JPS63217676A - パルスガスレ−ザ装置 - Google Patents
パルスガスレ−ザ装置Info
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- JPS63217676A JPS63217676A JP5018387A JP5018387A JPS63217676A JP S63217676 A JPS63217676 A JP S63217676A JP 5018387 A JP5018387 A JP 5018387A JP 5018387 A JP5018387 A JP 5018387A JP S63217676 A JPS63217676 A JP S63217676A
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Links
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 7
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- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
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- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
この発明はガスレーザの中のパルスガスレーザ装置に係
わり、特にレーザガスをX線照射し予備励起する装置に
関する。
わり、特にレーザガスをX線照射し予備励起する装置に
関する。
(従来の技術)
従来のX線予備励起法ではX線発生装置としては通常の
熱陰極を用いたX線管か、冷陰極を用た方法である。パ
ルスレーザのX線予備励起法では、通常パルス巾1μa
程度の強力なパルスX線源が必要となる。
熱陰極を用いたX線管か、冷陰極を用た方法である。パ
ルスレーザのX線予備励起法では、通常パルス巾1μa
程度の強力なパルスX線源が必要となる。
熱陰極X線管では、熱陰極の加熱の応答時間の関係から
、パルス的に強力なX線の放射することは出来ず線量が
不足する。
、パルス的に強力なX線の放射することは出来ず線量が
不足する。
一方冷陰極方式は熱陰極を必要とせず、構成要素が少な
くてすむが、陰極先端を鋭利な形状としかつ高い印加電
圧を必要とする。しかも動作が安定しにくいので、特殊
な用途を除いては利用出来ない。
くてすむが、陰極先端を鋭利な形状としかつ高い印加電
圧を必要とする。しかも動作が安定しにくいので、特殊
な用途を除いては利用出来ない。
(発明が解決しようとする問題点)
パルス的に強力なX線を得るには、X線発生装置の陰極
から、大電流の電子ビームを得ることが必要である。こ
のため、熱陰極方式では陰極温度を高くする必要がある
が、高い動作温度は陰極の寿命を短くする欠点がある。
から、大電流の電子ビームを得ることが必要である。こ
のため、熱陰極方式では陰極温度を高くする必要がある
が、高い動作温度は陰極の寿命を短くする欠点がある。
一方、冷陰極方式では陰極先端を鋭利な形状とし、かつ
高電圧を印加し、陰極先端に強い電界を発生する必要が
ある。このため電子放出は陰極先端の形状に影響されや
すい。また高電圧を印加するので、レーザガスの励起に
適した波長のX線よシ短い波長のX線が多くなシ、励起
効率が低下する。
高電圧を印加し、陰極先端に強い電界を発生する必要が
ある。このため電子放出は陰極先端の形状に影響されや
すい。また高電圧を印加するので、レーザガスの励起に
適した波長のX線よシ短い波長のX線が多くなシ、励起
効率が低下する。
本発明の目的は熱陰極、冷陰極の上記欠点を除いた簡単
な構造のパルス大電流電子ビームの得られるプラズマカ
ソードを利用したX線発生方式を用いたパルスガスレー
ザ装置を提供することにある。
な構造のパルス大電流電子ビームの得られるプラズマカ
ソードを利用したX線発生方式を用いたパルスガスレー
ザ装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は陰極表面上の近傍にプラズマを生成させ、そこ
から電子を引き出すプラズマ陰極生成法に関する。
から電子を引き出すプラズマ陰極生成法に関する。
X線発生用陰極は多孔質金属あるいは多孔質金属炭化物
から構成され、この多孔質材を通して、X線発生装置の
外部からガスあるいは液体金属を供給する装置とガスを
排気する装置およびX線発生用ターゲット(陽極)から
構成されている。また電子加速用電源を設ける。
から構成され、この多孔質材を通して、X線発生装置の
外部からガスあるいは液体金属を供給する装置とガスを
排気する装置およびX線発生用ターゲット(陽極)から
構成されている。また電子加速用電源を設ける。
(作用)
多孔質陰極を通してガスをわずかに供給している状態で
陰極と陽極に電圧を印加すると、陰極表面に強い電界が
生じ、また冷陰極電子放出が生じる。この電界と電子に
よシ多孔質陰極表面近傍のガスを電離プラズマを生成す
る。このプラズマよシミ子を引出しターゲット(陽極)
に加速衝突させX線発生させる。利用ずみのガスは排気
装置でX線発生装置外に排気する。
陰極と陽極に電圧を印加すると、陰極表面に強い電界が
生じ、また冷陰極電子放出が生じる。この電界と電子に
よシ多孔質陰極表面近傍のガスを電離プラズマを生成す
る。このプラズマよシミ子を引出しターゲット(陽極)
に加速衝突させX線発生させる。利用ずみのガスは排気
装置でX線発生装置外に排気する。
多孔質陰極から液体金属を供給した場合は、陰極、陽極
に印加した電圧によシ陰極表面に強い電界が生じ、この
電界の静電力により液体金属は引伸ばされその先端では
さらに強電界が生じる。このため電界放出電流の増大と
液体金属の蒸発によシプラズマが発生し、プラズマカソ
ードの機能を発揮する。
に印加した電圧によシ陰極表面に強い電界が生じ、この
電界の静電力により液体金属は引伸ばされその先端では
さらに強電界が生じる。このため電界放出電流の増大と
液体金属の蒸発によシプラズマが発生し、プラズマカソ
ードの機能を発揮する。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例である。レーザガス2を励起
用主放電電極1,11間に導入し、電源3で放電励起す
る。この電源3の投入とほぼ同時または、それ以前にX
線発生装置を起動し発生したX線8を主電極に設けたX
線透過膜11を通じ入射し主放電領域4のレーザガスを
予備励起する。
用主放電電極1,11間に導入し、電源3で放電励起す
る。この電源3の投入とほぼ同時または、それ以前にX
線発生装置を起動し発生したX線8を主電極に設けたX
線透過膜11を通じ入射し主放電領域4のレーザガスを
予備励起する。
この予備励起によシ、主放電領域4には均一なグロー放
電が生成維持され良好な発振が得られる。
電が生成維持され良好な発振が得られる。
図にはレーザ発振器は省略されている。
第1図において電子ビーム発生用陰極5は多孔質金属あ
るいは、多孔質金属炭化物からなシ、この陰極にX線発
生室外に設けた、ガスソースあるいは液体金属ソース9
よシガスまたは液体金属を供給する。
るいは、多孔質金属炭化物からなシ、この陰極にX線発
生室外に設けた、ガスソースあるいは液体金属ソース9
よシガスまたは液体金属を供給する。
陰極5とX線発生用ターゲット(陽極)6との間に電源
7から電圧を印加する。(作用)の項で述べた原理によ
シ陰極5の表面近傍にプラズマが生じる。このプラズマ
中より電子を引出し、ターゲット6に当てX線8を生成
する。プラズマ生成に使用したガスは排気袋[10によ
り、X線発生室の仕切シは図示されていない)外に排気
する。
7から電圧を印加する。(作用)の項で述べた原理によ
シ陰極5の表面近傍にプラズマが生じる。このプラズマ
中より電子を引出し、ターゲット6に当てX線8を生成
する。プラズマ生成に使用したガスは排気袋[10によ
り、X線発生室の仕切シは図示されていない)外に排気
する。
簡単な陰極構造で大電流の電子ビームが安定に得られる
プラズマカソードを用い、強力(fluxの大きい)な
パルスX線源を実現する。
プラズマカソードを用い、強力(fluxの大きい)な
パルスX線源を実現する。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。
1.11・・主放電電極、3・・・主放電電源、5・・
・XW!A発生用多孔質陰極、6・・・X線発生用ター
ゲット、9・・・ガスあるいは液体金属源、10・・・
排気装置。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男
・XW!A発生用多孔質陰極、6・・・X線発生用ター
ゲット、9・・・ガスあるいは液体金属源、10・・・
排気装置。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男
Claims (2)
- (1)レーザガスをX線によって予備励起するガスレー
ザ装置において、X線発生用電子ビーム発生源(電子ビ
ーム用陰極)が、多孔質金属あるいは多孔質金属間化合
物からなり、前記多孔質陰極を通し希薄なガスあるいは
液体金属を供給する手段を備えたことを特徴とするパル
スガスレーザ装置。 - (2)多孔質陰極が少なくもMo、Ta、Ti、Wある
いはこれらの炭化物のいずれか一つからなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のパルスガスレーザ装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5018387A JPS63217676A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | パルスガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5018387A JPS63217676A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | パルスガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63217676A true JPS63217676A (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=12852076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5018387A Pending JPS63217676A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | パルスガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63217676A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2221848A1 (en) * | 2009-02-18 | 2010-08-25 | LightLab Sweden AB | X-ray source comprising a field emission cathode |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP5018387A patent/JPS63217676A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2221848A1 (en) * | 2009-02-18 | 2010-08-25 | LightLab Sweden AB | X-ray source comprising a field emission cathode |
WO2010094588A3 (en) * | 2009-02-18 | 2010-10-21 | Lightlab Sweden Ab | X-ray source comprising a field emission cathode |
TWI399780B (zh) * | 2009-02-18 | 2013-06-21 | Lightlab Sweden Ab | 包含場發射陰極之x射線源 |
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