JPS63151347A - 薬液供給管 - Google Patents
薬液供給管Info
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- JPS63151347A JPS63151347A JP30094986A JP30094986A JPS63151347A JP S63151347 A JPS63151347 A JP S63151347A JP 30094986 A JP30094986 A JP 30094986A JP 30094986 A JP30094986 A JP 30094986A JP S63151347 A JPS63151347 A JP S63151347A
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/001—Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は薬液、特に半導体装置を製造するためにエツチ
ングや洗浄等に用いる薬液を薬液処理装置に供給する薬
液供給管に関するものである。
ングや洗浄等に用いる薬液を薬液処理装置に供給する薬
液供給管に関するものである。
従来の技術
近年、大形の薬液供給タンクから薬液処理装置に管を介
して窒素ガスや空気などによる圧送またはポンプ稼動に
よって薬液を送り込む、いわゆる薬液供給装置が利用さ
れている。
して窒素ガスや空気などによる圧送またはポンプ稼動に
よって薬液を送り込む、いわゆる薬液供給装置が利用さ
れている。
第２図に従来の薬液供給装置を示し、これを参照して薬
液供給管を説明する。薬液供給タンク１と薬液処理装置
２は壁３を隔てて同じ床４に配置されている。薬液供給
タンク１には薬液５が充填されており、薬液５を圧送す
るために薬液供給タンク１内に窒素ガスを送り込む加圧
用窒素供給管６が設けられている。薬液供給タンク１か
ら薬液処理装置２の間には薬液５の通る内側管７と内側
管７を内包している外側管７１の二重管で構成されてい
る薬液供給管がある。
液供給管を説明する。薬液供給タンク１と薬液処理装置
２は壁３を隔てて同じ床４に配置されている。薬液供給
タンク１には薬液５が充填されており、薬液５を圧送す
るために薬液供給タンク１内に窒素ガスを送り込む加圧
用窒素供給管６が設けられている。薬液供給タンク１か
ら薬液処理装置２の間には薬液５の通る内側管７と内側
管７を内包している外側管７１の二重管で構成されてい
る薬液供給管がある。
この薬液供給管が二重管構造になっているのは、供給す
る薬液、例えば弗酸、発煙硝酸などの危険物が、長い薬
液供給管の途中で万−何らかの原因で薬液が内側管より
漏洩したとき、外側管７１に薬液５が漏洩するだけで、
外側管７１の外すなわち床４などに薬液を漏洩拡大させ
ない様にするためである。
る薬液、例えば弗酸、発煙硝酸などの危険物が、長い薬
液供給管の途中で万−何らかの原因で薬液が内側管より
漏洩したとき、外側管７１に薬液５が漏洩するだけで、
外側管７１の外すなわち床４などに薬液を漏洩拡大させ
ない様にするためである。
薬液供給管の材質は、内側管７は耐薬品性に優れたフッ
素樹脂が用いられ、外側管７１は内側管７の様子及び外
側管への薬液の漏洩が目視できる様に安価な透明塩化ビ
ニール管が用いられている。
素樹脂が用いられ、外側管７１は内側管７の様子及び外
側管への薬液の漏洩が目視できる様に安価な透明塩化ビ
ニール管が用いられている。
発明が解決しようとする問題点
上記従来の構成では、内側管から薬液が漏洩しているか
どうかの検査は、配管されている二重管を外部から目視
で点検するしか方法がなかった。
どうかの検査は、配管されている二重管を外部から目視
で点検するしか方法がなかった。
通常、薬品供給タンクは清浄管理のため薬液処理装置と
は別の室に隔離されているため、薬液供給管の配管は距
離が長く、天井裏、床下等に及んでいる場合が多く、目
視で点検する作業に時間と人手がかかるという問題があ
った。
は別の室に隔離されているため、薬液供給管の配管は距
離が長く、天井裏、床下等に及んでいる場合が多く、目
視で点検する作業に時間と人手がかかるという問題があ
った。
また、外側管と内側管の間隙には空気が滞溜しているだ
けで、その空気は外気と置換されることはない。従って
、弗酸、発煙硝酸などの強酸を供給する場合、長期間使
用するうちに、フッ素系樹脂の内側管の管壁を薬液が透
過して外側管と内側管の間隙に酸ミストが滞溜し、外側
管の透明塩化ビニール管の内壁を曇らせるので、内側管
の様子が全く目視できなくなるという問題も有していた
。
けで、その空気は外気と置換されることはない。従って
、弗酸、発煙硝酸などの強酸を供給する場合、長期間使
用するうちに、フッ素系樹脂の内側管の管壁を薬液が透
過して外側管と内側管の間隙に酸ミストが滞溜し、外側
管の透明塩化ビニール管の内壁を曇らせるので、内側管
の様子が全く目視できなくなるという問題も有していた
。
本発明は上記のような従来の問題点を解決するもので、
薬液の漏洩点検作業を容易にし、かつ透明塩化ビニール
管のくもりを解消することのできる薬液供給管を提供す
ることを目的としているものである。
薬液の漏洩点検作業を容易にし、かつ透明塩化ビニール
管のくもりを解消することのできる薬液供給管を提供す
ることを目的としているものである。
問題点を解決するための手段
この目的を達成するための本発明の薬液供給管は、薬液
を供給する内側管と、内側管を内包する外側管と、外側
管の中に液体または気体を外側管の一方の端部附近から
流入させる流入管と、外側管の他の端部附近から外側管
の中の液体または気体を排出させる排出管とを備えたも
のである。
を供給する内側管と、内側管を内包する外側管と、外側
管の中に液体または気体を外側管の一方の端部附近から
流入させる流入管と、外側管の他の端部附近から外側管
の中の液体または気体を排出させる排出管とを備えたも
のである。
作用
この構成によって、流入管より外側管と内側管の間隙に
水などの液体または空気などの気体を流し込むことによ
って、上記間隙に薬液ミストが滞溜することがなく、こ
の結果外側管の透明塩化ビニール管がくもることを解消
させることができる。また、排出管より排出された液体
または気体を分析することによって内側管より外側管へ
の薬液の漏洩の有無を容易に検知することができる。
水などの液体または空気などの気体を流し込むことによ
って、上記間隙に薬液ミストが滞溜することがなく、こ
の結果外側管の透明塩化ビニール管がくもることを解消
させることができる。また、排出管より排出された液体
または気体を分析することによって内側管より外側管へ
の薬液の漏洩の有無を容易に検知することができる。
実施例
本発明の薬液供給管の実施例について、第１図の薬液供
給装置の概略構成図を参照しながら説明する。
給装置の概略構成図を参照しながら説明する。
この装置は、薬液処理装置２と薬液供給タンク１は清浄
化のため壁３を隔てて同じ床４に配置されている。そし
て薬液供給タンク１には薬液５が充填されており、薬液
５を圧送するため薬液供給タンク１内に窒素ガスを送り
込む加圧用窒素供給管６が設けられている。薬液供給タ
ンク１から薬液処理装置２の間には薬液５の通る内側管
７と内側管７を内包している外側管７１の二重管で構成
されている薬液供給管がある。なお、内側管７の一方の
端部は薬液供給タンク１の中の薬液５の中にまで延長さ
れ、他方の端部は薬液処理装置２内にある薬液処理槽１
１の近くまで延長されている。液体または気体を外側管
７１に流し込む流入管８が薬液処理装置２の附近に設け
られ、液体または気体を外側管７１から排出する排出管
９が薬液供給タンクに附近に設けられている。そして、
排出管の途中に内側管７から外側管７１に薬液５が漏れ
たことを検知する漏洩検知器１０が設置されている。漏
洩検知器１０として、外側管に水を流す場合は、比抵抗
測定器あるいはｐＨ測定器などを用い、空気を流す場合
はガス検知器等を用いる。以上により薬液供給装置が構
成される。
化のため壁３を隔てて同じ床４に配置されている。そし
て薬液供給タンク１には薬液５が充填されており、薬液
５を圧送するため薬液供給タンク１内に窒素ガスを送り
込む加圧用窒素供給管６が設けられている。薬液供給タ
ンク１から薬液処理装置２の間には薬液５の通る内側管
７と内側管７を内包している外側管７１の二重管で構成
されている薬液供給管がある。なお、内側管７の一方の
端部は薬液供給タンク１の中の薬液５の中にまで延長さ
れ、他方の端部は薬液処理装置２内にある薬液処理槽１
１の近くまで延長されている。液体または気体を外側管
７１に流し込む流入管８が薬液処理装置２の附近に設け
られ、液体または気体を外側管７１から排出する排出管
９が薬液供給タンクに附近に設けられている。そして、
排出管の途中に内側管７から外側管７１に薬液５が漏れ
たことを検知する漏洩検知器１０が設置されている。漏
洩検知器１０として、外側管に水を流す場合は、比抵抗
測定器あるいはｐＨ測定器などを用い、空気を流す場合
はガス検知器等を用いる。以上により薬液供給装置が構
成される。
次に、薬液供給管の使用方法を示す。流入管８より、外
側管７１の中へ水を常時ゆっ（り流すか、通常は滞溜さ
せておいて、漏洩チェック時のみ流す。そして、排出管
９より排出された水を比抵抗測定器で抵抗の変化をみる
か、ＰＨ測定器でｐＨの変化を調べて薬液の漏洩の有無
を調べる。
側管７１の中へ水を常時ゆっ（り流すか、通常は滞溜さ
せておいて、漏洩チェック時のみ流す。そして、排出管
９より排出された水を比抵抗測定器で抵抗の変化をみる
か、ＰＨ測定器でｐＨの変化を調べて薬液の漏洩の有無
を調べる。
なお、外側管に流す液体としては水でなく他の液体でも
よく、また液体でなく空気等の気体であってもよい。薬
液は無機、有機など、どんな種類でもよいことは勿論で
ある。
よく、また液体でなく空気等の気体であってもよい。薬
液は無機、有機など、どんな種類でもよいことは勿論で
ある。
発明の効果
本発明の薬液供給管によれば、薬液供給管の内側管に供
給する薬液を流し、内側管を内包する外側管に液体また
は気体を流すことによって、薬液ミストの滞溜による外
側管のくもりが解消される。また外側管から排出された
液体または気体を漏洩検知器で監視することによって、
薬液供給管の内側管のどこかで薬液が漏洩しているかど
うか、を、配管系全体を点検してまわらなくても容易に
検知することができ、作業能率を高めることができる。
給する薬液を流し、内側管を内包する外側管に液体また
は気体を流すことによって、薬液ミストの滞溜による外
側管のくもりが解消される。また外側管から排出された
液体または気体を漏洩検知器で監視することによって、
薬液供給管の内側管のどこかで薬液が漏洩しているかど
うか、を、配管系全体を点検してまわらなくても容易に
検知することができ、作業能率を高めることができる。
第１図は本発明の薬液供給管の実施例を示す薬液供給装
置の概略構成図、第２図は従来の薬液供給管を示す薬液
供給装置の概略構成図である。 １・・・・・・薬液供給タンク、２・・・・・・薬液処
理装置、３・・・・・・壁、４・・・・・・床、５・・
・・・・薬液、６・・・・・・加圧用窒素供給管、７・
・・・・・内側管、７１・・・・・・外側管、８・・・
・・・流入管、９・・・・・・排出管、１０・・・・・
・漏洩検知器、１１・・・・・・薬液処理槽。
置の概略構成図、第２図は従来の薬液供給管を示す薬液
供給装置の概略構成図である。 １・・・・・・薬液供給タンク、２・・・・・・薬液処
理装置、３・・・・・・壁、４・・・・・・床、５・・
・・・・薬液、６・・・・・・加圧用窒素供給管、７・
・・・・・内側管、７１・・・・・・外側管、８・・・
・・・流入管、９・・・・・・排出管、１０・・・・・
・漏洩検知器、１１・・・・・・薬液処理槽。
Claims (2)
- （１）薬液供給タンクから薬液処理装置へ薬液を供給す
る内側管と、同内側管を内包する外側管と、同外側管の
一方の端部附近から前記外側管の内へ液体または気体を
流入させる流入管と、前記外側管の他方の端部附近から
前記液体または気体を排出させる排出管とを備えたこと
を特徴とする薬液供給管。 - （２）外側管から排出させた液体または気体に内側管の
薬液の混在の有無を知る検知器を排出管に備えているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の薬液
供給管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30094986A JPS63151347A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 薬液供給管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30094986A JPS63151347A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 薬液供給管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63151347A true JPS63151347A (ja) | 1988-06-23 |
Family
ID=17891027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30094986A Pending JPS63151347A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 薬液供給管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63151347A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999045578A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | Uniform heat trace and secondary containment for delivery lines for processing system |
| JP2005033135A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Kobe Steel Ltd | 微細構造体の洗浄装置 |
| JP2010034203A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置の洗浄装置及び洗浄方法 |
| JP2013219388A (ja) * | 1997-07-11 | 2013-10-24 | Advanced Technology Materials Inc | バルク化学物質供給システム |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP30094986A patent/JPS63151347A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013219388A (ja) * | 1997-07-11 | 2013-10-24 | Advanced Technology Materials Inc | バルク化学物質供給システム |
| WO1999045578A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | Uniform heat trace and secondary containment for delivery lines for processing system |
| US6202656B1 (en) | 1998-03-03 | 2001-03-20 | Applied Materials, Inc. | Uniform heat trace and secondary containment for delivery lines for processing system |
| US6498898B2 (en) | 1998-03-03 | 2002-12-24 | Applied Materials, Inc. | Uniform heat trace and secondary containment for delivery lines for processing system |
| JP2005033135A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Kobe Steel Ltd | 微細構造体の洗浄装置 |
| JP2010034203A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置の洗浄装置及び洗浄方法 |
| US8297292B2 (en) | 2008-07-28 | 2012-10-30 | Tokyo Electron Limited | Cleaning device and cleaning method of semiconductor manufacturing apparatus |
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