JPS63142829A - 基板吸着固定装置 - Google Patents

基板吸着固定装置

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JPS63142829A
JPS63142829A JP61290708A JP29070886A JPS63142829A JP S63142829 A JPS63142829 A JP S63142829A JP 61290708 A JP61290708 A JP 61290708A JP 29070886 A JP29070886 A JP 29070886A JP S63142829 A JPS63142829 A JP S63142829A
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suction
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receiving surface
fixing
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JP61290708A
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Masanobu Doken
道券 正延
Yoshio Kawai
義夫 河合
Nobuyuki Shimada
島田 信幸
Yoshiaki Mimura
三村 義昭
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N T T GIJUTSU ITEN KK
NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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N T T GIJUTSU ITEN KK
Nippon Telegraph and Telephone Corp
NTT Technology Transfer Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体基板などの種々の基板に微細パターン
を露光するための露光′8置に用いて好適な基板板む固
定装置に関する。
従来の技術 従来、第3図を伴なって次に述べる構成を有する基板吸
着固定装置が提案されている。
すなわち、基板吸着固定手段Aと、基板受渡手段Bとを
有する。
基板吸着固定手段Aは、平らな基板受面2と、その基板
受部2に臨み且つ吸気用連絡孔4及び吸気用外部連結管
5を介して外部の吸気手段(図示せず)に連結される例
えば格子状パターンに形成された吸着用溝3とを有する
基板吸着固定用板体1を有する。
また、基板受渡手段Bは、比較的大きな面積の基板受部
13を有する板状の基板受部12と、その基板受部12
から基板受面13と直交する方向に延長している支持部
14とを有する1つの基板支持体11からなる。
この基板支持体11の基板受部12には、支持部14内
にその長さ方向にを通って延長している吸気用孔16を
介して外部の吸気手段(図示せず)に連結される、基板
受i!1li73に臨んでいる吸着用溝15が設けられ
ている。
さらに、上述した基板吸着固定手段Aを構成している基
板吸着固定用板体1には、基板吸着固定用板体1の基板
受部2の中央部に、基板受面2と直交する方向に延長し
、且つ上述した基板受渡手段Bを構成している基板支持
体11の基板受部12の基板受面13を、基板吸着固定
用板体1の基板受面2と平行であるがそれよりも下がっ
ている面上と基板吸着固定用板体1の基板受面2と平行
であるがそれよりも上っている面上とに選択的に持来し
得るように、基板支持体11を可動自在に配している貫
通孔6が形成されている。
以上が、従来提案されている基板吸着固定装置の構成で
ある。
このような構成を有する基板吸着固定装置によれば、第
3図Bに示すような、基板受渡手段Bを構成している基
板支持体11が、その基板受部12の基板受面13を、
基板吸着固定手段Aを構成している基板吸着固定用板体
1の貫通孔6内における基板受面2と平行であるがそれ
よりも下がっている面上に持来たしている、という基板
吸着固定用板体1との相対位置関係を有している状態か
ら、吸着固定されるべき基板21を、第3図Cに示すよ
うに、適当な基板搬送手段(図示せず)によって、基板
吸着固定用板体1の上方位置に、その基板受面2と対向
して、持来たし、そして、基板支持体11を、適当な駆
動手段(図示せず)によって、上方に移動させ、それに
よって、基板支持体11の基板受部12を、その基板受
面13が基板吸着固定用板体1の基板受面2と平行な関
係を保っている状態で、貫通孔6内に、上方に向って貫
通させれば、第3図Cに示すように、基板支持体11の
基板受部12の基板受面13によって、基板21を、そ
の下方から受けさせることができる。従って、基板21
を、上述した基板搬送手段から、基板支持体11の基板
受面13上に受渡すことができる。
この場合、基板支持体11の基板受部12の吸着用溝1
5は、基板21によって上方から塞がれた状態になるが
、その吸着用溝15に予め外部の吸気手段を連結してお
き、そして、その吸気手段を予め作動させておけば、そ
の吸気手段によって基板支持体11の吸気用溝15の排
気が行われるので、基板21が基板支持体11の基板受
面13上に受渡されている状態が、基板21が基板支持
体11の基板受面13上に吸着固定されている状態で得
られる。
また、上述したように、基板1が基板支持体11の基板
受面13上に受渡されている状態から、第3図りに示す
ように、基板支持体11を、駆動手段によって、下方に
移動させ、それによって、基板支持体11の基板受部1
2を、その基板受面13が基板吸着固定用板体1の基板
受面2よりも下っている面上にあるように持来せば、第
3図りに示すように、基板21を、基板支持体11の基
板受面13−ヒから、基板吸着固定用板体1の基板受面
2上に受渡すことができる。
この場合、基板吸着固定用板体1の吸着用溝3は、基板
27によって上方から塞がれた状態になるが、その吸気
用溝3に連通している基板吸着固定用板体1の吸気用連
結管5に予め外部の吸気手段を連結しておき、そして、
その吸気手段を予め作動させておけば、基板吸着固定用
板体1の吸気用溝3の排気が行なわれるので、基板21
が基板吸着固定用板体1の基板受面2上に受渡されてい
る状態が、基板21が基板吸着固定用板体1の基板受面
2上に吸着固定されている状態で得られる。
発明が解決しようとする問題、。
第3図に示す従来の基板吸着固定装置によれば、基板1
を、基板吸着固定用板体1の基板受面2上に吸着して固
定させることができるので、基板1を、それに反りを有
していても、それを矯正して、基板吸着固定用板体1の
基板受面2上に固定させることができる。
しかしながら、第3図に示す基板吸着固定装置の場合、
基板吸着固定用板体1が、その貫通孔6を吸気用溝3に
連通させている構成を有さず、また、基板21が基板吸
着固定用板体1の基板受部2上に吸着固定されている状
態において、貫通孔6が基板21によって上方から塞が
れているとしても、その貫通孔6が排気される、という
構成を有していないので、基板1が基板吸着固定用板体
1の基板受部2上に吸着固定されている状態において、
基板21の貫通孔6に臨んでいる領域が、基板吸着固定
用板体1側に吸着されず、また、貫通孔6が大きな断面
積を有するので、上述においては、基板21がそれに反
りを有していても、それが矯正されて、基板吸着固定用
板体1の基板受面2上に固定させることができると述べ
たが、それが不十分であり、実際上は、基板21を基板
吸着固定用板体1の基板受面2上に固定させている状態
において、その基板21のd通孔6に臨んでいる領域が
、第3図りで点線に示すように、基板吸着固定用板体1
の基板受部2と同じ面から浮き上っている状態になって
いたりしている。
例えば、第3図に示す従来の基板吸着固定装置を、例え
ば半導体基板に微細パターンを露光するための露光装置
に適用した場合において、基板21が、直径150mm
1厚さ0.6〜0゜7IIIlのシリコンウェハでなり
、また、基板吸着固定用板体1の貫通孔6が直径3Qm
mの貫通孔である場合、基板21の負通孔6に臨んでい
る領域が、中央部において、3〜10μmも汀き上って
いる状態になっていたりしている。
従って、第3図に示ず従来の基板吸着固定装置の場合、
基板21を、その全域に亘って、平らに、基板吸着固定
用板体1の基板受面2上に固定させることができず、よ
って、例えば、半導体基板に微細パターンを露光するた
めの露光装置に適用した場合、微細パターンを半導体基
板の全域に亘り、?3門度に露光することができないな
ど、という欠点を有していた。
11  t °  ための よって、本発明は上述した欠点のない、新規な基板吸着
固定装置を提案せんとするものである。
本発明による基板吸′li!y固定装置は、第3図で上
述した従来の基板吸着固定装置の場合と同様に、基板を
受ける平らな基板受面と、その基板受面に臨み且つ吸気
手段に連結される吸気用溝とを有する基板吸着固定手段
を有するとともに、上記基板吸着固定手段の基板受面と
対向して持来たされる基板を、上記基板吸着固定手段の
基板受面上に受渡す基板受渡手段とを有する。
しかしながら、本発明による基板吸着固定装置は、この
ような構成を有する基板吸着固定装置において、その上
記基板受渡手段が、小さな面積の基板受面を有する複数
の基板支持体からなり、また、上記基板吸着固定手段に
、その基板受面と直交する方向に延長し且つ上記吸着用
溝に連通し、且つ上記複数の基板支持体の基板受部の基
板受面を、上記基板吸着固定手段の基板受面よりも下っ
ている面上と上記基板吸着固定手段の基板受面よりも上
っている面上とに選択的に持来し得るように、上記複数
の基板支持体を可動自在に配している複数の貫通孔が形
成され、さらに、上記基板吸着固定手段と上記基板受渡
手段の支持部との間に、上記複数の基板支持体の基板受
部の基板受面が上記基板吸着固定手段の基板受面よりも
下っている面上に持来されているときに、上記複数の貫
通孔を、それらの上記基板吸着固定手段の基板受面側に
おいて上記吸着用溝に連通させている状態に保たせてい
るが、上記基板吸着固定手段の基板受面側とは反対側に
おいて外気に連通させない気密封止手段が設けられてい
る、という構成を有する。
作用・効果 このような構成を有する本発明による基板吸着固定装置
によれば、吸着固定されるべき基板を、第3図で従来の
基板吸着固定装置について上述した場合と同様に、適当
な基板搬送手段を用いて、基板吸着固定手段の基板受面
と対向して持来し、そして、基板受渡手段の複数の基板
支持体を、第3図で上述した従来の基板吸着固定装置の
基板受渡手段の基板支持体の場合に準じて、適当な駆動
手段を用いて、基板側に向って移動させれば、それら複
数の基板支持体の基板受面によって、第3図で上述した
従来の基板吸着固定!ii置の基板支持体の場合と同様
に、基板を受けさせることができ、従って、基板を、第
3図で上述した従来の基板吸着固定装置の場合に準じて
、基板Wi送手段から、複数の基板支持体の基板受面上
に受渡すことができる。
また、このような状態から、複数の基板支持体を、第3
図で上述した従来の基板吸着固定装置の基板支持体の場
合に準じて、基板側とは反対側に向って移動させれば、
基板を、第3図で上述した従来の基板吸着固定装置の1
合に準じて、複数の基板支持体上から、基板吸着固定手
段の基板受面上に受渡すことができる。そして、この場
合、第3図で上述した場合と同様に、基板吸着固定手段
の吸着用溝に予め吸気手段を連結し、そして、その吸気
手段を予め作動さlておけば、基板が基板吸着固定手段
の基板受面上に受渡されている状態が、第3図で上述し
た従来の基板吸着固定装置の場合と同様に、基板吸着固
定手段の基板受面上に吸着固定させている状態で得られ
る。
さらに、本発明による基板吸着固定装置によれば、基板
を、第3図で上述した従来の基板吸着固定装置の場合と
同様に、基板吸着固定手段の基板受面上に吸着して固定
させることができるので、第3図で上述した従来の基板
吸着固定゛装置の場合と同様に、基板をそれに反りを有
していても、それを矯正して、基板吸着固定手段の基板
受面上に固定させることができる。
しかしながら、本発明による基板吸着固定装置の場合、
基板吸着固定手段が、それに設けている複数の貫通孔を
吸着用溝に連通させている構成を有し、また、基板吸着
固定手段と基板受渡手段の複数の基板支持体との間に、
気密封止手段が設けられ、そして、基板が基板吸着固定
手段の基板受面上に吸着固定されている状態にあるとき
、複数の貫通孔が、気密封止手段によって、基板吸着固
定手段の基板受面側において吸着用溝に連通している状
態を保っているが、基板吸着固定手段の基板受面側とは
反対側において外気に連通していないので、基板が基板
吸着固定手段の基板受面上に吸着固定されている状態に
あるとき、基板の複数の貫通孔に臨んでいる領域も、基
板吸着固定手段の基板受面側に吸着される。
このため、基板を、それに反りを有していても、その基
板の全域に亘って、平らに、基板吸着固定手段の基板受
面上に固定させることができる。
実施例1 次に、第1図を伴って、本発明による基板吸着固定装置
の第1の実施例を述べよう。
第1図において、第3図との対応部分には同一符号を付
す。
第1図に示す本発明による基板吸着固定装置は、第3図
で上述した従来の基板吸着固定装置の場合と同様に、基
板吸着固定手段Aと、基板受渡手段Bとを有する。
基板吸着固定手段Aは、第3図で上述した従来の基板吸
着固定装置の場合と同様に、平らな基板受面2と、その
基板受面2に臨み■つ吸気用連絡孔4及び吸気用外部連
結管5を介して外部の吸気手段(図示せず)に連結され
る例えば格子状パターンに形成された吸着用溝とを有す
る基板吸着固定用板体1を有する。
また、基板受渡手段Bは、小さな面積の例えば円形の基
板受部13を有する、その基板受面13下にそれと同じ
形状に延長している基板受部12と、その基板受部12
からその基板受面13側とは反対側に且つ基板受面13
と直交する方向に延長している基板受部12に比し小さ
な断面を有する支持部14とを有する複数例えば3つの
基板支持体11からなる。
これら複数の基板支持体11は、上述した基板吸着固定
手段Aを構成している基板吸着固定用板体1の厚さに比
し十分長い長さを有している。
また、複数の基板支持体11の基板受部12には、支持
部14内にその長さ方向に延長している吸気用孔16を
介して外部の吸気手段(図示せず)に連結される、基板
受面13に臨んでいる吸着用溝15が設けられている。
さらに、基板受部12の支持部14側は、支持部14側
に至るに従い、支持部14との連接おいて支持部14と
同じ断面になるように、徐々に小さくなる断面を有し、
従って、基板受部12は、その支持部14側において、
逆錐状体面17でなる外面を有している。
さらに、上述した基板吸着固定装置Aを構成している基
板吸着固定用板体1には、その基板受面2の中心を中心
とする同心円心上に基板受部2と直交する方向に延長し
ている、上述した基板受渡手段Bの基板支持体11の数
と同じ数の貫通孔6が形成されている。
この場合、複数の貫通孔6は、基板受面2側における、
基板支持体11の基板受部12がその基板受面13を基
板受面2と平行にしている状態で可動自在な、基板受部
12よりも僅かに長い長さを有する孔部6aと、基板受
面2側とは反対側における、基板支持体11の基板受部
13は可動できないが基板支持体11の支持部14が可
動自在な、支持部14よりも短い長さを有する孔部6b
とからなる。
また、複数の貫通孔6の基板受面2側の孔部6aの孔部
6b側は、上述した基板支持体11の基板受部12の支
持部14側の外面を構成している逆錐状体面17に対応
している、逆錐状体面18でなる内面になるように、孔
部6b側に至るに従い、孔部6bとの連接位置において
孔部6bと同じ断面になるように、徐々に小さくなる断
面を有している。
しかして、上述した基板受渡手段Bを構成している複数
の基板支持体11の支持部14が、複数の貫通孔6内に
、基板受部12をn通孔6の孔部6a側にして、口過さ
れ、そして、常時は、基板受部12の支持部14側の逆
錐状体面17の外面と孔部6aの孔部6b側の逆錐状体
面18の内面とが接触し、そして、基板受部12の基板
受面13が貫通孔6の孔部6a内に在る状態で、基板支
持体11が基板吸着固定用板体1上に配されている。
また、複数の基板支持体11は、それらが上述したよう
に基板吸着固定手段1上に配されている状態で、例えば
、それらの支持部14の遊端に付された螺子19とそれ
に螺合するナツト2oとを用いて、それら複数の基板支
持体11に対して共通な連繋板21上によって、連繋さ
れている。
さらに、複数の基板支持体11が、上述したように連繋
板21によって互に連繋されて、基板吸着固定用板体1
上に配されている状態で、それら連繋板21と基板吸着
固定用板体1との間に、例えば複数の基板支持体11の
それぞれの周りにおいて、それぞれ発条22が介挿され
、よって、複数の基板支持体11の基板受部12の支持
部14側の逆錐状体面17でなる外面のそれぞれが、そ
れに対応している貫通孔6の孔部6aの孔部6b側の逆
錐状体面18でなる内面に圧接され、それによって、貫
通孔6が、基板吸着固定用板体1の基板受面2側におい
て吸着用R3と連通している状態を保っているが、基板
受面2側とは反対側において外気に連通していない状態
が得られている。
なお、上述した複数の基板支持体11の基板受面12の
支持部14側の逆錐状体面17でなる外面のそれぞれと
、それに対応している貫通孔6の孔部6aの孔部6b側
の逆錐状体面18でなる内面とは、基板支持体11の基
板受部12の基板受面13が基板吸着固定用板体1の基
板受面2よりも下っている面上に持来たされたときに、
複数の貫通孔6を、それらの基板吸着固定用板体1の基
板受面側において吸着用溝4に連通させているが、基板
吸着固定用板体1の基板受面2側とは反対側において外
気に連通させていない、基板吸着固定用板体1と複数の
基板支持体11との間の気密封止手段23を構成してい
る。
以上が、本発明による基板吸着固定装置の第1の実施例
の構成である。
このような構成を有する本発明による基板吸着固定装置
によれば、第3図で従来の基板吸着固定装置について上
述した場合に準じて、第1図Bに示すような、基板受渡
手段Bを構成している複数の基板支持体11が、それら
の基板受部12の基板受面13を、基板吸着固定手段A
を構成している基板吸着固定用板体1の貫通孔6内にお
ける基板受面2と平行であるがそれよりも下っている面
上に持たしている、という基板吸着固定用板体1との相
対関係を有している状態から、基板21を、第1図Bに
示すように、第3図で上述した従来の基板吸着固定装置
の場合と同様に、適当な搬送手段(図示せず)を用いて
、基板吸着固定用板体1の上方位置に、その基板受面2
と対向して、持来たし、そして、複数の基板支持体11
を、駆動手段としての例えばカム機構によって、連繋板
21を、発条22に抗して、基板吸着固定用板体1側に
移動させれば、これに応じて、複数の基板支持体11が
上方に移動し、このため、第1図Cに示すように、複数
の基板支持体11の基板受部12の基板受面13によっ
て、基板21を、その下方から受けさせることができる
。従って、基板21を、基板搬送手段から、複数の基板
支持体11の基板受面13上に受渡すことができる。
この場合、複数の基板支持体11の基板受部12の吸着
用溝15は、基板21によって上方から塞がれた状態に
なるが、その吸着用溝15に予め外部の吸気手段を連結
しておき、そして、その吸気手段を予め作動しておけば
、その吸気手段によって、複数の基板支持体11の吸着
用溝15の排気が行なわれるので、基板21が複数の基
板支持体11の基板受面13上に受は渡されている状態
が、基板21が複数の基板支持体11の基板受面13上
に吸着固定されている状態で得られる。
また、上述したように、基板1が複数の基板支持体11
の基板受面13上に受渡されている状態から、第1図り
に示すように、複数の基板支持体11を、上述したカム
機構によって、下方に移動させ、それによって、複数の
基板支持体11の基板受部12を、それらの基板受面1
3が基板吸着固定用板体1の基板受面2よりも下ってい
る面にあるように持来たせば、基板21を、第3図で上
述した従来の基板吸着固定装置の場合に準じて、第1図
りに示すように、複数の基板支持体11の基板受面B上
から、基板吸着固定用板体1の基板受面2上に受渡すこ
とができる。
この場合、基板吸着固定用板体1の吸着用溝3は、基板
21によって上方から塞がれた状態になるが、その吸着
用溝3に連通している基板吸着固定用板体1の吸気用連
結管5に予め外部の吸気手段を連結しておき、そして、
その吸気手段を予め作動させておけば、その吸気手段に
よって、基板吸着固定用板体1の吸着用溝3の排気が行
なわれるので、基板21が基板吸着固定用板体1の基板
受面2上に受渡されている状態が、第3図で上述した従
来の基板吸着固定装置の場合と同様に、基板21が基板
吸着固定用板体1の基板受面2上に吸着固定されている
状態で得られる。
また、第1図に示す本発明による基板吸着固定装置によ
れば、基板21を、第3図で上述した従来の基板吸着固
定装置の場合と同様に、基板吸着固定用板体1の基板受
面2上に吸容して固定させることができるので、第3図
で上述した従来の基板吸着固定装置の場合と同様に、基
板21を、それに反りを有していても、それを矯正して
、基板吸着固定用板体1の基板受面2上に固定させるこ
とができる。
しかしながら、本発明による基板吸着固定装置の場合、
基板吸着固定用板体1が、それに設けられている複数の
貫通孔6を吸着用溝3に連通させている構成を有し、ま
た、基板吸着固定用板体1と複数の基板支持体11との
間に、気密封止手段23が設けられ、そして、基板21
が基板吸着固定用板体1の基板受面2上に吸着固定され
ている状態にあるとき、貫通孔6が、気密封止手段23
によって、基板吸着固定用板体1の基板受面2側におい
て吸着用溝3に連結されている状態を保っているが、基
板吸着固定用板体1の基板受面2側とは反対側において
外気に連通していないので、基板21が基板吸着固定用
板体1の基板受面2上に吸着固定されている状態にある
とき、基板21の複数の貫通孔6に臨んでいる領域も、
基板吸着固定用板体1の基板受面2側に吸着されている
。このため、基板21を、それに反りを有していても、
基板21の全域に亘って、平らに、基板吸着固定用板体
1の基板受面2上に固定させることができる。
実施例2 次に、第2図を伴って本発明による基板吸着固定装置の
第2の実施例を述べよう。
第2図において、第1図との対応部分には同一符号を付
して示す。
第2図に示す本発明による基板吸着固定装置は、第1図
で上述した本発明による基板吸着固定装置の場合と同様
に、基板吸着固定手段Aと、基板受渡手段Bとを有する
基板吸着固定手段Aは、平らな基板受面2と、その基板
受面2に臨み且つ基板受面2と対向している他の面上に
臨んでいる吸気用連絡孔4aに連通している、例えば格
子状パターンを有する吸気用溝3とを有する基板吸着固
定用板体1aと、その基板吸着−固定用板体1aによっ
て気密に蓋されているケース状体1bとからなる。
この場合、ケース状体1b内が、その側壁に設けられた
吸気用連絡孔4aを介して、外部の吸気手段(図示せず
)に連結される吸気用連結管5に連通している。従って
、基板吸着固定用板体1aの吸気用溝3が、基板吸着固
定用板体1aの吸気用連絡孔4aと、ケース状体1b内
と、その吸気用連絡孔4bと、吸気用連絡管5とを介し
て、外部の吸気手段に連結されるようになされている。
また、基板受渡手段Bが、例えば基板吸着固定用板体1
aの基板受面2の中心を中心とする2つの同心円弧線を
2つの相対向している辺としているストライブ状の基板
受部13を有する、その基板受部13下にそれと同じ形
状に延長している基板受部12と、その基板受部12か
らその基板受部13側とは反対側に且つ基板受面13と
直交する方向に延長している基板受部12と例えば同じ
断面を有する支持部14とを有する例えば4つの基板支
持体11からなる。
これら複数の基板支持体11は、上述した基板吸着固定
用板体1aの基板受面2とケース状体1bの外側の面と
の間の間隔に比し十分長い長さを有している。
また、複数の基板支持体110基板受部12には、第1
図で上述した本発明による基板吸着固定装置の場合と同
様に、支持部14内にその長さ方向に延長している吸気
孔16を介して外部の吸気手段(図示せず)に連結され
る、基板受面13に臨んでいる吸気用@15が設けられ
ている。
さらに、上述した基板吸着固定手段Δを構成している基
板吸着固定用板体1aには、第1図で上述した本発明に
よる基板吸む固定装置の場合と同様に、その基板受面2
を特徴とする特許円上に基板受面2と直交する方向に延
長している、上述した基板受渡手段Bを構成している基
板支持体11の数と同じ数の貫通孔6aが形成され、ま
た、ケース状体1bの底壁に、基板吸着固定用板体1a
の各貫通孔6aに対応している位置に、基板吸着固定用
板体1aの基板受面2と直交する方向に延長している貫
通孔6bが形成されている。
この場合、基板吸着固定用板体1の貫通孔6aは、基板
支持体11の基板受部12及び支持部ゴ4が、基板受面
13を基板受面2と平行に保たせた状態で可動自在な大
きさの孔でなる。
一方、基板吸着固定手段へを構成しているケース状体1
bの底壁の内面には、その複数の貫通孔6bの周りにお
いて、それを取囲むように、気密封止用環51が配され
、また、基板受渡手段Bを構成している複数の基板支持
体11の支持部14には、ケース状体1bに配されてい
る気密封止用環51と共働して、ケース状体1bの貫通
孔6bを封止する気密封止用板52が取付けられている
。この場合、気密封止用板52は、気密封止用環51と
その上方から接触している状態にあるときに、基板支持
体11の基板受面13が基板吸着固定用板体1の基板受
面2よりも下がっている面上にある関係が得られるよう
な、支持部14上の位置を有している。
しかして、上述した基板受渡手段Bを構成している複数
の基板支持体11が、複数の貫通孔6a及び6bの組内
に、基板受部12を貫通孔6a側にし、また、気密封止
用板52をケース状体1b内に配されている状態で配さ
れ、そして、気密封止用板52が気密封止用環51にそ
の上方から接触し、また、基板受部12の基板受面13
が貫通孔6a内に在る状態で、基板支持体11が、基板
吸着固定手段A上に配されている。
また、複数の基板支持体11は、それらのケース状体1
b下に延長している支持部14の遊端において、それら
複数の基板支持体11に対して共通の連繋板21によっ
て互に連繋されている。
以上が、本発明による基板吸着固定装置の第2の実施例
の構成である。
このような構成を有する本発明による基板吸着固定装置
によれば、第1図で上述した本発明による基板吸着固定
装置の場合と同様に、第1図Bに示すような、基板受渡
手段Bを構成している複数の基板支持体11が、それら
の基板受部12の基板受部13を、基板吸着回定手段A
を構成している基板吸着固定用板体1aの貫通孔6a内
における基板受部2と平行であるがそれよりも下ってい
る面上に持たしている、という基板吸着固定用板体1と
の相対関係を有している状態から、基板21を、第2図
Bに示すように、第1図で上述した本発明による基板吸
着固定装置の場合と同様に、適当な搬送手!′A(図示
せず)を用いて、基板吸着固定用板体1aの上方位置に
、その基板受面2と対向して、持来たし、そして、駆動
手段としての例えばカム門構によって、連繋板21を、
発条22に抗して、基板吸着固定用板体1(Illに移
動させれば、これに応じて、複数の基板支持体11が上
方に移動し、このため、第2図Cに示すように、複数の
基板支持体11の基板受部12の基板受面13によって
、基板21を、その下方から受けさせることができる。
従って、基板21を、第1図で上述した本発明による基
板吸着固定装置の場合と同様に、基板搬送手段から、複
数の基板支持体11の基板受面13上に受渡すことがで
きる。
この場合、第1図で上述した本発明による基板吸着固定
装置の場合と同様に、複数の基板支持体11の基板受部
12の吸着用溝15は、基板21によって上方から塞が
れた状態になるが、その吸着用v415に予め外部の吸
気手段を連結しておき、そして、その吸気手段を予め作
動しておけば、その吸気手段によって、複数の基板支持
体11の吸着用溝15の排気が行なわれるので、基板2
1が複数の基板支持体11の基板受部13上に受渡され
ている状態が、基板21が複数の基板支持体11の基板
受面13上に吸着固定されている状態で得られる。
また、第1図で上述した本発明による基板吸着固定装置
の場合と同様に、基板1が複数の基板支持体11の基板
受面13上に受渡されている状態から、第2図りに示す
ように、複数の基板支持体11を、上述したカム機構に
よって、下方に移動させ、それによって、複数の基板支
持体11の基板受部12を、それらの基板受面13が基
板吸着固定用板体1aの基板受面2よりも下っている面
にあるように持来たせば、基板21を、第2図りに示す
ように、複数の基板支持体11の基板受面B上から、基
板吸着固定用板体1の基板受面2上に受渡すことができ
る。
この場合、第1図で上述した本発明による基板吸着固定
装置の場合と同様に、基板吸着固定用板体1の吸着用溝
3は、基板21によって上方から塞がれた状態になるが
、その吸着用溝3に連通している基板吸着固定用板体1
aの吸気用連結管5に予め外部の吸気手段を連結してお
き、そして、その吸気手段を予め作動させておけば、基
板吸着固定用板体1の吸着用溝3の排気が行なわれるの
で基板21が基板吸着固定用板体1の基板受面2上に受
渡されている状態が、第1図で上述した本発明による基
板吸着固定装置の場合と同様に、基板21が基板吸着固
定用板体1の基板受面2上に吸着固定されている状態で
17られる。
また、第2図に示す本発明による基板吸着固定装置によ
れば、基板21を、第1図で上述した本発明による基板
吸着固定装置の場合と同様に、基板吸着固定用板体1の
基板受面2上に吸着して固定させることができるので、
第1図で上述した本発明による基板吸着固定装置の場合
と同様に、基板21を、それに反りを有していても、そ
れを矯正して、基板吸着固定用板体1の基板受面2上に
固定させることができる。
さらに、第2図に示す本発明による基板吸着固定装置の
場合、基板吸着固定用板体1aが、それに設けられてい
る複数の貫通孔6aを吸着用溝3に連通させている構成
を有し、また、基板吸着固定手段AQを構成しているケ
ース状体 ・1bと複数の基板支持体11との間に、気
密封止手段23が設けられ、そして、基板21が基板吸
着固定用板体1aの基板受部2上に吸着固定されている
状態にあるとき、貫通孔6aが、気密封止手段23によ
って、吸着用溝3に連結されている状態を保っているが
、貫通孔6aが、外気に連通していないので、基板21
が基板吸着固定用板体1aの基板受面2上に吸着固定さ
れている状態にあるとき、基板21の複数の貫通孔6a
に臨んでいる領域も、基板吸着固定用板体1aの基板受
面2側に吸着される。このため、基板21を、それに反
りを有していても、基板21の全域に亘って、平らに、
基板吸着固定用板体1の基板受面2上に固定させること
ができる。
なお、上述においては、本発明の2つの実施例を示した
に留まり、本発明の精神を脱することなしに、種々の変
型、変更をなし4りるであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図A及びBは、本発明による基板吸着固定装置の第
1の実施例を示す路線的平面図及びそのB−8線上の一
部を断面とした正面図、第1図C及びDは、第1図A及
びBに示す本発明による基板吸着固定装置の第1の実施
例を用いて、吸着固定されるべき基板が複数の基板支持
体の基板受面上に受渡される状態及び基板が基板吸着固
定用板体の基板受面上に吸着固定される状態を示す一部
を断面とした正面図である。 第2図A及びBは、本発明による基板吸着固定装置の第
2の実施例を示す路線的平面図及びそのB−8tlA上
の一部を断面とした正面図、第2図C及びDは、第2図
A及びBに示す本発明による基板吸着固定装置の第2の
実施例を用いて、吸着固定されるべき基板が複数の基板
支持体の基板受面上に受渡される状態及び基板が基板吸
着固定用板体の基板受面上に吸着固定される状態を示ず
一部を断面とした正面図である。 第3図A及びBは、従来のり板吸着固定装置を示す路線
的平面図及びそのB−8線上の一部を断面とした正面図
、第3図C及びDは、第3図A及びBに示す従来の基板
@着固定装置を用いて、吸着固定されるべき基板が複数
の基板支持体の基板受面上に受渡される状態及び基板が
基板吸着固定用板体の基板受面上に吸着固定される状態
を示す一部を断面とした正面図である。 1.1a・・・基板吸着固定用板体 1b・・・・・・・・・ケース状体 2.13・・・基板受面 3・・・・・・・・・・・・吸着用溝 4.4a14b ・・・・・・・・・・・・吸気用連絡用孔5・・・・・
・・・・・・・吸気用外部連結管6.6a、6b ・・・・・・・・・・・・貫通孔 11・・・・・・・・・・・・基板支持体12・・・・
・・・・・・・・基板受部14・・・・・・・・・・・
・支持部 15・・・・・・・・・・・・吸着用溝16・・・・・
・・・・・・・吸気封孔17.18・・・逆錐状体面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基板を受ける平らな基板受面と、その基板受面に臨み且
    つ吸気手段に連結される吸着用溝を有する基板吸着固定
    手段と、 上記基板吸着固定手段の基板受面と対向して持来たされ
    る基板を、上記基板吸着固定手段の基板受面上に受渡す
    基板受渡手段とを有する基板吸着固定装置において、 上記基板受渡手段が、小さな面積の基板受面を有する基
    板受部と、その基板受部からその基板受面側とは反対側
    に延長している支持部とを有する複数の基板支持体から
    なり、 上記基板吸着固定手段に、その基板受面と直交する方向
    に延長し且つ上記吸着用溝に連通し、且つ上記複数の基
    板支持体の基板受部の基板受面を上記基板吸着固定手段
    の基板受面よりも下っている面上と上記基板吸着固定手
    段の基板受面よりも上っている面上とに選択的に持ち来
    たし得るように、上記複数の基板支持体の可動自在に配
    している複数の貫通孔が形成され、 上記基板吸着固定手段と上記基板受渡手段の複数の基板
    支持体の支持部との間に、上記複数の基板支持体の基板
    受部の基板受面が上記基板吸着固定手段の基板受面より
    も下つている面上に持来されているときに、上記複数の
    貫通孔を、それらの上記基板吸着固定手段の基板受面側
    において上記吸着用溝に連通させている状態に保たせる
    が、上記基板吸着固定手段の基板受面側とは反対側にお
    いて外気に連通させない気密封止手段が設けられている
    ことを特徴とする基板吸着固定装置。
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