JPS6316716A - 昇圧回路 - Google Patents

昇圧回路

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JPS6316716A
JPS6316716A JP61159742A JP15974286A JPS6316716A JP S6316716 A JPS6316716 A JP S6316716A JP 61159742 A JP61159742 A JP 61159742A JP 15974286 A JP15974286 A JP 15974286A JP S6316716 A JPS6316716 A JP S6316716A
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transistor
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voltage
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JP61159742A
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Hiroto Nakai
弘人 中井
Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Masamichi Asano
正通 浅野
Isao Sato
勲 佐藤
Shigeru Kumagai
茂 熊谷
Kazuto Suzuki
和人 鈴木
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Toshiba Corp
Tosbac Computer System Co Ltd
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Tosbac Computer System Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明はメモリに使用される昇圧回路に関する。
(従来の技術) 一般に、不揮発性半導体メモリにおける昇圧回路は、メ
モリの書き込み時における電圧を昇圧し、書き込み特性
を良くするという目的で使用される。
この場合、昇圧回路がなければ、書き込み電圧はトラン
ジスタの基板バイアスを考慮したしきい値電圧vth分
電圧が下がってしまい書き込み特性が悪くなる。この為
、昇圧回路を使用することによシ、はじめからトランジ
スタのしきい値電圧Vth分書き込み電圧を上げておき
書き込み特性を改善している。
第5図は従来の昇圧回路を示す。即ち、パルスを発生さ
せるリングオシュレータ回路(以下oscと称する)1
によって発生されたパルスはインバータのエンハンスメ
ント形トランジスタT2゜T4に入力される。また、デ
ィプレッション形トランジスタTI、T3のドレインは
それぞれ書き込み用の第3の電源vppに接続され、O
20Iの出力波形によって′″1”、′O#が切換る。
この時のインバータの出力(ノードB)の波形は第7図
のようになる。インバータの出力でめるノードBにはノ
ードAが容量結合され、このノードBとノードA間のキ
ャパシタを充電するためトランジスタT5.T6.T7
.Tlの回路がある。すなわち、トランジスタT5のゲ
ートHK“ハイ”レベルの信号が入ることによシ充電を
はじめ、ノードAはトランジスタT5.T6によって第
1の電源電圧(Vc c )よりトランジスタのしきい
値電圧vth分低い電圧に充電てれる。この時、 O2
0Iの出力は帆ロー”レベルになっているが、これが1
ハイルベルになると、ノードBがトランジスタT3よシ
第3の電源電圧(vpp )まで充電され、ノードAは
この“ロー”レベルから1ハイ”レベルに対応し昇圧さ
れる。実際はノードBとノードA間のキャパシタの能力
により第1の電源電圧(Vcc)に充電されていたノー
ドAの電圧がO20Iの6ハイ”レベルの信号によって
4vぐらい昇圧されOVi度となる。この昇圧された電
圧がダイオード接続されたトランジスタで7を介してト
ランジスタT8のゲートに加わシトランジスタT8を動
作し、これによシトランジスタT6が動作してノードA
が第1の電源電圧(VCC)以上に昇圧される。この時
、O20Jの出力は10−”レベルに対応している。こ
のように連続的なO20Iの“ハイ2レベル。
―ロー”レベルに制御されノードA、ノードOUTは昇
圧される。この時のノードOUTの出力波形を第6図に
示す。
また、前記トランジスタT5 、T8に於いては、第1
の電源電圧(Vce)までの充電はトランジスタT5が
行なうが、昇圧され第1の電源電圧(Vc c )以上
になると、トランジスタT5はカットオフしトランジス
タで8が充電を行なう。
このようにして充電された電圧がノードOUTに出力さ
れるが、ノードOUTの最高電位はリミッタを構成する
エンハンスメント型トランジスタT9゜Tl O、TI
 Jのしきい値電圧vthによって決定される。この接
続は第3の電源VPPに対し逆向きのダイオード接続に
なっておシノードOUTの電圧が第3の電源電圧(Vp
p)よシトランジスタT9゜Tl O、TI Jの基板
バイアスを考慮した時のしきい値電圧vth分高くなっ
た時だけ導通状態となシ、ノードOUTの電圧を基板バ
イアスを考慮した時のトランジスタT9.TIO,Tl
lのしきい値電圧vth分を第3の電源電圧(Vpp)
 K加えたレベルに保つ。
以上のように、ノードBとノードAの容量結合により、
ノードBの電位の上昇がノードAに伝達され、ノードA
の電位が上昇し、これがダイオード接続されたトランジ
スタT7t−介しノードOUTに伝達される。この時ノ
ードOUTの電位は前記トランジスタT9.TIO,T
llのしきい値電圧と第3の電源電圧(vpp)の和よ
シも大きな値に一時上昇され、第6図に示すよりなノ9
ルス状波形Pが現われる。そして、このノードOUT 
(D電位がトランジスタT11.T10.T9を介し第
3の電源電圧(Vpp)に放電され、飽和電圧としてト
ランジスタT9.TIO,Tllのしきい値電圧と第3
の電源電圧(Vpp)の和の値になる。
このように、第5図に示す昇圧回路によシ昇圧された電
圧波形がノ9ルス状波形を含んでいても、周辺回路上N
チャネル型MO8)ランジスタで構成した場合には影響
することはなかった。しかしながら、周辺回路をCMO
!i! )ランジスタの回路で構成した場合には、第8
図に示すよりなフィードバック回路に於いて問題が起こ
ってくる。すなわち、T30.T31はエンハンスメン
ト型のPMOSトランジスタであシ、N−ウェルがドレ
インに接続嘔れている。SWは昇圧回路によって昇圧さ
れた電圧で、第5図のノードOUTに出力される電圧で
ある。この電圧SWにパルス状波形Pが出ると、トラン
ジスタT30.T31のドレインはN−ウェルよりも電
位の伝わり方が速く、ドレインの方がN−ウェルよシも
電位が高くなシ、ドレインよυN−ウェルに電流が流れ
ラッチアップの原因となる。
また、ノードOUT 1よシトランジスタT30のゲー
トにフィードバックしているが、ノード0UT1に“ハ
イ”レベルが出力されている時はフィードバックによっ
てトランジスタT30のf−)にも“ハイ”レベルがか
がシ、トランジスタT30はオフして流れない。しかし
、電圧SWにパルス状波形Pが出るとノードOUT 1
にも同様の波形が出力されるが、これが時間的に遅れて
出力されるため電圧が直接印加されるトランジスタT3
0のソース電位よりもトランジスタT30のダート電位
の変化が遅れてかかるため、このトランジスタ30のe
−)がトランジスタT30のしきい値電圧vth分低く
なった時、トランジスタT30はオンして流れはじめ、
トランジスタT32のダートにかがシトランジスタT3
2)5−オンして流れはじめ、ノードOUT lの出力
が下がシ誤動作の原因となる。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、従来技術が昇圧された出力電圧にパルス状波
形を含むという点に鑑みてなされたもので、昇圧された
出力電圧からパルス状波形を除去することによシ、0M
O8)ランジスタで構成した周辺回路への悪影響を取り
除き得る昇圧回路を提供することを目的とする。
[発明の構成コ (問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため、容量結合された第10ノード
および第2のノードと、この第1のノードにパルスを供
給する第1の回路と、前記第2のノードを充電する第2
の回路と、前記第2のノードと第3のノード間にダイオ
ード接続されたトランジスタと、前記第3のノードに接
続され第3のノードの電位を決める第3の回路と、前記
第3のノードに抽出される電圧波形からパルス状波形を
除去するために設けられたパルスの電位変化をゆるやか
にする第4の回路とよシなるものでおる。
(作用) 上記手段のように、昇圧回路に流れるパルスの電位をゆ
るやかにする回路を設けることによシ、昇圧された出力
電圧からパルス状波形を除去することができるため、0
MO8)ランジスタで構成した周辺回路への悪影響を取
シ除くことができる。
(実施例) 以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示し、第5図と同一部
分は同一符号を付してその説明を省略する。すなわち1
.ノードAとノードBは容量結合され、このノードBに
はO201、)ランジスタT 1゜T、?、TJ、T4
、第2の電源V、lI、第3の電源VPpよシなるノー
ドBにノクルスを供給する回路が接続される。前記ノー
ドAにはトランジスタT 5゜T6.T7.TM、第1
の電源Vcc、第3の電源VPPよシなるノードAを充
電する回路が接続され、前記トランジスタT7はノード
AとノードOUT間にダイオード接続される。前記ノー
ドOUTにはトランジスタ’f9.TIO,Tll、第
3の電源VPPよシなるノードOUTの電位を決める回
路が接続される。前記トランジスタT3のダートにはデ
ィプレッジ曹ン型トランジスタTAのダートが接続され
、このトランジスタTAのドレインおよびソースは第2
の電源Vssに接続される。
すなわち、前記トランジスタTAをキャノ臂シタとして
使用することによシ、トランジスタT3のダートに加わ
る・ぐルスの電位変化をゆるやかにし、トランジスタT
3のドレインからソースに流れる/4’ルスの電位変化
をゆるやかにし、ノードBでの電位変化をゆるやかにす
る。従りて、ノードBとノードAの容量結合により、ノ
ードBの電位がノードAに伝達され、ノードAの電位が
上昇し、これがダイオード接続されたトランジスタT7
を介し、ノードOUTに伝達でれる時、ノードBでの電
位変化をゆるやかにしているため、ノードOUTの電位
は前記トランジスタT9 、 Tl O、Tl 1のし
きい値電圧と第3の電源電圧(Vp p )の和よシも
、大きな値に昇圧されることはなく、第2図に示すよう
に、ノードOUTの出力電圧にはノ4ルス状波形が現わ
れることはない。
第3図は本発明の第2の実施例を示し、第1図と同一部
分は同一符号を付してその説明を省略する。すなわち、
トランジスタT3のソースとトランジスタT4のドレイ
ンの接続点と、ノードBとの間にポリイ(Poly)抵
抗TCを接続したもので、O8CIの切換わシによるパ
ルスを抵抗を増すことにより、ノードBでの電位変化を
ゆるやかにするものである。この場合にも、第2図に示
すように、ノードOUTの出力電圧にはパルス状波形が
現われることはない。
第4図は本発明の第3の実施例を示し、第1図と同一部
分は同一符号を付してその説明を省略する。すなわち、
トランジスタで7のソースにはディプレッジ田ン型トラ
ンジスタTBのドレインが接続され、このトランジスタ
TBのダートおよびソースはノードOUTに接続される
。従って、前記トランジスタTBはダイオード接続され
てノードOUTでの電位変化をゆるやかにし、この場合
にも、第2図に示すように、ノードOUTの出力電圧に
はパルス状波形が現われることはない。
[発明の効果コ 以上述べたように本発明によれは、昇圧畑れた出力電圧
からパルス状波形を除去することばよシ、従来のNチャ
ネル型MO8)ランジスタで構成した回路に使用された
昇圧回路を、バックバイアスやフィード・9ツク、ディ
レィなどが含まれる0M03回路に於いても、他の回路
への影響や誤動作、電圧降下によるラッチアップなどを
気にせずに使用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は本発
明に係る出力電圧の一例を示す波形凶、第3因および第
4図は本発明の他の実施例を示す・・・グイプレッシ曹
ン型トランジスタ、TC・・・ポリイ込汎〇 出願人代理人 弁理士 鈴 江武彦 第1図 第2図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)容量結合された第1のノードおよび第2のノード
    と、この第1のノードにパルスを供給する第1の回路と
    、前記第2のノードを充電する第2の回路と、前記第2
    のノードと第3のノード間にダイオード接続されたトラ
    ンジスタと、前記第3のノードに接続され第3のノード
    の電位を決める第3の回路と、前記第3のノードに抽出
    される電圧波形からパルス状波形を除去するために設け
    られたパルスの電位変化をゆるやかにする第4の回路と
    を具備することを特徴とする昇圧回路。
  2. (2)第4の回路として、第1の回路内にキャパシタと
    して使用するディプレッシヨン型トランジスタを接続す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の昇圧回
    路。
  3. (3)第4の回路として、第1のノードと第1の回路と
    の間にポリイ抵抗を接続することを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の昇圧回路。
  4. (4)第4の回路として、前記ダイオード接続されたト
    ランジスタのソースにドレインが接続され、第3のノー
    ドにゲートおよびソースが接続されたディプレッシヨン
    型トランジスタを用いることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の昇圧回路。
JP61159742A 1986-07-09 1986-07-09 昇圧回路 Expired - Lifetime JPH073947B2 (ja)

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US07/068,521 US4831592A (en) 1986-07-09 1987-07-01 Nonvolatile semiconductor memory device
EP87109877A EP0254139B1 (en) 1986-07-09 1987-07-08 Nonvolatile semiconductor memory device
DE8787109877T DE3778601D1 (de) 1986-07-09 1987-07-08 Nichtfluechtige halbleiterspeicheranordnung.
KR1019870007367A KR960002008B1 (ko) 1986-07-09 1987-07-09 불휘발성 반도체 기억장치

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Cited By (1)

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KR100270000B1 (ko) * 1995-12-11 2000-10-16 다니구찌 이찌로오, 기타오카 다카시 승압펄스 발생회로

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