JPS63277583A - 改良された塗布・溶射用釉薬および施釉法 - Google Patents
改良された塗布・溶射用釉薬および施釉法Info
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- JPS63277583A JPS63277583A JP11287587A JP11287587A JPS63277583A JP S63277583 A JPS63277583 A JP S63277583A JP 11287587 A JP11287587 A JP 11287587A JP 11287587 A JP11287587 A JP 11287587A JP S63277583 A JPS63277583 A JP S63277583A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
E産業上の利用分野]
本発明は改良された塗布・溶射用ガラ・ス質釉薬および
その施釉法に関する。詳しくは、釉薬に耐熱付着性無機
系物質を添加混合してなり、基材上へ塗布した該釉薬の
熔融時の付着力(融着力)を増大させた上記の釉薬およ
びその施釉法に関する。
その施釉法に関する。詳しくは、釉薬に耐熱付着性無機
系物質を添加混合してなり、基材上へ塗布した該釉薬の
熔融時の付着力(融着力)を増大させた上記の釉薬およ
びその施釉法に関する。
[従来の技術およびその問題点コ
建材用基材、特にコンクリート板、スレート板等の相対
的に低耐熱性の基材上に施釉して釉層を形成する場合、
該基材上に釉薬を塗布した後、プラズマ又はガス式溶射
装置、或いはその他の表面加熱装置を移動させるか該基
材を移動させて、該装置からの溶射炎又は熱により該基
材上の釉薬を溶かして、ガラス質層を形成する方法が知
られている。
的に低耐熱性の基材上に施釉して釉層を形成する場合、
該基材上に釉薬を塗布した後、プラズマ又はガス式溶射
装置、或いはその他の表面加熱装置を移動させるか該基
材を移動させて、該装置からの溶射炎又は熱により該基
材上の釉薬を溶かして、ガラス質層を形成する方法が知
られている。
該釉薬は従来、釉薬原料となるガラスフリツ)、を充分
綿層し、これに有機質バインダーを適量添加して適度の
粘性を有する泥漿として安定化させることにより製造さ
れ、泥漿の形体でエアースプレー等により基材上に塗布
される。塗布により形成された釉層を上記のような溶射
加熱装置等により溶かしてガラス層として基材上に融着
させる。
綿層し、これに有機質バインダーを適量添加して適度の
粘性を有する泥漿として安定化させることにより製造さ
れ、泥漿の形体でエアースプレー等により基材上に塗布
される。塗布により形成された釉層を上記のような溶射
加熱装置等により溶かしてガラス層として基材上に融着
させる。
しかしながら、その際、溶射装置等から発生する溶射炎
等の勢いによって釉層が溶けてガラス層が形成される前
に、該塗布層が剥離する危険性が大きかった。また、基
材の中には釉薬との濡れ性(なじみ)が悪く、溶射炎等
による釉薬の熔融時に釉層が剥離することがある。
等の勢いによって釉層が溶けてガラス層が形成される前
に、該塗布層が剥離する危険性が大きかった。また、基
材の中には釉薬との濡れ性(なじみ)が悪く、溶射炎等
による釉薬の熔融時に釉層が剥離することがある。
」二記のような現象は、釉薬を塗布した基材全体をトン
ネルキルンで焼成(約30時間前後)または高速度焼成
炉で焼成(約1時間以」二)する場合には、発生しない
現象である。これに対し、プラズマ炎またはガス炎の照
射による加熱溶射等では釉薬は実質的に瞬時に熔融する
ので、このような現象が生起するものと考えられる。
ネルキルンで焼成(約30時間前後)または高速度焼成
炉で焼成(約1時間以」二)する場合には、発生しない
現象である。これに対し、プラズマ炎またはガス炎の照
射による加熱溶射等では釉薬は実質的に瞬時に熔融する
ので、このような現象が生起するものと考えられる。
従って本発明の目的は、従来の釉薬の溶射熔融時におけ
る基材への低い付着力を改良し、両番の濡れ性を改良し
た釉薬およびその使用法を提供することにある。
る基材への低い付着力を改良し、両番の濡れ性を改良し
た釉薬およびその使用法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明の改良された釉薬は、釉薬中のガラスフリット1
00重量部に対して約1〜約40重量部の水溶性または
ゾル形成性の耐熱付着性無機系物質が添加混合されてい
ることを特徴とする。
00重量部に対して約1〜約40重量部の水溶性または
ゾル形成性の耐熱付着性無機系物質が添加混合されてい
ることを特徴とする。
上記の釉薬は、釉薬原料のガラスフリットおよび必要に
応じて粘土、電解質、水、顔料等をボールミル等により
充分綿層し、これに必要に応じて適量の有機質バインダ
ー(例えばメチルセルロース、ポリビニルアルコール、
澱粉等)と共に、上記の耐熱付着性無機系物質を1記範
囲の量で加え、十分に混合することにより製造できる。
応じて粘土、電解質、水、顔料等をボールミル等により
充分綿層し、これに必要に応じて適量の有機質バインダ
ー(例えばメチルセルロース、ポリビニルアルコール、
澱粉等)と共に、上記の耐熱付着性無機系物質を1記範
囲の量で加え、十分に混合することにより製造できる。
上記の耐熱付着性無機系物質としては、水ガラス;およ
びリン酸系化合物(例えばリン酸アルミニウム、リン酸
ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸マグネシウム、リ
ン酸およびリン酸エステル)、ホウ酸系化合物(例えば
ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸およびホウ
酸エステル)、ケイ酸エステル、コロイダルシリカ、ア
ルミナゾル等の濃厚水溶液または水性ゾル、が例示され
る。
びリン酸系化合物(例えばリン酸アルミニウム、リン酸
ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸マグネシウム、リ
ン酸およびリン酸エステル)、ホウ酸系化合物(例えば
ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸およびホウ
酸エステル)、ケイ酸エステル、コロイダルシリカ、ア
ルミナゾル等の濃厚水溶液または水性ゾル、が例示され
る。
代表的には水ガラスが使用される。
上記の水ガラスとは、アルカリ−ケイ酸塩系ガラスの濃
厚水溶液(通常約30重量%以上)を意味する。ここで
該アルカリとは一般にNatOlLizOおよび/また
はKtoであり、5ift/アルカリのモル比は通常2
.1〜3.5である。例えば、ケイ酸リチウム、ケイ酸
ナトリウム、およびケイ酸カリウムの濃厚水溶液が例示
され、通常市販の水ガラス[組成(重量比)、5rOt
:30%、NatO: 10%、水二60%コが使用さ
れる。
厚水溶液(通常約30重量%以上)を意味する。ここで
該アルカリとは一般にNatOlLizOおよび/また
はKtoであり、5ift/アルカリのモル比は通常2
.1〜3.5である。例えば、ケイ酸リチウム、ケイ酸
ナトリウム、およびケイ酸カリウムの濃厚水溶液が例示
され、通常市販の水ガラス[組成(重量比)、5rOt
:30%、NatO: 10%、水二60%コが使用さ
れる。
該耐熱付着性無機系物質の添加量は、釉薬中のガラスフ
リット100重量部に対して一般に約1〜約40重量部
、好ましくは約3〜約30重量部、更に好ましくは約5
〜約20重看部程度である。
リット100重量部に対して一般に約1〜約40重量部
、好ましくは約3〜約30重量部、更に好ましくは約5
〜約20重看部程度である。
本発明の釉薬を用いて基材上に釉層を形成するには、ま
ずエアースプレー、幕かけ法等により該釉薬を基材表面
に塗布し、施釉面を乾燥させた後、プラズマ溶射装置、
火炎溶射装置、遠赤外線炉等により施釉表面を加熱して
釉層の少なくとも表面を熔融させて、ガラス質柚層を得
る。溶射装置を用いる場合は、溶射ガンを施釉面に垂直
に向けて熱が効率よく利用できるようにするのが好まし
い。
ずエアースプレー、幕かけ法等により該釉薬を基材表面
に塗布し、施釉面を乾燥させた後、プラズマ溶射装置、
火炎溶射装置、遠赤外線炉等により施釉表面を加熱して
釉層の少なくとも表面を熔融させて、ガラス質柚層を得
る。溶射装置を用いる場合は、溶射ガンを施釉面に垂直
に向けて熱が効率よく利用できるようにするのが好まし
い。
該釉薬の塗布前に、基材表面に前記の耐熱付着性無機系
物質を塗布すると、釉層の耐剥離性が一層向上する。こ
の場合の耐熱付着性無機系物質の塗布量は通常的0.5
〜約5g/100cm’である。
物質を塗布すると、釉層の耐剥離性が一層向上する。こ
の場合の耐熱付着性無機系物質の塗布量は通常的0.5
〜約5g/100cm’である。
該無機系物質の塗布は、はけ塗り又はスプレー塗布のい
ずれでもよい。
ずれでもよい。
本発明の釉薬は、従来の釉薬と同程度の割合で基材上に
塗布され通常約1〜約100g/100cm″、代表的
には約2〜約30g/100cm’の割合で塗布される
。得られる釉層の厚さは通常的0.Immから数mmで
ある。
塗布され通常約1〜約100g/100cm″、代表的
には約2〜約30g/100cm’の割合で塗布される
。得られる釉層の厚さは通常的0.Immから数mmで
ある。
本発明の釉薬は、コンクリート板、スレート板等の施油
に有用であるが、セラミックタイル板、金属板およびそ
の他の比較的耐熱性のある無機質店打上にも有利に用い
ることができる。
に有用であるが、セラミックタイル板、金属板およびそ
の他の比較的耐熱性のある無機質店打上にも有利に用い
ることができる。
[実施例]
本発明を以下の実施例により、更に具体的に説明する。
実施例1ニ
ガラスフリット(重量組成は下記表1の通り)2000
gおよび水800gを磁器製ボールミルに入れ、4昼夜
回転した。得られたスラリーに、カルボキシメチルセル
ロース3%溶液を200〜300g、および市販の水ガ
ラス(重量組成;5ift:30%、Na*O:10%
、水:60%)300gを加え、30分間撹狐毘合した
。混合後、100メツシユの篩を通して、スプレーする
際に目詰まりが生じないように大粒の固まりを除去した
。このようにして調製された釉薬をコンクリート基材(
寸法300x300X80mm)上に、エアースプレー
装置にて50g塗布した。その後気中にて1時間放置乾
燥した。次いでプラズマテクニック社製PT−A200
0型プラズマ溶射ガンを用い、下記の条件で釉薬塗膜だ
けを熔融したプラズマ炎走査速度:50〜15mm/秒
走査幅 :2mm 基材−プラズマガン間距M:9〜12cmプラズマ発生
条件=400〜600A。
gおよび水800gを磁器製ボールミルに入れ、4昼夜
回転した。得られたスラリーに、カルボキシメチルセル
ロース3%溶液を200〜300g、および市販の水ガ
ラス(重量組成;5ift:30%、Na*O:10%
、水:60%)300gを加え、30分間撹狐毘合した
。混合後、100メツシユの篩を通して、スプレーする
際に目詰まりが生じないように大粒の固まりを除去した
。このようにして調製された釉薬をコンクリート基材(
寸法300x300X80mm)上に、エアースプレー
装置にて50g塗布した。その後気中にて1時間放置乾
燥した。次いでプラズマテクニック社製PT−A200
0型プラズマ溶射ガンを用い、下記の条件で釉薬塗膜だ
けを熔融したプラズマ炎走査速度:50〜15mm/秒
走査幅 :2mm 基材−プラズマガン間距M:9〜12cmプラズマ発生
条件=400〜600A。
65〜75v。
Ar流量〜60Q/分。
H2流量lO〜1512/分。
表 1
LigO0〜5% Z n OO〜10%N a tO
O〜10%B tO31〜20%K tOO〜lO%A
lt030〜15%MgO0〜5% S i Ot 2
0〜50%Ca0O〜5% Z r Ot 5〜10%
このようにして、釉層の光沢面が得られた。従来の釉薬
を用いた場合には溶射時に釉層の剥離がしばしば生じた
のに対して、本実施例の釉層は全く剥離が生じなかった
。また該釉薬は従来の釉薬よりも融点が多少低下してい
るため、低出力で良好な光沢面が得られた。
O〜10%B tO31〜20%K tOO〜lO%A
lt030〜15%MgO0〜5% S i Ot 2
0〜50%Ca0O〜5% Z r Ot 5〜10%
このようにして、釉層の光沢面が得られた。従来の釉薬
を用いた場合には溶射時に釉層の剥離がしばしば生じた
のに対して、本実施例の釉層は全く剥離が生じなかった
。また該釉薬は従来の釉薬よりも融点が多少低下してい
るため、低出力で良好な光沢面が得られた。
実施例2:
タイル素焼素地(loOXloOmm角)上に、実施例
1と同様にして調製した釉薬をエアースプレーにて約5
g塗布した。その後気中にて約1時間放置して、施釉面
を乾燥させた。次いでメテコ社製5Fガン(ガス式溶射
装置)の火炎を用いて、下記の条件で釉薬塗膜だけを熔
融した:火炎走査速度=5〜20mm/秒 走査幅 :5〜20mm 基材−溶射ガン間距離二12〜20cmガス流量 :
酸素 35a/分、 アセチレン 35Q/分。
1と同様にして調製した釉薬をエアースプレーにて約5
g塗布した。その後気中にて約1時間放置して、施釉面
を乾燥させた。次いでメテコ社製5Fガン(ガス式溶射
装置)の火炎を用いて、下記の条件で釉薬塗膜だけを熔
融した:火炎走査速度=5〜20mm/秒 走査幅 :5〜20mm 基材−溶射ガン間距離二12〜20cmガス流量 :
酸素 35a/分、 アセチレン 35Q/分。
このようにして、タイル素地上に施釉層の光沢面が得ら
れた。該施釉層は火炎溶射時に全く剥離を生じなかった
。また本例で使用した釉薬は従来の釉薬よりも融点が多
少低下しているため、走査速度を大きくしても良好な光
沢面が得られた。
れた。該施釉層は火炎溶射時に全く剥離を生じなかった
。また本例で使用した釉薬は従来の釉薬よりも融点が多
少低下しているため、走査速度を大きくしても良好な光
沢面が得られた。
実施例3:
タイル素焼素地(100x100mm角)上に、はけで
市販の水ガラス(Sift:30%。
市販の水ガラス(Sift:30%。
Na、O:IQ%、水=60%)を約1g塗布し、その
上、に実施例1で調製した水ガラス添加釉薬を約5gエ
アースプレーで塗布した。その後気中で2時間放置して
施油面を乾燥させた。次いで実施例2と同じ装置を用い
同一条件にて釉薬塗膜を熔融して、光沢面を得た。溶射
時に施油面の剥離は生ぜず、面状態は良好であった。ま
た走査速度を大きくしても良好な光沢面が得られた。
上、に実施例1で調製した水ガラス添加釉薬を約5gエ
アースプレーで塗布した。その後気中で2時間放置して
施油面を乾燥させた。次いで実施例2と同じ装置を用い
同一条件にて釉薬塗膜を熔融して、光沢面を得た。溶射
時に施油面の剥離は生ぜず、面状態は良好であった。ま
た走査速度を大きくしても良好な光沢面が得られた。
[作用および効果]
Claims (6)
- (1)釉薬中のガラスフリット成分100重量部に対し
て1〜40重量部の耐熱付着性無機系物質が添加・混合
されていることを特徴とする、塗布・加熱溶射用の釉薬
。 - (2)上記の耐熱付着性無機系物質が水ガラスである、
特許請求の範囲第1項の釉薬。 - (3)上記の耐熱付着性無機系物質の添加量が、ガラス
フリット成分100重量部に対して3〜30重量部であ
る、特許請求の範囲第1または第2項の釉薬。 - (4)無機質基材表面上に、ガラスフリット成分100
重量部に対して1〜40重量部の耐熱付着性無機系物質
が添加・混合された釉薬を塗布し、次いで施釉表面を加
熱溶射して釉層を熔融させてガラス質釉層を形成させる
ことを特徴とする、施釉法。 - (5)上記の釉薬の塗布前に、無機質基材表面上に耐熱
付着性無機系物質を塗布する、特許請求の範囲第4項の
方法。 - (6)上記の耐熱付着性無機系物質が水ガラスである、
特許請求の範囲第4または第5項の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11287587A JPS63277583A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 改良された塗布・溶射用釉薬および施釉法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11287587A JPS63277583A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 改良された塗布・溶射用釉薬および施釉法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63277583A true JPS63277583A (ja) | 1988-11-15 |
Family
ID=14597716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11287587A Pending JPS63277583A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 改良された塗布・溶射用釉薬および施釉法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63277583A (ja) |
-
1987
- 1987-05-07 JP JP11287587A patent/JPS63277583A/ja active Pending
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