JPS6313242Y2 - - Google Patents
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- JPS6313242Y2 JPS6313242Y2 JP6071381U JP6071381U JPS6313242Y2 JP S6313242 Y2 JPS6313242 Y2 JP S6313242Y2 JP 6071381 U JP6071381 U JP 6071381U JP 6071381 U JP6071381 U JP 6071381U JP S6313242 Y2 JPS6313242 Y2 JP S6313242Y2
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- gas
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- heat treatment
- reactor
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- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
この考案は雰囲気ガス組成の調整機能を持つ雰
囲気熱処理炉を提供するものである。
囲気熱処理炉を提供するものである。
この考案にかゝる雰囲気熱処理炉は、例えば空
気分離法で製造した窒素を雰囲気ガスとして鋼の
光輝焼なまし炉である。この炉は第1図に示す如
く加熱炉と冷却室が接続し、処理品の搬送はメツ
シユベルトによる構成である。かゝる窒素の組成
は、N2…99.5%、O2…約0.5%、露点…−50℃で
ある。
気分離法で製造した窒素を雰囲気ガスとして鋼の
光輝焼なまし炉である。この炉は第1図に示す如
く加熱炉と冷却室が接続し、処理品の搬送はメツ
シユベルトによる構成である。かゝる窒素の組成
は、N2…99.5%、O2…約0.5%、露点…−50℃で
ある。
熱処理雰囲気ガスは、加熱炉内においては、処
理物との酸化還元および鋼中の炭素との平衡関
係、冷却室では酸化が処理目的に適合するものを
選定使用されている。これに対し、純窒素ガスは
不活性ガスで鋼との酸化還元も炭素平衡も無関係
と考えてよいが、窒素を工業的に安価で供給使用
するためには、窒素の純度も稍悪くなる事はさけ
られない。
理物との酸化還元および鋼中の炭素との平衡関
係、冷却室では酸化が処理目的に適合するものを
選定使用されている。これに対し、純窒素ガスは
不活性ガスで鋼との酸化還元も炭素平衡も無関係
と考えてよいが、窒素を工業的に安価で供給使用
するためには、窒素の純度も稍悪くなる事はさけ
られない。
従つて、本考案は製造窒素に含む鋼に対し酸化
や脱炭の原因となる酸素および水蒸気を加熱炉の
熱を利用し、送入窒素に炭素、炭化水素、アルコ
ールなどを添加し炉内に設けた触媒入りの反応器
で酸素、水蒸気を一酸化炭素と水素に変え、N2
+CO+CO2+H2+H2Oの混合ガスとして酸化、
脱炭を防止し、光輝処理を容易にするものであ
る。
や脱炭の原因となる酸素および水蒸気を加熱炉の
熱を利用し、送入窒素に炭素、炭化水素、アルコ
ールなどを添加し炉内に設けた触媒入りの反応器
で酸素、水蒸気を一酸化炭素と水素に変え、N2
+CO+CO2+H2+H2Oの混合ガスとして酸化、
脱炭を防止し、光輝処理を容易にするものであ
る。
第1図を参照して以上の機構を有する本考案の
雰囲気熱処理炉を説明する。
雰囲気熱処理炉を説明する。
1の送入雰囲気ガス流量計を通り加熱炉13に
送られる窒素ガスは11の分析サンプルの取出口
にてサンプルガスをとり出しO2とH2O量を測定
し、それぞれの量に応じた添加ガス量(本例では
プロパン)を2の添加ガス流量計により添加し、
3のガス混合器でよく混合し、4および5の第1
及び第2ガスの組成調整反応器(ニツケル触媒入
り)で:1.5O2+C3H8=3CO+4H2,3H2O+
C3H8=3CO+7H2の反応をさせ、N2+CO+CO2
+H2+H2Oとする。
送られる窒素ガスは11の分析サンプルの取出口
にてサンプルガスをとり出しO2とH2O量を測定
し、それぞれの量に応じた添加ガス量(本例では
プロパン)を2の添加ガス流量計により添加し、
3のガス混合器でよく混合し、4および5の第1
及び第2ガスの組成調整反応器(ニツケル触媒入
り)で:1.5O2+C3H8=3CO+4H2,3H2O+
C3H8=3CO+7H2の反応をさせ、N2+CO+CO2
+H2+H2Oとする。
第1ガス反応器4を通つたガスは7の水冷ガス
冷却器を経て調整冷却ガス炉入口8よりその大部
分は冷却室9に流れる。一方第2ガス反応器5で
反応したガスは、調整ガス出口6より直接に加熱
室13に入れ加熱室で処理物の保護をし、炉入口
部より排出される。
冷却器を経て調整冷却ガス炉入口8よりその大部
分は冷却室9に流れる。一方第2ガス反応器5で
反応したガスは、調整ガス出口6より直接に加熱
室13に入れ加熱室で処理物の保護をし、炉入口
部より排出される。
CO+H2の存在は、当然にCO+H2OH2+
CO2のその温度における平衡反応をおこすが、
CO2,H2Oが微量であるから目的の光輝焼なまし
が出来る。
CO2のその温度における平衡反応をおこすが、
CO2,H2Oが微量であるから目的の光輝焼なまし
が出来る。
上記の構成の炉を用いた実施例では、中炭素鋼
を900℃で、雰囲気窒素を40m3/hで使用し、光
輝処理品を得た。
を900℃で、雰囲気窒素を40m3/hで使用し、光
輝処理品を得た。
他の実施例として、発熱型変成ガスを雰囲気ガ
スとし、低炭素鋼の750℃での光輝焼なましを行
つた。
スとし、低炭素鋼の750℃での光輝焼なましを行
つた。
使用した変成ガス組成は空気とプロパンの混合
比を16.7としたときのものである(第2図参照)。
このガスの750℃での酸化還元平衡はCO/CO2,
H2/H2Oの比と温度で定まつている。温度が高
い程還元力は強くこのガス組成で充分であるが、
加熱室13より冷却室9へ処理物が移動し、処理
物の温度が750℃より次第に低くなるとき、CO/
CO2は小小さくてよいがH2/H2Oは大きくない
と処理物が酸化する。
比を16.7としたときのものである(第2図参照)。
このガスの750℃での酸化還元平衡はCO/CO2,
H2/H2Oの比と温度で定まつている。温度が高
い程還元力は強くこのガス組成で充分であるが、
加熱室13より冷却室9へ処理物が移動し、処理
物の温度が750℃より次第に低くなるとき、CO/
CO2は小小さくてよいがH2/H2Oは大きくない
と処理物が酸化する。
処理物の冷却速度が速いときは酸化時間が短か
くて、上記した如き酸化が少なく光輝処理となる
が、このガスでは冷却がおそいと酸化する。
くて、上記した如き酸化が少なく光輝処理となる
が、このガスでは冷却がおそいと酸化する。
本考案においては、従つて、この処理物の冷却
過程の酸化着色を防止するため、CO/CO2,
H2/H2Oの値を大きくするものである。即ち、
ガスを触媒(ニツケル、ニツケル・コバルト・ロ
ジウム、或はパラジウム触媒をを用い得るが、パ
ラジウム触媒は耐熱性にやや劣るので、処理温度
が比較的低い本例では、ニツケルの代りにニツケ
ル・コバルト・ロジウム触媒を用いた)を入れた
第1図の第1ガス反応器4中を通すときに、ガス
中にプロパンを添加して反応させてガス中のCO2
とH2Oを還元しCO,H2にして雰囲気ガスの還元
性を高めるものである。これにより原変成ガスで
は着色したものが、本考案による組成調整後のガ
スでは光輝処理が出来た。
過程の酸化着色を防止するため、CO/CO2,
H2/H2Oの値を大きくするものである。即ち、
ガスを触媒(ニツケル、ニツケル・コバルト・ロ
ジウム、或はパラジウム触媒をを用い得るが、パ
ラジウム触媒は耐熱性にやや劣るので、処理温度
が比較的低い本例では、ニツケルの代りにニツケ
ル・コバルト・ロジウム触媒を用いた)を入れた
第1図の第1ガス反応器4中を通すときに、ガス
中にプロパンを添加して反応させてガス中のCO2
とH2Oを還元しCO,H2にして雰囲気ガスの還元
性を高めるものである。これにより原変成ガスで
は着色したものが、本考案による組成調整後のガ
スでは光輝処理が出来た。
本考案は上述したところの優れた効果を達成出
来ると共に、炉の加熱室の熱を有効に利用しうる
と言う利点もある。
来ると共に、炉の加熱室の熱を有効に利用しうる
と言う利点もある。
第1図は本考案による雰囲気熱処理炉の構造を
示す説明的側断面図である。第2図はプロパンガ
ス原料の発熱型変成ガスの組成を示すグラフであ
る。 1……送入雰囲気ガス流量計、2……添加ガス
計量計、3……ガス混合器、4……第1ガス組成
調整反応器、5……第2ガス組成調整反応器、6
……調整ガス出口、7……ガス冷却室、8……調
整冷却ガス炉入口、9……処理物冷却室、10…
…加熱ヒーター、11……送入雰囲気ガス分析サ
ンプル取出し口、12……炉内雰囲気ガス分析サ
ンプル取出し口、13……加熱室。
示す説明的側断面図である。第2図はプロパンガ
ス原料の発熱型変成ガスの組成を示すグラフであ
る。 1……送入雰囲気ガス流量計、2……添加ガス
計量計、3……ガス混合器、4……第1ガス組成
調整反応器、5……第2ガス組成調整反応器、6
……調整ガス出口、7……ガス冷却室、8……調
整冷却ガス炉入口、9……処理物冷却室、10…
…加熱ヒーター、11……送入雰囲気ガス分析サ
ンプル取出し口、12……炉内雰囲気ガス分析サ
ンプル取出し口、13……加熱室。
Claims (1)
- 熱処理雰囲気に不活性ガス又は炭化水素変成ガ
スを用いる熱処理炉において、炉に送入する該雰
囲気ガスの組成中に酸素、水蒸気、炭酸ガスなど
の熱処理に有害なガスを含有するとき、これを被
処理物に対して無酸化、無脱炭性の雰囲気ガスに
調整するための触媒を用いた反応器を炉内又は炉
の熱が利用できる範囲に設け、更に送入雰囲気に
炭素、炭化水素あるいはアルコールを加えて触媒
にさらすための炭素、炭化水素あるいはアルコー
ル添加手段を設け、炉に送入雰囲気を送入する手
段は上記した触媒を用いた反応器を介して炉中に
開口してなることを特徴とする雰囲気熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6071381U JPS6313242Y2 (ja) | 1981-04-28 | 1981-04-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6071381U JPS6313242Y2 (ja) | 1981-04-28 | 1981-04-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57176458U JPS57176458U (ja) | 1982-11-08 |
JPS6313242Y2 true JPS6313242Y2 (ja) | 1988-04-14 |
Family
ID=29857002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6071381U Expired JPS6313242Y2 (ja) | 1981-04-28 | 1981-04-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6313242Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5607453B2 (ja) * | 2010-08-02 | 2014-10-15 | 日本エア・リキード株式会社 | 熱処理雰囲気ガスの供給装置および供給方法 |
-
1981
- 1981-04-28 JP JP6071381U patent/JPS6313242Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57176458U (ja) | 1982-11-08 |
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