JPS63268778A - 乾式平版印刷インキ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の目的」 （産業上の利用分野） 本発明は、乾式平版印刷インキに関するものである。

（従来技術） 現在、−触部な印刷方法として凸版印刷、平版印刷、凹
版印刷等があり、平版印刷の内、ウェットオフセット印
刷では、印刷版表面が親木部分と親油部分からなり、イ
ンキは親油部分にのみ転移し２画線が得られる方式であ
る。この印刷方式では画像が鮮明であり、高級な印刷物
が得られること、製版価格が安価で、短時間で製版がで
きることを特徴としている。しかし、この印刷方法では
、印刷時にインキと共に湿し水を使うため、インキのコ
ントロールと共に湿し水についてもコントロールする必
要があり、印刷作業は高度の技術を要する。このため最
近湿し水を使うことなく、平版オフセット印刷ができる
印刷方式が提唱されている。すなわち、乾式平版印刷で
あり、この方式での印刷は、従来のウェットオフセット
印刷時に問題となっていた湿し水による弊害１例えば印
刷インキの乳化、水負けによる転移不良、ゴースティン
グのは発生等が改良される。

しかし２通常のインキを使用して、この乾式平版印刷法
によって印刷を長時間継続すると２版面での温度が上昇
し、インキが非画線部に付着して汚れを起こしやすくな
る。これを解決する手段として各種インキ用素材をシリ
コン化合物で変性する手段が提案されている。例えば、
シリコン変性アルキッド樹脂（特公昭５１−１０１２４
号公報、同５１〜２２４０５号公報）、シリコン変性フ
ェノール樹脂（特開昭５２−１００４２号公報、同５２
−６２５０６号公１１ｉり、　　シリコン変性乾性油（
特公昭５２−１００４１号公報、同５２−１００４２号
公報）シリコン変性シクロペンタジェン系樹脂（特開昭
５６−１１０２４号公報、同５６−１１０７０６号公報
）。

低芳香族系オレフィン成分の溶剤を使用するインキ（特
開昭５６−８２８６１号公報）等がある。これらの素材
は、汚れには効果が見られるものの１組み合わせによっ
ては汚れ耐性がまだ不満足であったり、地汚れ耐性が改
良されると共に印刷物の光沢が劣化して、印刷物の品質
が低下するなどの欠点が見られる。一方、インキでの問
題は保存中にインキが増粘するために作業性が悪くなる
。さらにはシロキサン化合物は一般インキ用素材に比べ
、非常に高価であるため、インキの価格も上昇してしま
うなどの欠点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 乾式平版を用いた印刷において、地汚れ耐性があり、光
沢が優れ、かつ安価で保存中の安定性の借れた乾式平版
印刷インキが望まれていた。

「発明の構成」 （問題点を解決するための手段） 本発明者等は、地汚れ耐性があり、光沢が優れ。

保存安定性の優れ、かつ安価な乾式平版印刷用インキの
検討をしたところ、ロジンおよびまたはその誘導体とフ
ェノール樹脂とを酸性触媒の存在下で反応し、酸価５０
以下としたロジン変性フェノール樹脂をワニス成分とし
て含有する乾式平版印刷インキを発明した。

本発明に係わる樹脂は、ロジンおよびまたはその誘導体
とフェノール樹脂とを酸性触媒の存在下で少なくとも１
５０℃の温度で反応せしめて酸価５ｏ以下とした樹脂で
ある。

ロジンおよびまたはその誘導体としてはガムロジン、ウ
ッドロジン、重合ロジン、マレイン化ロジン、フマル化
ロジンなどが挙げられ、フェノール樹脂としてはｐ−ｔ
−ブチルフェノール、ｐ−オクチルフェノールまたはｐ
−ノニルフェノールなどのフェノールから選ばれる少な
くとも１種を主体として用いたノボラック型フェノール
樹脂およびまたはレゾール型フェノール樹脂である。さ
らに、ロジン変性フェノール樹脂としてはフェノール樹
脂の割合が２０〜７０重量％であるロジン変性フェノー
ル樹脂である。

乾式平版印刷インキ用の樹脂は遊離のカルボキシル基が
残っていることは地汚れ耐性上好ましくなく、酸価は５
０以下となるように何らかの官能基でカルボキシル基の
ブロックをする。その多くはアルコール、特に多価アル
コールによるエステル化をする。また、イソシアネート
基やエポキシ基等による反応も用いられる。しかもこれ
らカルボキシル基をブロックするために用いられるアル
コールの水酸基。

イソシアネート基、エポキシ基等はいずれの場合もカル
ボキシル基より当量比で５〜１０％の過剰率で用いられ
る。従って、これら官能基も樹脂中に遊離して残ってい
る。この遊離官能基もカルボキシル基と同様に印刷適性
を劣化させる。この印刷適性の劣化を防ぐため親油性の
高いフェノール樹脂とロジンおよびまたはその誘導体と
を反応させることを検討した。その結果フェノール樹脂
としてはレゾール型フェノール樹脂およびノボラック型
フェノール樹脂とも硫酸やスルホン酸のような強酸の触
媒の存在下ではロジンおよびまたはその誘導体とは１５
０′ｃ以上の反応温度でエステル化反応が進み、酸価５
ｏ以下となった。

本発明のロジン変性フェノール樹脂を得るためにはｐ−
トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸等のスルホン酸翻、
硫酸、塩酸等の鉱酸を触媒して１５０℃以上の加熱する
必要がある。しかし、このような条件では反応物が容易
に着色するため、還元剤である次亜リン酸、トリフェニ
ルホスファイト、トリフェニルホスフェート等を併用す
ることが好ましいこのロジン変性フェノール樹脂中のフ
ェノール樹脂の割合は２０重量％〜７０重量％で、フェ
ノール性ＯＨ基／Ｃ０ＯＨ基＝　１．０　／　１．０〜
２．５　／　１．０を満足できる範囲が好ましい。

また、フェノール樹脂のフェノール成分としては石炭酸
、クレゾール、ターシャリ−またはセカンダリ−ブチル
フェノール、アミルフェノール、シクロヘキシルフェノ
ール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、フェニ
ルフェノール、クミルフェノール等のフェノール、カテ
コール、レゾルシン、ハイドロキノン、ビスフェノール
等の多価フェノールが挙げられ、なかでも長鎖アルキル
フェノール、例えばブチルフェノール、オクチルフェノ
ール、ノニルフェノールを主体とすることが溶解性の点
から好ましい。また２本発明においては必ずしも長鎖ア
ルキルフェノールのみに限定されるものでなく、その他
のフェノールを長鎖アルキルフェノールと併用すること
もできる。ただし、これらのフェノールの併用は使用量
があまり多くなると、溶解性が劣化することが多い。

アルデヒド成分としてはホルムアルデヒド、ｐ−ホルム
アルデヒドなどが挙げられ、フェノール成分１モルに対
して０．２〜４モルをリン酸、　　ｐ−）ルエンスルホ
ン酸、修酸、塩酸、硫酸等の公知の酸触媒下で反応する
ことでノボラック型フェノール樹脂が与えられ、またフ
ェノール成分１モルに対して０．２〜４モルの水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、−水酸化カルシウム、水酸
化マグネシウム、酸化マグネシウム等のアルカリ触媒ま
たはアンモニア水、トリエチレンジアミン、トリエチル
アミン等のアミン類等の公知のアルカリ触媒下で反応す
ることでレゾール型フェノール樹脂が得られる。この樹
脂は、１２．物油や乾性油によってインキワニスとして
用いる。

本発明の印刷インキ用ワニスの作成は沸点２００℃以上
の鉱油系溶剤２０〜７０重量％とロジン変性フェノール
樹脂３０〜６０重量％の他、アマニ油。

桐油、米ぬか油、大豆油等の乾性油、およびこれらの重
合油、または乾性油アルキッド樹脂を、必要に応じて１
〜３０重量％添加し、１８０℃で溶解する、実際の使用
に当たってはオクチル酸アルミニウム、ステアリン酸ア
ルミニウム、オクチル酸ジルコニウム、アルミニウムト
リイソプロポキサイド、アルミニウムジイソプロポキサ
イドモノアセチルアセテート等による公知のゲル化剤を
利用してゲルワニスにすることが望ましい。また着色剤
としては黄色。

紅色、藍色、または墨色などの顔料を分散し、必要に応
じて耐摩擦向上剤、インキドライヤー、乾燥抑制剤等の
コンパウンドを添加し、適切な粘度となるよう調整する
ことでオフセットインキ等の乾式平版印刷インキとなる
。

さらに必要に応じてオルガノポリシロキサンの添加も可
能である。添加量は、５重量％以下が望ましく、それ以
上の添加は光沢が劣化する。オルガノポリシロキサンと
しては、メチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシ
ロキサン、ジメチルポリシロキサン、アルキルアリル変
性シリコーンオイルなどが挙げられる。

次に具体例によって本発明を説明する。「部」。

「％」とは重量部９重量％をそれぞれ表わす。

製造例１ （レゾール型フェノール樹脂の製造） 攪拌機、還流冷却器、温度計付き４つロフラスコにｐ−
オクチルフェノール２０６部、３７％ホルマリン１６２
部、水１００部を仕込み、攪拌、加熱し、６０℃とする
。その時点で水酸化ナトリウム４０部を水８０部に溶解
した触媒液を添加し、９０℃に加熱して６時間攪拌した
。その時点でトルエン１８６部添加し１反応物をトルエ
ン溶液とした。その後、塩酸１００部を水２００部に希
釈して添加し、中和し、２００部の水を加えて水洗いし
た。水洗いを３回繰り返した後、水を除去して、４００
部のレゾール型フェノール樹脂を得た。この樹脂をフェ
ノール樹脂■とする。

製造例２ （ノボラック型フェノール樹脂の製造）゛撹拌機、水分
離器付還流器、温度計付き４つ目フラスコにｐ−オクチ
ルフェノール２０６部と純度８０％のパラホルムアルデ
ヒド６０部、トルエン１００部を加え、６０℃で攪拌し
ながらｐ−）ルエンスルホン酸１部を水９部に溶解した
触媒１０部を添加して、９０℃で５時間反応した後、水
を抜きながら１１５℃に昇温しで２時間反応した後、ト
ルエン７０部を加えて冷却し、ノボラック型フェノール
樹脂を約４００部得た。これをフェノール樹脂■とした
製造例３ （ロジン変性フェノール樹脂の製造） 攪拌機、水分離器付コンデンサー、温度計付き４つロフ
ラスコに中国ガムロジン１５０部、ジイソレックス（理
化バーキュレス製重合ロジン）５０部を仕込み、Ｎ　ガ
スを吹き込みながら加熱、１５０℃として攪拌し、更に
２４０℃まで昇温しでフェノール樹脂Ｉ４００部に、ｐ
−＋−ルエンスルホン酸２部と５０％次亜リン酸水溶液
２部とを混合した触媒液を混合した溶液を２時間かけて
滴下した。その後４時間反応して酸価２２として汲出し
た。

尚、この樹脂は酸価　２２．融点１５８℃（キャピラリ
ー法）であった。これをロジン変性フェノール樹脂■と
する。

製造例４ 製造例３で用いたものと同様の反応装置にロジン１７０
部とマルキード３３（荒用化学工業製：マレイン化ロジ
ン）３０部を仕込み、１５０℃に昇温して攪拌し、１８
０℃としてフェノール樹脂■４００部に、硫酸１部と５
０％次亜リン酸１部の混合液を２部添加した混合液を２
時間かけて滴下し、６時間反応して酸価２６として汲出
した。

尚、この樹脂は酸価２６．融点１６１”Ｃであった。こ
れをロジン変性フェノール樹脂■とする。

実　施　例　１　（インキワニスの作成）攪拌機、コン
デンサー、温度計付き４つロフラスコにロジン変性フェ
ノール樹脂■を１８５部、００号アマニ油重合油４０部
２日石３号ソルベント（日本石油製インキ溶剤）１７５
部を仕込み、Ｎ　ガスを吹き込みながら加熱し、１８０
°Ｃとして、３０°Ｃ攪拌して溶解し、ワニス１を得た
。

このワニス１７４０部を攪拌機、コンデンサー、温度計
付き４つロフラスコに仕込み、Ｎ　ガスを吹き込みなが
ら攪拌、昇温し、８０℃として白石３号ソルベント４８
部にオフトープＡｅ（ホープ！！！薬製ゲル化剤）１２
部を分散させたゲル化剤６０部を添加し、１７０℃まで
昇温し、３０分間攪拌してゲルワニスとした。このゲル
ワニスをゲルワニス１とする。

実施例２ 実施例１で示した工程でロジン変性フェノール樹脂１１
７５部に替え、ロジン変性フェノール樹脂■１７６部以
外は全（同じ操作を行い、ワニス２およびゲルワニス２
を得た。

実施例３ 実施例１で示した反応装置を用いロジン変性フェノール
樹脂１１８０部、ＯＯ号アマニ油重合油８０部１日石Ｏ
号ツルベン）Ｈ（日本石油製パラフィン系インキ溶剤）
１８０部を仕込み実施例１と同様な操作によってワニス
３を得た。このワニス７６８部を攪拌機、コンデンサー
、温度計付き４つロフラスコに仕込み、窒素ガスを吹き
込みながら攪拌、加熱１００℃に昇温しで、アルミニウ
ムジイソプロポキサイドモノアセチルアセトネート８部
を８石Ｏ号ツルベン１−Ｈ１６分に混和したゲル化剤を
添加し、このゲルワニス３を得た。

比較例１ （従来からの樹脂によるワニスの作成）製造例１と同様
な反応装置に中国ガムロジン２００部を仕込み窒素ガス
を吹き込みながら加熱し、２００℃で攪拌をはじめ更に
２３０℃に界温しで、ヒタノール２５０１　　（日立化
成製ｐ−オクチルフェノールのレゾール型フェノール樹
脂）１５０部を２時間かけて添加し、同温度で２時間反
応したものは酸価８３であり、エステル化は起こってい
ない。この後グリセリンを１７．５部（ＯＨ基／Ｃ０Ｏ
Ｈ基＝１゜１／１）添加し、２６０℃に昇温しで８時間
反応して酸価２４とした。

この樹脂の酸価は２４．融点は１３４℃であった。

このロジン変性フェノール樹脂を比較樹脂■とするこの
樹脂１７５部、００号アマニ油重合油４０部、日石３号
ソルベントによって実施例１と同工程で比較ワニス１お
よび比較ゲルワニス１を得た。

比較例２ 比較例１と同様にし比較樹脂■１８０部、ｏｏ号アマニ
油重合油４０部１日石Ｏ号ソルベント■イ（日本石油化
学製ノルマルパラフィン系溶剤）１８０部を用いてワニ
ス化およびゲルワニス化し、それぞれ比較ワニス２．比
較ゲルワニス２とした。

〔インキの作成〕

実施例１．２．３および比較例１．２で示したゲルワニ
ス６５部、カーミン５ＢＡ（東洋インキ製造製経顔料）
１８分をロールミルを用いて分散し、実施例１，２およ
び比較例１については日石３号ソルベントとワニスおよ
びまたはゲルワニスを用いて総量１００部となるように
、またタック値５．５〜６．０、フロー値（２５℃にお
ける）１９．５〜２０．５となるように調整した。

また実施例３および比較例２については日石０号ソルベ
ントＨとワニスおよびまたはゲルワニスを用いて総量１
００部となるように、またタック値５．５〜６．０．フ
ロー値（２５℃における）１９．５〜２０゜５となるよ
うに３周整した。

それぞれのインキをインキＮｏ１〜３．比較インキＮｏ
ｌ、２どした。なお、インキＮｏｌに東芝シリコンＫＦ
９６　（東芝シリコン製オルガノポリシロキサン）を２
％添加し、インキＮｏ４とし、比較インキＮ’ｏ　２に
東芝シリコンＫＦ９６を２％添加し、比較インキＮｏ３
とした。

〔インキ評価〕

これらのインキを乾式平版を用いて印刷し、地汚れ温度
と印刷物の光沢を測定した。すなわち１版胴に電熱ヒー
ターを設置して版面温度を上昇できるように改造した印
刷機に、シリコーンゴムよりなる非粘着性層を有する乾
式平版を取りつけ、湿し水を供給することな（１版面温
度を上昇させながら印刷し、一定のベタ濃度を測定した
。結果を表に示す。

なお、地汚れ耐性は、乾式平版印刷における地汚れ温度
を示す。２７℃未満のものは劣り、「劣」で示す。２７
〜３２℃未満のものは中程度で、「中」で示す。３２℃
以上のものは良好で、「良好」で示す。

光沢は印刷物を１６０℃のオープンに５秒間入れて加熱
後、村上色材製グロスメーターモデルＤＭ−２６Ｄ　＜
６Ｏ−６０）で測定した。６０％以上は光沢良で、６０
〜５０％は中程度、５０％未満は劣ることを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ロジンおよびまたはその誘導体とフェノール樹脂と
   を酸性触媒の存在下で反応し、酸価５０以下としたロジ
   ン変性フェノール樹脂をワニス成分として含有すること
   を特徴とする乾式平版印刷インキ。 ２、上記ロジン変性フェノール樹脂のキャピラリー法で
   の融点が１２０度以上である特許請求の範囲第１項記載
   の乾式平版印刷インキ。 ３、さらにオルガノポリシロキサンを添加してなる特許
   請求の範囲第１項または第２項記載の乾式平版印刷イン
   キ。