JPS63115035A - パタ−ンデ−タ検査装置 - Google Patents

パタ−ンデ−タ検査装置

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JPS63115035A
JPS63115035A JP61260927A JP26092786A JPS63115035A JP S63115035 A JPS63115035 A JP S63115035A JP 61260927 A JP61260927 A JP 61260927A JP 26092786 A JP26092786 A JP 26092786A JP S63115035 A JPS63115035 A JP S63115035A
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JP
Japan
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pattern
image
image data
data
scanning lines
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JP61260927A
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JP2501436B2 (ja
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Shogo Matsui
正五 松井
Kenichi Kobayashi
賢一 小林
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔a要〕 本発明は、基準となるパターンデータとこのパターンデ
ータと比較すべき他のパターンデータとをそれぞれ画像
データに変換した後、これら画像データを合成してパタ
ーン画像を作成し、該パターン画像の寸法を画面上で走
査する走査線によりハード的に測定することにより、2
t−準となるパターンデータと他のパターンデータとの
比較を容易に、かつ迅速に行うことを可能にする。これ
によりパターン寸法やパターン間隔の合否判定は、従来
より短時間に、かつマスクイメージで行うことができる
〔産業上の利用分野〕
本発すIはパターンデータ検査装置に関するものであり
、更に詳しく言えば集積回路のマスク形成用のパターン
データを検査するパターンデータ検査装置に関するもの
である。
〔従来の技術〕
半導体集結回路をウェハー上に形成するためには1回路
パターン形成用のマスクが幾層も必要である。そして適
正な回路パターンを形成するためにはマスク上のパター
ンが所定の規格に合致したものでなければならない。
そこで従来よりマスク形成前に各マスクに対応するカラ
ーフィルムを形成し、該カラーフィルムを重ね合わせる
ことによりパターンの検査を行っている。
また従来よりCADにより得られた各層のPGデータを
コンピュータによりソフト的に検査を行う方法がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしカラーフィルムを用いて検査する方法によれば、
カラーフィルムの形成までに時間を要するとともに、検
査はすべて人間の視覚を通して行われるものであるから
多大な労力を要するとともに、欠陥パターンを見落とす
場合がある。
またコンピュータにより検査をソフト的に行う方法によ
れば、パターン寸法の良否を判定する場合には、メモリ
内に格納されたデジタル表示の各パターンデータを一つ
一つ読み出し、かっこのパターンデータからンパターン
寸法を−っ−っ計算した後に基準パターン寸法との比較
を行い、またパターン間隔の良否を判定する場合には、
メモリ内に格納されたデジタル表示の各パターンデータ
を一つ一つ読み出し、かつある基準の位lからこのパタ
ーンデータの位置を求めた後に各パターンの間隔を計算
して基準パターン間隔との比較を行うものである。この
ため1例えば大規模集結回路においては検査に数日間を
要するなど、時間がかかる問題がある。
本発明はかかる従来例の問題点に鑑みて創作されたもの
であり、短時間でかつ確実にマスクパターンの検査を行
うことのできるパターンデータ検査型この提供を目的と
する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、第1のパターンデータを第1の画像データに
変換する第1のデータ変換手段と。
:52のパターンデータを第2の画像データに変換する
第2のデータ変換手段と、タイミング信号と合成制御信
号とを出力する制御手段と、前記タイミング信号に従っ
て前記第1の画像データと第2の画像データとを入力し
、かつ前記合X&i′lj制御信号に従って前記第1の
画像データと第2の画像データとを合成する画像データ
合成手段と、前記合成された画像データを画像パターン
として表示するときの該画像パターン玉を走査する走査
線の本数や、走査線が該画像パターン上を走査する時間
間隔の計測から該パターンのす法やパターン間隔を算出
して所定の寸法規格に対する合否を判断する手段とを有
することを特徴とする。
〔作用〕
CADにより得られた第1のパターンデータは第1のデ
ータ変換手段により第1の画像データに変換され、また
同様にCADにより得られた第2のパターンデータは第
2のデータ変換手段により第2の画像データに変換され
る。
次にこれらの画像データは制御手段からのタイミング信
号に従って入力し、また合成制御信号に従って合成され
る。
この合成された画像データの出力信号は画像表示/合否
判定f段に入力して合成され、画像として表示される。
このときパターン寸法やパターン間隔が規格を満足する
か否かは1例えば該合成された画像パターンの寸法を、
その画像パターン上を走査する走査線の数を計数したり
、走査線が画像パターンを走査したときに発生する信号
パルスのパルス幅を測定することにより算出する。そし
て規格を満たさない部分に対しては、輝度を上げるなど
して視覚による判定を容易にする。
〔実施例〕 次に図を参照しながら本発明の実施例について説明する
。第1図は本発明の実施例に係るパターンデータ検査装
置のブロック図である。lはCADにより11tられる
デジタル表示の回路パターンデータを格納するMTであ
り、例えばコンタクト窓形成用のパターンデータが格納
されている。
2は同様にCADにより得られるデジタル表示の回路パ
ターンデータを格納するMTであり、例えば金属配線用
のパターンデータが格納されている。また3、4はそれ
ぞれMTI、2内のパターンデータを、後述の画像表示
/合否判定手段7の画面に映像可能なように、画面上の
位tに対応する画像データに変換するデータ変換手段で
ある。
5は制御手段であり、タイミング信号と画像の合成制御
信号を出力する。6は画像合成手段であり、前記タイミ
ング信号に従い、データ変換手段3.4の出力する画像
データを順次入力し、これら画像データが位置ずれしな
いように合成する。
そしてこのときの合成の仕方は合成制御信号に従って行
われる0例えば第1の画像データを白黒反転した画像デ
ータとそのままの第2の画像−一夕とを論理和として合
成することも可能であるし、その他、これら画像データ
の論理植や排他的論理和等の合成も必要に応じて可能で
ある。
7は画像データ合成手段6から出力される合成後の画像
データの信号を画面上にパターンとして表示するととも
に、パターン寸法やパターン間隔が所定の規格を満たす
か否かを判定する画像表示/合否判定手段である。この
ときの合否判定は、縦方向パターンの寸法や間隔につい
ては該パターンの寸法内に含まれる走査線の数や該パタ
ーン間隔に含まれる走査線の数を計数することにより行
い、また横方向のパターンの寸法や間隔については走査
線が画像パターンを走査したときに出力される信号パル
スのパルス幅を計測することにより行われる。そして規
格を満たさないパターン寸法やパターン間隔が存在する
場合には1例えばその部分の輝度を上げることにより視
覚による判定を容易にする。
次に第2図を参照しながら本発明の実施例の動作につい
て説明する。第2図に示す金属配線用パターンおよびコ
ンタクト窓形成用パターンはパターンデータとしてそれ
ぞれMTI、2に格納される0次にこれらのパターンデ
ータはデータ変換手段3.4により画像データに変換さ
れた後に、制御り段5のタイミング信号および合成制御
信号に従って合成される。この場合、例えば合成制御信
号が金属配線用パターンを白黒反転させ、さらにコンタ
クト窓形成用パターンとの論理和をとる旨の命令である
とすると、画像表示/合否判定手段7は、:JSZ図に
示すようなパターン画像を画面に表示する。このとき水
モに走査する走査線の数を計数すれば図のAで示す部分
において走査線の本数が適正な間隔に対応する所定の数
に足りないことが検知され1例えば輝度を上げるか、あ
るいはインジゲータでその旨指示される。
また走査線が走査した時に出力される信号パルスのパル
ス幅を計測すれば、図のBで示す部分においてパルスの
幅が所定の幅より短いことが検知され、同様にその旨、
指示される。
このように本発明の実施例によれば、パターンデータの
検査をハード的に行うので、検査時間を大幅に短縮する
ことができる。また画面上においてマスクイメージで検
査を行うので、パターン寸法およびパターン間隔の良否
判定を確実に行うことができるとともに、不良個所、す
なわち修正個所の位置の確認も容易となる。
なお実施例では異った層におけるパターン間についての
検査の場合を説明したが、同層において旧版のパターン
と改良後の新版のパターンとを比較照合する場合や、あ
るいは同層において個々のパターンが設計ルールに違反
していないかどうかを検査する場合にも適用できる。
¥際、ある一つのパターン間隔を実測し、かつ合否′r
1定するに必要な時間を比較したところ、従来の汎用コ
ンピュータを用いて行う処理(ソフト処理)によれば約
2〜3 m5ecであったのに対し、本発明のパターン
データ検査装置(ハード処理)によれば、約20 gs
ecと大幅に短縮することができた。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本IJIによればパターンデータ
の検査をハード的に行うものであるから。
検査時間を大幅に短縮することができる。また画面上に
おいてマスクイメージで検査を行うことができるので1
判定が容易、かつ確実となる。
【図面の簡単な説明】
′;jS1図は本発明の実施例に係るパターンデータ検
査袋このブロック図、 第2図は第1図のパターンデータ検査袋この動作を説明
する図である。 (符号の説明) ■、2・・・MT、 3.4・・・データ変換手段、 5・・・制御手段、 6・・・画像データ合成手段。 7・・・画像表示/合否判定手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 第1のパターンデータを第1の画像データに変換する第
    1のデータ変換手段と、 第2のパターンデータを第2の画像データに変換する第
    2のデータ変換手段と、 タイミング信号と合成制御信号とを出力する制御手段と
    、 前記タイミング信号に従って前記第1の画像データと第
    2の画像データとを入力し、かつ前記合成制御信号に従
    って前記第1の画像データと第2の画像データとを合成
    する画像データ合成手段と、 前記合成された画像データを画像パターンとして表示す
    るときの該画像パターン上を走査する走査線の本数や、
    走査線が該画像パターン上を走査する時間間隔の計測か
    ら該パターンの寸法やパターン間隔を算出して所定の寸
    法規格に対する合否を判断する手段とを有することを特
    徴とするパタンデータ検査装置。
JP26092786A 1986-10-31 1986-10-31 パタ−ンデ−タ検査装置 Expired - Fee Related JP2501436B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02113666A (ja) * 1988-10-21 1990-04-25 Matsushita Graphic Commun Syst Inc 通信端末装置
JP2005510860A (ja) * 2001-11-27 2005-04-21 エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ 画像化装置
EP2130855A1 (en) 2008-05-15 2009-12-09 Fujifilm Corporation Cellulose ester film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02113666A (ja) * 1988-10-21 1990-04-25 Matsushita Graphic Commun Syst Inc 通信端末装置
JP2005510860A (ja) * 2001-11-27 2005-04-21 エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ 画像化装置
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