JPS63300524A - ウエ−ハカセット搬送用保持機構 - Google Patents
ウエ−ハカセット搬送用保持機構Info
- Publication number
- JPS63300524A JPS63300524A JP62137243A JP13724387A JPS63300524A JP S63300524 A JPS63300524 A JP S63300524A JP 62137243 A JP62137243 A JP 62137243A JP 13724387 A JP13724387 A JP 13724387A JP S63300524 A JPS63300524 A JP S63300524A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- wafer
- holding mechanism
- transport
- clean air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 54
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体ウェーハを保持するウェーハカセット
の搬送にあたシ、特にウェーハのゴミ付着に対する防止
対策を施したウェーハカセットの搬送用保持機構に関す
る。
の搬送にあたシ、特にウェーハのゴミ付着に対する防止
対策を施したウェーハカセットの搬送用保持機構に関す
る。
半導体製造工程において、ウェーハは第4図に示すウェ
ーハカセット(以下、単にカセットという)に入れて搬
送される。図に示すように、カセットは対向する両内壁
面にくし形の溝を対向して設け、この2つの溝の間にウ
ェーハを1個ごと分離し工収納する。カセットの上面、
下面、正面は開口していて、ウェーハは裏面がカセット
の正面を向く様に上面より収納する。
ーハカセット(以下、単にカセットという)に入れて搬
送される。図に示すように、カセットは対向する両内壁
面にくし形の溝を対向して設け、この2つの溝の間にウ
ェーハを1個ごと分離し工収納する。カセットの上面、
下面、正面は開口していて、ウェーハは裏面がカセット
の正面を向く様に上面より収納する。
上記カセットの溝は、ウェーハの厚さよシ大きくとって
、ウェーハ挿入時にクリアランスがあるようにして、ウ
ェーハ挿入時の損傷を防止している。しかし、カセット
を搬送するときには、このクリアランスがある九め搬送
時の振動によυウェーハと溝部とが互いに衝突しあって
、衝突した所で少しかけ小さいゴミが発生し、ウェーハ
に付着する欠点が6つ次。
、ウェーハ挿入時にクリアランスがあるようにして、ウ
ェーハ挿入時の損傷を防止している。しかし、カセット
を搬送するときには、このクリアランスがある九め搬送
時の振動によυウェーハと溝部とが互いに衝突しあって
、衝突した所で少しかけ小さいゴミが発生し、ウェーハ
に付着する欠点が6つ次。
カセットの取扱いはクリーンルームで行なわれ、嘔らに
ウェーハの清浄関金保つためカセットをボックスに入れ
保管して搬送している。個々の半導体製造設備内におい
ても清浄な空気のダウンフローを作ってウェーハの清浄
度を保っているものもある。しかし半導体製造設備にカ
セットをセットする時は、作業者あるいは自動機によシ
ボックスからカセットを取り出し裸のまま保持、セット
するので、いかくクリーンルームとはいえ、人による影
響9機械による影響によシウエーハへのゴミの付着はま
ぬがれないのが現状であった。
ウェーハの清浄関金保つためカセットをボックスに入れ
保管して搬送している。個々の半導体製造設備内におい
ても清浄な空気のダウンフローを作ってウェーハの清浄
度を保っているものもある。しかし半導体製造設備にカ
セットをセットする時は、作業者あるいは自動機によシ
ボックスからカセットを取り出し裸のまま保持、セット
するので、いかくクリーンルームとはいえ、人による影
響9機械による影響によシウエーハへのゴミの付着はま
ぬがれないのが現状であった。
本発明の目的は、上記の欠点を除去するために、カセッ
トの保持・搬送・受渡しにおいて、ウェーハのゴミ付着
を最大限少なくする手段を具備した搬送用保持機構を提
供することにある。
トの保持・搬送・受渡しにおいて、ウェーハのゴミ付着
を最大限少なくする手段を具備した搬送用保持機構を提
供することにある。
本発明のカセット搬送用保持機構は、ウェーハが床面に
対して垂直あるいは水平位置になるように、カセットを
、搬送レールに対して保持してから、前記カセットをそ
の位置から一定角度傾斜嘔せ搬送する手段と、前記カセ
ットの位置に応じそれぞれ上部あるいは側部にフィルタ
付送風機を設け、前記カセット内のウェーハ面上に清浄
空気流を流す手段とを有す・るようにしたものでおる。
対して垂直あるいは水平位置になるように、カセットを
、搬送レールに対して保持してから、前記カセットをそ
の位置から一定角度傾斜嘔せ搬送する手段と、前記カセ
ットの位置に応じそれぞれ上部あるいは側部にフィルタ
付送風機を設け、前記カセット内のウェーハ面上に清浄
空気流を流す手段とを有す・るようにしたものでおる。
本発明では、カセットを保持した搬送機構本体を搬送レ
ール上で移動し、搬送を行なうが、そのときウェーハが
床面に垂直になるように、カセットを搬送レールに対し
て保持してから、カセットを垂直方向に対して一定角度
傾斜嘔せる。これによってウェーハが溝部で傾いて、ク
リアランスによるガタがなくなる。また搬送中に上部に
設けた送風機から流出する清浄空気がウェーハ表面を流
れるので、搬送中ゴミが付着することがない。上記の説
明は、カセットを垂直に保持した場合であるが、カセッ
トを水平にし、しかも一定角度水平から傾斜式せるよう
にした場合も同様である。このとき送風機は側部に設け
、横方向から清浄空気を流す。
ール上で移動し、搬送を行なうが、そのときウェーハが
床面に垂直になるように、カセットを搬送レールに対し
て保持してから、カセットを垂直方向に対して一定角度
傾斜嘔せる。これによってウェーハが溝部で傾いて、ク
リアランスによるガタがなくなる。また搬送中に上部に
設けた送風機から流出する清浄空気がウェーハ表面を流
れるので、搬送中ゴミが付着することがない。上記の説
明は、カセットを垂直に保持した場合であるが、カセッ
トを水平にし、しかも一定角度水平から傾斜式せるよう
にした場合も同様である。このとき送風機は側部に設け
、横方向から清浄空気を流す。
以下、本発明の実施例につき、図面を参照して説明する
。搬送方向をX軸、床面に対して平行で搬送方向に垂直
な方向をY軸、床面に垂直な方向1−2軸として、各図
にその向きを示す。
。搬送方向をX軸、床面に対して平行で搬送方向に垂直
な方向をY軸、床面に垂直な方向1−2軸として、各図
にその向きを示す。
第1図、第2図はカセットを垂直に、すなわちウェーハ
を床面に対し垂直とする実施例の概略説明図である。第
1図(IL)は搬送状態を上方からみた平面図、第1図
(b)は正面図である。ただし第1図(SL)ではカセ
ット把持部分を明らかにするためその部分を透視して図
示している。1はウェーハ、2はウェーハ1を収納して
いるカセットであ夛、3はカセット2を搬送方向(X方
向)に対してウェーハが平行で、床面に対し垂直方向(
2方向)Kなるよう保持するので、床面に対し垂直方向
(2方向)になるよう保持するハンド、4は搬送機構本
体、5は搬送レール、6tiカセット受取り台、7は搬
送先、例えば半導体製造設備のカセット載置台である。
を床面に対し垂直とする実施例の概略説明図である。第
1図(IL)は搬送状態を上方からみた平面図、第1図
(b)は正面図である。ただし第1図(SL)ではカセ
ット把持部分を明らかにするためその部分を透視して図
示している。1はウェーハ、2はウェーハ1を収納して
いるカセットであ夛、3はカセット2を搬送方向(X方
向)に対してウェーハが平行で、床面に対し垂直方向(
2方向)Kなるよう保持するので、床面に対し垂直方向
(2方向)になるよう保持するハンド、4は搬送機構本
体、5は搬送レール、6tiカセット受取り台、7は搬
送先、例えば半導体製造設備のカセット載置台である。
さらに8はカセット2t−搬送時に於てウェーハ1t−
垂直方向よシ適宜傾斜(傾斜角0=5〜10°)嘔せる
カセット傾斜保持機構、9#i清浄な空気の流れを確保
するためのフィルタ付送風機である。
垂直方向よシ適宜傾斜(傾斜角0=5〜10°)嘔せる
カセット傾斜保持機構、9#i清浄な空気の流れを確保
するためのフィルタ付送風機である。
以下、カセット搬送につき説明する。第1図において、
カセット受取シ台6にカセット2がセットされると、搬
送機構本体4の昇降機構によって、ハンド3が下降し、
カセット2を把握保持する。その後昇降機構によって再
びハンド3が上昇し、定位置にセットされる。次に傾斜
保持機構8によシ、ウェーハ1を垂直方向よシ傾斜する
ように、カセット2をθだけ傾ける。
カセット受取シ台6にカセット2がセットされると、搬
送機構本体4の昇降機構によって、ハンド3が下降し、
カセット2を把握保持する。その後昇降機構によって再
びハンド3が上昇し、定位置にセットされる。次に傾斜
保持機構8によシ、ウェーハ1を垂直方向よシ傾斜する
ように、カセット2をθだけ傾ける。
これによってカセット2が搬送レール5によって搬送さ
れるときに、ウェーハ1はカセット2の溝部内でガタつ
かず保持される。また、第2図に示すように、カセット
z内のウェーハ1に対し常に清浄な空気流が流れこむよ
うにして、カセット2が半導体製造設備のカセット載置
台7の位置に搬送され、カセット2を垂直位置に直して
から搬送機構本体4の昇降機構によって、ハンド3が下
降し、カセット2をカセット載置台7に載置する。
れるときに、ウェーハ1はカセット2の溝部内でガタつ
かず保持される。また、第2図に示すように、カセット
z内のウェーハ1に対し常に清浄な空気流が流れこむよ
うにして、カセット2が半導体製造設備のカセット載置
台7の位置に搬送され、カセット2を垂直位置に直して
から搬送機構本体4の昇降機構によって、ハンド3が下
降し、カセット2をカセット載置台7に載置する。
上記実施例で、傾斜の向きは、第2図に示すようにする
。傾斜によってウェー/\1がカセット2の溝部で一定
の姿勢になシ、またウエーノ11は裏面が接触している
ので、表面が損傷することがない。さらに清浄空気がウ
ェーハ1の表面を流れるので、常に清浄環境に囲まれて
いる。
。傾斜によってウェー/\1がカセット2の溝部で一定
の姿勢になシ、またウエーノ11は裏面が接触している
ので、表面が損傷することがない。さらに清浄空気がウ
ェーハ1の表面を流れるので、常に清浄環境に囲まれて
いる。
次に1カセツトを水平に、すなわちウエーノ・1を床面
に対し平行にする第2実施例につき説明する。この実施
例では、第3図に示すように、先ずカセット2の正面を
略々床面に平行にセットシ、その後水平の位置からθ=
5〜100傾斜させる。このときフィルタ付送風機9は
側部に配置し、清浄空気流が水平方向に流れるようにす
る。その他の点は、前記の第1実施例と同様である。
に対し平行にする第2実施例につき説明する。この実施
例では、第3図に示すように、先ずカセット2の正面を
略々床面に平行にセットシ、その後水平の位置からθ=
5〜100傾斜させる。このときフィルタ付送風機9は
側部に配置し、清浄空気流が水平方向に流れるようにす
る。その他の点は、前記の第1実施例と同様である。
以上、説明したように、本発明の搬送用保持機構は、半
導体ウェーハ用のカセットをウェーハの向きを床面に対
し、垂直あるいは水平の位置から適宜傾斜させて搬送機
構に取シつけるものである。この傾斜によって、カセッ
トの溝部にウェーハが安定な状態に保持さnる。したが
ってカセット搬送の際に生ずる振動に対し、ウェーハの
ガタつくことを防ぎ、ゴミの発生およびウェーハへの付
着を抑える効果がある。また、搬送時に、ウェーハ表面
に平行に清浄空気が流れるようにして、空気の流れの抵
抗を最小にして、ウェーハ表面の流量を大にし、ゴミの
付着を防ぐとともに、周囲の環境からの悪影響を最大限
抑えることができる。
導体ウェーハ用のカセットをウェーハの向きを床面に対
し、垂直あるいは水平の位置から適宜傾斜させて搬送機
構に取シつけるものである。この傾斜によって、カセッ
トの溝部にウェーハが安定な状態に保持さnる。したが
ってカセット搬送の際に生ずる振動に対し、ウェーハの
ガタつくことを防ぎ、ゴミの発生およびウェーハへの付
着を抑える効果がある。また、搬送時に、ウェーハ表面
に平行に清浄空気が流れるようにして、空気の流れの抵
抗を最小にして、ウェーハ表面の流量を大にし、ゴミの
付着を防ぐとともに、周囲の環境からの悪影響を最大限
抑えることができる。
第1図、第2図は、本発明の実施例として、ウェーハを
床面に対して垂直方向に搬送する場合の概略説明図、第
3図はウェーハを水平方向に搬送する場合のカセット−
フィルタ付送風機の関係位置を示す図、第4図はカセッ
ト斜視図である。 l・・・ウェーハ、 2・・・カセット、3・・
・ハンド、 4・・・搬送機構本体、5・・・
搬送レール、 8・・・カセット傾斜保持機構、 9・・・フィルタ付送風機。
床面に対して垂直方向に搬送する場合の概略説明図、第
3図はウェーハを水平方向に搬送する場合のカセット−
フィルタ付送風機の関係位置を示す図、第4図はカセッ
ト斜視図である。 l・・・ウェーハ、 2・・・カセット、3・・
・ハンド、 4・・・搬送機構本体、5・・・
搬送レール、 8・・・カセット傾斜保持機構、 9・・・フィルタ付送風機。
Claims (1)
- 対向内壁面に設けたくし形溝の間にウェーハを保持する
タイプのカセットの、搬送用保持機構において、ウェー
ハが床面に対して垂直あるいは水平位置になるように前
記カセットを、搬送レールに対して保持してから、前記
カセットをその位置から一定角度傾斜させ搬送する手段
と、前記カセットの位置に応じそれぞれ上部あるいは側
部にフィルタ付送風機を設け、前記カセット内のウェー
ハ面上に清浄空気流を流す手段とを有することを特徴と
するウェーハカセット搬送用保持機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62137243A JPS63300524A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | ウエ−ハカセット搬送用保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62137243A JPS63300524A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | ウエ−ハカセット搬送用保持機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63300524A true JPS63300524A (ja) | 1988-12-07 |
Family
ID=15194115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62137243A Pending JPS63300524A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | ウエ−ハカセット搬送用保持機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63300524A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5562383A (en) * | 1993-04-13 | 1996-10-08 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Treatment apparatus |
TWI406804B (zh) * | 2007-01-10 | 2013-09-01 | Daifuku Kk | Plate-type goods with a van |
CN116435246A (zh) * | 2023-06-15 | 2023-07-14 | 上海果纳半导体技术有限公司 | 晶圆盒夹持装置 |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP62137243A patent/JPS63300524A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5562383A (en) * | 1993-04-13 | 1996-10-08 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Treatment apparatus |
US5829939A (en) * | 1993-04-13 | 1998-11-03 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Treatment apparatus |
TWI406804B (zh) * | 2007-01-10 | 2013-09-01 | Daifuku Kk | Plate-type goods with a van |
CN116435246A (zh) * | 2023-06-15 | 2023-07-14 | 上海果纳半导体技术有限公司 | 晶圆盒夹持装置 |
CN116435246B (zh) * | 2023-06-15 | 2023-09-08 | 上海果纳半导体技术有限公司 | 晶圆盒夹持装置 |
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