JPS63230806A - 金属粉末製造ガス噴霧装置 - Google Patents

金属粉末製造ガス噴霧装置

Info

Publication number
JPS63230806A
JPS63230806A JP6533987A JP6533987A JPS63230806A JP S63230806 A JPS63230806 A JP S63230806A JP 6533987 A JP6533987 A JP 6533987A JP 6533987 A JP6533987 A JP 6533987A JP S63230806 A JPS63230806 A JP S63230806A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
tank
spray
metal powder
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6533987A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Hamamoto
弘 浜本
Takeshi Kameoka
亀岡 猛
Kazuhiko Ito
一彦 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Central R&D Labs Inc filed Critical Toyota Central R&D Labs Inc
Priority to JP6533987A priority Critical patent/JPS63230806A/ja
Publication of JPS63230806A publication Critical patent/JPS63230806A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属粉末製造ガス噴霧装置に係り、特に不活性
ガスを用いるガス噴霧法によって金属粉末を製造する装
置において、装置を大型化することなく粉末冶金に適し
た高品質な種々の金属粉末を容易に製造でき、しかも作
業性及び操作性を大幅に向上させた金属粉末製造ガス噴
霧装置に関するものである。
〔従来の技術〕
最近、新しい金属材料の開発に伴って高品質な金属粉末
を製造する技術が望まれ、特に高速度鋼等の高合金鋼粉
末においては、酸素量の低い清浄な粉末を得る必要性か
ら不活性ガスを用いるガス噴霧法によって粉末が製造さ
れるようになっている。
ガス噴霧法とは、一般に噴霧装置内に配置したタンディ
シュ底部から流下させた溶融金属流に対して噴霧ノズル
から噴出した高速のN8やAr等の不活性ガスを吹きつ
けることによって溶融金属を霧化し、冷却固化させて金
属粉末を得る方法である。この方法の一例を第3図に示
す、第3図において、タンディシュ14内の金属溶湯1
8は溶融金属流19となって流下し、この溶融金属流1
9に対して噴霧ノズル20より不活性ガスからなる噴霧
ガス流25が噴出し、溶融金属流19は粉末粒子26と
なり、下方から取り出される。
この種の金属粉末の製造方法に関しては、多くの報告に
より公知となっているが、特開昭56−146804、
特開昭59−118805等に開示されたような改良も
行われている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、従来のガス噴霧装置では、噴霧槽を大き
くしなければならないために装置が大型化する問題点が
ある。すなわち、噴霧ノズルから噴出した高速の不活性
ガス流によって、微細に霧化された金属溶滴は、高速の
噴霧ガス流と共に降下しながら冷却固化されるが、ガス
中での金属粉末の冷却速度は遅く、金属溶滴が固化する
までの粒子の飛翔距離が長くなる。したがって、霧化さ
れた金属溶滴が冷却固化するのに必要な距離を確保する
ため、噴霧槽の高さが高くなっている。
仮に噴霧槽の高さを短くすれば、金属溶滴が十分に固化
しない内に高速の噴霧ガス流と共に噴霧槽内壁に衝突す
るために薄片形状とな9たり、さらには噴霧槽の内壁面
上に付着堆積してしまい、適性な粉末形状が得られない
上に、粉末の歩留りが低下する欠点がある。また、金属
溶滴が噴霧槽内壁に衝突するのを回避しようとすると、
必然的に噴霧槽の大型化を伴うことになる。
このように従来技術によるガス噴霧装置では、噴霧槽を
高くする必要から大型の装置となるために噴霧時におけ
る噴霧槽内の雰囲気制御が困難となり、また、異種の金
属粉末を製造する際には噴霧槽内の掃除を充分に実施す
ることができないためにダミーチャージを行うことによ
り、製造される金属粉末の純度を保持する方法が採られ
ているが、この場合でも、異種粉末の混入を避けること
ができないために品質の安定化、さらには作業性及び操
作性の面で多くの問題点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
製造される金属粉末の品質安定化及び作業性や操作性の
向上を図りつつ、装置を小型化することができる金属粉
末製造ガス噴霧装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
以上目的を達成させるために、本発明は金属溶湯流をガ
ス噴霧ノズルを介して霧化させ、噴霧槽の内周面にその
槽内部において、旋回ガス流を付与する旋回ノズルを設
け、霧化された微細金属溶滴を旋回降下させながら冷却
固化して金属粉末を回収するようにしたものである。
〔作用〕
ガス噴霧ノズルから噴出されるガス流によって金属溶湯
流は、微細な金属溶滴となる。この微細な金属溶滴はそ
のまま落下することなく、旋回しつつ降下する。この結
果、噴霧槽内における微細な金属溶滴の滞空時間が延長
され、確実に冷却固化した後、金属粉末回収手段により
回収される。
したがって、高品質の金属粉末を製造でき、噴霧槽を小
型化できることから、作業性及び操作性が向上する。
〔実施例〕
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の金属粉末製造ガス噴霧装置の一実施例
を示す概略的構成図である。第1図において、密閉タン
ク10に連結された真空ポンプ(図示せず)によって密
閉タンク10内は〜10−’Torrの真空度が維持さ
れると共に外部の高圧ガス供給tA40と調圧弁43を
介して連結されたガス供給経路38からガスを供給する
ことによりN t 、A r等の不活性ガスのガス雰囲
気を保持できるようになっている。
また、密閉タンク10内には所定の金属を溶解する溶解
炉12とタンディシュ14が設置されている。溶解炉1
2には外部を源46により通電されるコイルが巻回され
ていると共にこの溶解炉12が図示していない傾斜装置
により傾斜可能の状態で設置されている。タンディシュ
14の底部には溶湯流出ノズル15が設けられ、この?
8湯流出ノズル15を開閉するためのストッパーロッド
16を昇降させるストッパー装置17が設置されている
。また、タンディシュ14の外周囲にはタンディシュ1
4内の溶湯を所定の温度に維持するための保持炉13が
配置され、この保持炉13は外部電源47に接続されて
いる。
密閉タンク10の底部には、溶湯流出ノズル15の中心
軸と同軸上に配置された噴霧ノズル20が固定され、こ
の噴霧ノズル20付近にシリンダー53により作動する
ゲート弁11が設けられている。
噴霧槽21は、その高さ方向の中段部において円筒状に
形成され、その下方側は逆円錐状に形成されている。こ
の円筒状部の側壁には内壁面に対して接線方向に配置さ
れた複数個の旋回ノズル24が配置されている。この旋
回ノズル24は調圧弁44、バルブ48.49が配設さ
れた旋回ガス供給経路45により高圧ガス供給源40に
接続されている。噴霧槽21の前記逆円錐状部の側壁面
は水冷ジャケット22が設けられ、この水冷ジャケット
22の下部側には旋回ノズル24が設置され、この旋回
ノズル24は前記同様にして高圧ガス供給源40に接続
されている。
噴霧槽21は移動台車23により水平方向に移動可能に
設置されると共に昇降機構により昇降自在に設置されて
いる。また、噴霧槽21の底部には粉末回収経路28が
接続され、この粉末回収経路2日はサイクロン29、除
塵装置32、吸引装置33を経て系外に連通している。
サイクロン29の底部は回収チャンバー30と回収容器
31が接続されている。
吸引装置33は圧力制御装置37が配設された供給経路
39により密閉タンク10に連通されている。また、吸
引装置33のガス下流側はバルブ51、不活性ガス回収
装置35(加圧装置36)、バルブ52が配設された不
活性ガス供給経路34により高圧ガス供給源40に連通
している。
次に上記のように構成される金属粉末製造ガス噴霧装置
の作用・効果について詳細に説明する。
密閉タンク10内は、ゲート弁11をシリンダー53を
作動させることにより閉鎖し、密閉タンク10内は〜1
0−’To r rの真空度に維持され、また、真空に
した後、高圧ガス供給源40からA「、N8等の不活性
ガスが調圧弁43、ガス供給経路38を介して供給され
、不活性ガス雰囲気に維持される。噴霧槽21は、移動
台車23により所定の位置に配置されると共に昇降機構
によりゲート弁11を介して噴霧ノズル20と同軸上に
密閉タンクIOの底部と接続され、シール手段により気
密可能に固定される。
この状態で、密閉タンク10内に設置された溶解炉12
では、外部電源46を介して通電され、炉外周囲に巻回
されたコイルにより金属が加熱され、所定の流動状態を
維持した溶湯となる。この溶湯は、溶解炉12を傾斜す
ることよりタンディシュ14内に移される。このとき、
タンディシュ14内のストッパーロッド16は溶湯流出
ノズル15を閉鎖した状態となっており、密閉タンクl
0内を大気圧までガス置換を行う。タンディシュ14内
に所定量の溶湯が満たされると、ストッパーロッド16
はストッパー装置17により上方に移動し、タンディシ
ュ14内の溶湯は溶湯流出ノズル15を介して流下し、
噴霧ノズル20に供給されて霧化される。このストッパ
ーロッド16の移動量の調整により溶湯流出ノズル15
を介して噴霧ノズル20に供給する溶湯の量が制御され
る。
高圧ガス供給源40から調圧弁42により流量と圧力が
調整された高圧ガスは供給管41を介して溶湯流出ノズ
ル15から流下する溶融流19を取り囲むように噴霧ノ
ズル20から高速のガス流となって噴出され、溶湯流1
9を霧化する。
噴霧ノズル20から下方に放射状に霧化された粉末粒子
26は、高圧ガス供給源40から調圧弁44により流量
と圧力が調整され、旋回ノズル24から噴出する不活性
ガスからなる旋回ガス流27の作用によって噴霧ガス流
が旋回流れとなるため噴霧槽21内を旋回降下する。こ
の噴霧ガス流は、噴霧槽2■の逆円錐状部を通過する際
、水冷ジャケット22により冷却が促進され、金属溶滴
が固化(凝固)して金属粉末26が生成される。
噴霧槽21の底部に到達した金属粉末26は、噴霧ガス
流と共にシール手段を介して噴霧槽21に接続された粉
末回収路28に導入され、サイクロン29で噴霧ガスと
分離される。ここで分離された金属粉末26は水冷ジャ
ケットを有する回収チャンバー30に一時的に収納され
た後、さらに冷却され、回収チャンバー30の下部に設
けられたバルブの開閉動作によって噴霧時の雰囲気を保
持したまま粉末回収容器31内に連続的、または断続的
に回収される。
一方、不活性ガスからなる噴霧ガスはサイクロン29を
経た後、除塵装置32に導入され、ここで噴霧ガス中の
微粉末が除去され、吸引装置33によりて排出される。
この場合、ガスの排出量は、噴霧槽21内の圧力が規定
値に維持されるように槽内の圧力を検知して圧力制御装
置37により吸引装置33による吸引量を変化させ制m
される。
吸引量233から排出された噴霧ガスは、バルブ50を
開とすれば大気中に排出され、バルブ50を閉じてバル
ブ51を開とすれば、amガス回収装M(不活性ガス回
収装置iり35に導入される。
噴霧ガス回収装置35で回収された不活性ガスは、加圧
装置36を経由して高圧に加圧された後、外部の高圧ガ
ス供給源40に帰還される。
また、金属溶湯の噴霧時には、密閉タンク10内の圧力
と噴霧槽21内の圧力とを検出して両者間に所定の圧力
差が維持されるように作動する圧力制御装置37が以下
の制御を行う、すなわち噴霧ノズル20から噴出される
噴霧ガス流による吸引作用によって密閉タンク10内が
噴霧槽21内よりも減圧状態とならないように密閉タン
ク10内に外部の高圧ガス供給源40からの不活性ガス
を供給し、または吸引量W33により若干加圧されて排
出される不活性ガスの一部を循環させることにより噴霧
ガス流25の逆流によって金WA溶湯流19が密閉タン
クIO内側に吹き上げられるのを防止し、安定した噴霧
操作の実施が可能となる。
このように本実施例においては、所定の溶融金属を高速
の不活性ガスによって請化し、生成した微細金属溶滴は
不活性ガス中で冷却され、回収されるので清浄な金属粉
末を得ることができる。
一方、噴霧に使用された不活性ガスは、粉末の回収手段
、及び除塵手段を通過した後、再び高圧ガス供給源に帰
還されて、溶融金属の噴霧に再利用できるため、連続的
に噴霧を実施でき、生産性や経済的にも大幅な向上が期
待できる。
また、噴霧槽の側壁に設けた旋回ノズルと外部の高圧ガ
ス供給源とを連結し、調圧弁によって不活性ガスの圧力
、及び流量を制御して供給したり、さらに、噴霧槽の下
部から導き粉末回収手段と除塵手段を通過させて金属粉
末を取り去った不活性ガスの吸引量を吸引手段で制御す
ることによって、各種の金属に適した噴霧条件が得られ
るように、噴霧槽内のガス流、及び金属粒子の旋回、降
下速さ等の旋回条件を種々に変化させると共に、冷却を
促進することによって噴霧槽を小型化することが可能と
なった。
その結果として、噴霧槽内の雰囲気調整の短縮化や噴霧
槽内の掃除が容易となり、異種金属粉末の混入が防止さ
れ、品質をより一定化することができると共に、操作性
、生産性、及び経済性においても有効となる。
なお、上記した実施例においては、金属溶湯流の霧化に
よって生成された微細な金属溶滴を旋回させるためのガ
スとしてAr、Nz等の不活性ガスの例を示したが、噴
霧ノズルに対するガスにはAr、Nx等の不活性ガスを
利用し、旋回を付与するためのガスとして、ヘリウムや
液体窒素等の冷却媒体を用いると、微細な金属溶滴の冷
却が、促進されるので高品質の金属粉末が得られると共
に装置の小型化が容易となる。
本発明において、噴霧槽は逆円錐状部を有する場合、旋
回ガス流が有効に形成されるので特に望゛ましいが、噴
霧槽は円筒形状であってもよい。
また噴霧槽は、密閉タンクに対して着脱自在に配置すれ
ば、異種金属の粉末製造時、噴霧槽を容易に交換できる
。よって槽内の掃除が容易となり、槽の小型化と相まっ
て作業性が向上する。ただし、本発明において、ゲート
弁を介して密閉タンクと噴霧槽を着脱自在に配置した態
様に限定されるものでなく、第3図に示す金属粉末製造
装置と同様な装置構成において、噴霧槽21内に旋回ガ
ス流を付与する旋回ノズルを放置したものでも本発明の
初期の効果を発揮することができる。
試験例1 第1図に示す金属粉末製造ガス噴霧装置を用いて種々の
噴霧ノズルにより金属溶湯を噴霧した結果を第1表に示
す。
噴霧実験に使用した噴霧ノズルは、特許出願昭61−1
96357に記載の噴霧ノズル(A)と従来型の環状噴
霧ノズル(B)を用い、1250°Cで溶解したCu合
金を直径φ5mの溶湯流出ノズルから流出させ、噴霧ノ
ズルからの噴霧ガス圧力を9 kg/cdに一定したN
8ガスを使用して噴霧を実施した。また、噴霧槽内に導
入する旋回ノズルからの噴出ガス流量は約404! /
 5ec一定で行った。これらの条件で噴霧して生成し
た金属粉末を回収し、噴霧粉中に占める1 00me 
s h以下の粉末t(以下、収率と記す、)と噴霧粉の
粒度分布を調べ、累積重量が50%を示す粒径値を平均
粒子径として求めた。
第1表に示す如く、従来型環状ノズル(B)では得られ
る粉末の平均粒子径も大きく、また、噴霧槽の内壁に付
着したり、槽壁に衝突して薄片状となったものが多く、
歩留が著しく低かった。
一方、(A)型ノズルを使用した場合、噴霧ノズルから
噴出されるN2の噴霧ガス流がねじられているため、溶
湯流を微細に霧化するよう効果的に作用すると共に噴霧
槽内での噴霧ガス流の旋回が効果的に働き、槽壁への粉
末粒子の衝突が緩和されるため、槽壁への粉末の付着も
著しく低減され、収率の向上が達成できた。また、噴霧
槽の側壁に設けた旋回ノズルからガスを噴出させ、その
圧力や流量を任意に変えることによっても、槽内におけ
る旋回の効果を著しく発揮することが明らかとなった。
上記の如く、(A−1)噴霧ノズルを使用して得られる
粉末の一例を第2図に示す。
第2図は得られたCu合金の形状を示すSEM写真(倍
率100倍)である、第2図から明らかなように得られ
るCu合金粒子はほぼ球形に形成されている。
試験例2 第2表は第1図に示す金属粉末製造装置によって、Cu
合金粉及び高速度鋼粉を製造して得られたそれぞれの粉
末の粒度分布を示したものである。
噴霧ノズルは上記実施例2に示した(A−1)を用い、
Cu合金は1250℃で、高速度鋼は1550℃で溶解
した後、溶湯流出ノズル径をφ3.4.5+wに変えた
タンディシュへ注湯し、細流にして流下させた溶湯流を
噴霧ガス圧力9 kg / cjのN□ガスで噴霧した
結果である。
Cu合金(イ、口、ハ)の場合、(イ、口)における4
2メツシュ以上の粗粒子は(ハ)に比較して少な(、ま
た、噴霧槽内壁に衝突してできた薄片形状粉がわずかに
含まれているのみであった。
一方、(ハ)は生成された金属粉末中に占める粗粒子が
多く、しかも(イ、口)と比較して≧42メツシュの粗
粉中に含まれる薄片形状物が多かった。しかしくイ、口
、ハ)いずれの場合でも噴霧槽内壁への金属粒子の付着
は生じなかった。
高速度鋼5KH51(二、ホ)の場合でも、噴霧槽内壁
への生成金属粒子の付着は生じず、また、i8 ?J)
流出ノズル径をφ4鴫にすることによって、生成された
金属粉末中に占める粗粉量が減少したため、薄片形状物
がはるかに低減した。
これらの結果から、本実施例の場合には溶湯流出ノズル
径をφ4■以下の適正な値を取って、生成金y4粉末を
微粉化すると共に、噴霧ガス流に適正な旋回を付与する
ことによって、噴霧槽内壁への金属粒子の付着が防止で
き、内径がφ500mと小径の噴霧槽でも金TI4粉末
の製造に十分な効果を発INできることが明らかとなっ
た。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、金属溶湯流を高速ガス流
によって霧化して得られる微細な金属溶滴は、噴霧槽内
で旋回ノズルから噴出されるガス流によって旋回降下し
ながら冷却されるので小型の噴霧槽においても確実に冷
却固化され、高品質の金属粉末が得られると共に装置の
小型化により装置内のガス雰囲気の制御、槽内の掃除等
の作業性、操作性が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の金属粉末製造ガス噴霧装置の一実施例
を示す概略的構成図、第2図は本発明の装置によって得
られる金属粉末の形状を示すSEM写真、第3図は従来
の金属粉末製造ガス噴霧装置の概略的構成図である。 10・・・密閉タンク、 11・・・ゲート弁、 12・・・溶解炉、 14・・・タンディシュ、 15・・・溶湯流出ノズル、 19・・・金属溶湯流、 20・・・噴霧ノズル、 21・・・噴霧槽、 24・・・旋回ノズル、 26・・・粉末粒子、 29・・・粉末回収装置、 32・・・除塵装置、 33・・・吸引装置、 35・・・不活性ガス回収装置、 37・・・圧力制御装置、 40・・・高圧ガス供給源。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定の金属を溶解し、かつ溶融金属を細流にして
    流下させる手段と、金属溶湯流に高速のガス流を噴出し
    て霧化するために外部の高圧ガス供給源と連結したガス
    噴霧ノズルと、該ガス噴霧ノズルの下方に設置された噴
    霧槽と該噴霧槽の下部に金属粉末回収手段とを備えた金
    属粉末製造装置において、前記噴霧槽の内周面にその槽
    内部において旋回ガス流を付与する旋回ノズルを設け、
    霧化させた微細金属溶滴を旋回降下させながら冷却固化
    して金属粉末を回収するようにしたことを特徴とする金
    属粉末製造ガス噴霧装置。
  2. (2)前記所定の金属を溶解しかつ溶融金属を細流にし
    て流下させる手段と、前記噴霧ノズルとは、非酸化性雰
    囲気を保持できる密閉タンク内に配置されると共に該密
    閉タンクと前記噴霧槽はゲート弁を介して着脱自在に配
    置されていることを特徴とする前記特許請求の範囲第(
    1)項記載の金属粉末製造ガス噴霧装置。
  3. (3)前記噴霧槽は、逆円錐状に形成されていることを
    特徴とする前記特許請求の範囲第(1)項記載の金属粉
    末製造ガス噴霧装置。
  4. (4)前記旋回ノズルは、調圧弁を介して外部の高圧ガ
    ス供給源に連結されると共に前記金属粉末回収手段を通
    過した不活性ガスを吸引する吸引手段と、該吸引手段に
    より前記密閉タンク内及び前記噴霧槽内の圧力差を制限
    する手段とを設けたことを特徴とする前記特許請求の範
    囲第(2)項記載の金属粉末製造ガス噴霧装置。
  5. (5)前記密閉タンク内及び噴霧槽内の圧力差を制御す
    る手段は、前記密閉タンク内に前記吸引手段を通過して
    排出された不活性ガスを圧力制御手段を介して供給する
    不活性ガス循環系路又は前記密閉タンク内へ前記外部の
    高圧供給ガス源から調圧弁を介して不活性ガスを供給す
    る第2の不活性ガス供給系路の少なくとも一方を有する
    ことを特徴とする前記特許請求の範囲第(4)項記載の
    金属粉末製造ガス噴霧装置。
JP6533987A 1987-03-19 1987-03-19 金属粉末製造ガス噴霧装置 Pending JPS63230806A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6533987A JPS63230806A (ja) 1987-03-19 1987-03-19 金属粉末製造ガス噴霧装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6533987A JPS63230806A (ja) 1987-03-19 1987-03-19 金属粉末製造ガス噴霧装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63230806A true JPS63230806A (ja) 1988-09-27

Family

ID=13284085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6533987A Pending JPS63230806A (ja) 1987-03-19 1987-03-19 金属粉末製造ガス噴霧装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63230806A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0622339U (ja) * 1992-05-29 1994-03-22 日新技研株式会社 粉末作製装置
KR100706102B1 (ko) 2006-08-16 2007-04-13 주식회사에이엠씨 알루미늄 분말 제조장치
JP2009173991A (ja) * 2008-01-23 2009-08-06 Uchu Miyao マグネシウム粒子製造装置
CN104815988A (zh) * 2015-05-15 2015-08-05 苏州市华宁机械制造有限公司 一种用于粉末冶金的制粉装置
CN106041107A (zh) * 2016-08-19 2016-10-26 赵文天 一种气体雾化制粉设备及其制粉方法
CN107570720A (zh) * 2017-07-11 2018-01-12 张家港创博金属科技有限公司 一种定量离心雾化法制备均匀粒径金属粉末的方法及装置
WO2018179344A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 株式会社イーツーラボ プラズマ表面処理方法およびプラズマ表面処理装置
JP2019014917A (ja) * 2017-07-03 2019-01-31 株式会社 東北テクノアーチ 金属粉末の製造装置及びその製造方法
WO2020162037A1 (ja) * 2019-02-04 2020-08-13 三菱日立パワーシステムズ株式会社 金属粉末製造装置及びそのガス噴射器

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0622339U (ja) * 1992-05-29 1994-03-22 日新技研株式会社 粉末作製装置
KR100706102B1 (ko) 2006-08-16 2007-04-13 주식회사에이엠씨 알루미늄 분말 제조장치
JP2009173991A (ja) * 2008-01-23 2009-08-06 Uchu Miyao マグネシウム粒子製造装置
CN104815988A (zh) * 2015-05-15 2015-08-05 苏州市华宁机械制造有限公司 一种用于粉末冶金的制粉装置
CN106041107A (zh) * 2016-08-19 2016-10-26 赵文天 一种气体雾化制粉设备及其制粉方法
WO2018179344A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 株式会社イーツーラボ プラズマ表面処理方法およびプラズマ表面処理装置
JPWO2018179344A1 (ja) * 2017-03-31 2020-02-06 株式会社イーツーラボ プラズマ表面処理方法およびプラズマ表面処理装置
JP2019014917A (ja) * 2017-07-03 2019-01-31 株式会社 東北テクノアーチ 金属粉末の製造装置及びその製造方法
CN107570720A (zh) * 2017-07-11 2018-01-12 张家港创博金属科技有限公司 一种定量离心雾化法制备均匀粒径金属粉末的方法及装置
WO2020162037A1 (ja) * 2019-02-04 2020-08-13 三菱日立パワーシステムズ株式会社 金属粉末製造装置及びそのガス噴射器
JP2020125512A (ja) * 2019-02-04 2020-08-20 三菱日立パワーシステムズ株式会社 金属粉末製造装置及びそのガス噴射器
CN112533712A (zh) * 2019-02-04 2021-03-19 三菱动力株式会社 金属粉末制造装置及其气体喷射器
US11298746B2 (en) 2019-02-04 2022-04-12 Mitsubishi Power, Ltd. Metal powder producing apparatus and gas jet device for same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0194847B1 (en) Method for producing titanium particles
US5310165A (en) Atomization of electroslag refined metal
CN106891015B (zh) 一种微晶、非晶态金属粉末制造装置及其制造方法
US4897111A (en) Method for the manufacture of powders from molten materials
JPH06102824B2 (ja) 凝集噴着製品の製造方法及び装置
JPS63243212A (ja) 細分された球状高融点金属基粉末を製造するための湿式冶金方法
CN110181069A (zh) 采用气雾化法制备高氮钢粉末的方法
JPS63230806A (ja) 金属粉末製造ガス噴霧装置
KR20190061316A (ko) 가스 분무 금속 분말용 연속 회수 시스템
US3646177A (en) Method for producing powdered metals and alloys
EP3504020B1 (en) Low melting point metal or alloy powders atomization manufacturing processes
KR20040067608A (ko) 금속 분말 및 그 제조 방법
EP3752304B1 (en) High melting point metal or alloy powders atomization manufacturing processes
KR20210071150A (ko) 금속 분말 및 이의 가공장치, 가공방법
JP2642060B2 (ja) 反応性金属粒の製法及びその製造装置
US3533136A (en) Apparatus for producing metal powder
EP4019167A1 (en) Atomisation of metallic melts using liquid co2
JPS59118805A (ja) 不活性ガス連続金属噴霧装置
JP3281019B2 (ja) 亜鉛粒の製造方法および装置
JPH02243701A (ja) 金属粉末の処理方法
KR100819534B1 (ko) 고압 수 분사 장치 및 이를 이용한 초 미립의 금속 분말의제조 방법
JPS60190502A (ja) 急冷凝固金属粉末の製造方法
JPS60138008A (ja) 金属粉末の製造方法
JPH0891836A (ja) 亜酸化銅粉末の製造方法
EP4019166A1 (en) Atomisation of metallic melts using carbonated water