JPS63267736A - テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの製造方法 - Google Patents
テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの製造方法Info
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- JPS63267736A JPS63267736A JP63086297A JP8629788A JPS63267736A JP S63267736 A JPS63267736 A JP S63267736A JP 63086297 A JP63086297 A JP 63086297A JP 8629788 A JP8629788 A JP 8629788A JP S63267736 A JPS63267736 A JP S63267736A
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- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とヘキサフ
ルオロプロピレン（ＨＰＰ）の製造方法に関する。
ルオロプロピレン（ＨＰＰ）の製造方法に関する。
（従来の技術および発明が解決しようとする課題）全体
の反応としては、次の反応式 ％式％ に従ってクロロジフルオロメタン（ｃＤＭ）の熱分解（
ｐｙｒｏｌｙｓｉｓ）によりＴＦＢを製造することは知
られている。この反応は気相反応であり、そして６００
℃より上の温度でＣＤＭをそのもの自体だけで高温の加
熱された管を通すことによって行われる０反応は左から
右への吸熱反応であるが、約４００℃より下では（妥当
な滞留時間でさえも）分析しても反応が検出されない、
ＣＤ？Ｉはその一部のみしか反応せず、そして平衡時
での生成物へのＣＤＨの転化率は温度および減圧を増大
させるにつれて増大する０反応はＴＦＥ生成に対する選
択性が乏しいという欠点を有し、そして多くの化合物の
中でヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロイソブチ
レン、クロロへキサフルオロプロパンおよびクロロテト
ラフルオロエタンのような各種の化合物を生ずる競争反
応により、副生成物が生成する。選択率の増大は常に転
化率の減少によって相殺されるが、選択率は反応条件と
りわけ温度、圧力および滞留時間（反応管の中で）を注
意深く制御することによって最大にし得る。
の反応としては、次の反応式 ％式％ に従ってクロロジフルオロメタン（ｃＤＭ）の熱分解（
ｐｙｒｏｌｙｓｉｓ）によりＴＦＢを製造することは知
られている。この反応は気相反応であり、そして６００
℃より上の温度でＣＤＭをそのもの自体だけで高温の加
熱された管を通すことによって行われる０反応は左から
右への吸熱反応であるが、約４００℃より下では（妥当
な滞留時間でさえも）分析しても反応が検出されない、
ＣＤ？Ｉはその一部のみしか反応せず、そして平衡時
での生成物へのＣＤＨの転化率は温度および減圧を増大
させるにつれて増大する０反応はＴＦＥ生成に対する選
択性が乏しいという欠点を有し、そして多くの化合物の
中でヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロイソブチ
レン、クロロへキサフルオロプロパンおよびクロロテト
ラフルオロエタンのような各種の化合物を生ずる競争反
応により、副生成物が生成する。選択率の増大は常に転
化率の減少によって相殺されるが、選択率は反応条件と
りわけ温度、圧力および滞留時間（反応管の中で）を注
意深く制御することによって最大にし得る。
水蒸気（スチーム）のような希釈剤（それは使用する反
応条件下で実質的に不活性である）の存在下で、特に実
質的に断熱反応を行うためにＣＤＭと過熱水蒸気とを混
合してその混合ガスを例えば約６５０〜８５０℃の反応
温度および例えば約３０〜５００ミリセコンドの滞留時
間で加熱された高温の管の中を通すことによって、水蒸
気の存在下で熱分解を行うと、この選択率／転化率の妥
協点（ｃｏｍｐｒｏｎ＋１ｓｅ）を改善することが知ら
れている（英国特許第１．０４１．７３８号、同第９６
０．３０９号および同第９０４，０２２号参照）。この
技法を用いて、英国特許第９０４゜０２２号によれば、
１５〜７０モル％の水蒸気とすなわち８５〜３０モル％
のＣＤＭとを含有する水蒸気／ＣＤＭ混合物を用いるこ
とによって６５〜７０％の転化率で９０〜９４％の範囲
の選択率を達成でき、また英国特許第１，０４１，７３
８号によれば、７０〜９０モル％の水蒸気とすなわち３
０〜１０モル％のＣＤＭとを含有する水蒸気／ＣＤＭ混
合物を用いることによって７５〜８５％の転化率で９０
〜９５％の範囲の選択率を達成でき、更に英国特許第９
６０，３０９号によれば、８３〜９６モル％の水蒸気と
すなわち１７〜４モル％のＣＤＭとを含有する水蒸気／
ＣＤＭ混合物を用いることによって５０〜９６％（結果
はかなりバラつきがあり可変的である）の転化率で９５
〜９８％の範囲の非常に高い選択率が得られることを例
示している。本発明者らが知る限りにおいては、ＣＤＭ
の熱分解でＴＦＥを製造する工業的製造法の全ては、純
ＣＤＭを加熱された高温の金属管の中を通すことによる
場合の低い００Ｍ転化率であるいは水蒸気／ＣＤＭ混合
物を加熱された金属管の中を通すという方法を用いる場
合のより高い００Ｍ転化率でか、何れかで行われている
。そして後者の場合には、適当な高い転化率で非常に高
い選択率を達成するために前記混合物が非常に高い割合
量の水蒸気を含まなければならないことが明らかである
（そして実際に本発明者らは先行技術方法の教示する所
が実際あまりにも楽観的にすぎることを見出し、そして
約８０モル％の水蒸気の添加レベルを用いる場合にのみ
約３５〜７８％の転化率が得られて、しかも約７５〜９
５％の選択率が達成できることを見出している。しかし
ながら、このように非常に大きな容量の水蒸気を使うこ
との必要性はそれ自体欠点があり、例えばそのように多
量の水蒸気の発生、製造と取扱いに要する費用が大きく
且つスチーム・リホーミング反応によって生成されるＣ
Ｏのような別の副生物の生ずる危険を有する。
応条件下で実質的に不活性である）の存在下で、特に実
質的に断熱反応を行うためにＣＤＭと過熱水蒸気とを混
合してその混合ガスを例えば約６５０〜８５０℃の反応
温度および例えば約３０〜５００ミリセコンドの滞留時
間で加熱された高温の管の中を通すことによって、水蒸
気の存在下で熱分解を行うと、この選択率／転化率の妥
協点（ｃｏｍｐｒｏｎ＋１ｓｅ）を改善することが知ら
れている（英国特許第１．０４１．７３８号、同第９６
０．３０９号および同第９０４，０２２号参照）。この
技法を用いて、英国特許第９０４゜０２２号によれば、
１５〜７０モル％の水蒸気とすなわち８５〜３０モル％
のＣＤＭとを含有する水蒸気／ＣＤＭ混合物を用いるこ
とによって６５〜７０％の転化率で９０〜９４％の範囲
の選択率を達成でき、また英国特許第１，０４１，７３
８号によれば、７０〜９０モル％の水蒸気とすなわち３
０〜１０モル％のＣＤＭとを含有する水蒸気／ＣＤＭ混
合物を用いることによって７５〜８５％の転化率で９０
〜９５％の範囲の選択率を達成でき、更に英国特許第９
６０，３０９号によれば、８３〜９６モル％の水蒸気と
すなわち１７〜４モル％のＣＤＭとを含有する水蒸気／
ＣＤＭ混合物を用いることによって５０〜９６％（結果
はかなりバラつきがあり可変的である）の転化率で９５
〜９８％の範囲の非常に高い選択率が得られることを例
示している。本発明者らが知る限りにおいては、ＣＤＭ
の熱分解でＴＦＥを製造する工業的製造法の全ては、純
ＣＤＭを加熱された高温の金属管の中を通すことによる
場合の低い００Ｍ転化率であるいは水蒸気／ＣＤＭ混合
物を加熱された金属管の中を通すという方法を用いる場
合のより高い００Ｍ転化率でか、何れかで行われている
。そして後者の場合には、適当な高い転化率で非常に高
い選択率を達成するために前記混合物が非常に高い割合
量の水蒸気を含まなければならないことが明らかである
（そして実際に本発明者らは先行技術方法の教示する所
が実際あまりにも楽観的にすぎることを見出し、そして
約８０モル％の水蒸気の添加レベルを用いる場合にのみ
約３５〜７８％の転化率が得られて、しかも約７５〜９
５％の選択率が達成できることを見出している。しかし
ながら、このように非常に大きな容量の水蒸気を使うこ
との必要性はそれ自体欠点があり、例えばそのように多
量の水蒸気の発生、製造と取扱いに要する費用が大きく
且つスチーム・リホーミング反応によって生成されるＣ
Ｏのような別の副生物の生ずる危険を有する。
またＣＤＭの熱分解によってヘキサフルオロプロピレン
（ＲＦＰ）を製造することは米国特許第３．３０６゜９
４０号から知られており、それによってＲＦＰ、ＴＰＢ
、パーフルオロシクロブタンおよび他の生成物の混合
物が生成される。低い００Ｍ転化率では、生成されるＲ
ＦＰの割合が低いが、８６〜９４％の範囲の００Ｍ転化
率ではＲＦＰの割合が著しく増大することが見出される
。米国特許第３．３０６．９４０号における反応は好ま
しくは０．５〜１．２気圧の圧力下で０．１〜１０ミリ
セコンドの時間で７００〜９００℃の範囲の温度で行わ
れることが記載されている。当該反応もまた加熱された
高温の管の形の反応器で行われる。恐ら＜ ＲＦＰの生
成は、最初に生成したＴＦＥに対して、例えばＣＤＭの
分解、また多分子ＦＨの分解から生成されるＣＦ、 ：
が下記の反応式で示すように付加することによって
起こる。
（ＲＦＰ）を製造することは米国特許第３．３０６゜９
４０号から知られており、それによってＲＦＰ、ＴＰＢ
、パーフルオロシクロブタンおよび他の生成物の混合
物が生成される。低い００Ｍ転化率では、生成されるＲ
ＦＰの割合が低いが、８６〜９４％の範囲の００Ｍ転化
率ではＲＦＰの割合が著しく増大することが見出される
。米国特許第３．３０６．９４０号における反応は好ま
しくは０．５〜１．２気圧の圧力下で０．１〜１０ミリ
セコンドの時間で７００〜９００℃の範囲の温度で行わ
れることが記載されている。当該反応もまた加熱された
高温の管の形の反応器で行われる。恐ら＜ ＲＦＰの生
成は、最初に生成したＴＦＥに対して、例えばＣＤＭの
分解、また多分子ＦＨの分解から生成されるＣＦ、 ：
が下記の反応式で示すように付加することによって
起こる。
ＣｚＦ４＋ ： ＣＦｚ −→Ｃ３Ｆ＆比較的高い割
合のＲＦＰが高温の加熱された管内で８６〜９４％の０
０Ｍ転化率で生成するが、反応は決してきれいな反応で
はなく、ＰＣＢのような他の生成物（ＴＦＨに加えて）
が有意な割合でまだ生成する。
合のＲＦＰが高温の加熱された管内で８６〜９４％の０
０Ｍ転化率で生成するが、反応は決してきれいな反応で
はなく、ＰＣＢのような他の生成物（ＴＦＨに加えて）
が有意な割合でまだ生成する。
さらに、効果的なＨＦＰ製造のためのＣ０Ｍ転化率範囲
は狭いので、約９０％より上の００Ｍ転化率では不望な
生成物自体の収率が激しい増加を示し、そして約９４％
を越えるＣＤ？１転化率では、反応器をふさぐ炭素堆積
物のために実際上の製造ができなくなる。
は狭いので、約９０％より上の００Ｍ転化率では不望な
生成物自体の収率が激しい増加を示し、そして約９４％
を越えるＣＤ？１転化率では、反応器をふさぐ炭素堆積
物のために実際上の製造ができなくなる。
同様に、ＣＤＭ熱分解をＴＦＨの生成に適合させるよう
にした先行技術方法においては、反応はきれい（ｃｌｅ
ａｎ）でなく、そして反応諸条件を、ＴＦＥ製造につい
て高選択率を得るように（水蒸気による希釈で）最良に
選択、適合させた場合でさえも、ＲＦＰ以外に数種の副
生成物が比較的高い割合で生成してしまう。
にした先行技術方法においては、反応はきれい（ｃｌｅ
ａｎ）でなく、そして反応諸条件を、ＴＦＥ製造につい
て高選択率を得るように（水蒸気による希釈で）最良に
選択、適合させた場合でさえも、ＲＦＰ以外に数種の副
生成物が比較的高い割合で生成してしまう。
また、米国特許第３．４５９，８１８号によれば、高温
の加熱された背型の反応器を用い、しかもその反応管の
中で特定の温度勾配を維持させ、反応管中でＣＤＨにあ
る割合のＴＦＥを含有させることによって、ＴＦＥとＲ
ＦＰの両方について７５〜８０％の合算選択率（ｃｏｍ
ｂｉｎｅｄ ５ｅｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）で、ＣＤＨの熱
分解によりＴＦＥ及びＲＦＰの両者を製造することが知
られている。しかしながら、当該反応もまだ満足できる
ほどきれいでない。転化率の広範囲にわたってかなりの
高収率で他の副生成物（例えば当該特許に示されるよう
なＣ，Ｆｌｌ）が生成されるからである。
の加熱された背型の反応器を用い、しかもその反応管の
中で特定の温度勾配を維持させ、反応管中でＣＤＨにあ
る割合のＴＦＥを含有させることによって、ＴＦＥとＲ
ＦＰの両方について７５〜８０％の合算選択率（ｃｏｍ
ｂｉｎｅｄ ５ｅｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）で、ＣＤＨの熱
分解によりＴＦＥ及びＲＦＰの両者を製造することが知
られている。しかしながら、当該反応もまだ満足できる
ほどきれいでない。転化率の広範囲にわたってかなりの
高収率で他の副生成物（例えば当該特許に示されるよう
なＣ，Ｆｌｌ）が生成されるからである。
さらに熱分解すべき供給原料の一成分としてＴＦＥを必
らず必要とすることは足かせになる。
らず必要とすることは足かせになる。
（課題を解決するための手段、作用）
本発明者らは、ＣＤＨの熱分解によるＴＦＥとＩＩＦＰ
の混合物の製造法であって、熱分解反応におけるＣＤＭ
の転化率に依存せず且つＴＦＥ生成とＲＦＰ生成の個々
の選択率に依存せずに、ＴＦＥとＲＦＰの同時的製造に
ついて非常に高い選択率を与え得る方法として、ＣＤＭ
（ｃＤＭは単独でもよくまた場合によっては他の物質
との混合物の形でもよい）の熱分解によりＴＦＥとＲＦ
Ｐの混合物を製造する方法を見出した。
の混合物の製造法であって、熱分解反応におけるＣＤＭ
の転化率に依存せず且つＴＦＥ生成とＲＦＰ生成の個々
の選択率に依存せずに、ＴＦＥとＲＦＰの同時的製造に
ついて非常に高い選択率を与え得る方法として、ＣＤＭ
（ｃＤＭは単独でもよくまた場合によっては他の物質
との混合物の形でもよい）の熱分解によりＴＦＥとＲＦ
Ｐの混合物を製造する方法を見出した。
本発明によればクロロジフルオロメタン（ｃＤＭ）のガ
ス流を、随意にガス状または蒸気状の希釈剤との混合物
で、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレ
ンを生成するための熱分解反応が行われる加熱反応域の
中を通し、次いで反応域から出たガス流を冷却すること
からなる方法であって、該方法が次の条件、すなわち （１）反応帯域での熱分解が当該反応帯域の中を通るガ
スの全ての部分に実質的に均一に適用される等温条件下
で行われること、 （２）反応帯域の温度が制御可能であり且つ７５０〜９
８０℃の範囲内であること、 および （３）反応帯域におけるガス滞留時間が１〜５ｏミリセ
コンド（より好ましくは１〜２５ミリセコンド）の範囲
内であること の各条件を組合わせて行われることを特徴とするテトラ
フルオロエチレン（ＴＦＥ）とヘキサフルオロプロピレ
ン（ＲＦＰ）の製造方法が提供される。
ス流を、随意にガス状または蒸気状の希釈剤との混合物
で、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレ
ンを生成するための熱分解反応が行われる加熱反応域の
中を通し、次いで反応域から出たガス流を冷却すること
からなる方法であって、該方法が次の条件、すなわち （１）反応帯域での熱分解が当該反応帯域の中を通るガ
スの全ての部分に実質的に均一に適用される等温条件下
で行われること、 （２）反応帯域の温度が制御可能であり且つ７５０〜９
８０℃の範囲内であること、 および （３）反応帯域におけるガス滞留時間が１〜５ｏミリセ
コンド（より好ましくは１〜２５ミリセコンド）の範囲
内であること の各条件を組合わせて行われることを特徴とするテトラ
フルオロエチレン（ＴＦＥ）とヘキサフルオロプロピレ
ン（ＲＦＰ）の製造方法が提供される。
本明細書では、「転化率」とは、熱分解において反応し
たＣＤＭのモル分率（百分率として表す）を意味する。
たＣＤＭのモル分率（百分率として表す）を意味する。
ＴＦＢおよび／またはＨＦＰ生成の選択率とは次の計
算式で計算された値を意味する。
算式で計算された値を意味する。
Ｘ１００％
（すなわち、“合算選択率”については上記の計算式中
に示す「および／または」という二者択一的な表現にお
ける「および」について含んで計算するのである。） 本発明の方法を用いると、熱分解反応でのＣＤＭの転化
率の高低に依存せずに、また反応におけるＴＦＨ生成お
よびＨＦＰ生成の個々の選択率の高低に依存せずに、更
に反応器中でＣＤＭがそれだけ単独で、あるいは他の流
体物質との混合物の形で熱分解されるかどうかの何れか
にかかわらず、合算された場合のＴＦＥ及びＲＦＰにつ
いて非常に高い選択率を達成することができる。
に示す「および／または」という二者択一的な表現にお
ける「および」について含んで計算するのである。） 本発明の方法を用いると、熱分解反応でのＣＤＭの転化
率の高低に依存せずに、また反応におけるＴＦＨ生成お
よびＨＦＰ生成の個々の選択率の高低に依存せずに、更
に反応器中でＣＤＭがそれだけ単独で、あるいは他の流
体物質との混合物の形で熱分解されるかどうかの何れか
にかかわらず、合算された場合のＴＦＥ及びＲＦＰにつ
いて非常に高い選択率を達成することができる。
例えば、添付図面の第１図は、本発明の新規方法におけ
る１００モル％ＣＤＭの熱分解の場合（Ａ系列の曲線）
のＣ０Ｍ転化率の関数として表わされるＴＦＥ及びＨＦ
Ｐの合算の選択率を示し、また、これに比較して、高温
の加熱された金属管型の反応器を用いる現在実用されて
いる従来法の反応器の性能曲線も示す。本発明方法にお
いて、ＴＦＥ生成の選択率は約１０〜２０％のＣ０Ｍ転
化率での２９０％から、約６０％のＣ０Ｍ転化率での６
０％に減少し、一方ＲＦＰ生成の選択率は約１０〜２０
％のＣ０Ｍ転化率でのく５％の選択率から、約６０％の
Ｃ０Ｍ転化率での２５％の選択率に増加する。しかしな
がら、本発明の方法では、そのような条件下でもＴＦＥ
及びＲＦＰの合算選択率はＣ０Ｍ転化率の値に関係なく
≧８５％であり（生成した他の生成物が１５％以下）、
実際にも広範な転化率の値について、合算選択率は９０
％以上を十分に超えている。これに比較して加熱された
金属管型の反応器を用いる従来法の場合に得られるＴＦ
Ｅ及びＲＦＰの合算選択率はＣ０Ｍ転化率の値に関係な
く少なくとも１０％だけ本発明の方法の選択率よりも常
に小さい。
る１００モル％ＣＤＭの熱分解の場合（Ａ系列の曲線）
のＣ０Ｍ転化率の関数として表わされるＴＦＥ及びＨＦ
Ｐの合算の選択率を示し、また、これに比較して、高温
の加熱された金属管型の反応器を用いる現在実用されて
いる従来法の反応器の性能曲線も示す。本発明方法にお
いて、ＴＦＥ生成の選択率は約１０〜２０％のＣ０Ｍ転
化率での２９０％から、約６０％のＣ０Ｍ転化率での６
０％に減少し、一方ＲＦＰ生成の選択率は約１０〜２０
％のＣ０Ｍ転化率でのく５％の選択率から、約６０％の
Ｃ０Ｍ転化率での２５％の選択率に増加する。しかしな
がら、本発明の方法では、そのような条件下でもＴＦＥ
及びＲＦＰの合算選択率はＣ０Ｍ転化率の値に関係なく
≧８５％であり（生成した他の生成物が１５％以下）、
実際にも広範な転化率の値について、合算選択率は９０
％以上を十分に超えている。これに比較して加熱された
金属管型の反応器を用いる従来法の場合に得られるＴＦ
Ｅ及びＲＦＰの合算選択率はＣ０Ｍ転化率の値に関係な
く少なくとも１０％だけ本発明の方法の選択率よりも常
に小さい。
実際の実施に当っては、本発明による方法の性能は第１
図の結果が示すものよりもさらに良く、本発明の方法の
場合には、実際上定量的な炭素バランス（ｂａｌａｎｃ
ｅｓ）が得られ、高温の反応管末端に供給されたＣＤＨ
の２０％と同量程度が炭素として得られる（添付図面の
第２図参照）。
図の結果が示すものよりもさらに良く、本発明の方法の
場合には、実際上定量的な炭素バランス（ｂａｌａｎｃ
ｅｓ）が得られ、高温の反応管末端に供給されたＣＤＨ
の２０％と同量程度が炭素として得られる（添付図面の
第２図参照）。
従って、本発明の方法が同一装置でＴＦＥとＲＦＰを製
造するのに容易に使用し得るのであり、ＴＦＥまたはＨ
ＦＰのいずれかについても所望の相対的な割合で得るた
めには反応器の諸条件を適当に変化または適合させるだ
けで済むことがわかる。例えば、前記の反応器の諸条件
は、生成物混合物中のＴＦＨの割合、または）ＩＦＰの
割合を最大にするように変化させることができ、あるい
は実際に、そのような最大値の間でＴＦＥ／ＲＦＰ生成
物の中間的な比率も容易に得ることができる。生成物で
あるＴＦＢとＲＦＰ 、および出発原料であるＣＯＷは
常法により相互に分離でき、この分離は、本性で副生す
る他の生成物が極めて少量であることからみて、従来技
術方法の場合よりも比較的により容易に行える。
造するのに容易に使用し得るのであり、ＴＦＥまたはＨ
ＦＰのいずれかについても所望の相対的な割合で得るた
めには反応器の諸条件を適当に変化または適合させるだ
けで済むことがわかる。例えば、前記の反応器の諸条件
は、生成物混合物中のＴＦＨの割合、または）ＩＦＰの
割合を最大にするように変化させることができ、あるい
は実際に、そのような最大値の間でＴＦＥ／ＲＦＰ生成
物の中間的な比率も容易に得ることができる。生成物で
あるＴＦＢとＲＦＰ 、および出発原料であるＣＯＷは
常法により相互に分離でき、この分離は、本性で副生す
る他の生成物が極めて少量であることからみて、従来技
術方法の場合よりも比較的により容易に行える。
特に、本発明の方法では非常に少量しか二量体（環状Ｃ
，ＦＩ）が生成しない（そのような二量体は最終生成物
としてそれ自体で固有の利用価値が殆んどないけれども
、二量体の生成は、その除去のために高価な装置を必要
とするという点でＴＦＥ／ＲＦＰ製造の従来技術方法で
問題であった。）クロロトリフルオロエチレン（ｃＴＦ
Ｅ）は他の副生成物の主体であり、この物質はＨＦＰと
共沸し、そしてもし必要ならば、それを分離除去する手
段が使用し得る。
，ＦＩ）が生成しない（そのような二量体は最終生成物
としてそれ自体で固有の利用価値が殆んどないけれども
、二量体の生成は、その除去のために高価な装置を必要
とするという点でＴＦＥ／ＲＦＰ製造の従来技術方法で
問題であった。）クロロトリフルオロエチレン（ｃＴＦ
Ｅ）は他の副生成物の主体であり、この物質はＨＦＰと
共沸し、そしてもし必要ならば、それを分離除去する手
段が使用し得る。
本発明の方法を主としてＲＦＰ製造法として用いた場合
、ＨＦＰの全収率（ｏｖｅｒａｌｌ ｙｉｅｌｄ）は反
応器からの流出流体の一部（この流出流体はＴＰＢとｌ
’ｌＦＰ生成物の混合物を含有している）を、これから
ＨＣＩ（例えばＮａＯＨを用いて）および水（例えば凝
縮機を用いて）を除去した後に、００Ｍ供給原料ガスに
再循環すると更に増大し得ることが見出された。
、ＨＦＰの全収率（ｏｖｅｒａｌｌ ｙｉｅｌｄ）は反
応器からの流出流体の一部（この流出流体はＴＰＢとｌ
’ｌＦＰ生成物の混合物を含有している）を、これから
ＨＣＩ（例えばＮａＯＨを用いて）および水（例えば凝
縮機を用いて）を除去した後に、００Ｍ供給原料ガスに
再循環すると更に増大し得ることが見出された。
この再循環を行うと、供給原料を一回供給する運転（ｓ
ｉｎｇｌｅ ｐａｓｓ）を用いて得られるＲＦＰ収率を
２倍または３倍にさえ増大できる。工業的規模では、Ｔ
ＦＥのみ（そして場合によっては、熱分解するとＲＦＰ
にすることのできる環状二量体Ｃ４Ｆｓを含めて）が０
０Ｍ供給原料ガスへ再循環できるように前記の反応器流
出流体中の実質的に全ての不純物とＨＰＰ全部とを除去
することによって、ＲＦＰの全収率を更に向上すること
さえできる。
ｉｎｇｌｅ ｐａｓｓ）を用いて得られるＲＦＰ収率を
２倍または３倍にさえ増大できる。工業的規模では、Ｔ
ＦＥのみ（そして場合によっては、熱分解するとＲＦＰ
にすることのできる環状二量体Ｃ４Ｆｓを含めて）が０
０Ｍ供給原料ガスへ再循環できるように前記の反応器流
出流体中の実質的に全ての不純物とＨＰＰ全部とを除去
することによって、ＲＦＰの全収率を更に向上すること
さえできる。
本発明の方法では、等温の反応条件を均一に適用され、
また７５０〜９８０℃（代表的には８００〜９８０℃）
の高温範囲内の反応温度が用いられ更に短かい滞留時間
が用いられるのであり、これらのことによって、非常に
集約的な製造法として、極めて良い生産性をもつ方法を
提供できる。
また７５０〜９８０℃（代表的には８００〜９８０℃）
の高温範囲内の反応温度が用いられ更に短かい滞留時間
が用いられるのであり、これらのことによって、非常に
集約的な製造法として、極めて良い生産性をもつ方法を
提供できる。
本発明の方法を主としてＴＦＥ製造法として用いる場合
には、使用した反応温度は好ましくは７５０〜８９０℃
の範囲内（代表的には８００〜８８０℃の範囲内）であ
り、これは生成物混合物中のＴＦＥの割合を極大にする
ことを助ける。
には、使用した反応温度は好ましくは７５０〜８９０℃
の範囲内（代表的には８００〜８８０℃の範囲内）であ
り、これは生成物混合物中のＴＦＥの割合を極大にする
ことを助ける。
本発明の方法をＨＦＰならびにＴＦＥ製造の方法として
使用する場合には使用する反応温度は好ましくは８４０
〜９８０℃の範囲内（代表的には９００〜９５０℃の範
囲内）であり、これは生成物混合物中のＲＦＰの割合を
極大にすることを助ける。
使用する場合には使用する反応温度は好ましくは８４０
〜９８０℃の範囲内（代表的には９００〜９５０℃の範
囲内）であり、これは生成物混合物中のＲＦＰの割合を
極大にすることを助ける。
流出ガスが反応帯域を離れる時間から始めてより低い温
度（通常は所望の反応が進行する温度の下）まで流出ガ
スを急冷する時間は、冷却時間を正確に測るＭのは大変
であるけれども、好ましくは約５０ミリセコンドの範囲
内であるべきである。
度（通常は所望の反応が進行する温度の下）まで流出ガ
スを急冷する時間は、冷却時間を正確に測るＭのは大変
であるけれども、好ましくは約５０ミリセコンドの範囲
内であるべきである。
冷却時間は、あまり大きくはないが（多分的２％のオー
ダーで）、選択率に対しほとんど影響を及ぼさない。
ダーで）、選択率に対しほとんど影響を及ぼさない。
定義した滞留時間は入口ガスを低い入口温度（通常は室
温近傍であるかまたは７５０℃と室温近傍との間の温度
）から反応帯域内の所望の温度に加温するのに反応帯域
内で要する時間を包含する。
温近傍であるかまたは７５０℃と室温近傍との間の温度
）から反応帯域内の所望の温度に加温するのに反応帯域
内で要する時間を包含する。
本発明の方法で用いる滞留時間は１〜５０ミリセコンド
、好ましくは１〜２５ミリセコンドの範囲内であり、適
切な反応帯域温度を用いるならばこれはＲＦＰとＴＦＥ
の個々の回収に適当な選択率でＲＦＰとＴＦＨの両方の
製造を可能にするであろう。本発明の方法を主にＴＦＥ
製造源として用いる場合には滞留時間はより好ましくは
１〜１０ミリセコンド、特に好ましくは１〜４ミリセコ
ンドの範囲内であり、これは生成物混合物中のＴＰＨの
割合を極大にすることを助ける。
、好ましくは１〜２５ミリセコンドの範囲内であり、適
切な反応帯域温度を用いるならばこれはＲＦＰとＴＦＥ
の個々の回収に適当な選択率でＲＦＰとＴＦＨの両方の
製造を可能にするであろう。本発明の方法を主にＴＦＥ
製造源として用いる場合には滞留時間はより好ましくは
１〜１０ミリセコンド、特に好ましくは１〜４ミリセコ
ンドの範囲内であり、これは生成物混合物中のＴＰＨの
割合を極大にすることを助ける。
慣用のまたは自明なガス搬送装置が反応帯域にならびに
反応帯域からガス流を搬送するのに使用し得、これらは
通常１個もしくはそれ以上の適当に接続した適当な形状
の導管（ｄｕｃｔ）からなる。ＴＦＥ 。
反応帯域からガス流を搬送するのに使用し得、これらは
通常１個もしくはそれ以上の適当に接続した適当な形状
の導管（ｄｕｃｔ）からなる。ＴＦＥ 。
ＲＦＰ 、未反応ＣＤＭおよび（使用した場合には）希
釈剤を含む反応ガス混合物の流出流体はＴＦＥ 、 Ｒ
ＦＰ、未反応ＣＤＭ、希釈ガス（使用した場合）、また
は他の成分（または前述したような再循環法を行うため
のもの）を単離し採取するために慣用の方法（例えば、
凝縮、凍結、蒸留等）で処理し得る。
釈剤を含む反応ガス混合物の流出流体はＴＦＥ 、 Ｒ
ＦＰ、未反応ＣＤＭ、希釈ガス（使用した場合）、また
は他の成分（または前述したような再循環法を行うため
のもの）を単離し採取するために慣用の方法（例えば、
凝縮、凍結、蒸留等）で処理し得る。
本発明の方法においては、希釈ガスを使用する場合は、
使用する反応条件下で実質的に不活性であるものがよく
、使用できる希釈ガスの例としては窒素および二酸化炭
素が挙げられる。水蒸気（スチーム）は本発明の方法で
使用する反応条件下では不活性ではなく、反応してＣＯ
およびＩＦのような所望しない不純物を生成し得る。従
ってその使用は勧められない。希釈ガスの使用は確かに
どのようなＣ０Ｍ転化率でも本発明の方法におけるＴＦ
Ｈ及びＲＦＰの合算選択率をさらに一層増大するであろ
う（実施例と第１図を参照）。しかしながら、そのよう
な希釈ガスの使用は生成物から希釈ガスを分離する費用
を伴ない、それ故に本発明の方法においては通常は好ま
しくない。この観点（すなわち、分離の容易さ）から、
二酸化炭素が本発明の方法の工業的規模の運転における
希釈剤としての使用の好ましい可能性を有する。なぜな
らば、それは他の不活性ガスよりもより容易に分離でき
るからである。
使用する反応条件下で実質的に不活性であるものがよく
、使用できる希釈ガスの例としては窒素および二酸化炭
素が挙げられる。水蒸気（スチーム）は本発明の方法で
使用する反応条件下では不活性ではなく、反応してＣＯ
およびＩＦのような所望しない不純物を生成し得る。従
ってその使用は勧められない。希釈ガスの使用は確かに
どのようなＣ０Ｍ転化率でも本発明の方法におけるＴＦ
Ｈ及びＲＦＰの合算選択率をさらに一層増大するであろ
う（実施例と第１図を参照）。しかしながら、そのよう
な希釈ガスの使用は生成物から希釈ガスを分離する費用
を伴ない、それ故に本発明の方法においては通常は好ま
しくない。この観点（すなわち、分離の容易さ）から、
二酸化炭素が本発明の方法の工業的規模の運転における
希釈剤としての使用の好ましい可能性を有する。なぜな
らば、それは他の不活性ガスよりもより容易に分離でき
るからである。
ＣＤＭを加熱された高温の反応管の中を通す（場合によ
っては過熱水蒸気と一緒に）従来技術方法は、そのよう
な反応器が断熱（そして等温ではない）反応の諸条件を
与えるだろうから、本発明の方法に必要とされる反応の
諸条件をもたらすのに使用し得ない、特に高温（９００
”Ｃ以上を言う）で操作する場合や温度分布の正確な制
御を必要とする場合には、従来技術の管式反応器を用い
て反応帯域で多くて５００ミリセコンド（そして特に多
くて１０ミリセコンド）のガス滞留時間を達成すること
は実際的な観点（すなわち工場規模で運転する場合）か
ら（不可能ではないけれども）非常に困難である。さら
に、加熱された高温の管式反応器の使用は前述したよう
なかなり低い定量的な炭素量バランスを招く。これら全
ての点から、異なった型式の反応器が必要とされる。
っては過熱水蒸気と一緒に）従来技術方法は、そのよう
な反応器が断熱（そして等温ではない）反応の諸条件を
与えるだろうから、本発明の方法に必要とされる反応の
諸条件をもたらすのに使用し得ない、特に高温（９００
”Ｃ以上を言う）で操作する場合や温度分布の正確な制
御を必要とする場合には、従来技術の管式反応器を用い
て反応帯域で多くて５００ミリセコンド（そして特に多
くて１０ミリセコンド）のガス滞留時間を達成すること
は実際的な観点（すなわち工場規模で運転する場合）か
ら（不可能ではないけれども）非常に困難である。さら
に、加熱された高温の管式反応器の使用は前述したよう
なかなり低い定量的な炭素量バランスを招く。これら全
ての点から、異なった型式の反応器が必要とされる。
本発明の方法は１つの反応器要素を有する流体相の電磁
誘導加熱式の反応器を用いて非常に効率的に行い得、し
かもこの反応器は （ａ） 反応させるべき流体（随意に流体状の希釈剤
と混合してもよい）が該反応器要素の入口側から出口側
へ該要素内の反応帯域中を通過する時に該反応器要素内
に等温の反応帯域を提供するように少なくとも７５０〜
９８０℃の範囲内の制御可能な温度に電磁誘導加熱でき
る電磁誘導加熱式で且ら流体が透過可能な反応器要素で
あって、しかも該要素はこれを通る流体全体が実質的に
同一の等温の反応条件を受けさせ得ることのできるよう
な形態と構造を有し、更に該反応器要素が少なくとも１
〜５０ミリセコンドの範囲内の流体滞留時間を与えるこ
とができるものである誘導加熱式で且つ流体が透過可能
な反応器要素（ｅｌｅｍｅｎｔ）と、（ｂ） 電磁誘
導によって反応器要素（ａ）を加熱する加熱装置と、 （ｃ） 反応させるべき流体の流れを前記の反応要素
（ａ）に通す反応器要素（ａ）の入口へ還送するための
入口通送装置と、 （→ 前記の反応器要素（ａ）から出る流出流体を排送
するための出口排送装置と、 （ｅ） 前記の反応器要素（ａ）からの高温の流出流
体を急冷するための冷却装置と、 から構成されるものであるのが良いことを見出した。
誘導加熱式の反応器を用いて非常に効率的に行い得、し
かもこの反応器は （ａ） 反応させるべき流体（随意に流体状の希釈剤
と混合してもよい）が該反応器要素の入口側から出口側
へ該要素内の反応帯域中を通過する時に該反応器要素内
に等温の反応帯域を提供するように少なくとも７５０〜
９８０℃の範囲内の制御可能な温度に電磁誘導加熱でき
る電磁誘導加熱式で且ら流体が透過可能な反応器要素で
あって、しかも該要素はこれを通る流体全体が実質的に
同一の等温の反応条件を受けさせ得ることのできるよう
な形態と構造を有し、更に該反応器要素が少なくとも１
〜５０ミリセコンドの範囲内の流体滞留時間を与えるこ
とができるものである誘導加熱式で且つ流体が透過可能
な反応器要素（ｅｌｅｍｅｎｔ）と、（ｂ） 電磁誘
導によって反応器要素（ａ）を加熱する加熱装置と、 （ｃ） 反応させるべき流体の流れを前記の反応要素
（ａ）に通す反応器要素（ａ）の入口へ還送するための
入口通送装置と、 （→ 前記の反応器要素（ａ）から出る流出流体を排送
するための出口排送装置と、 （ｅ） 前記の反応器要素（ａ）からの高温の流出流
体を急冷するための冷却装置と、 から構成されるものであるのが良いことを見出した。
そのような反応器の要素（ｅｌｅｍｅｎｔ）は例えばグ
ラファイト、炭素または伝導性金属製であり得る。
ラファイト、炭素または伝導性金属製であり得る。
反応器要素は例えば多孔性の構造を与えるためにそのよ
うな材料の実質的に非繊維質性の熱伝導性微粒子の焼結
物であり得る。この反応器要素は流体の流れを外側表面
から入れそして内側表面から出すかあるいは内側表面か
ら入れそして外側表面から出すか、いずれか（好ましく
は前者）で反応器要素の中を急速に通すことができるよ
うに薄い中空な多孔質円筒の形態を有し得る。そのよう
な反応器要素は３５〜６０％より好ましくは４０〜５５
％の範囲内の多孔性（前記要素中の孔または空間の容積
を前記要素全容積で割った値として定義される）を有し
得る。適当な多孔性要素材料はグラファイト、炭素また
は伝導性金属の実質的に非繊維質性の熱伝導性微粒子の
焼結物または密に充填した固結物（すなわちつき固めた
もの）が挙げられる。
うな材料の実質的に非繊維質性の熱伝導性微粒子の焼結
物であり得る。この反応器要素は流体の流れを外側表面
から入れそして内側表面から出すかあるいは内側表面か
ら入れそして外側表面から出すか、いずれか（好ましく
は前者）で反応器要素の中を急速に通すことができるよ
うに薄い中空な多孔質円筒の形態を有し得る。そのよう
な反応器要素は３５〜６０％より好ましくは４０〜５５
％の範囲内の多孔性（前記要素中の孔または空間の容積
を前記要素全容積で割った値として定義される）を有し
得る。適当な多孔性要素材料はグラファイト、炭素また
は伝導性金属の実質的に非繊維質性の熱伝導性微粒子の
焼結物または密に充填した固結物（すなわちつき固めた
もの）が挙げられる。
使用し得る別の型式の反応器要素はその材質が事実上多
孔質でなく、そしてそこに流体の流れがその中を急速に
通ることができるように円筒の肉厚の中を通って伸びる
（すなわち円筒の外周面から円筒の内周面に）、微細孔
でなく多数の穿孔された放射状の穴によって流体透過性
を備えた薄い中空な円筒である。そのような反応器要素
の適当な材質としてはまたグラファイト、炭素または伝
導性金属がまた挙げられる。第１図および第２図の結果
（上部の曲線）ならびに実施例の結果はそのような穿入
された反応器要素を使用して得たものである。
孔質でなく、そしてそこに流体の流れがその中を急速に
通ることができるように円筒の肉厚の中を通って伸びる
（すなわち円筒の外周面から円筒の内周面に）、微細孔
でなく多数の穿孔された放射状の穴によって流体透過性
を備えた薄い中空な円筒である。そのような反応器要素
の適当な材質としてはまたグラファイト、炭素または伝
導性金属がまた挙げられる。第１図および第２図の結果
（上部の曲線）ならびに実施例の結果はそのような穿入
された反応器要素を使用して得たものである。
上述した型式の反応器要素の場合には、本発明の方法で
使用する範囲内の高温Ｔ″Ｃでの該反応器要素における
滞留時間は次の算式に従ってＮＴＰ （標準温度および
標準気圧）での滞留時間からほぼ決定し得る。
使用する範囲内の高温Ｔ″Ｃでの該反応器要素における
滞留時間は次の算式に従ってＮＴＰ （標準温度および
標準気圧）での滞留時間からほぼ決定し得る。
滞留時間（Ｔ″Ｃ）＝
熱分解に起因する反応の間のモル数の増大を考慮に入れ
るための膨張係数である） そしてここでＮＴＰでの滞留時間は次式によって示され
る。
るための膨張係数である） そしてここでＮＴＰでの滞留時間は次式によって示され
る。
前記の式は１００％ＣＤＭ供給原料の場合に、滞留時間
（Ｔ″Ｃで）の良好な近似値を与える。希釈剤が供給原
料中に存在する場合には、膨張係数が減じられそして比
１ ／１．５は（１＋Ｇ）／（１，５＋Ｇ） （式中、
Ｇは供給原料中のＣＤＨに対する希釈剤のモル比である
）によってよりよく置換される。
（Ｔ″Ｃで）の良好な近似値を与える。希釈剤が供給原
料中に存在する場合には、膨張係数が減じられそして比
１ ／１．５は（１＋Ｇ）／（１，５＋Ｇ） （式中、
Ｇは供給原料中のＣＤＨに対する希釈剤のモル比である
）によってよりよく置換される。
もちろん、他の型式の流体相の誘導加熱式の反応器が本
発明の方法に必要な反応条件の所望の組合せを達成する
のに役立ち得ることが理解されるであろう。
発明の方法に必要な反応条件の所望の組合せを達成する
のに役立ち得ることが理解されるであろう。
本発明の方法に関する限りは、流体相の誘導加熱式の反
応器（使用した場合には）は反応器要素が７５０〜９８
０℃の範囲内の温度に電磁誘導によって加熱され、そし
て反応器要素内の滞留時間が１〜５０ミリセコンド（好
ましくは１〜２５ミリセコンド）の範囲内であるように
運転されるべきである。
応器（使用した場合には）は反応器要素が７５０〜９８
０℃の範囲内の温度に電磁誘導によって加熱され、そし
て反応器要素内の滞留時間が１〜５０ミリセコンド（好
ましくは１〜２５ミリセコンド）の範囲内であるように
運転されるべきである。
前述のように、この滞留時間は反応器要素中でガスが低
い入口温度（通常室温または室温近辺）から高温の反応
器要素によって付与される高い所望の温度（７５０〜９
８０℃の範囲内）に加温されるために要する時間を包含
し、そして反応器要素の単位容積当りの高い表面積の故
に加温時間に極めて短かくそして得られるガス温度が高
温の反応器要素の温度に近いことが理解されるであろう
。
い入口温度（通常室温または室温近辺）から高温の反応
器要素によって付与される高い所望の温度（７５０〜９
８０℃の範囲内）に加温されるために要する時間を包含
し、そして反応器要素の単位容積当りの高い表面積の故
に加温時間に極めて短かくそして得られるガス温度が高
温の反応器要素の温度に近いことが理解されるであろう
。
穿孔された反応器要素または多孔質の反応器要素の場合
には、反応器要素の性質によってそこでの化学反応が基
本的に等温反応条件下で行われることが理解し得る。流
体相の誘導加熱式の反応器に使用される他の型式の反応
器要素も、もちろんそこでの反応に基本的に等温条件を
与える性質のものであるべきである。
には、反応器要素の性質によってそこでの化学反応が基
本的に等温反応条件下で行われることが理解し得る。流
体相の誘導加熱式の反応器に使用される他の型式の反応
器要素も、もちろんそこでの反応に基本的に等温条件を
与える性質のものであるべきである。
電磁誘導によって反応器要素を加熱するための加熱装置
は反応器要素の周りを取り囲む一次コイル（２次コイル
を形成している）と共に交流回路の一次コイルから構成
され得る。これは特に円筒形状の要素に都合がよく、そ
こでは周囲の一次コイルもまた広径のものを除いて円筒
状である。−次コイルはもちろん通常反応器ケースおよ
び／または反応器の他の構造物により反応器要素と分離
されるであろう。
は反応器要素の周りを取り囲む一次コイル（２次コイル
を形成している）と共に交流回路の一次コイルから構成
され得る。これは特に円筒形状の要素に都合がよく、そ
こでは周囲の一次コイルもまた広径のものを除いて円筒
状である。−次コイルはもちろん通常反応器ケースおよ
び／または反応器の他の構造物により反応器要素と分離
されるであろう。
慣用のまたは自明の入口通送装置及び出口排送装置は流
体の流れを反応器要素におよび反応器要素から搬送する
ために使用し得、これらは通常１個またはそれ以上の適
当に接続された適当な形状および位置の導管からなる。
体の流れを反応器要素におよび反応器要素から搬送する
ために使用し得、これらは通常１個またはそれ以上の適
当に接続された適当な形状および位置の導管からなる。
本発明の方法を行うために反応器を操作する場合には、
高温の流出ガスは反応器要素を離れることにより通常約
５０ミリセコンドの時間内に、低い温度まで急冷される
（冷却時間は正確に見積ることが難しいが、適当な場合
に冷却帯域中の空間容積および冷却帯域に入るガス流量
からおおよそ決定し得る）。この場合、どのような適当
な冷却装置でも使用し得る。例えばこのような冷却装置
は冷却された不活性表面（例えば、水冷された本体の外
部表面）から構成され、そして流出流体が適当な排出導
管によって反応器から搬送される前にその冷不活性表面
上に導かれる。そしてここでは中空な円筒状の穿孔され
た要素かあるいはまた多孔質性の要素が円筒の外側から
内側への流体流れ方向を伴って使用され、冷却表面はそ
の円筒状の要素内部に設置されそして且つ循環する流体
、好ましくは水、によって冷却された円筒状の本体（ｂ
ｏｄｙ） （流出ガスに対して不活性な適当な材質、通
常は金属製）によって都合よく提供され、そしてその円
筒状の要素と一緒になって環状の冷却帯域を形成してい
る。そしてそのような円筒体（または実際用いる冷却表
面に形作られたもの）の冷却表面はひれ状物（フィン）
（それは冷却帯域の容積を減らすことができ、そして十
分な冷却を達成するための時間を減少できる）のような
装置を用いることによって拡張し得る。あるいは冷却装
置は、例えば反応器要素を離れる高温のガスと混合する
（そしてそれによって冷却する）かまたは反応器要素の
ちょうど向こう側の高温の流出流体と混合するために反
応器要素の出口表面に持って行くために導びかれる不活
性（流出ガスに対し）冷却液体（液体例えば水が使用し
得るが通常はガスもしくは蒸気）の流れを含み得、該混
合物は出口排送装置を通って搬送される。冷却装置の一
つの型式より多い組合せもまた使用し得る。
高温の流出ガスは反応器要素を離れることにより通常約
５０ミリセコンドの時間内に、低い温度まで急冷される
（冷却時間は正確に見積ることが難しいが、適当な場合
に冷却帯域中の空間容積および冷却帯域に入るガス流量
からおおよそ決定し得る）。この場合、どのような適当
な冷却装置でも使用し得る。例えばこのような冷却装置
は冷却された不活性表面（例えば、水冷された本体の外
部表面）から構成され、そして流出流体が適当な排出導
管によって反応器から搬送される前にその冷不活性表面
上に導かれる。そしてここでは中空な円筒状の穿孔され
た要素かあるいはまた多孔質性の要素が円筒の外側から
内側への流体流れ方向を伴って使用され、冷却表面はそ
の円筒状の要素内部に設置されそして且つ循環する流体
、好ましくは水、によって冷却された円筒状の本体（ｂ
ｏｄｙ） （流出ガスに対して不活性な適当な材質、通
常は金属製）によって都合よく提供され、そしてその円
筒状の要素と一緒になって環状の冷却帯域を形成してい
る。そしてそのような円筒体（または実際用いる冷却表
面に形作られたもの）の冷却表面はひれ状物（フィン）
（それは冷却帯域の容積を減らすことができ、そして十
分な冷却を達成するための時間を減少できる）のような
装置を用いることによって拡張し得る。あるいは冷却装
置は、例えば反応器要素を離れる高温のガスと混合する
（そしてそれによって冷却する）かまたは反応器要素の
ちょうど向こう側の高温の流出流体と混合するために反
応器要素の出口表面に持って行くために導びかれる不活
性（流出ガスに対し）冷却液体（液体例えば水が使用し
得るが通常はガスもしくは蒸気）の流れを含み得、該混
合物は出口排送装置を通って搬送される。冷却装置の一
つの型式より多い組合せもまた使用し得る。
本発明を本発明の方法の一実施態様を操作するのに使用
する誘導加熱式の反応器（事実前述したような穿穴され
た円筒状要素を有するもの）の−型式を図示した添付図
面の第３図を参照して説明する。
する誘導加熱式の反応器（事実前述したような穿穴され
た円筒状要素を有するもの）の−型式を図示した添付図
面の第３図を参照して説明する。
第３図において多数の放射状に穿穴された穴１４を有し
そして操作温度で１〜５０ミリセコンドの範囲内のガス
滞留時間を与えることができる、薄くて中空で且つガス
が透過可能な円筒状要素１がその末端近くに環状の溝４
を有する上部ガス固定シール３と下部ガス固定シール５
との間の非伝導性材料のケーシング２（事実上は石英製
の鞘体）の内に置かれている。反応器要素の温度は７５
０〜９８０℃の範囲内の温度に制御可能に維持できる。
そして操作温度で１〜５０ミリセコンドの範囲内のガス
滞留時間を与えることができる、薄くて中空で且つガス
が透過可能な円筒状要素１がその末端近くに環状の溝４
を有する上部ガス固定シール３と下部ガス固定シール５
との間の非伝導性材料のケーシング２（事実上は石英製
の鞘体）の内に置かれている。反応器要素の温度は７５
０〜９８０℃の範囲内の温度に制御可能に維持できる。
溝４は反応のためのＣＤＭの流れ（但し所望ならばガス
状希釈剤と混合していてもよい）を環状の入口帯域７ま
で運ぶためにケーシング２の上部に形成された導管６を
通って反応器に入りそしてそこから反応器要素１の穿穴
された穴の中を通って放射状に内部に入るのを許す（導
管６、溝４および帯域７は流体入口通送装置の最終段階
を構成している）。反応器要素から出た流出ガスは反応
器要素の内部を下方に通過し、そして冷却帯域１０を定
めるために反応器要素内に置かれた水冷された実質的に
円筒状の銅製本体９によって提供された冷却表面８によ
り冷却される。冷却円筒状表面は所望ならばフィンのよ
うな装置で拡張し得る。（銅製円筒本体は他の冷却装置
によって、例えば円筒状要素の内部下方への冷却ガス、
蒸気または液体スプレーの流れと取り代え得る。） Ｔ
ＦＥ 、 ＲＦＰ 、未反応ＣＤＭおよび（使用した場
合）希釈剤を含有する冷却された流出ガスは反応器ケー
シングの下部に形成された導管１１および１２ （流体
出口排送装置の最初の段階を構成している）を通って反
応器から外へ出る。次いで反応ガス流は生成物組成を分
析され、そして単量体製造法においてその成分を単離し
、回収するための処理装置（ｗｏｒｋ−ｕｐ ｍｅａｎ
ｓ）で処理され得る。
状希釈剤と混合していてもよい）を環状の入口帯域７ま
で運ぶためにケーシング２の上部に形成された導管６を
通って反応器に入りそしてそこから反応器要素１の穿穴
された穴の中を通って放射状に内部に入るのを許す（導
管６、溝４および帯域７は流体入口通送装置の最終段階
を構成している）。反応器要素から出た流出ガスは反応
器要素の内部を下方に通過し、そして冷却帯域１０を定
めるために反応器要素内に置かれた水冷された実質的に
円筒状の銅製本体９によって提供された冷却表面８によ
り冷却される。冷却円筒状表面は所望ならばフィンのよ
うな装置で拡張し得る。（銅製円筒本体は他の冷却装置
によって、例えば円筒状要素の内部下方への冷却ガス、
蒸気または液体スプレーの流れと取り代え得る。） Ｔ
ＦＥ 、 ＲＦＰ 、未反応ＣＤＭおよび（使用した場
合）希釈剤を含有する冷却された流出ガスは反応器ケー
シングの下部に形成された導管１１および１２ （流体
出口排送装置の最初の段階を構成している）を通って反
応器から外へ出る。次いで反応ガス流は生成物組成を分
析され、そして単量体製造法においてその成分を単離し
、回収するための処理装置（ｗｏｒｋ−ｕｐ ｍｅａｎ
ｓ）で処理され得る。
要素１は交流回路（示していない）における誘導コイル
１３によって７５０〜９８０℃の範囲内の制御可能な温
度に急速に加熱できる。
１３によって７５０〜９８０℃の範囲内の制御可能な温
度に急速に加熱できる。
（実施例）
本発明を以下の実施例により詳細に説明する。
裏施拠
第３図に図示した型の反応器をＣＤＭの熱分解に使用し
た。４系列の実験すなわちＡ、Ｂ、ＣおよびＤ系列から
なる別々の試験において、反応帯域の反応条件はＣＤＭ
の異なる転化率を得るために本発明の範囲内で変化させ
た。全ての場合において冷却時間は約２０〜５０ミリセ
コンドの範囲内である。
た。４系列の実験すなわちＡ、Ｂ、ＣおよびＤ系列から
なる別々の試験において、反応帯域の反応条件はＣＤＭ
の異なる転化率を得るために本発明の範囲内で変化させ
た。全ての場合において冷却時間は約２０〜５０ミリセ
コンドの範囲内である。
各々の転化率でのＴＦＥ生成物とＲＦＰ生成物の選択率
はガスクロマトグラフィーを用いて測定した。
はガスクロマトグラフィーを用いて測定した。
Ａ系列の実験において、次の特性を有するグラファイト
製の円筒状の反応器要素を使用した。
製の円筒状の反応器要素を使用した。
大きさ−長さ４．機外径１９踵×内径１５■孔径−０，
５ｍａ＋ 孔の数−２９０４ 孔容積合計−１，７１１Ｉ１１ 流体の流れ方向−放射状に内側に 装置は１００モル％のＣＤＨの熱分解に使用した。
５ｍａ＋ 孔の数−２９０４ 孔容積合計−１，７１１Ｉ１１ 流体の流れ方向−放射状に内側に 装置は１００モル％のＣＤＨの熱分解に使用した。
用いた反応条件と得られた結果を第１表に示した。
Ｂ、ＣおよびＤ系列の実験においては、装置は次の特性
を有するグラファイト製の円筒状の反応器要素（放射状
に穿孔された穴の型）内を放射状に外向きの流れを与え
るために改造された。
を有するグラファイト製の円筒状の反応器要素（放射状
に穿孔された穴の型）内を放射状に外向きの流れを与え
るために改造された。
大きさ−長さ４．７ｃｍＸ外径１９Ｍ×内径１５ｍｍ孔
径−１，０ｍｍ 孔の数−７２６ 流れの方向−放射状に外向き方向 これらの系列において、熱分解はＣＤＭと窒素希釈剤の
供給により行い、ＣＤＨのレベルはＢ系列では５０モル
％であり、Ｃ系列では２０モル％であり、そしてＤ系列
では１０モル％であった。用いた反応条件と得られた結
果を第２表に示した。
径−１，０ｍｍ 孔の数−７２６ 流れの方向−放射状に外向き方向 これらの系列において、熱分解はＣＤＭと窒素希釈剤の
供給により行い、ＣＤＨのレベルはＢ系列では５０モル
％であり、Ｃ系列では２０モル％であり、そしてＤ系列
では１０モル％であった。用いた反応条件と得られた結
果を第２表に示した。
Ａ、ＢおよびＣ系列の実験について３０％以上のＣ０Ｍ
転化率でのＴＦＥ生成物とＲＦＰ生成物の合算選択率の
値も、また第１図にグラフ（上部の曲線）で示した。炭
素バランスも、また幾つかのＣ０Ｍ転化率（ｃ０Ｍ１０
０モル％の熱分解）で測定し、得られた結果を第２図に
グラフ（上部の曲線）で示した。
転化率でのＴＦＥ生成物とＲＦＰ生成物の合算選択率の
値も、また第１図にグラフ（上部の曲線）で示した。炭
素バランスも、また幾つかのＣ０Ｍ転化率（ｃ０Ｍ１０
０モル％の熱分解）で測定し、得られた結果を第２図に
グラフ（上部の曲線）で示した。
インコネル類の加熱された反応管（大きさ４０ｃｍＸ
１．６ＣＩ外径Ｘ １．ＯＣＩ内径）を１００モル％の
ＣＤＭの熱分解にも使用した。種々の実験において、加
熱された反応管内部の反応温度は、第１図のグラフ（下
の曲線）に示したように、ＣＤ？Ｉの種々の転化率を得
るために７５０〜９００″Ｃの範囲内で変化させた。全
ての場合において滞留時間は約１秒であった。各々の転
化率でＴＦＥ生成物とｏｐｐ生成物の合算選択率を測定
しくこれもまたガスクロマトグラフィーを用いた）、得
られた結果を第１図にグラフ（下の曲線）で示した。炭
素量バランスもまた幾つかのＣ０Ｍ転化率で得られ、得
られた結果を第２図にグラフ（下の曲線）で示した。
１．６ＣＩ外径Ｘ １．ＯＣＩ内径）を１００モル％の
ＣＤＭの熱分解にも使用した。種々の実験において、加
熱された反応管内部の反応温度は、第１図のグラフ（下
の曲線）に示したように、ＣＤ？Ｉの種々の転化率を得
るために７５０〜９００″Ｃの範囲内で変化させた。全
ての場合において滞留時間は約１秒であった。各々の転
化率でＴＦＥ生成物とｏｐｐ生成物の合算選択率を測定
しくこれもまたガスクロマトグラフィーを用いた）、得
られた結果を第１図にグラフ（下の曲線）で示した。炭
素量バランスもまた幾つかのＣ０Ｍ転化率で得られ、得
られた結果を第２図にグラフ（下の曲線）で示した。
第１図ならびに第１表と第２表から、例示したように本
発明の方法におけるＴＦＥ生成物と）ＩＦＰ生成物の合
算選択率はＣ０Ｍ転化率にかかわらず≧８５％、すなわ
ち生成した他の生成物は１５％以下であり、かなりの範
囲の転化率に対し９０％を越えて申し分がなかった。希
釈剤を用いた場合には、さらに高い合算選択率が得られ
た。比較によると、加熱された高温の反応管型の反応器
を用いる従来法を用いた場合にはＴＦＥとＲＦＰの合算
選択率は常に本発明の方法よりも（例示したように）、
少なくとも約１０％低かった。本発明の方法においては
ＲＦＰ選択率の関数としてＴＦＥとＨＰＰの合算選択率
が極めて有利なこともまた明らかである。第２図から例
示したように本発明の方法においては実際上定量的な炭
素バランスが得られたのに対し、一方例示した従来法に
おいては加熱された高温の管式反応器に供給したＣＤＭ
の２０％はどが炭素に転化した。
発明の方法におけるＴＦＥ生成物と）ＩＦＰ生成物の合
算選択率はＣ０Ｍ転化率にかかわらず≧８５％、すなわ
ち生成した他の生成物は１５％以下であり、かなりの範
囲の転化率に対し９０％を越えて申し分がなかった。希
釈剤を用いた場合には、さらに高い合算選択率が得られ
た。比較によると、加熱された高温の反応管型の反応器
を用いる従来法を用いた場合にはＴＦＥとＲＦＰの合算
選択率は常に本発明の方法よりも（例示したように）、
少なくとも約１０％低かった。本発明の方法においては
ＲＦＰ選択率の関数としてＴＦＥとＨＰＰの合算選択率
が極めて有利なこともまた明らかである。第２図から例
示したように本発明の方法においては実際上定量的な炭
素バランスが得られたのに対し、一方例示した従来法に
おいては加熱された高温の管式反応器に供給したＣＤＭ
の２０％はどが炭素に転化した。
第１図は本発明の方法と従来法のＴＦＥとＲＦＰの合同
選択率の関係を表す曲線図、第２図は本発明の方法と従
来法のＣ０Ｍ転化率に対する炭素バランスの関係を表す
曲線図、第３図は反応器の断面図解図である。 第３図において、ｌは反応器要素、２はケーシング、３
は上部ガス固定シール、４は環状溝、５は下部ガス固定
シール、６は導管、７は環状入口帯域、８は冷却表面、
９は円筒状本体、ＩＯは冷却帯域、１１．１２は導管、
１３は誘導コイル、および１４は穿孔された穴を示す。 手続補正書（方式） 昭和６３年 ５月１３日
選択率の関係を表す曲線図、第２図は本発明の方法と従
来法のＣ０Ｍ転化率に対する炭素バランスの関係を表す
曲線図、第３図は反応器の断面図解図である。 第３図において、ｌは反応器要素、２はケーシング、３
は上部ガス固定シール、４は環状溝、５は下部ガス固定
シール、６は導管、７は環状入口帯域、８は冷却表面、
９は円筒状本体、ＩＯは冷却帯域、１１．１２は導管、
１３は誘導コイル、および１４は穿孔された穴を示す。 手続補正書（方式） 昭和６３年 ５月１３日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、クロロジフルオロメタンのガス流を、テトラフルオ
ロエチレンとヘキサフルオロプロピレンを生成させるた
めの熱分解反応を行わせる高温の反応帯域の中を通し、
次いでこの反応帯域から出た流出ガス流を急冷すること
からなる方法であって、当該方法は、次の条件、すなわ
ち、 （１）反応帯域での熱分解が当該反応帯域の中を通るガ
スの全ての部分に実質的に均一に適用される等温条件下
で行われること、 （２）反応帯域の温度が制御可能であり且つ７５０〜９
８０℃の範囲内であること、 および （３）反応帯域におけるガス滞留時間が１〜５０ミリセ
コンドの範囲内であること、 の各条件を組合わせて行われることを特徴とするテトラ
フルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの製造方
法。 ２、反応帯域内の温度が８００〜９８０℃の範囲内であ
る請求項１記載の方法。 ３、反応帯域内の温度が８４０〜９８０℃の範囲内であ
る請求項２記載の方法。 ４、反応帯域内の温度が７５０〜８９０℃の範囲内であ
る請求項１記載の方法。 ５、ガス滞留時間が１〜２５ミリセコンドの範囲内であ
る前記請求項のいずれか一つに記載の方法。 ６、ガス滞留時間が１〜１０ミリセコンドの範囲内であ
る請求項５記載の方法。 ７、クロロジフルオロメタンのガス流がガス状または蒸
気状の希釈剤を含む請求項１〜６のいずれか一つに記載
の方法。 ８、反応帯域からの流出ガス流の一部を、そこからＨＣ
ｌを除去した後に、反応器へのクロロジフルオロメタン
供給原料に再循環させる請求項１〜７のいずれか一つに
記載の方法。 ９、テトラフルオロエチレンのみ（但し所望ならば環状
Ｃ＿４Ｆ＿８二量体を含ませることもできる）をクロロ
ジフルオロメタン供給原料に再循環させる請求項８記載
の方法。 １０、本方法は１つの反応器要素を有する流体相の電磁
誘導加熱式の反応器を用いて行われ、しかもこの反応器
は、 （ａ）反応させるべき流体が該反応器要素の入口側から
出口側へ該要素内の反応帯域中を通過する時に、該反応
器要素内に等温の反応帯域を提供するように少なくとも
７５０〜９８０℃の範囲内の制御可能な温度に電磁誘導
加熱できる電磁誘導加熱式で且つ流体が透過可能な反応
器要素であって、しかも該要素は、これを通る流体全体
が実質的に同一の等温反応の条件を受けさせ得ることの
できるような形態と構造を有し、更に該反応器要素が少
なくとも１〜５０ミリセコンドの範囲内の流体滞留時間
を与えることができるものである電磁誘導加熱式で且つ
流体が透過可能な反応器要素と、 （ｂ）電磁誘導によって反応器要素（ａ）を加熱する加
熱装置と、 （ｃ）反応させるべき流体流を、前記の反応器要素（ａ
）に通す反応器要素（ａ）の入口へ通送するための入口
通送装置と、 （ｄ）前記の反応器要素（ａ）から出る流出流体を排送
するための出口排送装置と、 （ｅ）反応器要素（ａ）からの高温の流出流体を急冷す
るための冷却装置と、 から構成されるものである請求項１〜９のいずれか一つ
に記載の方法。 １１、使用する前記の反応器要素（ａ）がグラファイト
、炭素または伝導性金属製である請求項１０記載の方法
。 １２、使用する前記の反応器要素（ａ）は多孔性である
かまたは放射状の穿孔された複数の穴を有する１個の中
空な円筒の形態を有するものである請求項１０または請
求項１１のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8708618 | 1987-04-10 | ||
| GB878708618A GB8708618D0 (en) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | Production process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63267736A true JPS63267736A (ja) | 1988-11-04 |
Family
ID=10615611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63086297A Pending JPS63267736A (ja) | 1987-04-10 | 1988-04-09 | テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの製造方法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4849554A (ja) |
| EP (1) | EP0287219B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63267736A (ja) |
| KR (1) | KR960001699B1 (ja) |
| AT (1) | ATE76052T1 (ja) |
| AU (1) | AU606142B2 (ja) |
| BR (1) | BR8801641A (ja) |
| CA (1) | CA1280769C (ja) |
| DE (1) | DE3870971D1 (ja) |
| ES (1) | ES2032328T3 (ja) |
| GB (2) | GB8708618D0 (ja) |
| GR (1) | GR3004590T3 (ja) |
| ZA (1) | ZA882120B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008001844A1 (fr) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Showa Denko K.K. | Procédé de production d'hexafluoropropylène à haut degré de pureté et gaz nettoyant |
| JP2008094800A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Kao Corp | ３級アミンの製造方法 |
| JP2013507393A (ja) * | 2009-10-09 | 2013-03-04 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 等温多管式反応器及び該反応器を組み込んだプロセス |
| JP2013529683A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-07-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 水素の存在下、ペルフルオロカーボンの熱分解によってペルフルオロオレフィンを製造するためのプロセス |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4973773A (en) * | 1988-11-29 | 1990-11-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Production of tetrafluoroethylene |
| DE4214739A1 (de) * | 1992-05-04 | 1993-11-11 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Hexafluorchlorbutenen |
| US5347058A (en) * | 1993-12-07 | 1994-09-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of fluorinated olefins |
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