JPS63116122A - 液晶素子 - Google Patents
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- JPS63116122A JPS63116122A JP61262520A JP26252086A JPS63116122A JP S63116122 A JPS63116122 A JP S63116122A JP 61262520 A JP61262520 A JP 61262520A JP 26252086 A JP26252086 A JP 26252086A JP S63116122 A JPS63116122 A JP S63116122A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 2
- -1 Si_3N_4 Chemical class 0.000 claims 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 8
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
- G02F1/13725—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on guest-host interaction
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、反射型の液晶素子に関し、詳しくは、耐久性
及び表示品質（コントラスト）を向上させた液晶素子を
提供するものである。
及び表示品質（コントラスト）を向上させた液晶素子を
提供するものである。
［従来技術］
従来、ゲストホスト型の液晶素子と１／４λ（波長）位
相差板とを組合せて、液晶素子に入射する光の反射率を
制御する防眩反射鏡であって、該液晶素子の透明基板表
面に１／４；４位相差板として機能する斜め蒸Ｗ膜を誘
電体材料により一体的に形成し、以て、？ｊ！認性、耐
久性を向上させたものが提案されている（特開昭６１−
８４６２５号公報）。
相差板とを組合せて、液晶素子に入射する光の反射率を
制御する防眩反射鏡であって、該液晶素子の透明基板表
面に１／４；４位相差板として機能する斜め蒸Ｗ膜を誘
電体材料により一体的に形成し、以て、？ｊ！認性、耐
久性を向上させたものが提案されている（特開昭６１−
８４６２５号公報）。
〔発明が解決しようとする問題点］
しかし、１／４λ位相差板として機能する斜め蒸着膜は
、光学的性能を重視するため、ＷＩＩＩＩの付着力が弱
く、又、境界面で接する材料からの影響を受けやすいこ
とが指摘されている。例えば、ＷＯ３（Ｆａ化タングス
テン）により斜め蒸着膜を形成すると、隣接して形成さ
れたへ１反射鏡面からのプロトン（Ｈ” ）の侵入等に
より該斜め蒸着膜が春色（青色）変化し、コントラスト
が低下する等表示品質が劣化する場合がある。また、製
造時の配向膜のラビングなどによる配向膜側からの機械
的衝撃などを受けて劣化する場合もある。
、光学的性能を重視するため、ＷＩＩＩＩの付着力が弱
く、又、境界面で接する材料からの影響を受けやすいこ
とが指摘されている。例えば、ＷＯ３（Ｆａ化タングス
テン）により斜め蒸着膜を形成すると、隣接して形成さ
れたへ１反射鏡面からのプロトン（Ｈ” ）の侵入等に
より該斜め蒸着膜が春色（青色）変化し、コントラスト
が低下する等表示品質が劣化する場合がある。また、製
造時の配向膜のラビングなどによる配向膜側からの機械
的衝撃などを受けて劣化する場合もある。
本発明は、上記事情に鑑みて案出されたものであり、上
記斜め蒸＠膜が隣接材料からうける彰胃を減少させ、耐
久性が高く、表示品質の劣化が少ない液晶素子を提供し
ようとするものである。
記斜め蒸＠膜が隣接材料からうける彰胃を減少させ、耐
久性が高く、表示品質の劣化が少ない液晶素子を提供し
ようとするものである。
［問題点を解決するための手段］
本発明に係る液晶素子は、一対の基板と、該基板間に封
入され、透光率に関与する特性を電気的に制御する液晶
層と、 前記一方の基板と積層して形成された金属製の反射部材
及び透過光の位相を１／４波良変化させる斜め蒸着膜と
、 を有する液晶素子に於いて、 前記斜め蒸着膜と隣接部材との境界面に、保護層を形成
したことを特徴とする。
入され、透光率に関与する特性を電気的に制御する液晶
層と、 前記一方の基板と積層して形成された金属製の反射部材
及び透過光の位相を１／４波良変化させる斜め蒸着膜と
、 を有する液晶素子に於いて、 前記斜め蒸着膜と隣接部材との境界面に、保護層を形成
したことを特徴とする。
以下、構成要件を説明する。
基板としては、ガラス、プラスチック等従来と同様の透
光体を用いる。
光体を用いる。
液晶層は、２色性色素を液晶材料に混入したゲストホス
ト型液晶から成り、電界の印加又は不印加により特定波
長の特定方向の成分を吸収し、液晶層への入射光を直線
偏光するものである。
ト型液晶から成り、電界の印加又は不印加により特定波
長の特定方向の成分を吸収し、液晶層への入射光を直線
偏光するものである。
電界の印加は、たとえば、基板内表面に形成した透明電
極により行うことができる。
極により行うことができる。
斜め蒸着膜は、屈折率の大きい材料を斜め蒸着したもの
であり、蒸着物質及びその膜厚と、該物質を蒸着する際
の角度によって、いかなる波長の光を円偏光するかを規
定する。尚、ここに蒸着する際の角度とは、蒸発源から
の蒸着物質の飛来方向に対して透明基板が成す、角度を
いう。
であり、蒸着物質及びその膜厚と、該物質を蒸着する際
の角度によって、いかなる波長の光を円偏光するかを規
定する。尚、ここに蒸着する際の角度とは、蒸発源から
の蒸着物質の飛来方向に対して透明基板が成す、角度を
いう。
又、蒸着物質としては、導電体であると否とを問わず、
例えば、二酸化珪素（ＳｉＯｚ）、二酸化セリウム（Ｃ
ｅＯｚ）二酸化スズ（ＳｎＯｔ）、酸化アンチモン（Ｓ
ｂ＊０３）、ＷＯ３（酸化タングステン）、Ｔａｇ’ｓ
（酸化タンタル）、Ｂｉｚｏ３（酸化ビスマス）、Ｎ
ｂｔＯｓ （酸化ニオブ）、ＬｉＮｂ０３（ニオブ酸リ
チウム）、ＬｉＴａｏ３にオブ酸タンタル）、Ｚｒ０ｔ
（Ｍ化ジルコニウム）、Ｃｅｎｔ （酸化セリウム）
、ＴｉＯ２（Ｍ化チタン）Ｓｎｏｗと、９ｂｔ０３の複
合酸化物、あるいはＺｎ○−Ａｌ２Ｏ２（２〜３モル％
）ＺｎＯ−１ｒｚＯ３（２〜３モル％）を挙げることが
できる。又、斜め蒸着の方法としては、真空蒸着、電子
ビーム蒸着等の公知の真空する保護層は、斜め蒸着膜を
保護するためのもので、例えば、液晶層からの水分ある
いはプロトン（Ｈ＋）の侵入による蒸着膜の劣化を防止
する。
例えば、二酸化珪素（ＳｉＯｚ）、二酸化セリウム（Ｃ
ｅＯｚ）二酸化スズ（ＳｎＯｔ）、酸化アンチモン（Ｓ
ｂ＊０３）、ＷＯ３（酸化タングステン）、Ｔａｇ’ｓ
（酸化タンタル）、Ｂｉｚｏ３（酸化ビスマス）、Ｎ
ｂｔＯｓ （酸化ニオブ）、ＬｉＮｂ０３（ニオブ酸リ
チウム）、ＬｉＴａｏ３にオブ酸タンタル）、Ｚｒ０ｔ
（Ｍ化ジルコニウム）、Ｃｅｎｔ （酸化セリウム）
、ＴｉＯ２（Ｍ化チタン）Ｓｎｏｗと、９ｂｔ０３の複
合酸化物、あるいはＺｎ○−Ａｌ２Ｏ２（２〜３モル％
）ＺｎＯ−１ｒｚＯ３（２〜３モル％）を挙げることが
できる。又、斜め蒸着の方法としては、真空蒸着、電子
ビーム蒸着等の公知の真空する保護層は、斜め蒸着膜を
保護するためのもので、例えば、液晶層からの水分ある
いはプロトン（Ｈ＋）の侵入による蒸着膜の劣化を防止
する。
又、該保護層は、斜め蒸着膜と異なり、厳密な光学的機
能を果す必要がないため、付着力が強い成膜方法（例え
ば、スパッタリング、イオンプレーティング）によって
形成することができる。
能を果す必要がないため、付着力が強い成膜方法（例え
ば、スパッタリング、イオンプレーティング）によって
形成することができる。
［実施例］
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。本
実施例は、本発明に係る液晶素子を用いて、防眩反射鏡
を構成した場合の一例である。
実施例は、本発明に係る液晶素子を用いて、防眩反射鏡
を構成した場合の一例である。
（第１実施例）
第１図は、第１実施例で製造した′液晶防眩反射鏡の断
面模式図である。
面模式図である。
第１図に示すように、液晶防眩反射鏡は、透明基板とし
て用いるフロート平板ガラス１及び２と、ガラス１の液
晶封入側表面に形成された透明電極であるＩＴＯ膜３と
、ガラス２の液晶封入側表面に形成した透明電極兼用Ａ
ｊ反射ＪＩ４と、該Ａｊ反射層４の表面に形成された保
護ＷＪ５と、該保護層の液晶側表面に形成した斜め蒸Ｗ
膜７と、上記ＩＴＯ膜３及び斜め蒸着膜７の表面に各々
形成された配向Ｊ１１６１．６２と、配向１！１６１，
６２間に液晶層を封入するギャップを形成する図示しな
いスペーサと、該ギャップ間に封入されたゲストホスト
型液晶層層１１と、該液晶層の周縁部を固着するエポキ
シ系樹脂１２と、から成る。
て用いるフロート平板ガラス１及び２と、ガラス１の液
晶封入側表面に形成された透明電極であるＩＴＯ膜３と
、ガラス２の液晶封入側表面に形成した透明電極兼用Ａ
ｊ反射ＪＩ４と、該Ａｊ反射層４の表面に形成された保
護ＷＪ５と、該保護層の液晶側表面に形成した斜め蒸Ｗ
膜７と、上記ＩＴＯ膜３及び斜め蒸着膜７の表面に各々
形成された配向Ｊ１１６１．６２と、配向１！１６１，
６２間に液晶層を封入するギャップを形成する図示しな
いスペーサと、該ギャップ間に封入されたゲストホスト
型液晶層層１１と、該液晶層の周縁部を固着するエポキ
シ系樹脂１２と、から成る。
以下、上記液晶素子の製造方法を説明する。
（１）保８１１５の形成
ＡＪ反射層４を真空蒸着法により一表面に形成した平板
ガラス２（透明基板）のＡｊ反射層表面にスパッタリン
グにより約５０００人の酸化アルミニウム（Ａ１０３）
被膜を形成することにより保護ｌＩ！ｉ５を形成した。
ガラス２（透明基板）のＡｊ反射層表面にスパッタリン
グにより約５０００人の酸化アルミニウム（Ａ１０３）
被膜を形成することにより保護ｌＩ！ｉ５を形成した。
（２）斜め蒸着膜７の形成
第２図は平板ガラス（透明基板）２の保護１１５表面に
１／４λ位相差板として機能する斜めＭ着膜を形成する
様子を示す説明図である。
１／４λ位相差板として機能する斜めＭ着膜を形成する
様子を示す説明図である。
まず平板ガラス（透明基板）２ ［６０ｍｍｘ２５０ｍ
ｍｘ１．１ｍｍ］の保護７１５表面を表面にして、第２
図に示すように、真空４！７１内の基板ホルダー７２に
よって蒸発源に対し所定角θ傾けて保持し、電子銃７３
を用いた電子ビーム蒸着法によってＷＯ３（ｉｌｌ化タ
ングステン）を、該基板２の法線に対してθ−７０度の
入射角度でＷ：４厚２゜３μｍとなるように蒸着した。
ｍｘ１．１ｍｍ］の保護７１５表面を表面にして、第２
図に示すように、真空４！７１内の基板ホルダー７２に
よって蒸発源に対し所定角θ傾けて保持し、電子銃７３
を用いた電子ビーム蒸着法によってＷＯ３（ｉｌｌ化タ
ングステン）を、該基板２の法線に対してθ−７０度の
入射角度でＷ：４厚２゜３μｍとなるように蒸着した。
該膜厚２．３μｍ及び上記角度θ−７０度はりタープ−
ジョン−１３６５，２５人（波長λ−５４６１オングス
トロームの光の１／４波長）の１／４波長板の機能を果
たす。
ジョン−１３６５，２５人（波長λ−５４６１オングス
トロームの光の１／４波長）の１／４波長板の機能を果
たす。
（３）ＩＴＯＩｌ＊３の形成
平板ガラス１の一端面表面にスパッタリングにより約４
００Ω／ＤＩＴＯ膜を形成した。
００Ω／ＤＩＴＯ膜を形成した。
（４）配向膜の形成
上記ガラス板２の上記斜め蒸着膜７の保護層５が形成さ
れていない側にポリイミドを塗布し、３００℃で焼成し
て配向膜６２を形成した後、ラビング処理を施し、平行
配向処理を行なった。又同様にして上記もう一方のガラ
ス板１のＩＴＯ膜３上にも配向１１６１を形成し、同様
にラビング処理を施した。
れていない側にポリイミドを塗布し、３００℃で焼成し
て配向膜６２を形成した後、ラビング処理を施し、平行
配向処理を行なった。又同様にして上記もう一方のガラ
ス板１のＩＴＯ膜３上にも配向１１６１を形成し、同様
にラビング処理を施した。
（５）液晶の封入
上記ガラス板１の配向１１６１上にスペーサとして平均
粒径８〜１１μｍのポリスチレンピーズを散布し、もう
一方のガラス板２の配向膜６２の周辺部にエポキシ系接
着剤をスクリーン印刷で後述する注入口の部分のみを残
して塗布し、その後両ガラス板をそれぞれの配向膜が向
き合うように重ね、接着剤を硬化させてガラス板１及び
２を固着した。その後両ガラス板１．２と上記接着剤と
で囲まれる空間内に誘Ｍ異方性が正のネマチック液晶（
メルクＺＬ［−１８４０）と黒色系の二色性染料（三菱
化成ＬＨＡ−０３１Ｂ、上記液晶に対して７ｗｔ％溶解
）を真空注入法によって前記注入口から注入し、その後
該注入口をエポキシ系接着剤で封止した。
粒径８〜１１μｍのポリスチレンピーズを散布し、もう
一方のガラス板２の配向膜６２の周辺部にエポキシ系接
着剤をスクリーン印刷で後述する注入口の部分のみを残
して塗布し、その後両ガラス板をそれぞれの配向膜が向
き合うように重ね、接着剤を硬化させてガラス板１及び
２を固着した。その後両ガラス板１．２と上記接着剤と
で囲まれる空間内に誘Ｍ異方性が正のネマチック液晶（
メルクＺＬ［−１８４０）と黒色系の二色性染料（三菱
化成ＬＨＡ−０３１Ｂ、上記液晶に対して７ｗｔ％溶解
）を真空注入法によって前記注入口から注入し、その後
該注入口をエポキシ系接着剤で封止した。
以上のようにして第１図に示す液晶防眩績を製造した。
（実施例に係・る液晶素子の作用）
上記実施例において、平板ガラス１側から液晶層１１に
入射した光は、液晶層１１における吸収により、直線偏
光される。即ち透明電極である■Ｔｏ膜３及びＡ１反射
ＷＪ４により、液晶層に電界が印加されない状態のネマ
ティック液晶（ホスト）と一致した配列をとる２色性染
料（ゲスト）により、該染料の長軸方向に直交する入射
光が吸収される。
入射した光は、液晶層１１における吸収により、直線偏
光される。即ち透明電極である■Ｔｏ膜３及びＡ１反射
ＷＪ４により、液晶層に電界が印加されない状態のネマ
ティック液晶（ホスト）と一致した配列をとる２色性染
料（ゲスト）により、該染料の長軸方向に直交する入射
光が吸収される。
次に直線偏光された光は、斜め蒸着膜７により、右又は
左に円偏光を受け、Ａ１反射鏡ｍ４により、反射されて
円偏光の方向を逆転し、再び斜め蒸着膜を透過して、当
初直線偏光された光と直交する方向で再び液晶Ｉ２１１
に入射して、光吸収をうける。このようにして、入射光
の反射率を制御して、防眩状態とするものである。尚、
電界が印加される状態では液晶層による前記光吸収は生
じず、よって直ｉｉｌ偏光されないため、非防眩状態と
なる。
左に円偏光を受け、Ａ１反射鏡ｍ４により、反射されて
円偏光の方向を逆転し、再び斜め蒸着膜を透過して、当
初直線偏光された光と直交する方向で再び液晶Ｉ２１１
に入射して、光吸収をうける。このようにして、入射光
の反射率を制御して、防眩状態とするものである。尚、
電界が印加される状態では液晶層による前記光吸収は生
じず、よって直ｉｉｌ偏光されないため、非防眩状態と
なる。
以上に述べた液晶防眩鏡においては、保護層５により、
Ａ１反！）１１１１４より例えばプロトン（Ｈ＋）が、
斜め蒸着膜７に浸入することが防止されるため、Ｈ＋と
ＷＯ３が反応してＨｘＷＯ３となり、蒸着膜が青色に着
色することを防止することができる。
Ａ１反！）１１１１４より例えばプロトン（Ｈ＋）が、
斜め蒸着膜７に浸入することが防止されるため、Ｈ＋と
ＷＯ３が反応してＨｘＷＯ３となり、蒸着膜が青色に着
色することを防止することができる。
（第２実施例）
第２実施例は、上記第１実施例において、斜め蒸ＩＮ！
１７の液晶封入側に保護層を設けた場合である。第３図
は、第２実施例で製造した液晶防眩反射鏡の模式的な断
面図である。第３図に示すように、斜め蒸着膜７の両面
に保護層５０及び５１を設けることにより、へ１反！）
ＪＰＩＩ４からのＨ＋の侵入を防止するだけでなく、配
向膜６２を通して液晶層１１から斜め蒸着Ｊｌｌ ７へ
水分等が侵入することも防止する。このため、水分の侵
入によってしうじるプロトンＨ＋とＷＯ３の反応による
青色着色を防ぐことができ、又、該水分によるＷＯ３の
経時劣化をも防止する。
１７の液晶封入側に保護層を設けた場合である。第３図
は、第２実施例で製造した液晶防眩反射鏡の模式的な断
面図である。第３図に示すように、斜め蒸着膜７の両面
に保護層５０及び５１を設けることにより、へ１反！）
ＪＰＩＩ４からのＨ＋の侵入を防止するだけでなく、配
向膜６２を通して液晶層１１から斜め蒸着Ｊｌｌ ７へ
水分等が侵入することも防止する。このため、水分の侵
入によってしうじるプロトンＨ＋とＷＯ３の反応による
青色着色を防ぐことができ、又、該水分によるＷＯ３の
経時劣化をも防止する。
尚、斜め蒸着ｆＩＡ７の周縁部からの水分等の侵入によ
る劣化に対しては、エポキシ系別！１ｌｌｆ１２が保護
作用を果すが、さらに完全なものとするためには、第４
図の部分模式断面図に示すように、斜め蒸着１ＩＩ７の
周縁部を保′ａ層５１により包み込むようにしてもよい
（第３実施例）。
る劣化に対しては、エポキシ系別！１ｌｌｆ１２が保護
作用を果すが、さらに完全なものとするためには、第４
図の部分模式断面図に示すように、斜め蒸着１ＩＩ７の
周縁部を保′ａ層５１により包み込むようにしてもよい
（第３実施例）。
（第４実施例）
（１）第１実施例の「（１）保護層５の形成」において
Ａｉ反射層４を蒸着法により一表面に形成した平板ガラ
ス２（透明基板）のＡ文反射層表面にスパッタリングに
より約５０００人のアルミナ被膜を形成することにより
保護層５をかわりにＡ文反ｏ１層に０２ガス添加Ａｒ雰
囲気中で反応性スパッタリングにより約３０００人のＴ
ａ２０ｓｉｉｌ躾を形成することにより保護層５を形成
した。
Ａｉ反射層４を蒸着法により一表面に形成した平板ガラ
ス２（透明基板）のＡ文反射層表面にスパッタリングに
より約５０００人のアルミナ被膜を形成することにより
保護層５をかわりにＡ文反ｏ１層に０２ガス添加Ａｒ雰
囲気中で反応性スパッタリングにより約３０００人のＴ
ａ２０ｓｉｉｌ躾を形成することにより保護層５を形成
した。
（２）第１実施例の「（２）斜め蒸着膜７の形成Ｊにお
いて、まず平板ガラス（透明基板）２［６０ｎ＋＋＋ｘ
２５ （Ｍｍｘ １ 、１ ｍｍ］の保護層５表面を
表面にして、第２図に示すように、真空槽７１内の基板
ホルダー７２によって蒸発源に対し所定角θ傾けて保持
し、電子銃７３を電子ビーム蒸着法によってＷＯ３（酸
化タングステン）を、該基板２の方線に対してθ−７０
度の入射角度で膜厚２．３μｍとなるように蒸着するか
わりに、電子銃７３を酸素雰囲気中での電子ビーム蒸着
法によってＴａｚｏｓ （五酸化タンタル）を、該基板
２の方線に対してθ−７０°の入射角度で膜厚１．６［
μｍ］となるように蒸着した。該膜厚１．６μｍ及び上
記角度θ＝７０度はりタープ−ジョン−１３６５，２５
大波長λ−５４６１オングストロームの光の１／４波長
）の１／４波長板のｍ能を果たす。
いて、まず平板ガラス（透明基板）２［６０ｎ＋＋＋ｘ
２５ （Ｍｍｘ １ 、１ ｍｍ］の保護層５表面を
表面にして、第２図に示すように、真空槽７１内の基板
ホルダー７２によって蒸発源に対し所定角θ傾けて保持
し、電子銃７３を電子ビーム蒸着法によってＷＯ３（酸
化タングステン）を、該基板２の方線に対してθ−７０
度の入射角度で膜厚２．３μｍとなるように蒸着するか
わりに、電子銃７３を酸素雰囲気中での電子ビーム蒸着
法によってＴａｚｏｓ （五酸化タンタル）を、該基板
２の方線に対してθ−７０°の入射角度で膜厚１．６［
μｍ］となるように蒸着した。該膜厚１．６μｍ及び上
記角度θ＝７０度はりタープ−ジョン−１３６５，２５
大波長λ−５４６１オングストロームの光の１／４波長
）の１／４波長板のｍ能を果たす。
（３）第１実施例の［（実施例に係る液晶素子の作用）
」において、第１実施例では、保護層５により、ＡＲ反
射層４より例えばプロトン（Ｈ＋）が、斜め蒸着膜７に
侵入することが防止させるため、Ｈ＋とＷＯ３が反応し
てＨＸ Ｗ Ｏ３となり、蒸＠膜が青色に着色すること
を防止することができるのに対し、第４実施例では、保
護層５により、内部応力が大きい斜め蒸着膜７と反射層
４間の密着性が確保されるとともに、化学量論的組成が
らのずれの生じやすい斜め蒸着膜７と、Ａｉ反ｔＡ府と
の不測の反応を防ぐことができる。
」において、第１実施例では、保護層５により、ＡＲ反
射層４より例えばプロトン（Ｈ＋）が、斜め蒸着膜７に
侵入することが防止させるため、Ｈ＋とＷＯ３が反応し
てＨＸ Ｗ Ｏ３となり、蒸＠膜が青色に着色すること
を防止することができるのに対し、第４実施例では、保
護層５により、内部応力が大きい斜め蒸着膜７と反射層
４間の密着性が確保されるとともに、化学量論的組成が
らのずれの生じやすい斜め蒸着膜７と、Ａｉ反ｔＡ府と
の不測の反応を防ぐことができる。
［発明の効果１
以上述べたように、本発明によれば、保護層により斜め
蒸着膜表面から、例えば、水分、プロトン（Ｈ＋）等が
侵入することを防ぎ、界面からの影響による斜め蒸着膜
の劣化、変色を防止している。このため、本発明の液晶
素子によれば、耐久性が向上し、経時的な表示品質の低
下を防止することができる。
蒸着膜表面から、例えば、水分、プロトン（Ｈ＋）等が
侵入することを防ぎ、界面からの影響による斜め蒸着膜
の劣化、変色を防止している。このため、本発明の液晶
素子によれば、耐久性が向上し、経時的な表示品質の低
下を防止することができる。
第１図は第１実施例で製造した液晶防眩反射鏡の断面模
式図である。第２図は、平板ガラス（透明ガラス（透明
基板）２の保護層５表面に斜め蒸着膜を形成する様子を
示す説明図である。第３図は、第２実施例でｖＪＴ１シ
た液晶防眩反射鏡の断面模式図である。第４図は、第３
実施例に係る液晶防眩反射鏡の部分模式断面図を示す。 １．２・・・透明基板 ３・・・透明電極４・・・
透明電極兼ＡＩ反射層 ５．５０．５１・・・保護層 ６１．６２・・・配向膜 ７・・・斜め蒸着膜１１・
・・液晶層 特許出願人 トヨタ自動車株式会社同 株
式会社豊田中央研究所 代理人 弁理士′大川 宏 同 弁理士 丸山明夫 第２図 排気にン）
式図である。第２図は、平板ガラス（透明ガラス（透明
基板）２の保護層５表面に斜め蒸着膜を形成する様子を
示す説明図である。第３図は、第２実施例でｖＪＴ１シ
た液晶防眩反射鏡の断面模式図である。第４図は、第３
実施例に係る液晶防眩反射鏡の部分模式断面図を示す。 １．２・・・透明基板 ３・・・透明電極４・・・
透明電極兼ＡＩ反射層 ５．５０．５１・・・保護層 ６１．６２・・・配向膜 ７・・・斜め蒸着膜１１・
・・液晶層 特許出願人 トヨタ自動車株式会社同 株
式会社豊田中央研究所 代理人 弁理士′大川 宏 同 弁理士 丸山明夫 第２図 排気にン）
Claims (6)
- （１）一対の基板と、 該基板間に封入され、透光率に関与する特性を電気的に
制御する液晶層と、 前記一方の基板と積層して形成された金属製の反射部材
及び透過光の位相を１／４波長変化させる斜め蒸着膜と
、 を有する液晶素子に於いて、 前記斜め蒸着膜と隣接部材との境界面に、保護層を形成
したことを特徴とする液晶素子。 - （２）前記特許請求の範囲の第１項に於いて、前記隣接
部材は、前記金属製の反射部材である液晶素子。 - （３）前記特許請求の範囲の第１項に於いて、前記隣接
部材は、前記液晶層である液晶素子。 - （４）前記特許請求の範囲第１項において前記保護層は
ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ＿２
等の金属酸化物、Ｓｉ＿３Ｎ＿４、ＴｉＮ等の金属窒化
物、ＳｉＣ、ＷＣなどの金属炭化物、Ｓｉ＿２ＯＮ＿２
等のオキシナイトライド、メタン、アセチレン、フラン
、テトラフルオロエチレン等の有機化合物のプラズマ重
合膜の、いずれかにより形成される液晶素子。 - （５）前記特許請求の範囲第１項において、前記保護層
の膜厚は、１００Å〜１μｍである液晶素子。 - （６）前記特許請求の範囲第１項において、前記保護層
は、スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマ
重合のいずれかにより形成される液晶素子。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61262520A JPS63116122A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 液晶素子 |
| US07/111,659 US4813768A (en) | 1986-11-04 | 1987-10-23 | Liquid crystal device having an oblique evaporation film which is protected by a protective layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61262520A JPS63116122A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 液晶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63116122A true JPS63116122A (ja) | 1988-05-20 |
Family
ID=17376947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61262520A Pending JPS63116122A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 液晶素子 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4813768A (ja) |
| JP (1) | JPS63116122A (ja) |
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| JP4138077B2 (ja) * | 1998-06-02 | 2008-08-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 反射型の液晶表示装置及び電子機器 |
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|---|---|
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