベンジル、3−
フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、2,3−ジ
フルオロベンジル、2,4−ジフルオロベンジル、2.
5−ジフルオロベンジル、2−フルオロ−3−クロロベ
ンジル、2−フルオロ−3−ブロモベンジル、2゜6−
ジフルオロベンジル、2,3.4−トリフルオロベンジ
ル、2,4.5−トリフルオロベンジル、2,3.5−
トリフルオロベンジル、2,4゜ロートリフルオロベン
ジル、3,4.5−トリフルオロベンジル、1−(2−
フルオロフェニル)エチル、2− (2−フルオロフェ
ニル)エチル、3−(3−フルオロフェニル)プロピル
、4−(2−フルオロフェニル)ブチル、5− (2−
フルオロフェニル)ペンチル、6− (3−フルオロフ
ェニル)ヘキシル、2−ブロモベンジル、3−プロモベ
ンジル、4−ブロモベンジル、2.3−ジブロモベンジ
ル、2−ブロモ−3−フルオロベンジル、2−フルオロ
−4−ブロモベンジル、2゜4−ジブロモベンジル、2
,5−ジブロモベンジル、2,6−ジブロモベンジル、
2,3.4−トリブロモベンジル、2,4.5−i−リ
ブロモベンジル、2,3.5−トリブロモベンジル、2
,4゜6−トリブロモベンジル、3,4.5−トリブロ
モベンジル、1−(2−ブロモフェニル)エチル、2−
(2−ブロモフェニル)エチル、3− (2−ブロモフ
ェニル)プロピル、4−(3−ブロモフェニル)ブチル
、5− (2−ブロモフェニル)ペンチル、6−(4−
ブロモフェニル)ヘキシル、2−クロロベンジル、3−
クロロベンジル、4−クロロベンジル、2,3−ジクロ
ロベンジル、2゜4−ジクロロベンジル、2,5−ジク
ロロベンジル、2,6−ジクロロベンジル、2−ブロモ
−4−クロロベンジル、2−フルオロ−4−クロロベン
ジル、2,3.4−トリクロロベンジル、2゜4.5−
トリクロロベンジル、2,3.5−トリクロロベンジル
、2,4.6−トリクロロベンジル、3,4.5−トリ
クロロベンジル、1−(4−クロロフェニル)エチル、
2− (4−クロロフェニル)エチル、3−(2−クロ
ロフェニル)プロピル、4− (4−クロロフェニル)
ブチル、5−(3−クロロフェニル)ペンチル、6−(
4−クロロフェニル)ヘキシル、2− (3,4−ジク
ロロフェニル)エチル、2−ヨードベンジル、3−ヨー
ドベンジル、4−ヨードベンジル、3,4−ショートベ
ンジル、3,4.5−トリヨードベンジル、2−(3−
ヨードフェニル)エチル、6−(2−ヨードフェニル)
ヘキシル基等のフェニル環上に置換基として炭素数1〜
6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基及びハロ
ゲン原子から遍ばれた基の1〜3個を有するか又は有さ
ず且つアルキル部分が炭素数1〜6であるフェニルアル
キル基を例示できる。
また、アシルオキシ基のアシル基には、以下の各群に属
するものが包含される。
(1)ハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基、アリ
ールオキシ基及び置換もしくは無置換アリール基からな
る群から選ばれる基を置換基として有するか又は有さな
い炭素数1〜20のフルカッイル基。
その例としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、インブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイ
ル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、
テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノナデカノ
イル、エイコサノイル基等の炭素数1〜20の未置換ア
ルカノイル基、及びモノクロロアセチル、モノブロモア
セチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、3−
クロロプロピオニル、4−クロロブチリル、5−クロロ
ペンタノイル、6−クロロペンタノイル基等のハロゲン
原子が1〜3個置換した炭素数2〜6のアルカノイル基
;ヒドロキシアセチル、3−ヒドロキシプロピオニル、
5−ヒドロキシペンタノイル、4−ヒドロキシブタノイ
ル、6−ヒドロキシヘキサノイル基等の水酸基置換の炭
素数2〜6のアルカノイル エトキシアセチル、3−プロポキシプロピオニル、6−
ヘキジルオキシヘキサノイル、3−メトキシプロピオニ
ル基等の炭素数1〜6のアルコキシ置換の炭素数2〜6
のアルカノイル基;フェノキシアセチル、2−フェノキ
シプロピオニル、3−フェノキシプロピオニル、4−フ
ェノキシブチリル、5−フェノキシペンタノイル、6−
フニノキシヘキサノイル、α−ナフチルオキシアセチル
基等のフェノキシ又はナフチルオキシ置換の炭素数2〜
6のアルカノイル基:α−フェニルアセチル、2−フェ
ニルプロピオニル、3−フェニルプロピオニル、4−フ
ェニルブチリル、5−フェニルペンタノイル、6−フェ
ニルヘキサノイル、α−(2−クロロフェニル)アセチ
ル、α−(4−メチルフェニル)アセチル、α−(3,
4,5−トリメトキシフェニル)アセチル、α−(3,
4−ジメトキシフェニル)アセチル、6−(4−カルボ
キシフェニル)ヘキサノイル、4−(4−エトキシカル
ボニルフェニル)ペンタノイル、α−(4−二トロフェ
ニル)アセチル、α−(4−シアノフェニル)アセチル
、α−ナフチルアセチル、β−ナフチルアセチル基等の
アリール環(フェニル環、ナフチル環等)上に置換基と
してハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
1〜6のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシ部
分の炭素数が1〜6であるアルコキシカルボニル基、ニ
トロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基の1〜3
個を有するか又は有さないアリール置換の炭素数2〜6
のアルカノイル基等を例示できる。
(2)アリール環上に置換基としてハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシル基、低級
アルコキシカルボニル基、低級アルキルアミノ基、ニト
ロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた置換基の1〜
3個を有することのあるアリールカルボニル基。
その例としては、ベンゾイル、α−ナフチルカルボニル
、β−ナフチルカルボニル、2−メチルベンゾイル、3
−メチルベンゾイル、4−メチルベンゾイル、2,4−
ジメチルベンゾイル、3,4.5−トリメチルベンゾイ
ル、4−エチルベンゾイル、2−メトキシベンゾイル、
3−メトキシベンゾイル、4−メトキシベンゾイル、2
,4−ジメトキシベンゾイル、3,4゜5−トリメトキ
シベンゾイル、4−エトキシベンゾイル、2−メトキシ
−4−エトキシベンゾイル、2−プロポキシベンゾイル
、3−プロポキシベンゾイル、4−プロポキシベンゾイ
ル、2.4−ジプロポキシベンゾイル、3,4.5−ト
リプロボキシベンゾイル、2−カルボキシベンゾイル、
3−カルボキシベンゾイル、4−゛ カルボキシベンゾ
イル、2−クロロベンゾイル、3−クロロベンゾイル、
4−クロロベンゾイル、2.3−ジクロロベンゾイル、
2,4−ジクロロベンゾイル、2,4.6−トリクロロ
ベンゾイル、2−ブロモベンゾイル、4−ブロモベンゾ
イル、4−フルオロベンゾイル、2−メトキシカルボニ
ルベンゾイル、3−メトキシカルボニルベンゾイル、4
二メトキシカルボニルベンゾイル、2−エトキシカルボ
ニルベンゾイル3−エトキシカルボニルベンゾイル、4
−エトキシカルボニルベンゾイル、2−プロポキシカル
ボニルベンゾイル、3−プロポキシカルボニルベンゾイ
ル、4−プロポキシカルボニルベンゾイル ル ル、4−インプロポキシカルボニルベンゾイル、2−ブ
トキシカルボニルベンゾイル、3−ブトキシカルボニル
ベンゾイル ボニルベンゾイル、2−t−ブトキシカルボニルベンゾ
イル ンゾイル、4−t−ブトキシカルボニルベンゾイル、2
−ペンチルオキシカルボニルベンゾイル、3−ペンチル
オキシカルボニルベンゾイル、4−ペンチルオキシカル
ボニルベンゾイル−へキシルオキシカルボニルベンゾイ
ル、3−へキシルオキシカルボニルベンゾイル、4−へ
キシルオキシカルボニルベンゾイル、3,5−ジメトキ
シカルボニルベンゾイル、3,4.5−トリメトキシカ
ルボニルベンゾイル、β−メチル−α−ナフチルカルボ
ニル −β−ナフチルカルボニル、β−クロロ−α−  。
ナフチルカルボニル、4−ジメチルアミノベンゾイル、
3−ジエチルアミノベンゾイル、4−プロピルアミノベ
ンゾイル、2−シアノベンゾイル、4−シアノベンゾイ
ル、2−ニトロベンジイル、4−ニトロベンゾイル基等
の、置換基として炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1
〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、
炭素数1〜6のアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基
及びアルコキシ部分の炭素数が1〜6であるアルコキシ
カルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有す
るか又は有さないアリールカルボニル基を例示できる。
(3)へテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は酸素原
子を有する5員又は6員の不飽和へテロ環カルボニル基
その例としては、2−フラニルカルボニル、3−フラニ
ルカルボニル、2−チェニルカルボニル、3−チェニル
カルボニル、4−チアゾリルカルボニル、2−キノリル
カルボニル、2−ピラジニルカルボニル ル、3−ピリジルカルボニル ルボニル基等のフラニルカルボニル、チェニルカルボニ
ル、チアゾリルカルボニル、キノリルカルボニル、ピラ
ジニルカルボニル、ピリジルカルボニル基等を例示でき
る。
(4)アリールオキシカルボニル基、鎖状もしくは環状
の飽和もしくは不飽和のアルコキシカルボニル基等の炭
酸エステル残基。
その例としては、フェノキシカルボニル、α−ナフチル
オキシカルボニル、β−ナフチルオキシカルボニル、2
−メチルフェノキシカルボニル、3−メチルフェノキシ
カルボニル、4ーメチルフエノキシカルボニル、2,4
−ジメチルフェノキシカルボニル チルフェノキシカルボニル、4−エチルフェノキシカル
ボニル ボニル、3−メトキシフェノキシカルボニル、4−メト
キシフェノキシカルボニル、2,4−ジメトキシフェノ
キシカルボニル、3,4.5−トリメトキシフェノキシ
カルボニル、4−工トキシフエノシキ力ルボニル、2−
プロポキシフェノキシルボニル、3−プロポキシフェノ
キシカルボニル、4−プロポキシフェノキシカルボニル ルボニル、3,4.5−トリプロポキシフェノキシカル
ボニル、2−クロロフェノキシカルボニル、3−クロロ
フェノキシカルボニル、4−クロロフエノキシ力ルボニ
ル、2.3−ジクロロフェノキシカルボニル、2.4.
6−トリクロロフエノキシカルボニル キシカルボニル、4−フルオロフェノキシカルボニル ニル ルボニル、β−クロロ−α−ナフチルオキシカルボニル
基等のアリール環(フェニル環、ナフチル環等)上に置
換基としてハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基
及び炭素数1〜6のアルキル基の1〜3個を有しもしく
は有さないアリールオキシカルボニル基;メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキ
シルオキシカルボニル基等のアルコキシ部分の炭素数が
1〜6であるアルコキシカルボニル基;シクロプロピル
オキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロへキシルオキシ
カルボニル、シクロへブチルオキシカルボニル、シクロ
オクチルオキシカルボニル基等のシクロアルキル部分の
炭素数が3〜8であるシクロアルコキシカルボニル基;
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、2
−ブテニルオキシカルボニル、3−ブテニルオキシカル
ボニル、2−へキセニルオキシ力ルボニル、1−メチル
アリルオキシカルボニル、2−ペンテニルオキシカルボ
ニル、3−ヘキセニルオキシカルボニル等のアルケニル
部分の炭素数が2〜6であるアルケニルオキシカルボニ
ル基;エチニルオキシカルボニル、プロピオニルオキシ
カルボニル、2−ブチニルオキシカルボニル、1−メチ
ル−3−ペンチニルオキシカルボニル、4−へキシニル
オキシカルボニル等のアルキニル部分の炭素数が2〜6
であるアルキニルオキシカルボニル基等を例示できる。
(5)置換又は未置換のシクロアルキルカルボニル基。
その例としては、シクロプロピルカルボニル、シクロブ
チルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロへ
キシルカルボニル、シフOへブチルカルボニル、シクロ
オクチルカルボニル、2−クロロシクロへキシルカルボ
ニル、3−ヒドロキシシクロペンチルカルボニル、3−
メチルシクロへキシルカルボニル、4−メトキシシクロ
へキシルカルボニル基等のシクロアルキル環上に置換基
としてハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキ
シ基又は炭素数1〜6のアルキル基を有することがあり
、且つシクロアルキル環の炭素数が3〜8であるシクロ
アルキルカルボニル基を例示できる。
(6)低級アルケニル(又は低級アルキニル)カルボニ
ル基。
その例としては、ビニルカルボニル、アリルカルボニル
、2−ブテニルカルボニル、3−ブテニルカルボニル、
1−メチルアリルカルボニル、2−ペンテニルカルボニ
ル、3−へキセニル力ルボニル、エチニルカルボニル、
プロピニルカルボニル、2−ブチニルカルボニル、1−
−メチル−3−ペンチニルカルボニル、4−へキシニル
カルボニル基等の炭素数2〜6のアルケニル基又はアル
キニル基を有するアルケニル−又はアル゛キニルー力ル
ボニル基を例示できる。
更に、低級アルカノイルオキシ基としては、ホルミルオ
キシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリル
オキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘ
キサノイルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
状のアルカノイルオキシ基を例示できる。
低級アルカノイルオキシ低級アルコキシカルボニル基と
しては、アセチルオキシメトキシカルボニル、4−(ホ
ルミルオキシ)ブトキシカルボニル、6−(プロピオニ
ルオキシ)へキシルオキシカルボニル、5−(インブチ
リルオキシ)ペンチルオキシカルボニル、6−(ヘキサ
ノイルオキシ)ヘキシルオキシカルボニル オキシ)エトキシカルボニル キシ)エトキシカルボニル、アセチルオキシメトキシカ
ルボニル基等の、アルカノイル部分及びアルコキシ部分
の炭素数が各々1〜6であるアルカノイルオキジアルコ
キシカルボニル基を例示できる。
更に加えて、一般式(1)においてAで表わされるアリ
ーレン基は、芳香族炭化水素又はペテロ原子として窒素
原子及び酸素原子を1〜2個有する5員又は6員の芳香
族複素環の異なる炭素原子に結合する水素原子をそれぞ
れ1個づつ除いた2価基を示し、該アリーレン基(A)
の具体例としては、1,2−フェニレン、1。
3−フェニレン、1,4−フェニレン等のフェニレンW
:1,2ーナフチレン、1,3−ナフチレン、1,4−
ナフチレン、1,5−ナフチレン、1,6−ナフチレン
、1,7−ナフチレン、1,8−ナフチレン等のナフチ
レン基;2。
3−ピリジンジイル、2,4−ピリジンジイル、2、5
−ピリジンジイル、2,6−ピリジンジイル、3,4−
ピリジンジイル、3,5−ピリジンジイル等のピリジン
ジイル基;2,3−ピラジンジイル、2,6−ピラジン
ジイル、2。
5−ピラジンジイル等のピラジンジイル基;2。
3−フランジイル、3,4−フランジイル、2゜5−フ
ランジイル等のフランジイル基;4−ピリドン−1−メ
チル−2,3−ジイル、4−ピリドン−1−メチル−2
,5−ジイル、4−ピリドン−1−メチル−2,6−ジ
イル等の4−ピリドン−1−低級アルキル−ジイル基等
を例示できる。
本発明化合物を表わす前記一般式(1)中、R’  (
置換ピリジル基)の置換基のうち、水酸基、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、
オキソ基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基及びアシルオキ
シ基は、好ましくはピリジン環の2位、3位、4位、5
位及び6位のいずれかの位置に、1〜4個置換する。ま
たピリジン環上の置換基のうち、カルバモイル基、低級
アルキルカルバモイル基、フェニル環上に置換基として
ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基を
1〜3個有することのあるフェニルカルバモイル タリジル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フェニル
基を有する低級アルコキシ低級アルキル基及び低級アル
コキシカルボニル低級アルキルカルバモイル基は、好ま
しくはピリジン環の1位に結合する。
特に好ましい上記置換ピルジル基(R1基)を含むピリ
ジルオキシカルボニルアリーレンカルボニル基の具体例
は、下記一般式(a)〜(d)で表わされる。
〔式中Aは前記に同じ。Rlaは水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、
低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級アルコキシ
カルボニル基を示す。
Rlbは水酸基、フェニル低級アルキルオキ?基又はア
シルオキシ基を示す。Qは1又は2を示リジン環の2位
、4位又は6位のいずれかであり、R1b基の置換位置
は残りの2位、4位及び6位のいずれか少なくともひと
つとする。〕R↓l。
〔式中A及びRlaは前記に同じ。R10はカルバモイ
ル基、低級アルキルカルバモイル基、フェニル環上に置
換基としてハロゲン原子、低級アルコキシ基及び低級ア
ルキル基から選ばれた基の1〜3個を有することのある
フェニルカルバモイル基、テトラヒドロフラニル基、フ
タリジル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フェニル
基を有する低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アル
コキシカルボニル低級アルキルカルはピリドン環の4位
又は6位に結合するものとする。〕 〔式中A,R1a及びRICは前記に同じ。但し6位に
結合するものとする。〕 〔式中A、R及びRlcは前記に同じ。但しa 6位に結合するものとする。〕 上記一般式(a)〜(d)で定義されるR1a基は、特
にシアノ基及びハロゲン原子であるのが好ましい。
また、R2で示される基は、生体内で5−フルオロウラ
シルに変換され得る5−フルオロウラシル誘導体残基で
あって、該基は、その隣接するカルボニル基と、エステ
ル結合又はアミド結合により結合するものとする。該R
2基を形成する5−フルオロウラシル誘導体としては、
公知の各種の5−フルオロウラシル誘導体をいずれも例
示することができる。その代表例としては、例えば下記
一般式(e)〜(C+ )で表わされるものを例示でき
る。
〔式中R3は水素原子、テトラヒドロフラニル基、低級
アルキルカルバモイル基、フタリジル基、低級アルコキ
シ低級アルキル基又は低級アルカノイルオキシ低級アル
コキシカルボニル基を示す。〕 〔式中R4は水素原子、水酸基又はアシルオキシ基を示
し、R5は水酸基、アシルオキシ基又はフェニル環上に
置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハ
ロゲン原子から選ばれた基の1〜3個を有することのあ
るフェニル低級アルキルオキシ基を示し、R6は水素原
子、水酸基、アシルオキシ基又はフェニル環上に置換基
として低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン
原子から選ばれる基の1〜3個を有することのあるフェ
ニル低級アルキルオキシ基を示す。但しR4が水素原子
のとき、R5及びR6は一方がフェニル環上に置換基と
して低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原
子から選ばれた基の1〜3個を有することのあるフェニ
ル低級アルキルオキシ基で且つ他方が水酸基又はアシル
オキシ基であってはならない。〕 〔式中R7は低級アルコキシカルボニル基を示し、R8
は低級アルコキシ基又は基 R2が上記一般式(e )に示す基の場合、該基R2は
、その5−フルオロウラシル環の3位又はと結合してア
ミド結合を形成することができる。
R2が上記一般式(f )に示す基の場合、族基R2は
、その5−フルオロウラシル環の3位の窒素原子又はそ
の糖部分の水酸基にて、 合又はエステル結合を形成することができる。
R2が上記一般式(0)に示す基の場合、族基R2は、
その5−フルオロウラシル環の1位又はと結合してアミ
ド結合を形成することができる。
該ピリジルオキシカルボニルアリーレンカルボニル基を
有する本発明化合物中には、ケト−エノール型の互変異
性体が存在する場合があり、本発明はこれら異性体を当
然に包含する。
尚、前記一般式<a >で表わされるピリジルオキシカ
ルボニルアリーレンカルボニル基のうちでは、特にRが
シアノ基で且つRlbがハロゲン原a 子を有することのあるベンゾイル基であるものが好まし
い。また、前記一般式(e )表わされる5−フルオロ
ウラシル誘導体のうちでは、特にR3が低級アルコキシ
低級アルキル基であるものが好ましい。
上記一般式(1)で表わされる本発明化合物のうらで、
特に好ましいものは、下記一般式(1A)で表わされる
〔式中R及びRbは、同−又は相異なって、水素原子又はハロゲン原子を示す。Roは低級アルコキ低吸アルキル基を示す。〕
上記一般式(1)で表わされる本発明化合物の代表例を
挙げれば次の通りである。
05−フルオロ−3−(3−(4−ペンタノイルオキシ
−2−ピリジルオキシカルボニルゾイル)−1−(2−
テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (3− (4−エトキシカルボニルオキシ−2
−ピリジルオキシカルボニル −5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウ
ラシル Q5−フルオロ−3− (3− (2− (2−メチル
ベンゾイルオキシ)−4−ピリジルオキシカルボニル ロフラニル)ウラシル o3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−4−ピリジ
ルオキシカルボニル ルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル 05−フルオロ−3− (3− (4−(2−ナフトイ
ルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニルベンゾイル
)−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル 05−フルオロ−3−(3−(4−フェニルアセチルオ
キシ−2−ピリジルオキシカルボニルベンゾイル)−1
−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (3− (1.2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フル
オロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル 03−(3− (1−エトキシメチル−1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ピリジルオキシカルボニル)ベン
ゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラ
ニル)ウラシルo3− (3− (1−N−エチルカル
バモイル−1。
2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピリジルオキジカルボ
ニル)ベンゾイルツー5−フルオロ−1−(2−テトラ
ヒドロフラニル)ウラシル05−フルオロ−3−(4−
(4−(3−ピリジルカルボニルオキシ)−2−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル)−1−(2−テトラ
ヒドロフラニル)ウラシル 05−フルオロ−3−(3−(4−(2−テノイルオキ
シ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−
1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル O3−(3−(4−(2−フロイルオキシ)−2−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ−
1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル O3−(3−(4−ベンゾイルオキシ−5−ブロモ−2
−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル
)ウラシル O3−(3− (4−ベンゾイルオキシ−5−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル
)ウラシル O3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−二トロ
ー2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル O3− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル 5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル O3− (3− (2−アセトキシ−5−クロロ−4−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオ
ロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル 03−(3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
2−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル
)ウラシル O3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル O3− (3− (4−(2−クロロ−3−メチルベン
ゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベン
ゾイルツー5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラ
ニル)ウラシル 05−フルオロ−3− (3− (4− (4−メトキ
シベンゾイルオキシ)−5−クロロ−2−ピリジルオキ
シカルボニル (2−テトラヒドロフラニル)ウラシル05−フルオロ
−3− (3− (4−フェノールカルボニルオキシ−
5−クロロ−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイ
ル)−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル O5−フルオロ−3− (3− (4− (3,4.5
−トリメトキシベンゾイルオキシ)−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−1−(2−
テトラヒドロフラニル)ウラシル O3− (3− (5−クロロ−4−(4−ジメチルア
ミノベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニ
ル)ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒ
ドロフラニル)ウラシル03− (3− (5−クロロ
−4−オクタデカノイルオキシ−2−ピリジルオキシカ
ルボニルンゾイルツー5−フルオロ−1−(2−テトラ
ヒドロフラニル)ウラシル 03−(3− (1−ベンジルオキシメチル−5−クロ
ロ−1.2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピリジルオキ
シカルボニル −フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシ
ル o3−(3−(5−クロロ−1,2−ジヒドロ−2−オ
キソ−1−(2−テトラヒドロフラニル)−4−ピリジ
ルオキシカルボニル −5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウ
ラシル 03− (3− (1−エトキシメチル−1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−ピリジルオキシカルボニル (2−テトラヒドロフラニル)ウラシル03− (3−
 (5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−ピリジルオキシ
カルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−
テトラヒドロフラニル)ウラシル 03− (3− (1.2−ジヒドロ−2−オキソ−6
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル〕−5−フル
オロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (3− (3−クロロ−6−(4−フルオロベ
ンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル〕ベ
ンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフ
ラニル)ウラシルo3− (3−(3−カルバモイル−
6−トキシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカ
ルボニル 1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルo3− (
3− (4−アミノ−3−シアノ−6−ペンゾイルオキ
シー2−ピリジルオキシカルボニルテトラヒドロフラニ
ル)ウラシル o3− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルシー5−
フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (3− (3−シアノ−6− (3,4.5−
トリメトキシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシ
カルボニル オロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル 03− (3− (3−シアノ−6−ニコチノイルオキ
シ−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルシー5
−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシ
ル o3− (3− (3−シアノ−6−(2−フロイルオ
キシ)−2−ピリジルオキシカルボニルンゾイル)−5
−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシ
ル 03− (3−(3−シアノ−6−(2−テノイルオキ
シ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−
5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル 03− (3− (3−シアノ−6− (2.4−ジク
ロロベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニ
ル −(2−テトラヒドロフラニル〉ウラシル03− (3
−(3−シアノ−6−アセトキシ−2−ピリジルオキシ
カルボニル)ベンゾイルシー5−フルオロ−1−(2−
テトラヒドロフラニル)ウラシル 03− (3− (3−シアノ−6−オクタゾカノイル
オキシ)−2−ピリジルオキシカルボニルベンゾイル)
−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウ
ラシル o3− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−
フルオロ−1−(N−へキシルカルバモイル)ウラシル o3− (3− (3−シアノ−6−(2−]Oイルイ
ルシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)
−5−フルオロ−1−(N−へキシルカルバモイル)ウ
ラシル o3− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2=
ピリジルオキシカルボニル 5−フルオロ−1−(N−へキシルカルバモイル)ウラ
シル o3− (3−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル〕−5−フ
ルオロ−1−(N−へキシルカルバモイル)ウラシル o3−(3−(2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−4
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フル
オロ−1−(N−ヘキシルカルバモイル)ウラシル o3−(3−(5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−フルオロ−
1−(N−ヘキシルカルバモイル)ウラシル o3−(3−(3−クロロ−6−(4−フルオロベンゾ
イルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾ
イル)−5−フルオロ−1−(3−フタリジル)ウラシ
ル o3− (3−(4−アミノ−6−ペンゾイルオキシー
3−シアノ−2−ピリジルオキシカルボニルフタリジル
)ウラシル o3− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロ−1−(3−フタリジル)ウラシル o3−(3− (3−シアノ−6− (3,4.5−ト
リメトキシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカ
ルボニル〕ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(3−フ
タリジル)ウラシルo3− (3− (3−シアノ−6
− (2.4−ジクロロベンゾイルオキシ)−2−ピリ
ジルオキシカルボニル −(3−フタリジル)ウラシル 03− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル 5−フルオロ−1−(3−フタリジル)ウラシル o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル ル)−5−フルオロ−1−(3−7タリジル)ウラシル 03− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−1−(3−フタリジル)ウラシル o3− (3− (5−クロロ−1.2−ジヒドロ−2
−オキソ−1−(2−テトラヒドロフラニル)−4−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ
−1−(3−7タリジル)ウラシル ol−アセトキシメトキシカルボニル−3−(3−〔3
−カルバモイル−6− ンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボ二ル〕ベ
ンゾイル)−5−フルオロウラシルo1ーアセトキシメ
トキシカルボニル−3−〔3−(6−ペンゾイルオキシ
ー3−シアノ−2−ピリジルオキシカルボニル −フルオロウラシル ol−アセトキシメトキシカルボニル−3−(3−(3
−シアノ−6−ニコチノイルオキシ−2−ピリジルオキ
シカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロウラシル 01−アセトキシメトキシカルボニル−3−(3−〔3
−シアノ−6−(2−テノイルオキシ)−2−ピリジル
オキシカルボニル −5−フルオロウラシル ol−アセトキシメトキシカルボニル−3−〔3−(4
−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2−ピリジルオキシ
カルボニル)ベンゾイルツー5−フルオロウラシル ol−アセトキシメトキシカルボニル−3−〔3−(2
−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−4−ピリジルオキシ
カルボニル)ベンゾイルツー5−フルオロウラシル 01−アセトキシメトキシカルボニル−3−(3−〔5
−クロロ−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル
オキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル
)−5−フルオロウラシル o3− (3−(3−クロロ−6−(4−フルオロベン
ゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル〕ベン
ゾイル)−5,6−シヒドロー5−エトキシカルボニル
−5−フルオロ−6−フルフリリデンアミノオキシウラ
シル 03− (3−(6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5,6
−シヒドロー5−エトキシカルボニル−5−フルオロ−
6−フルフリリデンアミノオキシウラシル o3− (3−(3−シアノ−6−(3,4,5−トリ
メトキシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカル
ボニル)ベンゾイル)−5,6−シヒドロー5−エトキ
シカルボニル−5−フルオロ−6−フルフリリデンアミ
ノオキシウラシル o3− (3−(6−アセトキシ−3−シアノ−2−ピ
リジルオキシカルボニル 5、6−ジヒドロ−5〜エトキシカルボニル−5−フル
オロ−6−フルフリリデンアミノオキシウラシル o3− (3− (3−シアノ−6−オクタゾカノイル
オキシー2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)
−5.6−シヒドロー5−エトキシカルボニル− ンアミノオキシウラシル o3− (3−(4−アセトキシ−5−クロロ−2−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5、6−シヒ
ドロー5−エトキシカルボニル−5−フルオロ−6−フ
ルフリリデンアミノオキシウラシル o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5.
6−シヒドロー5−エトキシカルボニル−5−フルオロ
−6−フルフリリデンアミノオキシウラシル 03− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5.
6−シヒドロー5−エトキシカルボニル−5−フルオロ
−6−フルフリリデンアミノオキシウラシル o3− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル 1−エトキシメチル−5−フルオロウラシルo3−(3
− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2−ピリジ
ルオキシカルボニル)ベンゾイルツー1−エトキシメチ
ル−5−フルオロウラシル 03− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル ル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシル o3− (3− (4− (2−クロロ−3−メチルベ
ンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベ
ンゾイル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシ
ル 03− (3− (5−クロロ−4− (3,4.5−
トリメトキシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシ
カルボニル キシメチル−5−フルオロウラシル o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロウラシル o3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
ー4−ピリジルオキシカルボニル ル〕−5−フルオロウラシル o3− (3− (1.2−ジヒドロ−2−オキソ−6
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フル
オロウラシル Q3− (3− (3−カルバモイル−6−(4−メト
キシベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニ
ル)ベンゾイル)−5′−デオキシ−2’ 、3’ −
ジーローアセチルー5ーフルオロウリジン o3− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5′
−デオキシ−2’ 、3’−ジーローアセチルー5ーフ
ルオロウリジン o3− (3− (3−シアノ−6−(2−フロイルオ
キシ)−2−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル)
−5′−デオキシ−2’ 、 3’−ジー〇ーアセチル
ー5ーフルオロウリジンO3− (3− (4−アセト
キシ−5−クロロ−2−ピリジルオキシカルボニル)ベ
ンゾイルツー5′−デオキシ−2’ 、 3’ −ジー
0−アセチル−5−フルオロウリジン 03− (3− (2−アセトキシ−5−クロロ−4−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル〕−5′−デオ
キシ−2’ 、 3’ −ジー0−アセチル−5−フル
オロウリジン o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5′
−デオキシ−2’ 、 3’−ジー0−アセチル−5−
フルオロウリジン 03”− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロ
ロ−4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5
′−デオキシ−2’ 、3’ −ジー〇ーアセチルー5
ーフルオロウリジン o3− (3− (5−クロロ−4−(4−メトキシベ
ンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル 3′−ジー0−アセチル−5−フルオロウリジン 03− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル ルシー2′−デオキシ−3’ 、5’−ジーローベンジ
ルー5ーフルオロウリジン o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル ルシー2′−デオキシ−3’ 、5’ −ジー〇−(4
−クロロベンジル)−5−フルオロウリジン o3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−′クロ
ロー4ーピリジルオキシカルボニル ルシー2′−デオキシ−3’ 、5’−ジーローベンジ
ルー5ーフルオロウリジン o3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルシー2′
−デオキシ−3’ 、5’−ジー〇−(4−クロロベン
ジル)−5−フルオロウリジン o3− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリーローアセチ
ルウリジン 03− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリー
ローアセチルウリジン o3− (3− (5−クロロ−1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−1−(2−テトラヒドロフラニル)−4−ピ
リジルオキシカルボニル −5−フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリーロー
アセチルウリジン o3− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル 2′−デオキシ−3’ 、5’ −ジーO−アセチルー
5−フルオロウリジン o3− (3−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
2−ピリジルオキシカルボニル ル〕−2′ −デオキシ−3’ 、5’ −ジー〇ーア
セチルー5ーフルオロウリジン o3− (3− <2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル〕−2′
 −デオキシ−3’ 、5’ −ジーOーアセチルー5
ーフルオロウリジン o3− (3− (5−クロロ−4−(4−メトキシベ
ンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル 5′−ジーOーアセチルー5ーフルオロウリジン o3− (3−(5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー2′−デオキ
シ−3’ 、5’ −ジーOーアセチルー5ーフルオロ
ウリジン 03− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−
フルオロウラシル o3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル〉ベンゾイルツー5−
フルオロウラシル o3− (3− (1.2−ジヒドロ−2−オキソ−6
−ピリジルオキシカルボニル −5−フルオロウラシル ol− (3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロウラシル ol− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル ル)−5−フルオロウラシル o3−(4− (1.2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−フルオ
ロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (4− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル ルツー5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル
)ウラシル 03− (4−(2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−フ
ルオロ−1−(3−フタリジイル)ウラシル o3− (4− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオ
ロ−1−(3−フタリジイル)ウラシル o3− (4− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル ル)−5−フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリー
〇ーアセチルウリジン 03− (4− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル)−3−フロイルツー
5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル o3− (4− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル ロイル〕−21 −デオキシ−3’ 、5’ −ジーO
ーアセチルー5ーフルオロウリジン o3− (4− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−2−ピリジルオキシカルボニル)−3−フロイルツー
5−フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリー〇ーア
セチルウリジン 03− (4− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ
−4−ピリジルオキシカルボニル)−3−フロイルツー
5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル 03− (4− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル −5−フルオロ−2’ 、3’ 、5’ −トリー〇−
アセチルウリジン 03− (5−(6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル)−3−二コチノイル〕
−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウ
ラシル 03−(5−(6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−2
−ピリジルオキシカルボニル)−3−二コチノイル〕−
5′ −デオキシ−2’ 、 3’ −ジーO−アセチ
ルー5−フルオロウリジン01− (5−(6−ペンゾ
イルオキシー3−シアノ−2−ピリジルオキシカルボニ
ル)−3−二コチノイル〕−5−フルオロウラシル o3− (5−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
2−ピリジルオキシカルボニル)−3−二コチノイル〕
−5′−デオキシ−2’ 、3’ −ジーO−アセチル
ー5−フルオロウリジンo3− (5−(2−ベンゾイ
ルオキシ−5−クロロ−4−ピリジルオキシカルボニル
)−3−二コチノイル〕−5−フルオロ−1−(2−テ
トラヒドロフラニル)ウラシル o3− (4−(6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル フトイル〕−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフ
ラニル)ウラシル 03−(4− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
4−ピリジルオキシカルボニル)−2−ナフトイルツー
1−エトキシメチル−5−フルオロウラシル ol− (3− (4−アセトキシ−5−クロロ−2−
ピリジルオキシカルボニル ル〕−5−フルオロウラシル o3− (6− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ
−2−ピリジルオキシカルボニル チル−4−ピリドン−2−イルカルボニル5−フルオロ
ウラシル 03− (6− (1−ベンジルオキシメチル−5−ク
ロロ−1.2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピリジルオ
キシカルボニル)−1−メチル−4−ピリドン−2−イ
ルカルボニル オロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル o3− (6− (2−ベンゾイルオキシ−4−ピリジ
ルオキシカルボニル ルボニル〕−2′−デオキシ−3’ 、 5’−ジー0
−アセチル−5−フルオロウリジン上記一般式(1)で
表わされる本発明化合物は、下記反応工程式−1又は−
2に示す方法により製造することができる。
く反応工程式−1〉 (2>       (3) R’  −0−R9 (式中R1、R2及びAは前記に同じ。Xはハロゲン原
子を示す。R9は水素原子又はトリ低級アルキルシリル
基を示す。) 反応工程式−1に示す方法によれば、まず公知化合物(
2)と公知化合物(3)とを反応ざぜることにより、中
間体(4)を得る。
この反応は適当な脱酸剤の存在下、適当な溶媒中で行な
われる。脱酸剤としては通常用いられるもの、例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
無機塩基性化合物及びトリエチルアミン、N、N−ジメ
チルアミノピリジン、ピリジン等の有機塩基性化合物を
使用できる。溶媒としては、反応に悪影響を与えない各
種のもの、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ベンゼン
、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ピリ
ジン、N、N−ジメチルホルムアミド等を使用できる。
化合物(2)に対する化合物(3)の使用量は、特に限
定されるものではないが、通常少なくとも等モル量程度
、好ましくは等モル−3倍モル量程度の範囲内から選択
されるのがよい。反応温度は一般に一30〜100℃、
好ましくは室温〜100″C程度とするのがよく、反応
は約10分〜20時間程度で終了する。
次いで、得られる中間体(4)と公知又はfr規な化合
物(5)とを反応させることにより本発明の目的化合物
(1)を収得できる。この反応は、化合物(5)の種類
に応じて、R9が水素原子でおる化合物(5)を用いる
場合には、上記化合物(2)と化合物(3)との反応と
同条件下に行なわれる。またR9がトリ低級アルキルシ
リル基である化合物(5)を用いる場合には、反応は適
当な溶媒、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等のニ
トリル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類等の非プロトン性溶媒を、好ましくは無水
状態で用いて実施される。いずれの場合も反応温度とし
ては通常−30〜100℃、好ましくは室温〜60℃程
度が採用され、約1〜20時間で反応は終了する。
上記中間体(4)と化合物(5)との反応においては、
また塩化アルミニウム、塩化第二錫、塩化亜鉛等のルイ
ス酸の触媒量を用いることもできる。
化合物(5)の使用量は適宜決定されるが、通常中間体
(4)に対して少なくとも等モル量程度、好ましくは等
モル−3倍モル程度とするのが適当である。
〈反応行程式−2〉 2l−1 〔式中R1、R2、A及びXは前記に同じ。〕反応工程
式−2に示す化合物(6)と化合物(3)との反応は、
前記反応工程式−1に示した化合物(2)と化合物(3
)との反応と同様にして行なわれる。
かくして得られる中間体(7)と化合物(2)との反応
も、前記した化合物(2)と化合物(3)との反応と同
様にして実施することができる。
上記反応工程式−1又は−2において用いられる化合物
(5)及び化合物(6)は、一部新規な化合物を包含し
ている。これら化合物は、例えば以下に示す方法のいず
れか又はこれらを適宜組み合せることにより製造できる
ピリジン環上にアシルオキシ基を導入する反応、例えば
R1基がアシルオキシ基を置換基として有するピリジル
基である化合物(5)及び化合物(6)を得る反応は、
対応する水酸基又はトリ低級アルキルシリルオキシ基を
有するピリジン化合物を原料として、これに適当なアシ
ル化剤を反応させることにより実施される。このアシル
化反応は、前記反応工程式−1に示した化合物(2〉と
化合物(3)との反応と同様にして行なうことができる
ピリジン環の1位にカルバモイル基、低級アルキルカル
バモイル基及びフェニル環上に前記置換基を有すること
のあるフェニルカルバモイル基から選ばれた置換基を導
入する反応、例えばR1基が上記置換基を有するピリジ
ル基である化合物(5)及び化合物(6)を得る反応は
、(1日)−ピリドン誘導体を原料として、これに対し
て約1〜2倍モル量のイソシアネート又は上記置換基を
有するイソシアネートを、好ましくは塩基性化合物の存
在下、適当な溶媒中で反応させることにより行なわれる
。この反応の条件(利用する塩基性化合物、溶媒の種類
、反応温度、反応時間等)も、前記反応工程式−1に示
した化合物(2)と化合物(3)との反応と同様のもの
とすることができる。
ピリジン環の1位に、テトラヒドロフラニル基、フタリ
ジル基、フェニル基を有することのある低級アルコキシ
低級アルキル基及び低級アルキル基から選ばれた置換基
を導入する反応、例えばR1基が上記置換基を有するピ
リジル基である化合物(5)及び化合物(6)を得る反
応は、トリ低級アルキルシリル基で保護された水酸基を
有する対応する(トリ低級アルキルシリルオキシ)ピリ
ジン誘導体を原料として、これに一般式 %式%(8) 〔式中R1dはフェニル基を有することのある低級アル
コキシ低級アルキル基又は低級アルキル基を示す。Xは
前記に同じ。〕 で表わされる化合物又は一般式 %式%(9) (式中R10は低級アルキル基を示す。R18はテトラ
ヒドロフラニル基、フタリジル基、フェニル基を有する
ことのある低級アルコキシ低級アルキル基及び低級アル
キル基から選ばれた基を示す。〕 で表わされる化合物を反応させることにより行なわれる
。この反応は、適当な溶媒中、ルイス酸の存在下又は不
存在下に実施される。溶媒としては、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリ
ル、アセトン、酢酸エチル等を、またルイス酸としては
、三弗化硼素、四塩化錫、塩化亜鉛等を好ましく使用で
きる。
化合物(8)又は化合物(9)は原料化合物に対して約
1〜2倍モル量用いられるのが望ましく、反応は一般に
室温〜60℃の温度条件下に、約1〜4時間程度で終了
する。
またピリジン環上にトリ低級アルキルシリルオキシ基を
導入する反応、例えばR9がトリ低級アルキルシリル基
でおる化合物(5)を得る反応は、水酸基を有する対応
するピリジン誘導体にシリル化剤を反応させることによ
り実施できる。ここでシリル化剤としては、通常のもの
例えば1,1゜1.3,3,3−ヘキサメチルジシラザ
ン等のトリ低級アルキルジシラザン類、トリメチルクロ
ロシラン等のハロゲン化トリ低級アルキルシラン類、N
、O−ビストリメチルアセトアミド等のシリル化アセト
アミド等を用いることができる。該シリル化剤は、一般
に原料化合物に対して約1〜3倍モル量用いられる。尚
上記ハロゲン化トリアルキルシラン類をシリル化剤とし
て用いる場合には、反応系内に更に、トリエチルアミン
、ジメチルアニリン、ジエチルアミノピリジン等のアミ
ン類やピリジン等を、該シリル化剤に対して約1〜3倍
モル量添加存在させるのが望ましい。またこの場合又は
シリル化アセトアミドをシリル化剤として利用する場合
には、反応は適当な溶媒中、例えばジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセ
トニトリル等のニトリル類、塩化メチレン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類等の溶媒中で好まし〈実施
される。
シリル化剤としてトリ低級アルキルジシラザン類を用い
る場合には、該シリル止剤自体が溶媒としての作用を兼
ねるため、特に他の溶媒を用いる必要はない。上記シリ
ル化反応は、通常室温〜反応溶媒の沸点付近の温度条件
下に、約1〜15時間を要して行なわれる。
また、本発明化合物中R1基がフェニル低級アルキルオ
キシ基を有するピリジル基である化合物はこれを通常の
接触還元操作に従わせることにより、該R1基が水M基
を有するピリジル基である化合物に誘導することができ
る。
上記各反応工程で得られる目的化合物及び本発明化合物
は、通常の分離手段により反応系内より分離され、更に
精製される。この分離及び精製手段としては、例えば再
沈澱法、再結晶法、シリカプルカラムクロマトグラフィ
ー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、ゲルクロマ
トグラフィー、親和クロマトグラフィー等を採用できる
かくして得られる本発明化合物は、優れた制癌作用を有
し、しかも低毒性であり、例えば体重減少等の副作用も
少なく、人及び動物の癌治療のための抗腫瘍剤として非
常に有用である。特に本発明化合物は、(1)吸収性が
よい、(2)持続性がよい、(3)安定性がよい、(4
)下痢、おうと、消化管出血等の消化管毒性が極めて少
ない、(5)その本来の制癌作用を奏する投与量と毒性
等の副作用を惹起する投与量との差が大きく、治療係数
が優れてあり、安全性が高い、等の優れた特徴を具備し
ている。
本発明化合物は、通常一般的な医薬製剤の形態で用いら
れる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、
付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あるい
は賦形剤を用いて調整される。この医薬製剤としては各
種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的なも
のとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒
剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)、軟
膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブド
ウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結
晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プ
ロパツール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼ
ラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、
メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム
、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノ
グリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステア
リン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4
級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収
促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、
乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の
吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリ
エチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。ざらに
錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣
錠、ゼラチン被包錠、腸溶破錠、フィルムコーティング
錠おるいは二重錠、多層錠とすることができる。乳剤の
形態に成形するに際しては、担体として例えばブドウ糖
、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、
タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼ
ラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン
等の崩壊剤等を使用できる。坐剤の形態に成形するに際
しては、担体として例えばポリエチレングリコール、カ
カオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類
、ゼラチン、半合成グリセライド等を使用できる。カプ
セル剤は常法に従い通常本発明化合物を上記で例示した
各種の担体と混合して硬質ゼラチンカプセル、軟質カプ
セル等に充填して調整される。注射剤として調整される
場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等
張であるのが好ましく、これらの形態に成形するに際し
ては、希釈剤として例えば水、エチルアルコール、マク
ロゴール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類
等を使用できる。なお、この場合等張性の溶液を調整す
るに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医
薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤
、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応
じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医
薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペースト、ク
リーム及びゲルの形態に成形するに際しては、希釈剤と
して例えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セ
ルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン、
ベントナイト等を使用できる。
本発明の医薬製剤中に含有されるべき本発明の化合物の
量としては、特に限定されず広範囲に適宜選択されるが
、通常医薬製剤中1〜70重量%とするのがよい。
上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製剤形
態、患者の年齢、性別その他の条件、患者の程度等に応
じて決定される。例えば錠剤、乳剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射剤は
単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混
合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内
、皮内、皮下もしくは腹腔的投与される。坐剤は直腸内
投与される。
上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別その他
の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常有
効成分である本発明化合物の量が1日当り体重1kO当
り約0.5〜20mg程度とするのがよく、該製剤は1
日に1〜4回に分けて投与することができる。
!−−簾−−V 以下、本発明化合物の製造に利用する原料化合物の製造
例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例を
実施例として挙げ、更に本発明化合物につき行なわれた
薬理試験例を挙げる。
参考例1 4−アセトキシ−5−クロロ−2−ピリドンの製造 5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−ピリドン5、OOg
及び塩化アセチル3.66m12をピリジン250戒中
、空温で3時間撹拌した。反応溶液を濃縮し、残渣を酢
酸エチル及び水で順次洗浄することにより目的化合物3
.39g (収率52%)を得た。
’HNMR(DMSOd s )δ: 11、91 (1H,bs、 N−H)7.81 (1
H,s 、ピリジン環のCs −H)6、35 (1)
f、 S 、ピリジン環の03−H)2.32 (3H
,S 、CH3) 参考例2〜4 参考例1と同様にして以下の各化合物を製造した。
参考例2 4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2−ピリドン 融点 196〜197°C 参考例3 5−クロロ−4−オクタデカノイルオキシ−2−ピリド
ン ’HNMR(DMSOd s )δ: 11、87 (1H,bs、 N−H)7.80 (I
H,s 、ピリジン環のCs  H)6.32 (1H
,S 、ピリジン環の03  H>2.60 (2H,
t 、J=7)−12、C旦LCO)1.24 (30
H,bs、CH2Xl 5)0.85 (3H,t 、
J=7Hz 、CH3)参考例4 4−(2−ナフトイルオキシ)−2−ピリドン ’HNMR(DMSO−d 6  )δ:11.72 
(IH,bs、N−H) 8.81−7.64 (7H,m 、ナフタレン環のH
) 7.51 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs   H) 6.33−6.25 (2H,m 、ピリジン環の03
.5   H) 参考例5 2−ベンゾイルオキシ−4−ヒドロキシピリジンの製造 塩化メチレン50鵬中、2.4−ジ(トリメチルシリル
オキシ〉ピリジン4.0gに、塩化ベンゾイル2.65
0及び塩化第2錫0.2mGを加え、室温で約1時間撹
拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル−ベンゼン(2:
3)で溶出して目的化合物1.00g (収率29.6
%)を得た。
融点 124〜127℃ 参考例6 4−ヒドロキシ−2−(2−メチルベンゾイルオキシ)
ピリジンの製造 参考例5と同様にして目的化合物を得た。
融点 116〜119℃ 参考例7 5−クロロ−4−ヒドロキシ−1−(2−テトラヒドロ
フラニル)−2−ピリドンの製造5−クロロ−4−ヒド
ロキシ−2(1H>−ピリドン1.OOaに、ヘキサメ
チルジシラザン10mf2を加え、6時間還流した。次
いで過剰のへキサメチルジシラザンを留去し、油状残渣
をジクロロメタン50m12に溶解した。ここに2−ア
セトキシテトラヒドロフラン1.OOQと塩化第2錫0
.11tli2とを添加し、室温で一夜撹拌した。トリ
エチルアミンで中和後、溶媒を留去し、残漬にメタノー
ルを加えて室温で2時間撹拌した。再度溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムを用いて2%メタノール−クロ
ロホルムで溶出して目的化合物1.07g (収率73
.5%)を得た。
融点 170〜173℃ ’HNMR(DMSO−66)δ: 11.6 (1H,bs、0H) 7.59 (IH,S 、Cs  H>5.76 (1
H,S 、03  H)4、39−3.73 (2H,
m 、 f )参考例7と同様にして以下の各化合物を
製造した。
参考例8 1−ベンジルオキシメチル−5−クロロ−4−ヒドロキ
シ−2−ピリドン 融点 165〜167°C ’HNMR(DMSOd s )δ: 11.65 (1H,bs、0H) 7.92 (IH,s 、Cs  H)7.31 (5
H,S 、フェニル−H)5.77 (1H,S 、C
3H> 5.27 (2H,s 、−NC旦LO−〉4、55 
(2H,s 、 −〇CルバD)参考例9 2−ベンゾイルオキシメチル−5−クロロ−4−ヒドロ
キシピリジン 融点 184℃で軟化 ’HNMR(DMSOd 6 )δ: 8.27 (IH,S 、Cs  H)6.91 (1
H,S、C3H> 参考例10 6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−2−ヒドロキシピ
リジンの製造 3−シアノ−2,6−シヒドロキシピリジン1.00C
IのN、N−ジメチルアセトアミド40戒溶液に、トリ
エチルアミン0.51m12及び塩化ベンゾイル0.4
3m12を加え、空温で15分間撹拌した。更に反応溶
液にトリエチルアミン0.51+ni2及び塩化ベンゾ
イル0.4311112を加え、室温下15分間撹拌し
た。反応溶液をン濾過し、2戸液を減圧濃縮し、残渣を
クロロホルム及び水で洗浄して目的化合物1.060 
 (収率60%)を得た。
’H−NMR(DMSO−66)δ: 12、76 (1H,bs、 OH又はNH>8.33
 (1H,d 、J=8H2、ピリジン環のCt  H
) 6.95 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs  H) 参考例11〜15 参考例10と同様にして以下の各化合物を製造した。
参考例11 3−シアノ−6−(2,4−ジクロロベンゾイルオキシ
)−2−ヒドロキシピリジン’HNMR((CD3 )
2 Go)δ:8.29 (IH,d 、J=8Hz 
、ピリジン環のCa  H) 7.61  (1H,dd、J=8Hz 、J=2Hz
 。
7、01 (1H,d 、 J=8H2、’r:’)シ
ンMU)Cs   H) 参考例12 3−シアノ−6−(2−フロイルオキシ)−2−ヒドロ
キシピリジン ’H−NMR(DMSO、d s )δ:8.32 (
IH,d 、J=8Hz 、ピリジン環のCt  H) 7.63 (1H,dd、J=1Hz 、J=4Hz 
6.95 (IH,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs   H) 参考例13 3−シアノ−6−(3,4,5−トリメトキシベンゾイ
ルオキシ)−2−ヒドロキシピリジン ’HNMR(DMSOd s )δ: 8.32 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Ca  H> 6.93 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs  H) 参考例14 3−シアノ−6−(2−テノイルオキシ)−2−ヒドロ
キシピリジン ’H−NMR(DMSO−66)δ: 8.32 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Ct  H) 6.96 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs   H) 参考例15 3−クロロ−6−(4−フルオロベンゾイルオキシ)−
2−ヒドロキシピリジン 1HNMR(DMSO−d s )δニア、96 (I
H,d 、J=8Hz 、ピリジン環のCa  H) 6.79 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs  H) 実施例1 3− (3−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイルシー5−フルオロ
−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル1.000の乾燥ジオキサン30mf2溶液に塩化
イソフタロイル1.000とトリエチルアミン0.70
1+1f2とを加え、2時間還流した。
更にトリエチルアミン1.OOmGを加え、2時間速流
後、4−ヒドロキシ−2(IH)−ピリドン0.609
を加え、3時間還流した。溶媒を留去後、残渣に酢酸エ
チル30mQと水30mGとを加え、不溶物をン戸去後
、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホル
ム〜2%メタノール−クロロホルムで溶出し、目的物に
対応するフラクションを集め、濃縮して粉末状物質0.
40(](118%を得た。
’  HNMR(DMSO−d s  )δ:11.7
4(IH,bs、  NH、D20添加で7、51 (
1)−1,d 、 J=8)−12、ピリジン環のCs
   H) 6.34−6.26 (2H,m 、ピリジン環の03
.5H) 5.93 (1H,t 、’J=4H2、Ca ’  
−H>4.41−4.20,3.92−3.72(各1
8. m 、 Ca ’  H)2.27 1.92 
(4H,m、C2’  、3’  −H) 実施例2 3− (4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピ
リジルオキシカルボニル ル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル
)ウラシルの製造 実施例1と同様にして、目的化合物を得た。
’ H−NMR (DMSO  d s )δ:’l 
1.73 (1H,bs, −NH−、D2 0添加で
消失) 8、28 (4H,s 、フェニル−H)  。
8、14(1H,d,J=7Hz,Cs  H)7、5
2 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環のCs 
 H) 6、33−6.25 (2H.m 、ピリジン環の03
  、  s  −H) 5、92 (1H,bt,J=4Hz 、C1’ −H
>4、49−4.26と4.03−3.77(各1H,
m,C4’  H) 2、30  1.92(4H,m,C2’.3’  −
H) 実施例3 3−(3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−2′−デ
オキシ−3’ 、5’−ジーOーアセチルー5ーフルオ
ロウリジンの製造 実施例1と同様にして、目的化合物を得た。
Cs  H) 7、39 (1H,s 、ピリジン環の03  H)6
、27 (1H.t 、J−8Hz 、Ca ’  −
H)5、29  5.17 (IH,m,C3’   
H)4、51−4.28 (3H,m,Ca’  、s
’  −H) 2、70−2.08 (8H,m 、C2 ’  Hと
COCH3x2> 実施例4 3− (3− (2−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−
4−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル〕−5−フ
ルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの
製造 実施例1と同様にして、目的化合物を得た。
Ce  H) 7、41 (1H,s 、ピリジン環の03  H)6
、  00−5.  90  (I  H,  m  
、  Ca  ’  −H)4、42  3.87(2
H,m,Ct’   H)2、55  1.89(4H
,IIl.C2’,C3’−H) 実施例5 3−(3− (4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フル
オロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製
造 実施例1と同様にして、目的化合物を得た。
Cs   H) 7.38 (1H,s 、ピリジン環の03  H)6
.02 5.90 (1H,m 、C1’  −H)4
.45 3.87 (2H,m、Ca’   H)2.
55 1.89(4H,m、C2’、C3’−H) 実施例6 3− (3−(2−アセトキシ−5−クロロ−4−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ−
1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 1−(2−テトラヒドロフラニル)−5−フルオロウラ
シル1.OOgの乾燥ジオキサン50m12溶液にトリ
エチルアミン5.53mGと塩化イソフタロイル1.5
20とを加え、1時間遠流した。
次いで反応溶液を才濾過し、炉液を濃縮し、残渣をアセ
トニトリル50mQに溶解し、これにトリエチルアミン
3.46m12及び2−アセトキシ−5−クロロ−4−
ヒドロキシピリジン1.40gを加え、空温下2時間撹
拌した。反応溶液を)濾過し、濃縮後、残渣をクロロホ
ルムを溶出溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製して目的化合物530mp(20%)を得た
7.54 (1H,d 、J−6Hz 、Cs  H)
7.27 (1H,S 、ピリジン環の03  H)5
.98−5.90 (IH,m 、C+ ’ −H)4
.29 4.04 (2H,m、C4’  H)2.3
5 (3H,s 、COCH3)2.43−1.89 
(4H,m、C2’  、3’  −H) 実施例7 3− (3−(2−アセトキシ−5−クロロ−4−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−5′−デオキシ
−2’ 、3’−ジーO−7セチルー5−フルオロウリ
ジンの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
7.48 (IH,d 、J−6Hz 、Cs  H)
7.26(1)−1,S、ピリジン環のCa  H)5
.93 (1H,d 、J=5Hz 、C+ ’  H
)5.31 (1H,t、J=6H2,C2’  H)
5.03 (IH,T 、J=6Hz 、C3’   
H)4.38 4.12 (IH,m、Ca’   H
)2.35 (3H,s 、ピリジン環上C0CH5)
2.10と2.01 (各々3H,S、COCH3)1
.46 (3H,d 、J−6H2、Cs ’   H
)実施例8 3− (3−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2
−ピリジルオキシカルボニル ゾイルツー5−フルオロ−2’ 、 3’ 、 5’−
トリー〇ーアセチルウリジンの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
7.39 (IH,S 、ピリジン環の03  H)6
.12−6.05(1H,m、C+’   H>5.3
4−5.29 (2H,m 、C2’  、3 ’  
−H) 4.38 (3H,bs、Ca’  、s’   H)
2.18と2.11と2.03 (各々3H,S。
C0CH5) 実施例9 3− (3−(4−アセトキシ−5−クロロ−2−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー5−フルオロ−
1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’ H−NMR(CDCQ3 )δ: 8.65−8.19 (4H,m 。
Cs   H) 7.53 (1H,d 、J=6Hz 、Cs   H
)7.18 (IH,s、ピリジン環の03  H)6
.02−5.90 (1H,m 、 C1’  −H)
4.45−3.87 (2H,m 、CA ’  −1
−1>2、44−1.90 (7H,m 、 COCH
3とC2’、3’   H) 実施例1d 5−フルオロ−3−(3−(2−(2−メチルベンゾイ
ルオキシ)−4−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル)−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製
造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’ HNMR(CDCQ3)δ: 8.67−7.21 (12H,m、フェニルH。
ピリジン環上のHとCs  H) 6.00−5.90 (IH,m 、C1’  H)4
.40 3.90 (2H,m 、C4’ −H)2.
69 (3H,s 、CH3) 2.60 1.95 (4H,m、C2’ 、C3’−
H) 実施例11 3−(3−(2−ベンゾイルオキシ−4−ピリジルオキ
シカルボニル)ベンゾイルツー5−フルオロ−1−(2
−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’ H−NMR(CDC93)δ: ピリジン環のCs  H) 7.79−7.40 (5H,m 。
7.34−L 23 (2H,m 、ピリジン環のC3
,5H) 6.00−5.90 (1H,m 、C+ ’   H
)4.45−3.87 (2H,m 、CA ’  −
H)2.55 1.89(4H,m、C2’、C3’−
H) 実施例12 3− (3−(1−ベンジルオキシメチル−5−クロロ
−1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ピリジルオキシ
カルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−
テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
O Cs  Hとピリジン環の 5.98 5.91(1H,m、C+’  H)5.4
2 (2H,S 、NCH20)4.27−3.89 
(2H,m 、Ct ’ −H)2.57 1.90(
4H,m、C2’ 、C3’−H) 実施例13 3− (3−(5−クロロ−1,2−ジヒドロ−2−オ
キソ−1−(2−テトラヒドロフラニル)−4−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル)−5−フルオロ−1
−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
Cs  Hとピリジン環のCs  H)6.58 (1
H,S 、ピリジン環のC3H)6.18−5.91 
(2H,m 、フラニル基のC+  HX2> 4、33−3.87 (4t−1,m 、フラニル基の
Ct  HX2> 2.67−1.78 (8H,m 、フラニル基の02
 、C3−HX2> 実施例14 3− (3−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−21−デ
オキシ−3’ 、 5’−ジー〇−ベンジルー5−フル
オロウリジンの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’ H−NMR(CDCQ3)δ: とピリジン環の03  H) 6.31 (IH,bt、J=7Hz 、C1’  H
)4.50 (2H,d 、J=2Hz 。
4.28 4.22(2H,m、C3’   H。
Ct’   H) 3.91 3.52 (2H,m、Cs’  −H>2
.66−2.04 (2H,m 、C2’   H)実
施例15 3− (3−(4−ベンゾイルオキシ−5−クロロ−2
−ピリジルオキシカルボニル ゾイル)−2′−デオキシ−3’ 、 5’−ジーO−
 (4−クロロベンジル)−5−フルオロウリジンの製
造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
6.29 (1H,bt、J=7H2、C+ ’   
H)4.45 (2H,d 、J=2Hz 。
4.24 4.18 (2H,m、C3’   H。
C4’   H) 3.90−3.51 (2H,m 、Cs ’   H
)2.67−2.03 (2H,m 、C2’ −H)
実施例16 5−フルオロ−3−[3−(4−(2−ナフトイルオキ
シ)−2−ピリジルオキシカルボニル ロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’  H  NMR (CDC93 )δ:8、75−
7.20 (15H,m 、ナフチル−H。
フェニル−H,ピリジン環のHと Cs  H) 5、97−5.90 (1H,m 、C+ ’ −H)
4、52  3.85 (2H,m,Ca’  H)2
、52  1.78(4H,m,C2’ 、C3’−H
> 実施例コア 3− (3− (3−クロロ−6−(4−フルオロベン
ゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベン
ゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラ
ニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
ピリジン環のCs  H) 5、97−5.89 (IH,m 、C+ ’ −H)
4、34  3.84 (2H,m 、Ca ’ −H
)2、47−1.86 (4H,m 、C2 ’ −H
C3’   H) 実施例18 3− (3− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルシー5−フ
ルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの
製造 実施例6と同様にして、目的化合物を)昇る。
ジン環のCs  H) 5、96  5.87 (1H,m,C+ ’  H>
4、30  3.80(2H,m,Ca’  H)2、
50  1.85 (4H,m,C2’ −H。
C3’  H) 実施例19 3− (3− (3−シアノ−6− (3.4.5−ト
リメトキシベンゾイルオキシ〉−2−ピリジルオキシカ
ルボニル)ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テ
トラヒドロフラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
7.54 (IH,d 、J=6Hz 、C,ε−H)
7.42 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Ca  H) 5.97 5.90(1H,m、C1’  H)4.3
4 3.81 (11H,m、C4’  Hと2.50
 1.87 (4H,m、C2’   H。
C3’  −H) 実施例20 3− (3−(3−シアノ−6−(2−フロイルオキシ
)−2−ピリジルオキシカルボニルベンゾイル)−5−
フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル
の製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
Cs  H,ピリジン環の 6、61 (1H,dd,J−2Hz 、J=4Hz 
5、98  5.88 (1H,m 、C1’  −H
)4、27  3.84 (2H,m,C4’   H
)2、36−1.86(4H,m,C2’   H。
C3’   H) 実施例21 3− (4− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル)−3−フロイルツー5
−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシ
ルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
’ H  NMR (CDCQ3 )δ:Ca  Hと
ピリジン環の Cs  H) 5、92−5.82 (1H,m 、Ca ’ −H>
4、22  3.71 (2H,m,Ca’  H)2
、33  1.68 (4H,m,C2’  H。
Ca’  H) 実施例22 3− (3−(6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−2
−ピリジルオキシカルボニル ゾイル)−5′−デオキシ−2’ 、3’−ジー〇ーア
セチルー5ーフルオロウリジンの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
Cs   H) 5.96 (IH,dd、J=1HzとJ=5H2゜C
+’   H) 5、  32  (1トI、  t、  J=6H2,
C2’     H)5.03(1H,T、J=6H2
,C3’   H)4.30 4.18 (IH,m、
Ca’   H)2.09 (3H,S 、C2’  
 0COC旦り又はC3’  0COC旦L) 2.00 (3H,s 、C2’  −0COC旦り又
はC3’  0COC旦L) 1.46 (3H,d 、J=6Hz 、Cs ’  
 H>実施例23 3− (3−(3−シアノ−6−(2−テノイルオキシ
)−2−ピリジルオキシカルボニルベンゾイル)−5−
フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシル
の製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
ピリジン環のC4  H> 8、03 (1 H,dd,J=1 Hz 、J=4H
z 。
7、53 (1 H,d 、J=6Hz 、Cs −H
)7、44 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環
のCs  H) 6、00  5.90 (1H,m 、C1’  −H
)4、28  3.87 (2H,m.C4’   H
)2’.50  1.89 (4H.m.C2’   
H。
C3’   H) 実施例24 3− (3− (3−シアノ−6−(2.4−ジクロロ
ベンゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル〕
ベンゾイル)−5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロ
フラニル)ウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得る。
ピリジン環のCa  H) 7、57  7.33 (4H,m,Cs   H。
ピリジン環のCs  Hと 4、35  3.82 (2H,m,C4’  H)2
、50  1.80 (4H,m 、C2 ’ −H。
C3’−H) 実施例25 3− (5− (6−ペンゾイルオキシー3−シアノ−
2−ピリジルオキシカルボニル −ニコチノイル〕−5−フルオロ−1−(2−テトラヒ
ドロフラニル)ウラシルの製造実施例6と同様にして、
目的化合物を得る。
’ H  NMR (CDCQ3 )δ:5.94−5
.88 (1H,m 、(、+ ’   H>4.34
 3.71  (2H,m、Ct’   H>2.50
 1.88 (4H,m、C2’   H。
C3’   H) 実施例26 3− (3−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−6−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイルクー5−フルオロ
−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラシルの製造 5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウラ
シル1.OOgのジオキサン50mQ溶液に塩化イソフ
タロイル1.5(]]とトリニトリアミン6.0mQを
加え、1.5時間還流した。沈澱をン戸去し、炉液を濃
縮した。残渣に塩化メチレン50−を加え、ここに2.
6−ビス(トリメチルシリルオキシ)ピリジン1.50
0の塩化メチレン溶液10m12を加え、室温で3時間
放置した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムを用
い、2%メタノール−クロロホルムで溶出して、目的化
合物0.30g (14%)を得た。
UU とピリジン環のCa  H) 7.52 (1H,d 、J=6H2、Cs  H)6
.77と6.68 (各々1H,d 、J=8H2。
ピリジン環の03.5  H) 5.99−5.92(1H,m、Ct’  H)4.3
0 3.88 (2H,m、Ct’  H>2.44 
1.89 (4H,m、C2’ 、3’ −H) 実施例27 3− (3−(5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−ピリ
ジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−2′−デオキシ
−3’ 、5’ −ジーO−アセチルー5−フルオロウ
リジンの製造 実施例26と同様にして、目的化合物を得た。
ピリジン環の06  H) とCs  H) 6.76 (1H,S 、ピリジン環の03  H)6
.19(IH,bt、J−7H2,C+’   H)5
.23−5.16 (1H,m 、C3’  −H)4
.32 4.24(3H,m、Ca’   H。
Cs’   H) 2.60−1.85 (8H,m 、C2’  −H。
COCH3X2> 実施例28 3− (3−(3−シアノ−6−ペンゾイルオキシー2
−ピリジルオキシカルボニル ゾイル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシル
の製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
融点 162〜164℃ ’H−NMR (CDCQ3 )δ: 環のC4−H) とピリジン環のCs  H) 5.15 (2H,s、N  CH2)3.62 (2
H,Q、J=7H2,−CH2CH3)1.22 (3
H,t、J=7Hz、 −CH3>実施例29 3− (3−(3−シアノ−6−(4−クロロベンゾイ
ルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイ
ル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシルの製
造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
融点 156〜158℃ とCs  Hとピリジン環の Cs  H) 5、16 (2H,s 、 N−CH2>3.63 (
2H,q、J=7Hz、−CH2CH3)1.23 (
3H,t、J=7H2,−CH3)実施例30 3−(3−(3−シアノ−6−(2,4−ジクロロベン
ゾイルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベン
ゾイル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシル
の製造実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
、  融点 140〜142℃ ピリジン環のC4H) とCs  Hとピリジン環の Cs  H) 5、16 (2H,s 、 N−CH2)3.63 (
2H,q、J=7Hz、−CH2CH3)1.22 (
3H,t、J−7H2,−CH3)実施例31 3− (3−(3−シアノ−6−(2−クロロベンゾイ
ルオキシ)−2−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイ
ル)−1−エトキシメチル−5−フルオロウラシルの製
造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 −H) 7.34−7.25 (2H,m、ピリジン環の03.
5  H) 5.14 (2H,s 、N  CH2>3.61 (
2H,Q、J=7Hz、−CH2CH3)1.20 (
3H,t、J=7H2,CH3)実施例32 3− (3−(5−シアノ−・6−ベンジルオキシ−2
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー1−エト
キシメチル−5−フルオロウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 8.00 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
6.88 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
03   H) 5.15 (2H,s、N  CH2>3.63 (2
H,Q、J=7Hz、−CH20H3)1.22 (3
H,t、J−7H2,CH3)実施例33 3− (4−(3−シアノ−6−ペンゾイルオキシー2
−ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイルツー1−エト
キシメチル−5−フルオロウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 C6Hとピリジン環の Cs  H) 5.14 (2H,S 、N  CH2)3.61 (
2H,q、J=7Hz、−CH2CH3)1.22 (
3H,t、J=7H2,CH3)実施例34 3− (4−(3−シアノ−6−フロイルオキシ−2−
ピリジルオキシカルボニル)−3−フロイル)−1−(
2−テトラヒドロフラニル)−5−フルオロウラシルの
製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 ’H−NMR(CDCQ3)δ: 8.41と8.38 (各1H,d 、J=2H2。
8.20 (1H,d 、J−8Hz 、ピリジン環の
Ca  H) 7.49 7.20(3H,m、Cs  Hとピリジン
環のCs  Hと 6.64 (1H,dd、J=4Hz 、2Hz 。
5.92−5.83 (1H,m 、C+ ’ −H)
4.28 3.57 (2H,m、Ca’  H>2.
38−1.67 (4H,m、C2’ 、3’ −H) 実施例35 3−(4−(4−アセトキシ−5−クロロ−2−ピリジ
ルオキシカルボニル イル)−1−(2−テトラヒドロフラニル)−5−フル
オロウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 ’H−NMR (CDCQ3)δ: 8.39−8.38 (2H,m、ピリジン環のC67
,38(1H,d、J=6Hz 、Cs   H)7.
02 (1H,S、ピリジン環の03  H)5.92
 5.81  (1H,m、C+’   H)4.24
−3.80 (2H,m 、Ct ’  −H)2、3
8 1.68 (4H,m 、 COCH3と02’、
3’   H) 実施例36 3−(4−(3−シアノ−6−テノイルオキシ−2−ピ
リジルオキシカルボニル フロイル)−1−(2−テトラヒドロフラニル)−5−
フルオロウラシルの製造 実施例6と同様にして、目的化合物を得た。
性状 粉末 1H  NMR (CDCQ3  )δ:8、41と8
.37(各1H,d 、J=2Hz 。
8、19 (IH,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
C.−H) 8、 03 (1 H, dd, J=4Hz 、 1
 Hz 、チオフェン環のCs  H) 7、76 (1H,dd,J=5Hz 、 1Hz 、
チオフェン環のC:a  H> 7、40 (1H,d 、J=8Hz 、ピリジン環の
Cs  H) 7、37(1H,d.、J=6Hz,Cs  H)7、
21 (IH,d 、J=4Hz 、1Hz 、チオフ
ェン環のCa  H) 5、94−5.83 (1H,m 、C1’ −H)4
、26  3.75(2H,m,C4’  H)2、4
4  1.72(4H,m.c2’,3’ −H) 実施例37 3− (3− (5−シアノ−6−ヒドロキシ−2−ピ
リジルオキシカルボニル)ベンゾイル)−1−エトキシ
メチル−5−フルオロウラシルの製造 3− (3−(6−ベンジルオキシ−5−シアノ−2−
ピリジルオキシカルボニル −1−エトキシメチル−5−フルオロウラシル780m
gを、アセトン30mf2及びイソプロピルアルコール
80mGに溶解させた。これに10%パラジウム−炭素
100mgを加え、室温下に2時間接触還元反応を行な
わせた。触媒をン戸去し、ン戸液を゛減圧濃縮して、目
的化合物5201+10(80%)を得た。
8、14 (IH,d 、J=8Hz,ピリジン環の0
4   H) 6、89 (1H.d 、J=8Hz 、ピリジン環の
03  H) 5、09 (2H,S 、N  CH2 )3、53 
(2H,q.J=7Hz,−CH2 CH3 )1、0
5 (3H,t,J−7Hz,  CH3  >薬理試
験例■ ICR系マウスに腹水として、継代したザルコ−? (
 3arcoma) − 1 8 0を、生理食塩水で
希釈して1匹当り2X107@となる量を同系マウスの
背部皮下に移植し実験に供した。腫瘍移植2時間後より
1日1回、7日間、5%アラビアゴムで懸濁させた薬剤
を連日経口投与した。
腫瘍移植10日目に背部皮下の固型病を摘出し、腫瘍重
量を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量(T)と薬剤未投与
の対照群の腫瘍型! (C)との比(T/C)を求め、
薬剤投与量と該比(T/C)の用量−反応曲線よりT/
(J<0.5となる50%腫瘍抑制用ff1(ED50
値)を求めた。
結果を下記第1表に示す。尚、第1表には、対照薬とし
て5−フルオロ−1−(2−テトラヒドロフラニル)ウ
ラシルとウラシルとを1対4(重量比)で併用した制癌
剤を用いた結果を併記する。
第1表 供試化合物EDs o (mg/kg)実施例1の化合
物     10 実施例3の化合物      7 実施例4の化合物     25 実施例5の化合物     18 実施例7の化合物     12 実施例8の化合物     22 実施例13の化合物    28 実施例14の化合物     5 実施例20の化合物    18 実施例28の化合物     5 対   照  薬        30以下、本発明化
合物を用いた製剤例を挙げる。
製剤例1 実施例1の化合物       0.025mgデンプ
ン   132mg マグネシウムステアレート  18mc+乳    M
              50mc+合    計
          約200mg常法により1錠中、
上記組成物の錠剤を製造した。
製剤例2 実施例2の化合物       0.25mgデンプン
   130mg マグネシウムステアレート  20m(]乳    糖
             50mg合    計  
        約200mg常法により1錠中、上記
組成物の錠剤を製造した。
製剤例3 実施例3の化合物       12.5mgポリエチ
レングリコール (分子1:4000)       0.3(J塩化ナ
ナトリウム        0.9gポリオキシエチレ
ンソルビタン モノオレエート         0.4gメタ重亜硫
酸ナトリウム     0.1(Itメチル−パラベン
        0.18gプロピル−パラベン   
    0.02g注射用蒸留水          
100m(2上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム
及び塩化ナトリウムを撹拌しながら80″Cで蒸留水に
溶解する。得られた溶液を40℃まで冷却し、これに本
発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリオキシエ
チレンソルビタンモノオレエートを順次溶解させ、次に
その溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し、
適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過することに
より滅菌して1脱ずつアンプルに分注し注射剤を調製す
る。
(以 上)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は置換基として水酸基、ハロゲン原子、ア
    ミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、オキソ
    基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルキルカ
    ルバモイル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原
    子、低級アルコキシ基及び低級アルキル基から選ばれる
    基の1〜3個を有することのあるフェニルカルバモイル
    基、低級アルケニル基、低級アルコキシカルボニル基、
    テトラヒドロフラニル基、フタリジル基、低級アルコキ
    シ低級アルキル基、フェニル基を有する低級アルコキシ
    低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
    ルカルバモイル基、フェニル低級アルキルオキシ基及び
    アシルオキシ基なる群から選ばれた基の1〜4個を有す
    るピリジル基を示し、Aはアリーレン基を示す。 R^2は生体内で5−フルオロウラシルに変換できる5
    −フルオロウラシル誘導体残基であつて、該基と、隣接
    するカルボニル基との結合はエステル結合又はアミド結
    合である。〕で表わされる5−フルオロウラシル誘導体
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