JPS63104023A - 電気光学装置 - Google Patents
電気光学装置Info
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- JPS63104023A JPS63104023A JP61251075A JP25107586A JPS63104023A JP S63104023 A JPS63104023 A JP S63104023A JP 61251075 A JP61251075 A JP 61251075A JP 25107586 A JP25107586 A JP 25107586A JP S63104023 A JPS63104023 A JP S63104023A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラーフィルターを設けた液晶等、電気光学
的表示装置の電穫構造に関する。
的表示装置の電穫構造に関する。
本発明は、カラーフィルターを設けた電気光学的表示装
置において、導電性塗布膜を液晶等の電気光学材料を駆
動用の電極膜として用いることにより、低コストで信頼
性の高い電気光学装置を実現しようとしたものである。
置において、導電性塗布膜を液晶等の電気光学材料を駆
動用の電極膜として用いることにより、低コストで信頼
性の高い電気光学装置を実現しようとしたものである。
液晶表示装置等、電気光学的装置をカラー化する方法は
いくつかあるが、フルカラーが容易でテレビ表示が可能
なことから、現在では一方の基板にカラーフィルターを
形成する方式が最も一般的である。従来のカラーフィル
ター基板の典型的な構造を、第２図及び第３図に示す。
いくつかあるが、フルカラーが容易でテレビ表示が可能
なことから、現在では一方の基板にカラーフィルターを
形成する方式が最も一般的である。従来のカラーフィル
ター基板の典型的な構造を、第２図及び第３図に示す。
図において、１はガラス基板、２はカラーフィルター、
３は■Ｔｏ膜、４は液晶層である。カラーフィルター２
は染色法、電着法あるいは印刷法のいずれかで形成され
ている。ＩＴＯ膜３はスパッタあるいは基若によって形
成された後、任意の形状にバターニングされている。
３は■Ｔｏ膜、４は液晶層である。カラーフィルター２
は染色法、電着法あるいは印刷法のいずれかで形成され
ている。ＩＴＯ膜３はスパッタあるいは基若によって形
成された後、任意の形状にバターニングされている。
第２図はカラーフィルター２の上にＩＴＯ膜３を形成し
た構造、第３図はＩＴＯ３の上にカラーフィルター２を
設けた構造であるが、各々以下のような欠点を有してい
る。すなわち第２図の構造では、カラーフィルター２に
対するＩＴＯ膜３のステップカバーの部分で導通不良を
起こし易い。
た構造、第３図はＩＴＯ３の上にカラーフィルター２を
設けた構造であるが、各々以下のような欠点を有してい
る。すなわち第２図の構造では、カラーフィルター２に
対するＩＴＯ膜３のステップカバーの部分で導通不良を
起こし易い。
又、カラーフィルター２は通常有機物であるのに対しＩ
ＴＯ膜３は無機物であるため、パネルの製造工程の際に
加わる熱衝撃により応力の歪みが生じ、それが液晶４の
配向に悪影響を与えるという問題がある。これを防止す
るためにカラーフィルター２の表面にオーバーコーテイ
ングを施し、その上にＩＴＯ膜３を形成する方法もある
が、工程が複雑になりコストもアンプする。一方、第３
図の構造ではＩＴＯが導通不良になる心配はないが、そ
の反面液晶層４と液晶を駆動するための電極であるＩＴ
Ｏ膜３の間に絶８ｉ物であるカラーフィルター２が存在
するために、実際に液晶層２に印加される電圧が低下し
てしまうという問題がある。
ＴＯ膜３は無機物であるため、パネルの製造工程の際に
加わる熱衝撃により応力の歪みが生じ、それが液晶４の
配向に悪影響を与えるという問題がある。これを防止す
るためにカラーフィルター２の表面にオーバーコーテイ
ングを施し、その上にＩＴＯ膜３を形成する方法もある
が、工程が複雑になりコストもアンプする。一方、第３
図の構造ではＩＴＯが導通不良になる心配はないが、そ
の反面液晶層４と液晶を駆動するための電極であるＩＴ
Ｏ膜３の間に絶８ｉ物であるカラーフィルター２が存在
するために、実際に液晶層２に印加される電圧が低下し
てしまうという問題がある。
この対策としてカラーフィルター２の誘電率を上げたり
カラーフィルタ−２自体を導電性にするなどの工夫が考
えられているが、充分に実用性のあるものはまだない。
カラーフィルタ−２自体を導電性にするなどの工夫が考
えられているが、充分に実用性のあるものはまだない。
本発明は上記の欠点を解決するためになされたものであ
り、低コストで信頼性の高いカラー電気光学装置を得る
ことを目的としている。
り、低コストで信頼性の高いカラー電気光学装置を得る
ことを目的としている。
本発明の要点は、カラーフィルター上の電気光学材料駆
動用電極を導電性塗布膜によりＮｌ成したことにある。
動用電極を導電性塗布膜によりＮｌ成したことにある。
駆動電極として従来のＩＴＯ膜に代わってＲ電性微粒子
を分散した樹脂等の導電性塗布膜をコーティングするこ
とにより、ステップカバーでの導通不良が防止できるば
かりでなく、有機物同士であるために樹脂とカラーフィ
ルターの界面が応力により歪み液晶等の配向を乱す心配
もない。
を分散した樹脂等の導電性塗布膜をコーティングするこ
とにより、ステップカバーでの導通不良が防止できるば
かりでなく、有機物同士であるために樹脂とカラーフィ
ルターの界面が応力により歪み液晶等の配向を乱す心配
もない。
以下、実施例により本発明を詳述する。
実施例１ （第１図）
第１図において、１はガラス基板、２はカラーフィルタ
ー、３はＩＴＯ膜、４は液晶等の電気光学材料層、５は
導電性塗布膜である。ＩＴＯＩ！３及び導電性塗布膜５
の表面はポリイミド等の配向膜を形成した後ラビング処
理を行っである。
ー、３はＩＴＯ膜、４は液晶等の電気光学材料層、５は
導電性塗布膜である。ＩＴＯＩ！３及び導電性塗布膜５
の表面はポリイミド等の配向膜を形成した後ラビング処
理を行っである。
例えば４８０Ｘ１２８個の単位画素となるカラーフィル
ター２が形成されたガラス基板１の上にアクリル系樹脂
中にＩＴＯの微粒子を分散させたものをオフセット印刷
によりストライプ状に形成して焼成し、Ｂ電性塗布膜５
を形成した。このストライプ状の４電性塗布膜５につい
て顕微鏡による検査及び電気的測定を行ったが、４８０
本全部について導通不良は発生していなかった。この導
電性塗布膜５の表面にポリイミド等の配向膜を形成しラ
ビング処理を施した後、第１図の構造の液晶表示装置を
作製したところ、良好なカラー表示装置が得られた。
ター２が形成されたガラス基板１の上にアクリル系樹脂
中にＩＴＯの微粒子を分散させたものをオフセット印刷
によりストライプ状に形成して焼成し、Ｂ電性塗布膜５
を形成した。このストライプ状の４電性塗布膜５につい
て顕微鏡による検査及び電気的測定を行ったが、４８０
本全部について導通不良は発生していなかった。この導
電性塗布膜５の表面にポリイミド等の配向膜を形成しラ
ビング処理を施した後、第１図の構造の液晶表示装置を
作製したところ、良好なカラー表示装置が得られた。
従来は表示電極となるＩＴＯ膜をスパッタ等の真空機器
を使って形成していたのに対し、本発明において表示電
極となる導電性樹脂膜５は印刷機によって形成できるの
で、製造プロセスもＭ単になりコストも大幅に低減する
ことができた。
を使って形成していたのに対し、本発明において表示電
極となる導電性樹脂膜５は印刷機によって形成できるの
で、製造プロセスもＭ単になりコストも大幅に低減する
ことができた。
実施例２
第４０はアクティブマトリックス液晶表示装置に本発明
を適用した場合の例である。第４図において６は薄膜ト
ランジスタ、３は画素電極となるＩＴＯ膜、２はカラー
フィルター、５は対向電極となる導電性樹脂膜５である
。アクティブマトリックス表示装置の場合は、各画素毎
に設けられた薄膜トランジスタをＯＮ、ＯＦＦさせるこ
とにより液晶を駆動させるので、対向電極となる導電性
樹脂膜５は全て共通な電位に保たれていればよい。
を適用した場合の例である。第４図において６は薄膜ト
ランジスタ、３は画素電極となるＩＴＯ膜、２はカラー
フィルター、５は対向電極となる導電性樹脂膜５である
。アクティブマトリックス表示装置の場合は、各画素毎
に設けられた薄膜トランジスタをＯＮ、ＯＦＦさせるこ
とにより液晶を駆動させるので、対向電極となる導電性
樹脂膜５は全て共通な電位に保たれていればよい。
すなわち導電性樹脂膜５はストライプ状である必要はな
く液晶層４と接する面にほぼ均一に形成するだけでよい
（いわゆるヘタ電極）ことになる。
く液晶層４と接する面にほぼ均一に形成するだけでよい
（いわゆるヘタ電極）ことになる。
実施例１のようにｓ？ｉｉ性塗布膜塗布膜ライプ状に形
成すると、従来の［ＴＯ膜に較べ駆動電極の抵抗値が若
干高くなり、液晶等の電気光学材料層に印加される電圧
が低下してしまう問題が生じる。
成すると、従来の［ＴＯ膜に較べ駆動電極の抵抗値が若
干高くなり、液晶等の電気光学材料層に印加される電圧
が低下してしまう問題が生じる。
しかし、本実施例のようにへ夕電極として用いる場合に
は、このような問題はなく、人望パネルであっても充分
使えることが確認されている。
は、このような問題はなく、人望パネルであっても充分
使えることが確認されている。
このため、印刷精度に関係なく画素ピンチが非常に小さ
い大型で高精細なアクティブマトリックス液晶表示装置
に対しても本発明は極めて有効である。
い大型で高精細なアクティブマトリックス液晶表示装置
に対しても本発明は極めて有効である。
実施例３
第１図及び第４図の液晶表示Ｈでは４電性樹脂膜５の上
に配向膜を形成した後、ラビング等の配向処理を施して
いるが、導電性樹脂膜５をそれ自体配向膜とすることも
可能である。液晶の配向膜として用いられているポリイ
ミド樹脂中にＩＴＯの微粒子を分散させ、実施例１で述
べた方法でカラーフィルター上に塗布して焼成し導電性
樹脂膜とした。更にこの導電性樹脂膜の上をラビング処
理し、第１図と同様な構造の液晶表示装置を作製し、良
好なカラー表示ができることを確認した。
に配向膜を形成した後、ラビング等の配向処理を施して
いるが、導電性樹脂膜５をそれ自体配向膜とすることも
可能である。液晶の配向膜として用いられているポリイ
ミド樹脂中にＩＴＯの微粒子を分散させ、実施例１で述
べた方法でカラーフィルター上に塗布して焼成し導電性
樹脂膜とした。更にこの導電性樹脂膜の上をラビング処
理し、第１図と同様な構造の液晶表示装置を作製し、良
好なカラー表示ができることを確認した。
これにより導電膜と配向膜が一回の工程で形成できるよ
うになり、より一層のコスト低減が実現できた。
うになり、より一層のコスト低減が実現できた。
なお、上記導電性塗布膜としては専電性敞１ｈ子を分散
させた樹脂だけでなく、ｌｎ、Ｓｎのアルコキシド等の
有機金属化合物あるいはＩｎ、Ｓｎの塩化物等の金属化
合物を塗布した後、熱処理。
させた樹脂だけでなく、ｌｎ、Ｓｎのアルコキシド等の
有機金属化合物あるいはＩｎ、Ｓｎの塩化物等の金属化
合物を塗布した後、熱処理。
加水分解等の処理により反応させて導電性を付与したも
のを用いることもできる。また、塗布方法としては、印
刷、スピンコード、スプレー、浸漬等種々の方法を採用
することが可能である。
のを用いることもできる。また、塗布方法としては、印
刷、スピンコード、スプレー、浸漬等種々の方法を採用
することが可能である。
以上説明したように、導電性塗布膜を電気光学的装置の
電極として用いることにより、低コス１で信頼性の高い
カラー電気光学的装置が得られる。
電極として用いることにより、低コス１で信頼性の高い
カラー電気光学的装置が得られる。
第１図は本発明の電気光学装置の一実施例の断面図、第
２図及び第３図は各々従来の電気光学装置の断面図、第
４図は本発明によるアクティブマトリックス電気光学装
置の断面図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・カラーフィルター ３・・・ＩＴＯ膜 ４・・・電気光学材料 ５・・・導電性塗布膜 ６・・・薄膜トランジスタ 以上
２図及び第３図は各々従来の電気光学装置の断面図、第
４図は本発明によるアクティブマトリックス電気光学装
置の断面図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・カラーフィルター ３・・・ＩＴＯ膜 ４・・・電気光学材料 ５・・・導電性塗布膜 ６・・・薄膜トランジスタ 以上
Claims (3)
- （１）少なくとも一方の基板上にカラーフィルターを設
けた電気光学装置において、前記カラーフィルター上に
、導電性塗布膜を電極膜として形成したことを特徴とす
る電気光学装置。 - （２）前記カラーフィルターを設けた基板と対向するも
う一方の基板上には、薄膜トランジスタなどのスイッチ
ング素子が形成されている特許請求の範囲第１項記載の
電気光学装置。 - （３）電気光学材料として液晶を用いるとともに、前記
導電性塗布膜が液晶の配向膜を兼ねている特許請求の範
囲第１項記載の電気光学装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61251075A JPH0679122B2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 電気光学装置 |
| US07/109,624 US4938569A (en) | 1986-10-22 | 1987-10-16 | Electrode substrate for electro-optical device |
| EP87309237A EP0265217B1 (en) | 1986-10-22 | 1987-10-20 | Electrode structure for use in an electro-optical device |
| DE8787309237T DE3784440T2 (de) | 1986-10-22 | 1987-10-20 | Elektrodenstruktur zur anwendung in einer elektro-optischen vorrichtung. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61251075A JPH0679122B2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 電気光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63104023A true JPS63104023A (ja) | 1988-05-09 |
| JPH0679122B2 JPH0679122B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=17217260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61251075A Expired - Fee Related JPH0679122B2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 電気光学装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4938569A (ja) |
| EP (1) | EP0265217B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0679122B2 (ja) |
| DE (1) | DE3784440T2 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2815176B2 (ja) * | 1989-06-08 | 1998-10-27 | ティーディーケイ株式会社 | スライダ，ヘッド及び記録再生装置 |
| JP2637823B2 (ja) * | 1989-06-08 | 1997-08-06 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘッド |
| EP0418833A3 (en) * | 1989-09-20 | 1993-03-17 | Hitachi, Ltd. | Organic thin film and liquid crystal display devices with the same |
| US5327272A (en) * | 1991-03-27 | 1994-07-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical modulation element |
| EP0572089A2 (en) * | 1992-05-29 | 1993-12-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a top coat |
| KR100512670B1 (ko) * | 1996-05-15 | 2005-09-07 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 박막 디바이스 제조 방법, 박막 트랜지스터 제조 방법, 및전자 기기 제조 방법 |
| JP3195554B2 (ja) * | 1996-05-31 | 2001-08-06 | 日本板硝子株式会社 | カラー液晶基板及びその製造方法 |
| US6577358B1 (en) * | 1997-06-25 | 2003-06-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Lens film with conductive lens layer or conductive layer |
| JP2000017490A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-18 | Sony Corp | ポリイミド複合電着膜の形成方法 |
| JP3104687B2 (ja) * | 1998-08-28 | 2000-10-30 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP3512669B2 (ja) * | 1999-03-18 | 2004-03-31 | 富士通カンタムデバイス株式会社 | 電極構造及びその製造方法並びに半導体発光装置 |
| JP3719939B2 (ja) * | 2000-06-02 | 2005-11-24 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびその製造方法ならびに表示装置および撮像装置 |
| JP2003007976A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びモジュール装置 |
| US6707517B2 (en) * | 2001-12-26 | 2004-03-16 | Eastman Kodak Company | Transparent field spreading layer for dispersed liquid crystal coatings |
| GB0407114D0 (en) * | 2004-03-30 | 2004-05-05 | Colormatrix Europe Ltd | Polymer additives and methods of use thereof |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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