JPS63237346A - 紫外光源用ランプ - Google Patents

紫外光源用ランプ

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Publication number
JPS63237346A
JPS63237346A JP7341587A JP7341587A JPS63237346A JP S63237346 A JPS63237346 A JP S63237346A JP 7341587 A JP7341587 A JP 7341587A JP 7341587 A JP7341587 A JP 7341587A JP S63237346 A JPS63237346 A JP S63237346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet light
light source
mercury
lamp
amalgam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7341587A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigenori Hayashi
茂則 林
Takashi Inushima
犬島 喬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP7341587A priority Critical patent/JPS63237346A/ja
Publication of JPS63237346A publication Critical patent/JPS63237346A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)発明の利用分野 本発明は、半導体製品作製技術分野における半導体被膜
または絶縁物被膜等の薄膜作製技術分野にて利用可能な
紫外光源用ランプに関するものである。
(ロ)従来の技術 産業分野特にセラミックスコートまたは半導体装置作製
技術分野において使用されている従来の紫外光源用ラン
プとしては、主として高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ
がある。本発明は、特にこの低圧水銀ランプを用いた光
処理装置例えば光CVD装置、光クリーニング(UVク
リーニング)装置、光プラズマCVD装置用光源の改良
およびその使用方法に関するものである。
従来の低圧水銀ランプは光源用バルブ内にアルゴンガス
を数Torrの圧力で封入し、同時に水銀を封入したも
のであった。
そしてバルブ内に一対のアーク放電を発生させる電極と
、この電極よりガラスバルブを貫通して導出した外部電
極端子より一般に商用周波数(50〜60 Hz)の交
流電力を印加しアーク放電をさせている。この外部より
投入された電力により水銀原子は励起され、様々なエネ
ルギー準位を持つ励起状態の水銀原子となる。さらにこ
の励起状態の原子が石英バルブの内壁または原子同志の
衝突により、もとの準位に戻る。その際、254nmの
波長の発光強度が一番強く、その次に185na+付近
の波長の発光強度となっている。
しかしながら最近半導体作製技術分野において、光処理
装置、特に光CVD法(紫外光により反応性気体を分解
、反応せしめて被膜形成を行う)、UVクリーニング(
基板表面を紫外光で照射し汚物を除去する)が注目され
ている0例えば、光CVD法で半導体膜を作製する方法
において5inHゎ。
(n ”L2+3+・・)のシラン類を紫外光にて分解
反応させて半導体膜を形成する。その時、短波長特に1
85n+m付近の波長の紫外光がとくに前記反応に有効
であるため、従来の紫外光源を用いた反応速度が遅い光
CVD法においては、この185nm付近の紫外光強度
をより強くすることが求められていた。
この問題を解決する方法として、本出願人により印加電
力として、高周波電力を加え、185nmの波長の光強
度を増した紫外光源ランプ(特願昭61年134074
号)がある、この発明は従来の紫外光源ランプに比べて
、185ns+の強度が5倍以上得られ、非常に有益な
物であった。
しかしながら、この場合は点燈開始後数十時間程度で、
185nm付近の光が特に発光強度が弱くなるという問
題が発生した。
その現象を第1図曲線(1)に示す。
第1図は、紫外光ランプの185nmの光の強度の経時
変化を示す。
本願発明者らは、この原因を鏡意努力した結果、光源ラ
ンプに封入されている水銀と、ランプ電極の構成元素と
のアマルガムが光ランプ管壁に付着している為であるこ
とをつきとめた。
その証拠を第2図に示す。
第2図曲線は(3)は、新品のランプに対する劣化後の
ランプの管壁の相対分光透過率を示す。
同図曲線(3)に示されているように、短波長紫外領域
の透過率が劣化後では減少し、特に185nm付近で著
しく透過率が減少していることが判明した。
この原因としては、水銀または水銀アマルガムがランプ
管壁に付着しているため、ランプで発光された185n
m付近の光がこの管壁に付着した水銀または水銀アマル
ガムに吸収されるため、185nm付近の光が弱くなる
のであった。
(ハ)発明の構成 本発明はこれら従来の問題点を解決するものであり、紫
外光源バルブに設けられた電力投入用電極がアルミニュ
ーム、ナトリウム等水銀とアマルガムを構成する金属を
1%以上含まないことを特徴とするものである。
本来ならこれらアマルガムを構成する金属を全く含まな
い方が好ましいが、現実的に全く含まないということは
不可能であり、本発明者らが実験を行ったところ、1%
程度含有しても185nm付近の光強度の低下が極めて
少ないため、現実的に可能な1%以上含まない金属を電
極として用いることを特徴としている。
一般に紫外光源ランプ内部の放電の陽光柱部分において
、電気エネルギーにより活性化された励起種は内部の電
位差にしたがって、ランプ管壁へ移動し、管壁付近にお
いて電子と結合しこの際に紫外光を発光して元の水銀と
なる。
このように、水銀励起種はランプ管壁表面付近において
再結合し紫外光を発光していた。このため、。
内部に発生した電位差に従うて水銀ランプ管壁にぶつか
り一部は水銀蒸気として再びランプ中に飛散してゆ(が
、一部はそのままランプ管壁に付着した状態で185 
nmの光を吸収していた。
この時同時に、電極部分もスパッタされその電極材料に
含まれるアルミニュームがランプ中に飛散し、水銀とア
マルガムを構成し、同様にランプ管壁に付着し185n
mの光を吸収するためランプ全体として185nmの光
の発光を弱めていた。
そのため本発明は、水銀ランプ管壁に付着することを防
止することではなく、水銀アマルガムが付着することを
防ぎ185nmの光が経時変化により弱くなりに(くす
ることを特徴とする。
本発明の構成を有した紫外光源ランプの185nmの発
光強度の経時変化を第1図曲線(2)に示す。
同曲線(2)に示す如く、時間とともに若干光光強が弱
くなっているが、従来ランプ(1)に比べその程度は非
常に少ない。
(ニ)効果 以上示したように本発明は、放電電極材料としてアルミ
ニューム、ナトリウム等水銀とアマルガムを構成する金
属を1%以上含まない物を使用するだけで、185nm
の波長の光強度が経時変化でおわくなりにくくなり、従
来ランプに比べ紫外光強度が強く劣化しにくい紫外光ラ
ンプとすることができた。
これにより、半導体製造装置等に185nmの光強度の
強い寿命の長い紫外光源を提供でき、半導体被膜作製の
処理速度を速めることが可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来ランプの185no+の光の劣化の様子
を示す。 第2図は、ランプの相対分光透過率を示すグラフである

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光源バルブ内に少なくとも水銀が封入された紫外光
    源ランプであって、前記バルブ内に設けられた電力投入
    用電極は、アルミニューム、ナトリウム等水銀とアマル
    ガムを構成する金属を1%以上含まないことを特徴とす
    る紫外光源用ランプ。 2、特許請求の範囲第1項において、前記紫外光源ラン
    プには、高周波電力を印加して発光させることを特徴と
    する紫外光源用ランプ。
JP7341587A 1987-03-26 1987-03-26 紫外光源用ランプ Pending JPS63237346A (ja)

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JP7341587A JPS63237346A (ja) 1987-03-26 1987-03-26 紫外光源用ランプ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6844679B1 (en) 1999-10-18 2005-01-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Mercury lamp, lamp unit, method for producing mercury lamp and electric lamp

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59149645A (ja) * 1983-02-14 1984-08-27 Toshiba Corp 「けい」光ランプ装置

Patent Citations (1)

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