JPS6310153A - 感光性組成物および感光性平版印刷版 - Google Patents
感光性組成物および感光性平版印刷版Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は感光性組成物及びこれから得られる感光性平版
印刷版に関する。更に詳しくは、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物および酸により分解し得る化合物
を含有する感光性組成物及びこれより得られる感光性平
版印刷版に関するものである。
印刷版に関する。更に詳しくは、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物および酸により分解し得る化合物
を含有する感光性組成物及びこれより得られる感光性平
版印刷版に関するものである。
[発明の背景]
感光性平版印刷版に用いられる感光性組成物の感光性物
質としては、従来、オルトキノンジアジド化合物が知ら
れている。該組成物は平版印刷版やフォトエツヂング加
工のフォトレジスト等に広く利用されて来た。このよう
なオルトキノンジアジド化合物としては、例えば、特開
昭47−5303号、同48−63802号、同48−
63803号、同49−38701号、同56−104
4号、同56−1045号、特公昭41−11222号
、同43−28403号、同45−9610号、同49
−17481号の各公報、米国特許第2,797,21
3号、同第3,046,120号、同第3,188,2
10号、同第3.454.400号、同第3、544.
323N、同第3,573,917号、同第3,674
,495号、同第3,785,825号、英国特許第1
.277、602号、同第1,251,345号、同第
1,267.005号、同第1.329,888号、同
第1,330,932号、ドイツ特許第854、890
号などの各明細書中に記載されているものをあげること
ができる。
質としては、従来、オルトキノンジアジド化合物が知ら
れている。該組成物は平版印刷版やフォトエツヂング加
工のフォトレジスト等に広く利用されて来た。このよう
なオルトキノンジアジド化合物としては、例えば、特開
昭47−5303号、同48−63802号、同48−
63803号、同49−38701号、同56−104
4号、同56−1045号、特公昭41−11222号
、同43−28403号、同45−9610号、同49
−17481号の各公報、米国特許第2,797,21
3号、同第3,046,120号、同第3,188,2
10号、同第3.454.400号、同第3、544.
323N、同第3,573,917号、同第3,674
,495号、同第3,785,825号、英国特許第1
.277、602号、同第1,251,345号、同第
1,267.005号、同第1.329,888号、同
第1,330,932号、ドイツ特許第854、890
号などの各明細書中に記載されているものをあげること
ができる。
前記のオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照射
により分解を起こし、感光性平版印刷版用の現像液に可
溶化することを利用したものであるが、いずれも感度が
低いという欠点があった。
により分解を起こし、感光性平版印刷版用の現像液に可
溶化することを利用したものであるが、いずれも感度が
低いという欠点があった。
またオルトキノンジアジドを用いず、特定のアセタール
化合物を用いた感光性印刷版が、特公昭55−1302
1号公報、特公昭55−22778号公報に記載されて
いる。
化合物を用いた感光性印刷版が、特公昭55−1302
1号公報、特公昭55−22778号公報に記載されて
いる。
これらも同様感度が低いという欠点があった。
また更にこれらの公報に記載の感光性印刷版は現像性や
インキ着肉性が悪く、また印刷時に使用する処理薬品に
対する耐性も悪(、更に耐刷力も劣っている。
インキ着肉性が悪く、また印刷時に使用する処理薬品に
対する耐性も悪(、更に耐刷力も劣っている。
感光性1組成物に用いる感光性物質の感度を高める方法
として、光分解で生成する酸によって、第2段の反応を
起こさせるものがあり、その結果、活性光線によって露
光された部分を可溶化するというボジチプに作用する系
の感光性物質が用いられている。具体的には、光分解に
より酸を発生する化合物と該酸により分解し得る化合物
との組合せから成る感光性組成物であり、前記酸により
分解し得る化合物の例として、例えば、特開昭48−8
9003号公報に記載のアセタール又はO,N−アセタ
ール化合物、特開昭51−120714号公報に記載の
オルトカルボン酸エステル基及び/又はカルボン酸アミ
ドアセタール基を有する化合物、特開昭53−1334
29号公報に記載の主鎖にアセタール基又はケタール基
を有するポリマーなどがある。
として、光分解で生成する酸によって、第2段の反応を
起こさせるものがあり、その結果、活性光線によって露
光された部分を可溶化するというボジチプに作用する系
の感光性物質が用いられている。具体的には、光分解に
より酸を発生する化合物と該酸により分解し得る化合物
との組合せから成る感光性組成物であり、前記酸により
分解し得る化合物の例として、例えば、特開昭48−8
9003号公報に記載のアセタール又はO,N−アセタ
ール化合物、特開昭51−120714号公報に記載の
オルトカルボン酸エステル基及び/又はカルボン酸アミ
ドアセタール基を有する化合物、特開昭53−1334
29号公報に記載の主鎖にアセタール基又はケタール基
を有するポリマーなどがある。
しかしながら、これらの化合物では、前記のオルトキノ
ンジアジド化合物よりも高い感度な示すもののいまだそ
の感度において十分に満〔とはいえず、さらには、前記
特開昭53−133429号公報に記載の主鎖にアセタ
ール基又はケタール基を有するポリマーについても、感
度に対しての改良が成されているものの、いずれも未だ
その改良度が十分でなく、実際の使用には適合しないと
い゛う欠点があった。
ンジアジド化合物よりも高い感度な示すもののいまだそ
の感度において十分に満〔とはいえず、さらには、前記
特開昭53−133429号公報に記載の主鎖にアセタ
ール基又はケタール基を有するポリマーについても、感
度に対しての改良が成されているものの、いずれも未だ
その改良度が十分でなく、実際の使用には適合しないと
い゛う欠点があった。
また、前記の主鎖にアセタール基又はケタール基を有す
るポリマーの場合、分子量や分散度が同じであるグレー
ドのポリマーを製造するには、合成条件を注意深く管理
しなければならず、生産性が低いという欠点があった。
るポリマーの場合、分子量や分散度が同じであるグレー
ドのポリマーを製造するには、合成条件を注意深く管理
しなければならず、生産性が低いという欠点があった。
従って、感光性平版印刷版の感光性層に用いる感光性組
成物として、十分高感度であり、しかも容易に製造がで
き、常に同じグレードのものを繰り返し合成することが
でき、更に現像性やインキ着肉性などの良い感光性組成
物が要請されていた。
成物として、十分高感度であり、しかも容易に製造がで
き、常に同じグレードのものを繰り返し合成することが
でき、更に現像性やインキ着肉性などの良い感光性組成
物が要請されていた。
[発明の目的]
従って、本発明の第1の目的は、十分な高感度を有し、
かつ合成が容易で品質の安定した新規な感光性組成物及
びそれを用いた感光性平版印刷版を提供することである
。
かつ合成が容易で品質の安定した新規な感光性組成物及
びそれを用いた感光性平版印刷版を提供することである
。
本発明の第2の目的は、現像性やインキ着肉性の優れた
感光性組成物及びそれを用いた感光性平版印刷版を提供
することである。
感光性組成物及びそれを用いた感光性平版印刷版を提供
することである。
本発明の第3の目的は、耐処理薬品性及び耐刷性に優れ
た感光性平版印刷版及びそれに用いられる感光性組成物
を提供することである。
た感光性平版印刷版及びそれに用いられる感光性組成物
を提供することである。
[発明の構成]
本発明の上記目的は実質的に水に不溶でアルカリ性水溶
液に可溶である高分子−量結合剤、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物および酸により分解し得る化合
物とを含有する感光性組成物において、前記酸により分
解し得る化合物が下記構造単位を1つ含有することを特
徴とする感光性組成物及び該感光性組成物から形成され
る感光性層を有する感光性平版印刷版により達成される
。
液に可溶である高分子−量結合剤、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物および酸により分解し得る化合
物とを含有する感光性組成物において、前記酸により分
解し得る化合物が下記構造単位を1つ含有することを特
徴とする感光性組成物及び該感光性組成物から形成され
る感光性層を有する感光性平版印刷版により達成される
。
−0−C−O−
(ここで、Xは−Cミあるいは−Hを表わし、Yは−C
6を表わす。更にXおよびYはそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよい。) [発明の具体的構成] 本発明の感光性組成物は活性光線の照射により酸を発生
し得る化合物と酸により分解し得る化合物とを含有する
。
6を表わす。更にXおよびYはそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよい。) [発明の具体的構成] 本発明の感光性組成物は活性光線の照射により酸を発生
し得る化合物と酸により分解し得る化合物とを含有する
。
上記酸により分解し得る化合物は前記構造単位を1つ有
する化合物であるが、より具体的には、下記一般式[I
]で示される化合物を用いる。
する化合物であるが、より具体的には、下記一般式[I
]で示される化合物を用いる。
一般式[I]
■
A−0−C−0−B
!
式中、AおよびBはそれぞれ−R+ 、−R2、O
R1およびR2はそれぞれアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基またはアルアルキル基を表わす。ただ
しR1及びR2でそれぞれ表わされるアルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基及びアルアルキル基は置換
基及び +CH2CH20ヤR7’で表わされる基を含む。ここ
でR7’ はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
等)を表わし、Xは1から4の整数を表わす。
基、アルケニル基またはアルアルキル基を表わす。ただ
しR1及びR2でそれぞれ表わされるアルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基及びアルアルキル基は置換
基及び +CH2CH20ヤR7’で表わされる基を含む。ここ
でR7’ はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
等)を表わし、Xは1から4の整数を表わす。
R1及びR2でそれぞれ表わされるアルキル基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
R1及びR2で表わされるシクロアルキル基の例として
は、シクロヘキシル基等が挙げられ、さらに縮合環を有
してもよく、全体としてコレステリン誘導体等の基も包
含される。
は、シクロヘキシル基等が挙げられ、さらに縮合環を有
してもよく、全体としてコレステリン誘導体等の基も包
含される。
またR1及びR2で表わされるアルケニル基の例として
は、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
は、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
またR1及びR2で表わされるアルアルキル基の例とし
ては、ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル
基等が挙げられる。前記R1及びR2で表わされるアル
キル基は置換基を有するものを含み、置換基の例として
は、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、複
素環を有する基(例えば、フリル基、フルフリル基等)
、さらに R3→0−R4→−○− で表わされる基等が挙げられる。
ては、ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル
基等が挙げられる。前記R1及びR2で表わされるアル
キル基は置換基を有するものを含み、置換基の例として
は、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、複
素環を有する基(例えば、フリル基、フルフリル基等)
、さらに R3→0−R4→−○− で表わされる基等が挙げられる。
ここでR3はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
等)またはアリール基(例えば、フェニル基等)を表わ
し、R4はアルキレンM(例えば、メチレン基、エチレ
ン基等)を表わす。nは1〜2oの整数を表わす。
等)またはアリール基(例えば、フェニル基等)を表わ
し、R4はアルキレンM(例えば、メチレン基、エチレ
ン基等)を表わす。nは1〜2oの整数を表わす。
これら上記の置換基は、さらに置換基く例えば、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基等)を有していてもよい。
ン原子、ニトロ基、シアノ基等)を有していてもよい。
R1およびR2で表わされるシクロアルキル基、アルケ
ニル基、アルアルキル基の置換基としては、上記アルキ
ル基で挙げた置換基と同様の基を含み、ざらにアルキル
基(例えば、メチル基、エチル基等)が挙げられる。
ニル基、アルアルキル基の置換基としては、上記アルキ
ル基で挙げた置換基と同様の基を含み、ざらにアルキル
基(例えば、メチル基、エチル基等)が挙げられる。
Xは水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、ブチル基またはペンチル基等)、アルケニル基(例
えば、アリル基、ビニル基等)、シクロアルキル基(例
えば、シクロヘキシル基等)、アルアルキル基(例えば
、ベンジル基、フェニルエチル基等)又は、アリール基
(例えば、フェニル基等)を表わす。
基、ブチル基またはペンチル基等)、アルケニル基(例
えば、アリル基、ビニル基等)、シクロアルキル基(例
えば、シクロヘキシル基等)、アルアルキル基(例えば
、ベンジル基、フェニルエチル基等)又は、アリール基
(例えば、フェニル基等)を表わす。
Yはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
ルアルキル基、アリール基又は複素環を有する基等を表
わす。
ルアルキル基、アリール基又は複素環を有する基等を表
わす。
Yのアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられる。
ロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられる。
Yのシクロアルキル基の例としては、シクロヘキシル基
等が挙げられる。Yのアルケニル基の例としては、アリ
ル基、ビニル基等が、またアルアルキル基の例としては
ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等が
それぞれ挙げられる。
等が挙げられる。Yのアルケニル基の例としては、アリ
ル基、ビニル基等が、またアルアルキル基の例としては
ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等が
それぞれ挙げられる。
Yの7リール基の例としては、フェニル基、ナフチル基
等が挙げられる。Yの複素環を有する基の例としては、
フリル基等が挙げられる。
等が挙げられる。Yの複素環を有する基の例としては、
フリル基等が挙げられる。
上記の各基は置換基を有するものも含み、置換基の例と
しては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シN(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)又はアシル
基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基等)等が
挙げられる。ざらにまたA、B、XおよびYのうち、2
つが相互に結合し、環を形成してもよい。
しては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シN(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)又はアシル
基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基等)等が
挙げられる。ざらにまたA、B、XおよびYのうち、2
つが相互に結合し、環を形成してもよい。
本発明の酸により分解し得る、前記一般式[IIで示さ
れる化合物(以下、本発明の化合物という)の中でさら
に好ましいものは、下記一般式[I[]で示される化合
物である。
れる化合物(以下、本発明の化合物という)の中でさら
に好ましいものは、下記一般式[I[]で示される化合
物である。
一般式[II]
Rt −0−C−0−R2
■
式中、X、Y、R16に’CFR2Get一般式[II
におけるX1Y、R+ 、R2と同義である。
におけるX1Y、R+ 、R2と同義である。
特に好ましいものは、下記一般式[11[]で示される
化合物である。
化合物である。
一般式[1[[]
%式%
式中、R5及びR6はそれぞれ
+CH2CH20→−R7で表わされる基を表わχ
す。
ここにR7はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
等)を表わす。Xは1−から4の整数を表わす。X及び
Yはそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ペンチル基等)、アリール基
(例えば、フェニル基等)を表わす。アリール基は置換
基を有していてもよく、置換基としては、アルコキシ基
(例えば、メトキシ器等)、ニトロ基等が挙げられる。
等)を表わす。Xは1−から4の整数を表わす。X及び
Yはそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ペンチル基等)、アリール基
(例えば、フェニル基等)を表わす。アリール基は置換
基を有していてもよく、置換基としては、アルコキシ基
(例えば、メトキシ器等)、ニトロ基等が挙げられる。
また他の好ましいものは、下記一般式[rV]で示され
る化合物である。
る化合物である。
一般式[IV]
式中、R8及びR9はそれぞれシクロアルキル基、75
ルーt−/lz N 又ハ÷CH2CH2o+E−R
7で表わされる基を表わす。ここにR7はアルキル基(
例えば、エチル基等)を表わす。Xば1から4の整数を
表わす。yは2から6の整数を表わす。
ルーt−/lz N 又ハ÷CH2CH2o+E−R
7で表わされる基を表わす。ここにR7はアルキル基(
例えば、エチル基等)を表わす。Xば1から4の整数を
表わす。yは2から6の整数を表わす。
R8及びR9のシクロアルキル基の例としては、シクロ
ヘキシル基等が挙げられる。
ヘキシル基等が挙げられる。
R8及びR9のアラルキル基の例としては、フェニルメ
チル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
チル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
上記の一般式[II]、[II[]及び[IV]で表わ
される本発明の化合物は、例えば、1つのアルコール性
OHMを有する化合物(以下、OH基含有化合物という
)の少なくとも1つとアルデヒド基又はケトン基を有す
る化合物との脱水縮合反応あるいはアセタール又はケタ
ールとOH基含有化合物との交換反応により合成し得る
。
される本発明の化合物は、例えば、1つのアルコール性
OHMを有する化合物(以下、OH基含有化合物という
)の少なくとも1つとアルデヒド基又はケトン基を有す
る化合物との脱水縮合反応あるいはアセタール又はケタ
ールとOH基含有化合物との交換反応により合成し得る
。
上記の反応については、特開昭53−133429号お
よびJ 、 ora、 Che+g、、 25. 52
1 (1960) 、J 。
よびJ 、 ora、 Che+g、、 25. 52
1 (1960) 、J 。
Qrg、 Chet、 25. 525(1960)
、J、 Org。
、J、 Org。
Chew、、 24 、1731 (1959)等に記
載されており、本発明の化合物は、これらに開示された
同様あるいは類似の反応によって合成することができる
。
載されており、本発明の化合物は、これらに開示された
同様あるいは類似の反応によって合成することができる
。
例えば、本発明の化合物は、アルデヒド基を有する化合
物、ケトン基を有する化合物、アセタールおよびケター
ルを有する化合物から選ばれる少なくとも1つの化合物
と前記OH基含有化合物とを溶媒中あるいは溶媒2を用
いないで、60〜170℃の温度、好ましくは80〜−
150℃の温度で1時間〜数時間反応させて得ることが
できる。遊離したアルコール、水等の副生成物は場合に
より留去する。この時酸性触媒、例えばp−トルエンス
ルホン酸あるいは硫酸などの存在下に反応させることが
好ましい。また場合により減圧下もしくは窒素雰囲気下
で反応させても良い。また前記反応条件下で不活性な溶
媒、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン
、塩素化炭化水素等を反応溶媒として用いることもでき
る。遊離した反応水あるいは低沸点アルコールなどは場
合により、溶媒の1部と共に留去する。
物、ケトン基を有する化合物、アセタールおよびケター
ルを有する化合物から選ばれる少なくとも1つの化合物
と前記OH基含有化合物とを溶媒中あるいは溶媒2を用
いないで、60〜170℃の温度、好ましくは80〜−
150℃の温度で1時間〜数時間反応させて得ることが
できる。遊離したアルコール、水等の副生成物は場合に
より留去する。この時酸性触媒、例えばp−トルエンス
ルホン酸あるいは硫酸などの存在下に反応させることが
好ましい。また場合により減圧下もしくは窒素雰囲気下
で反応させても良い。また前記反応条件下で不活性な溶
媒、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン
、塩素化炭化水素等を反応溶媒として用いることもでき
る。遊離した反応水あるいは低沸点アルコールなどは場
合により、溶媒の1部と共に留去する。
前記アルデヒド基、ケトン基、アセタール又はケタール
を有する化合物と前記OHM含有化合物の反応における
曇化は前記アルデヒド基、ケトン基、アセタール又はケ
タールを有する化合物1モルに対して0f−IIが合計
で2モルになるようにするが、場合によっては、これと
は異なる量比でも良い。
を有する化合物と前記OHM含有化合物の反応における
曇化は前記アルデヒド基、ケトン基、アセタール又はケ
タールを有する化合物1モルに対して0f−IIが合計
で2モルになるようにするが、場合によっては、これと
は異なる量比でも良い。
また2種のOH基含有化合物を用いる場合は、前記アル
デヒド基、ケトン基、アセタール又はケタールを有する
化合物及び2種のOH基含有化合物の合計3つを同時に
反応させても良いし、場合によっては、まずアルデヒド
基、ケトン基、アセタール又はケタールを有する化合物
及び一方のOHM含有化合物を反応させて、その後、生
成物ともう一方のOH基含有化合物を反応させもよい。
デヒド基、ケトン基、アセタール又はケタールを有する
化合物及び2種のOH基含有化合物の合計3つを同時に
反応させても良いし、場合によっては、まずアルデヒド
基、ケトン基、アセタール又はケタールを有する化合物
及び一方のOHM含有化合物を反応させて、その後、生
成物ともう一方のOH基含有化合物を反応させもよい。
3種以上のOH基含有化合物を用いる場合も同様に反応
を行なわせることができる。
を行なわせることができる。
本発明の化合物を製造する際の脱水縮合反応あるいは交
換反応に用いられる前記OHM含有化合物として、1価
のアルコール性OHMを有する化合物などを挙げること
ができる。
換反応に用いられる前記OHM含有化合物として、1価
のアルコール性OHMを有する化合物などを挙げること
ができる。
前記の1価のアルコールとしては、例えば、n−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、n−ペンチルア
ルコール、ローへキシルアルコ−′ル、n−へブチルア
ルコール、n−オクチルアルコール、n−デシルアルコ
ール、n−ドデシルアルコール、n−テトラデシルアル
コール、n−ヘキサデシルアルコール、n−オクタデシ
ルアルコール、イソブチルアルコール、イソブチルアル
コール、5ec−ブチアルコール、tert−ブチルア
ルコール、イソペンチルアルコール、活性アミルアルコ
ール、tart−ペンチルアルコール、シクロペンタノ
ール、シクロヘキサノール、フリルアルコール、クロチ
ルアルコール、メチルビニルカルビノール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレンシアノヒドリ
ンなどの脂肪族アルコールやベンジルアルコール、α−
フェニルエチルアルコール、β−フェニルエチルアルコ
ール、ジフェニルカルビノール、トリフェニルカルビノ
ール、シンナ【ルアルコールなどの芳香族アルコールや
、フルフリルアルコールなどの複素環を有するアルコー
ルなどを挙げることができる。更にエチレングリコール
、プロピレングリコール、トリメチレングリコール等の
5員環または6員環を形成し得る2価のアルコールも用
いることができる。
ルアルコール、n−ブチルアルコール、n−ペンチルア
ルコール、ローへキシルアルコ−′ル、n−へブチルア
ルコール、n−オクチルアルコール、n−デシルアルコ
ール、n−ドデシルアルコール、n−テトラデシルアル
コール、n−ヘキサデシルアルコール、n−オクタデシ
ルアルコール、イソブチルアルコール、イソブチルアル
コール、5ec−ブチアルコール、tert−ブチルア
ルコール、イソペンチルアルコール、活性アミルアルコ
ール、tart−ペンチルアルコール、シクロペンタノ
ール、シクロヘキサノール、フリルアルコール、クロチ
ルアルコール、メチルビニルカルビノール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレンシアノヒドリ
ンなどの脂肪族アルコールやベンジルアルコール、α−
フェニルエチルアルコール、β−フェニルエチルアルコ
ール、ジフェニルカルビノール、トリフェニルカルビノ
ール、シンナ【ルアルコールなどの芳香族アルコールや
、フルフリルアルコールなどの複素環を有するアルコー
ルなどを挙げることができる。更にエチレングリコール
、プロピレングリコール、トリメチレングリコール等の
5員環または6員環を形成し得る2価のアルコールも用
いることができる。
本発明の化合物を製造する際に用いられるアルデヒド基
を有する化合物としては、例えば以下の化合物が挙げら
れる:アセトアルデヒド、クロラル、エトキシアセトア
ルデヒド、ベンジルオキシアセトアルデヒド、フェニル
アセトアルデヒド及びジフェニルアセトアルデヒド、フ
ェノキシアセトアルデヒド、ブOピオンアルデヒド、n
−カプロンアルデヒド、2−フェニル−及び3−フェニ
ル−プロピオンアルデヒド、イソブトキシ−及びベンジ
ルオキシピバリンアルデヒド、3−エトキシプロパナー
ル、3−シアノ−プロパナール、n−ブタナール、イソ
−ブタナール、3−クロル−ブタナール、3−メトキシ
−ブタナール、2.2−ジメチル−4−シアノ−ブタナ
ール、n−ペンタナール、2−及び3−メチル−ペンタ
ナール、2−ブロム−3−メチル−ブタナール、n−ヘ
キサナール、2−及び3−エチル−ブタナール、4−メ
チル−ペンタナール、シクロペンタンカルブアルデヒド
、n−ヘプタナール、シクロヘキサンカルブアルデヒド
、1.2.3.6−テトラヒドローベンズアルデヒド、
3−エチル−ペンタナール、3−及び4−メチル−へキ
サナール、n−オフタナール、2−及び4−エチル−ヘ
キサナール、3.5.5−トリメチル−ヘキサナール、
4−メチル−ヘプタナール、3−エチル−〇−ヘプタナ
ール、デカナール、ジシクロペンタジェンのモノオキソ
合成生成物、ドデカナール、クロトンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、2−93−及び4−ブロム−ベンズアル
デヒド、2−13−及び4−クロル−ベンズアルデヒド
、2.4−ジクロル−及び3.4−ジクロル−ベンズア
ルデヒド、p−アニスアルデヒド、2,3−ジメトキシ
−及び2゜4−ジメトキシ−ベンズアルデヒド、2−.
3−及び4−フルオル−ベンズアルデヒド、2−13−
及び4−メチル−ベンズアルデヒド、4−イソプロピル
−ベンズアルデヒド、3−及び4−テトラフルオルエト
キシ−ベンズアルデヒド、1−及び2−ナフトアルデヒ
ド、フルフラール及びチオフェン−2−アルデヒド、O
−ニトロベンズアルデヒド、p−シアノベンズアルデヒ
ド等。
を有する化合物としては、例えば以下の化合物が挙げら
れる:アセトアルデヒド、クロラル、エトキシアセトア
ルデヒド、ベンジルオキシアセトアルデヒド、フェニル
アセトアルデヒド及びジフェニルアセトアルデヒド、フ
ェノキシアセトアルデヒド、ブOピオンアルデヒド、n
−カプロンアルデヒド、2−フェニル−及び3−フェニ
ル−プロピオンアルデヒド、イソブトキシ−及びベンジ
ルオキシピバリンアルデヒド、3−エトキシプロパナー
ル、3−シアノ−プロパナール、n−ブタナール、イソ
−ブタナール、3−クロル−ブタナール、3−メトキシ
−ブタナール、2.2−ジメチル−4−シアノ−ブタナ
ール、n−ペンタナール、2−及び3−メチル−ペンタ
ナール、2−ブロム−3−メチル−ブタナール、n−ヘ
キサナール、2−及び3−エチル−ブタナール、4−メ
チル−ペンタナール、シクロペンタンカルブアルデヒド
、n−ヘプタナール、シクロヘキサンカルブアルデヒド
、1.2.3.6−テトラヒドローベンズアルデヒド、
3−エチル−ペンタナール、3−及び4−メチル−へキ
サナール、n−オフタナール、2−及び4−エチル−ヘ
キサナール、3.5.5−トリメチル−ヘキサナール、
4−メチル−ヘプタナール、3−エチル−〇−ヘプタナ
ール、デカナール、ジシクロペンタジェンのモノオキソ
合成生成物、ドデカナール、クロトンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、2−93−及び4−ブロム−ベンズアル
デヒド、2−13−及び4−クロル−ベンズアルデヒド
、2.4−ジクロル−及び3.4−ジクロル−ベンズア
ルデヒド、p−アニスアルデヒド、2,3−ジメトキシ
−及び2゜4−ジメトキシ−ベンズアルデヒド、2−.
3−及び4−フルオル−ベンズアルデヒド、2−13−
及び4−メチル−ベンズアルデヒド、4−イソプロピル
−ベンズアルデヒド、3−及び4−テトラフルオルエト
キシ−ベンズアルデヒド、1−及び2−ナフトアルデヒ
ド、フルフラール及びチオフェン−2−アルデヒド、O
−ニトロベンズアルデヒド、p−シアノベンズアルデヒ
ド等。
また、ケトン基を有する化合物の例として、以下の化合
物が挙げられる。: フェニルアセトン、1.3−ジフェニル−アセトン、2
,2−ジフェニル−アセトン、クロル−及びブロムアセ
トン、ベンジルアセトン、ブタン−2−オン、ベンジル
−プロピルケトン、エチルベンジルケトン、ベンジルメ
チルケトン、5−メチル−ヘキサン−2−オン、2−メ
チル−ペンタン−2−オン、2−メチル−ペンタン−3
−オン、ヘキサン−2−オン、ヘキサン−3−オン、ペ
ンタン−3−オン、2−メチル−ブタン−3−オン、2
.2−ジメチル−ブタン−3−オン、5−メチル−ヘプ
タン−3−オン、オクタン−3−オン、オクタン−4−
オン、オクタン−2−オン、ノナン−2−オン、ノナン
−3−オン、ノナン−5−オン、ヘプタン−2−オン、
ヘプタン−3−オン、ヘプタン−4−オン、ウンデカン
−5−オン、ウンデカン−6−オン、ドデカン−2−オ
ン、ドデカン−3−オン、ジノニル−ケトン、ウンデカ
ン−4−オン、ウンデカン−2−オン、トリアカン−2
−オン、トリデカン−3−オン、ドデカン−5−オン、
ジオクチルケトン、2−メチル−オクタン−3−オン、
シクロプロピルメチルケトン、デカン−2−オン、デカ
ン−3−オン、デカン−4−オン、メチル−α−ナフチ
ル−ケトン、ジデシルケトン、ジオクチルケトン、ジオ
クチルケトン、3−フルオル−4−メトキシ−アセトフ
ェノン、アセトフェノン、4−クロル−アセトフェノン
、2.5−ジクロル−アセトフェノン、4−ブロム−ア
セトフェノン、2,4−ジメチル−アセトフェノン、2
−93−及び4−フルオルアセトフェノン、デツキジベ
ンゾイン、2−13−及び4−メトキシ−アセトフェノ
ン、2−93−及び4−メチル−アセトフェノン、プロ
ピオフェノン、2−ブロム−プロピオフェノン、4−フ
ルオル−プロピオフェノン、4−メトキシ−プロピオフ
ェノン、ブチロフェノン、4−クロル−ブチロフェノン
、バレロフエノン、ベンゾフェノン、4−クロル−ベン
ゾフェノン、4.4’ −ジクロル−ベンゾフェノン、
2.5−ジメチル−ベンゾフェノン、3.4−ジメチル
−ベンゾフェノン、2−及び4−フルオル−ベンゾフェ
ノン、4−メトキシ−ベンゾフェノン、シクロヘキサノ
ン、2−フェニル−シクロヘキサノン、2−93−及び
4−メチル−シクロヘキサノン、2.6−ジメヂルーシ
クロヘキサノン、4−t−ブチル−シクロヘキサノン及
び2−クロル−シクロヘキサノン、シクロペンタノン等
。
物が挙げられる。: フェニルアセトン、1.3−ジフェニル−アセトン、2
,2−ジフェニル−アセトン、クロル−及びブロムアセ
トン、ベンジルアセトン、ブタン−2−オン、ベンジル
−プロピルケトン、エチルベンジルケトン、ベンジルメ
チルケトン、5−メチル−ヘキサン−2−オン、2−メ
チル−ペンタン−2−オン、2−メチル−ペンタン−3
−オン、ヘキサン−2−オン、ヘキサン−3−オン、ペ
ンタン−3−オン、2−メチル−ブタン−3−オン、2
.2−ジメチル−ブタン−3−オン、5−メチル−ヘプ
タン−3−オン、オクタン−3−オン、オクタン−4−
オン、オクタン−2−オン、ノナン−2−オン、ノナン
−3−オン、ノナン−5−オン、ヘプタン−2−オン、
ヘプタン−3−オン、ヘプタン−4−オン、ウンデカン
−5−オン、ウンデカン−6−オン、ドデカン−2−オ
ン、ドデカン−3−オン、ジノニル−ケトン、ウンデカ
ン−4−オン、ウンデカン−2−オン、トリアカン−2
−オン、トリデカン−3−オン、ドデカン−5−オン、
ジオクチルケトン、2−メチル−オクタン−3−オン、
シクロプロピルメチルケトン、デカン−2−オン、デカ
ン−3−オン、デカン−4−オン、メチル−α−ナフチ
ル−ケトン、ジデシルケトン、ジオクチルケトン、ジオ
クチルケトン、3−フルオル−4−メトキシ−アセトフ
ェノン、アセトフェノン、4−クロル−アセトフェノン
、2.5−ジクロル−アセトフェノン、4−ブロム−ア
セトフェノン、2,4−ジメチル−アセトフェノン、2
−93−及び4−フルオルアセトフェノン、デツキジベ
ンゾイン、2−13−及び4−メトキシ−アセトフェノ
ン、2−93−及び4−メチル−アセトフェノン、プロ
ピオフェノン、2−ブロム−プロピオフェノン、4−フ
ルオル−プロピオフェノン、4−メトキシ−プロピオフ
ェノン、ブチロフェノン、4−クロル−ブチロフェノン
、バレロフエノン、ベンゾフェノン、4−クロル−ベン
ゾフェノン、4.4’ −ジクロル−ベンゾフェノン、
2.5−ジメチル−ベンゾフェノン、3.4−ジメチル
−ベンゾフェノン、2−及び4−フルオル−ベンゾフェ
ノン、4−メトキシ−ベンゾフェノン、シクロヘキサノ
ン、2−フェニル−シクロヘキサノン、2−93−及び
4−メチル−シクロヘキサノン、2.6−ジメヂルーシ
クロヘキサノン、4−t−ブチル−シクロヘキサノン及
び2−クロル−シクロヘキサノン、シクロペンタノン等
。
又、アセタールあるいはケタノールの例としては前記の
アルデヒドあるいはケトンのメタノールやエタノールな
ど低級アルコールによるアセタールあるいはケタールが
挙げられる。
アルデヒドあるいはケトンのメタノールやエタノールな
ど低級アルコールによるアセタールあるいはケタールが
挙げられる。
具体的な例としては、ベンズアルデヒドジメチルアセタ
ール、シクロへキサノンジメチルケタール(1,1−ジ
メトキシシクロヘキサン)、シクロペンタノンジメチル
ケタール、エチルプロピルケトンジメチルケタール、シ
クロヘキサノンジエチルケタールなどが挙げられる。
ール、シクロへキサノンジメチルケタール(1,1−ジ
メトキシシクロヘキサン)、シクロペンタノンジメチル
ケタール、エチルプロピルケトンジメチルケタール、シ
クロヘキサノンジエチルケタールなどが挙げられる。
本発明の化合物の中の下記一般式[■]で示される化合
物は例えば、J 、 Am、Chem、SoC,、70
。
物は例えば、J 、 Am、Chem、SoC,、70
。
3426(1948)等に記載されている方法と同様あ
るいは類似の方法を用いて合成することができる。
るいは類似の方法を用いて合成することができる。
一般式[V]
X
(式中、X、Y、R+およびR2は一般式[11におけ
るX、Y、R1,R2と同義である。)本発明の上記構
造を有する化合物を製造する際に用いられるカルボキシ
ル基含有化合物としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、wA酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リルン酸、シ
クロヘキサンカルボン酸、フェニル酢酸、安息香酸、0
−トルイル酸、m−)−ルイル酸、p−トルイル殺、O
−クロル安息香酸、m−クロル安息香酸、p−クロル安
息香酸、0−ブロム安息香酸、m−ブロム安息香酸、p
−ブロム安息香酸、0−ニトロ安息香酸、m−ニトロ安
息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、O−メトキシ安息香酸、普−メトキシ
安息香酸、p−メトキシ安息香M(アニス酸)等、更に
マロン酸などの環形成をし11する2 1itliのカ
ルボン酸を挙げることができる。
るX、Y、R1,R2と同義である。)本発明の上記構
造を有する化合物を製造する際に用いられるカルボキシ
ル基含有化合物としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、wA酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リルン酸、シ
クロヘキサンカルボン酸、フェニル酢酸、安息香酸、0
−トルイル酸、m−)−ルイル酸、p−トルイル殺、O
−クロル安息香酸、m−クロル安息香酸、p−クロル安
息香酸、0−ブロム安息香酸、m−ブロム安息香酸、p
−ブロム安息香酸、0−ニトロ安息香酸、m−ニトロ安
息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、O−メトキシ安息香酸、普−メトキシ
安息香酸、p−メトキシ安息香M(アニス酸)等、更に
マロン酸などの環形成をし11する2 1itliのカ
ルボン酸を挙げることができる。
以下に一般式[I]で示される本発明の化合物を具体的
に承りが本発明はこれらに限定されない。
に承りが本発明はこれらに限定されない。
一般式[I]
△−o −c −o −8で表わされる具体的化合本発
明の化合物の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形
分に対し、5〜70重ffi%が好ましく、特に好まし
くは10〜50重量%である。
明の化合物の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形
分に対し、5〜70重ffi%が好ましく、特に好まし
くは10〜50重量%である。
又、前記本発明の化合物は単独で用いても良いし、2種
以上を混合して用いても良い。本発明の化合物の合成物
がいくつかの混合物として得られる場合は、混合物のま
ま用いても良いし、分離生成して用いてもよい。
以上を混合して用いても良い。本発明の化合物の合成物
がいくつかの混合物として得られる場合は、混合物のま
ま用いても良いし、分離生成して用いてもよい。
本発明の感光性組成物には、ざらに活性光線の照射によ
り酸を発生する化合物(以下、本発明の酸発生化合物と
いう。)を含有することが必須である。
り酸を発生する化合物(以下、本発明の酸発生化合物と
いう。)を含有することが必須である。
本発明の酸発生化合物としては、各種の公知化合物及び
混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム塩、ホスホニ
ウム塩、スルホニウム塩、及びヨードニウムのBF吟−
1PFs−1SbFs−1SiFs−一、CflO4−
などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジ
ドスルホニルクロリド、及び有機金風/有機ハロゲン化
合物も活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性
光線感受性成分であり、本発明の酸発生化合物として使
用することができる。原理的には遊ffi基形成性の光
開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合物は、
ハロゲン化水素酸を形成する化合物で、本発明の酸発生
化合物として使用することができる。
混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム塩、ホスホニ
ウム塩、スルホニウム塩、及びヨードニウムのBF吟−
1PFs−1SbFs−1SiFs−一、CflO4−
などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジ
ドスルホニルクロリド、及び有機金風/有機ハロゲン化
合物も活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性
光線感受性成分であり、本発明の酸発生化合物として使
用することができる。原理的には遊ffi基形成性の光
開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合物は、
ハロゲン化水素酸を形成する化合物で、本発明の酸発生
化合物として使用することができる。
前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物の例は米国特
許明細書第3,515,552号、同第3,536,4
89号及び同第3.779.778号及び西ドイツ国特
許公開公報第2,243,621号に記載されているも
のが挙げられ、又、例えば西ドイツ国特許公開公報第2
.610,842号に記載の光分解により酸を発生させ
る化合物も使用することができる。
許明細書第3,515,552号、同第3,536,4
89号及び同第3.779.778号及び西ドイツ国特
許公開公報第2,243,621号に記載されているも
のが挙げられ、又、例えば西ドイツ国特許公開公報第2
.610,842号に記載の光分解により酸を発生させ
る化合物も使用することができる。
また更に特開昭54−74728号公報、特開昭55−
24113号公報、特開昭55−77742号公報、特
開昭60−36・26号公報、特開昭60−13853
9号公報に記載の2−ハロメチル−1,3,4−オキサ
ジアゾール系化合物など具体的には、2−トリクロロメ
チル−5−[β(2−ベンゾフリル)ビニル]1.3.
4−オキサジアゾールを使用することができる。
24113号公報、特開昭55−77742号公報、特
開昭60−36・26号公報、特開昭60−13853
9号公報に記載の2−ハロメチル−1,3,4−オキサ
ジアゾール系化合物など具体的には、2−トリクロロメ
チル−5−[β(2−ベンゾフリル)ビニル]1.3.
4−オキサジアゾールを使用することができる。
本発明の酸発生化合物の具体例としては、特開昭56−
17345号公報に記載のある以下のものを挙げること
ができる。
17345号公報に記載のある以下のものを挙げること
ができる。
4−(ジ−n−プロピルアミノ)−ベンゼンジアゾニウ
ムテトラフルオルボレート、4−p−トリル−メルカプ
ト−2,5−ジェトキシ−ベンゼンジアゾニウムへキサ
フルオルホスフェート及びテトラフルオルボレート、ジ
フェニルアミン−4−ジアゾニウムサルフェート、4−
メチル−6−ドルクロルメチル−2−ピロン、4− (
3,4゜5−トリメトキシ−スチリル)−6−ドリクロ
ルメチルー2−ピロン、4−(4−メトキシ−スチリル
)−6−(3,3,3−トリクロル−プロベニル)−2
−ピロン、2−トリクロルメチル−ベンズイミダゾール
、2−トリブロムメチル−キノロン、2.4−ジメチル
−1−トリブロムアセチル−ベンゼン、3−ニド0−1
−トリブロムアセチル−ベンゼン、4−ジブロムアセチ
ル−安息香族、1,4−ビス−ジブロムメチル−ベンゼ
ン、トリス−ジブロムメチル−s−トリアジン、2−(
6−メトキシ−ナフチー2−イル)−12−(ナフチ−
1−イル)−12−(ナフチ−2−イル)−12−(4
−エトキシエチル−ナフチ−1−イル)−12−(ベン
ゾビラニー3−イル)−12−(4−メトキシ−アント
ラシー1−イル)−及び2−(フェナンチー9−イル)
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、
また、更に特開昭50−36209号公報に記載されて
いる〇−ナフトキノンジアジドー4−スルホン酸ハロゲ
ニドも用いることができる。
ムテトラフルオルボレート、4−p−トリル−メルカプ
ト−2,5−ジェトキシ−ベンゼンジアゾニウムへキサ
フルオルホスフェート及びテトラフルオルボレート、ジ
フェニルアミン−4−ジアゾニウムサルフェート、4−
メチル−6−ドルクロルメチル−2−ピロン、4− (
3,4゜5−トリメトキシ−スチリル)−6−ドリクロ
ルメチルー2−ピロン、4−(4−メトキシ−スチリル
)−6−(3,3,3−トリクロル−プロベニル)−2
−ピロン、2−トリクロルメチル−ベンズイミダゾール
、2−トリブロムメチル−キノロン、2.4−ジメチル
−1−トリブロムアセチル−ベンゼン、3−ニド0−1
−トリブロムアセチル−ベンゼン、4−ジブロムアセチ
ル−安息香族、1,4−ビス−ジブロムメチル−ベンゼ
ン、トリス−ジブロムメチル−s−トリアジン、2−(
6−メトキシ−ナフチー2−イル)−12−(ナフチ−
1−イル)−12−(ナフチ−2−イル)−12−(4
−エトキシエチル−ナフチ−1−イル)−12−(ベン
ゾビラニー3−イル)−12−(4−メトキシ−アント
ラシー1−イル)−及び2−(フェナンチー9−イル)
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、
また、更に特開昭50−36209号公報に記載されて
いる〇−ナフトキノンジアジドー4−スルホン酸ハロゲ
ニドも用いることができる。
また、前記のハロメチル基を有する化合物に加−えて、
更にO−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドあるいは特開昭55−6244号公報や特開昭59
−218442@公報などに記載の0−ナフトキノンジ
アジド系の化合物を併用することもできる。
更にO−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドあるいは特開昭55−6244号公報や特開昭59
−218442@公報などに記載の0−ナフトキノンジ
アジド系の化合物を併用することもできる。
また、前記のハロメチル基を有する化合物に、更に適当
な染料を組み合わせて併用すると露光の際、未露光部と
露光部の間に明瞭な可視的コントラストが得られる。本
発明においては、この可視的コントラスト経時安定性が
、非常に優れている。
な染料を組み合わせて併用すると露光の際、未露光部と
露光部の間に明瞭な可視的コントラストが得られる。本
発明においては、この可視的コントラスト経時安定性が
、非常に優れている。
本発明の酸発生化合物は、その化学的性質及び本発明の
感光性組成物の組成あるいは物性によって広範囲に変え
ることができるが、本発明の感光性組成物の固形分の全
重層に対して約0.1〜約20重量%の範囲が適当であ
り、好ましくは0.2〜10重山%の範囲である。
感光性組成物の組成あるいは物性によって広範囲に変え
ることができるが、本発明の感光性組成物の固形分の全
重層に対して約0.1〜約20重量%の範囲が適当であ
り、好ましくは0.2〜10重山%の範囲である。
本発明の感光性組成物には、前記の本発明の酸発生化合
物と前記の本発明の化合物とに加えて、ざらに実質的に
水に不溶でアルカリ性水溶液に可溶である高分子量結合
剤を加えることが必要である。
物と前記の本発明の化合物とに加えて、ざらに実質的に
水に不溶でアルカリ性水溶液に可溶である高分子量結合
剤を加えることが必要である。
本発明の高分子量結合剤としてはフェノール性OH基を
有する化合物が好ましく、例えば以下のものを挙げるこ
とができる。
有する化合物が好ましく、例えば以下のものを挙げるこ
とができる。
アルケニルヒドロキシアリール、ヒドロキシアリールア
ルケニルアミドあるいはヒドロキシアリールアルケニル
エステルなどのフェノール性OH基を有する化合物の少
なくとも1つを単量体とする単一の重合体あるいは共重
合体である。アルケニルヒドロキシアリールの具体的化
合物には例えば、p−ヒドロキシスチレンなどを挙げる
ことができ、またヒドロキシアリールアルケニルアミド
の具体的化合物には例えば、p−ヒドロキシフェニルア
クリルアミドあるいはp−ヒトOキシフェニルメタアク
リルアミドなどを挙げることができ、またヒドロキシア
リールアルケニルエステルの具体的化合物には例えばp
−ヒドロキシフェニルアクリレートあるいはp−ヒドロ
キシフェニルメタアクリレートなどを挙げることかでき
る。また更に上記の化合物を単量体とする重合体は他の
単量体との共重合体でもよい。他の単量体には例えば、
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェン、イ
ソプレンなどのエチレン不飽和オレフィン類、例えばス
チレン、α−メチルスチレン、D−メチルスチレン、p
−クロロスチレンなどのスチレン類、アクリル酸、メタ
アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸
、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ルWan −ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル
酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸
フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタアクリル
酸メチル、メタアクリル酸エチル、エタアクリル酸メチ
ルなどのα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル
類、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、アクリ
ルアミド、アクリルアニリド、D−クロロアクリルアニ
リド、m−ニトロアクリルアニリド、m−メトキシアク
リルアニリド、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエステル
類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニ
ルエーテルなどのビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニ
リデンクロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−
メチル−1′−メトキシエチレン、1.1′−ジメトキ
シエチレン、1.2−ジメトキシエチレン、1.1−ジ
メトキシカルボニルエチレン、1−メチル−1′−二ト
ロエチレンなどのエチレン誘導体類、例えばN−ビニル
ビロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインド
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリドンなど
のN−ビニル化合物、などのビニル糸車母体の不飽和二
重結合を開裂せししめた構造で示されるものをあげるこ
とができる。
ルケニルアミドあるいはヒドロキシアリールアルケニル
エステルなどのフェノール性OH基を有する化合物の少
なくとも1つを単量体とする単一の重合体あるいは共重
合体である。アルケニルヒドロキシアリールの具体的化
合物には例えば、p−ヒドロキシスチレンなどを挙げる
ことができ、またヒドロキシアリールアルケニルアミド
の具体的化合物には例えば、p−ヒドロキシフェニルア
クリルアミドあるいはp−ヒトOキシフェニルメタアク
リルアミドなどを挙げることができ、またヒドロキシア
リールアルケニルエステルの具体的化合物には例えばp
−ヒドロキシフェニルアクリレートあるいはp−ヒドロ
キシフェニルメタアクリレートなどを挙げることかでき
る。また更に上記の化合物を単量体とする重合体は他の
単量体との共重合体でもよい。他の単量体には例えば、
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェン、イ
ソプレンなどのエチレン不飽和オレフィン類、例えばス
チレン、α−メチルスチレン、D−メチルスチレン、p
−クロロスチレンなどのスチレン類、アクリル酸、メタ
アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸
、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ルWan −ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル
酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸
フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタアクリル
酸メチル、メタアクリル酸エチル、エタアクリル酸メチ
ルなどのα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル
類、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、アクリ
ルアミド、アクリルアニリド、D−クロロアクリルアニ
リド、m−ニトロアクリルアニリド、m−メトキシアク
リルアニリド、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエステル
類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニ
ルエーテルなどのビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニ
リデンクロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−
メチル−1′−メトキシエチレン、1.1′−ジメトキ
シエチレン、1.2−ジメトキシエチレン、1.1−ジ
メトキシカルボニルエチレン、1−メチル−1′−二ト
ロエチレンなどのエチレン誘導体類、例えばN−ビニル
ビロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインド
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリドンなど
のN−ビニル化合物、などのビニル糸車母体の不飽和二
重結合を開裂せししめた構造で示されるものをあげるこ
とができる。
上記単m体の内、アクリロニトリル、アクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアク
リル酸エチル、スチレン、α−メチルスチレンなどが前
記フェノール性○ト1基を有する単化体との共重合体成
分として好ましく用いられる。
、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアク
リル酸エチル、スチレン、α−メチルスチレンなどが前
記フェノール性○ト1基を有する単化体との共重合体成
分として好ましく用いられる。
前記重合体の分子量はff1kl平均分子母で約500
0〜約100,000が好ましく、又共重合体の場合フ
ェノール性OH基を有する構造単位のモル含有率が少な
くとも10モル%であるものが望ましい。
0〜約100,000が好ましく、又共重合体の場合フ
ェノール性OH基を有する構造単位のモル含有率が少な
くとも10モル%であるものが望ましい。
又実質的に水に不溶でアルカリ性水溶液に可溶である高
分子化合物にはノボラック樹脂を用いることもできる。
分子化合物にはノボラック樹脂を用いることもできる。
好適なノボラック樹脂としては、フェノール、O−クレ
ゾール、m−クレゾール、p−クレゾールのうちの少な
くとも1種類とホルムアルデヒドとから成るノボラック
樹脂などが挙げられる。
ゾール、m−クレゾール、p−クレゾールのうちの少な
くとも1種類とホルムアルデヒドとから成るノボラック
樹脂などが挙げられる。
前記のフェノール性OH基を有するポリビニル系の高分
子化合物やノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、又
2種以上を混合して用いても良い。
子化合物やノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、又
2種以上を混合して用いても良い。
またこれらの高分子量結合剤が本発明の感光性組成物中
に含まれる含有口は30〜95重量%が好ましく、より
好ましくは50〜90重ff1%である。
に含まれる含有口は30〜95重量%が好ましく、より
好ましくは50〜90重ff1%である。
本発明の感光性組成物には前記の本発明の酸発生化合物
、本発明の化合物、可溶性樹脂等の各々の素材の他、必
要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤などを添加
することができ、またざらに、使用目的に応じて必要で
あれば、増感剤(前配本発明の酸発生化合物の酸発生効
率を増大させる化合物)などを添加することもできる。
、本発明の化合物、可溶性樹脂等の各々の素材の他、必
要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤などを添加
することができ、またざらに、使用目的に応じて必要で
あれば、増感剤(前配本発明の酸発生化合物の酸発生効
率を増大させる化合物)などを添加することもできる。
本発明の感光性組成物に用いられる染料、顔料等の色素
としては、例えばビクトリアピュアーブルーBOH[採
土ケ谷化学]、オイルブルー#603[オリエント化学
]、パテントピュアーブルー[住友三国化学製]、クリ
スタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB1ベイシ
ックツクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB1オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、
シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド、
等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタ
ン系、オキサジン系、キサンチン系、イミノナフトキノ
ン系、アゾメチン系又はアントラキノン系等が挙げられ
る。
としては、例えばビクトリアピュアーブルーBOH[採
土ケ谷化学]、オイルブルー#603[オリエント化学
]、パテントピュアーブルー[住友三国化学製]、クリ
スタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB1ベイシ
ックツクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB1オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、
シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド、
等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタ
ン系、オキサジン系、キサンチン系、イミノナフトキノ
ン系、アゾメチン系又はアントラキノン系等が挙げられ
る。
また、可塑剤としては、例えばフタル酸エステル類、ト
リフェニルホスフェート類、マレイン酸エステル類、塗
布性向上剤として界面活性剤、例えばフッ素系界面活性
剤、エチルセルロースポリアルキレンエーテル等に代表
されるノニオン活性剤等を挙げることができる。
リフェニルホスフェート類、マレイン酸エステル類、塗
布性向上剤として界面活性剤、例えばフッ素系界面活性
剤、エチルセルロースポリアルキレンエーテル等に代表
されるノニオン活性剤等を挙げることができる。
更に、本発明の感光性組成物には、該感光性組成物の感
脂性を向上するために親油性の樹脂を添加することがで
きる。
脂性を向上するために親油性の樹脂を添加することがで
きる。
前記親油性の樹脂(以下、感脂化剤という。)としては
、例えば、特開昭50−125806号公報に記載され
ているような、炭素数3〜15のアルキル基で置換され
たフェノール類とアルデヒドとの縮合物、具体的にはt
−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などを添加す
ることができる。又、親油性の置換フェノールホルムア
ルデヒド樹脂と0−キノンジアジドのスルホン酸クロラ
イドを縮合させて得られる感光性樹脂を添加することも
できる。これらの感脂化剤は本発明の感光性組成物の0
.1〜5重1%含まれることが好ましい。
、例えば、特開昭50−125806号公報に記載され
ているような、炭素数3〜15のアルキル基で置換され
たフェノール類とアルデヒドとの縮合物、具体的にはt
−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などを添加す
ることができる。又、親油性の置換フェノールホルムア
ルデヒド樹脂と0−キノンジアジドのスルホン酸クロラ
イドを縮合させて得られる感光性樹脂を添加することも
できる。これらの感脂化剤は本発明の感光性組成物の0
.1〜5重1%含まれることが好ましい。
本発明の感光性組成物においては、前記各成分を溶解す
る下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表
面に塗布乾燥させることにより、感光性層を設けて、本
発明の感光性組成物による感光性平版印刷版(以下、本
発明の感光性平版印刷版という。)を形成することがで
きる。
る下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表
面に塗布乾燥させることにより、感光性層を設けて、本
発明の感光性組成物による感光性平版印刷版(以下、本
発明の感光性平版印刷版という。)を形成することがで
きる。
本発明の感光性組成物の各成分を溶解する際に使用し得
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、1.2−プロパンジオールモ
ノメチルエーテル又はそのアセテート、1.2−プロパ
ンジオールモノエチルエーテル又はそのアセテート、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン
、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶媒は、
単独であるいは2種以上混合して使用する。
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、1.2−プロパンジオールモ
ノメチルエーテル又はそのアセテート、1.2−プロパ
ンジオールモノエチルエーテル又はそのアセテート、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン
、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶媒は、
単独であるいは2種以上混合して使用する。
又、特開昭60−208750号公報に記載の方法、す
なわち感光性組成物を有機溶剤に溶解し、該有機溶剤溶
液を水中で乳化分散後、有瀕溶剤を実質的に除去し、感
光性塗布液を製造する方法も使用できる。
なわち感光性組成物を有機溶剤に溶解し、該有機溶剤溶
液を水中で乳化分散後、有瀕溶剤を実質的に除去し、感
光性塗布液を製造する方法も使用できる。
塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布伍は用途により異なるが、例えば、感光性平版印
刷版についていえば固形分として0.5〜5.00/w
2が好ましい。
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布伍は用途により異なるが、例えば、感光性平版印
刷版についていえば固形分として0.5〜5.00/w
2が好ましい。
本発明の感光性組成物を用いた感光性層を設ける支持体
は、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにク
ロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッ
キ又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及
びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金
属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィル
ム等が挙げられる。このうち好ましいのは親水化処理し
たアルミニウム板である。本発明の感光性平版印刷版の
支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理および必要に
応じて封孔処理等の表面処理が施されているアルミニウ
ム板を用いることがより好ましい。
は、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにク
ロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッ
キ又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及
びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金
属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィル
ム等が挙げられる。このうち好ましいのは親水化処理し
たアルミニウム板である。本発明の感光性平版印刷版の
支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理および必要に
応じて封孔処理等の表面処理が施されているアルミニウ
ム板を用いることがより好ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
砂目立て処理の方法としては、例えば機械的方法、電解
によりエツチングする方法が挙げられる。
によりエツチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組み合わせて用いることができる。
法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組み合わせて用いることができる。
電解によりエツチングするには、りん酸、硫酸、塩酸、
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴を用
いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカ
リあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を行ない
中和して水洗でる。
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴を用
いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカ
リあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を行ない
中和して水洗でる。
陽極酸化処理は、電解液として、@酸、クロム酸、シュ
ウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行なわ
れる。形成された陽極酸化被膜化は1〜50 mg/
dnsが適当であり、好ましくは10〜40 mg/
dt’であり、特に好ましくは25〜40 mo/ d
t”である。陽極酸化被膜eは、例えばアルミニウム板
をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35輩、酸化
クロム(Vl):209を12の水に溶解して作製)に
浸漬し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の型組変
化測定等から求められる。
ウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行なわ
れる。形成された陽極酸化被膜化は1〜50 mg/
dnsが適当であり、好ましくは10〜40 mg/
dt’であり、特に好ましくは25〜40 mo/ d
t”である。陽極酸化被膜eは、例えばアルミニウム板
をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35輩、酸化
クロム(Vl):209を12の水に溶解して作製)に
浸漬し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の型組変
化測定等から求められる。
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、]クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
理、]クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
本発明において、活性光線とは、本発明の感光性組成物
の酸発生化合物が酸形成するに充分な光線であればいず
れの光線でもよく、上記の活性光線を得ることのできる
露光手段としては、従来慣用の露光焼付装置を用いるこ
とができ、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ等の光源によ
り露光する装置、あるいはレーザービームにより走査露
光する装置等が適宜用いられてよい。露光量は0.1
mJ〜2000 mJの範囲で適宜選ぶことができる。
の酸発生化合物が酸形成するに充分な光線であればいず
れの光線でもよく、上記の活性光線を得ることのできる
露光手段としては、従来慣用の露光焼付装置を用いるこ
とができ、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ等の光源によ
り露光する装置、あるいはレーザービームにより走査露
光する装置等が適宜用いられてよい。露光量は0.1
mJ〜2000 mJの範囲で適宜選ぶことができる。
その他、一般に感光性平版印刷版にフィルム原稿を密着
焼付する際、焼枠を真空にして行なうが、この真空密着
性を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた感光
性平版印刷版に適用することができる。真空密着性を改
良する方法としては、感光層表面に礪械的に凸凹を施す
方法。感光層表面に固体粉末を散布させる方法。特開昭
50−125805号公報に記載されているような感光
層表面にマット層を設ける方法。及び特開昭55−12
974号公報に記載されているような感光層表面に固体
粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。
焼付する際、焼枠を真空にして行なうが、この真空密着
性を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた感光
性平版印刷版に適用することができる。真空密着性を改
良する方法としては、感光層表面に礪械的に凸凹を施す
方法。感光層表面に固体粉末を散布させる方法。特開昭
50−125805号公報に記載されているような感光
層表面にマット層を設ける方法。及び特開昭55−12
974号公報に記載されているような感光層表面に固体
粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。
本発明の感光性平版印刷版は、前記した露光焼付は装置
を用いて露光焼付し、次いで現像液にて現像され、未露
光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型レリーフ
像ができる。
を用いて露光焼付し、次いで現像液にて現像され、未露
光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型レリーフ
像ができる。
また、本発明においては、露光俄加熱処理しなくても良
く、直ちに現像することができる。
く、直ちに現像することができる。
本発明の感光性平版印刷版の現像には水系アルカリ現像
液を好適に用いることができる。前記の水系アルカリ現
像液(以下、本発明の現像液という。)は例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のア
ルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。前記のアルカリ金
属塩の濃度は0.05〜20重量%の範囲で用いるのが
好適であり、より好ましくは0.1〜10重量%である
。
液を好適に用いることができる。前記の水系アルカリ現
像液(以下、本発明の現像液という。)は例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のア
ルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。前記のアルカリ金
属塩の濃度は0.05〜20重量%の範囲で用いるのが
好適であり、より好ましくは0.1〜10重量%である
。
本発明の現像液には、必要に応じアニオン性界面活性剤
、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加えるこ
とができる。
、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加えるこ
とができる。
有機溶剤としてはエチレングリコールモノフェニルエー
テル、ベンジルアルコール、n−プロピルアルコール、
1.2−プロパンジオールモノメチルエーテル等が有用
である。前記有機溶剤の現像液中における含有量として
は、0.5〜15重量%が好適であり、より好ましい範
囲としては、1〜5重訂%である。
テル、ベンジルアルコール、n−プロピルアルコール、
1.2−プロパンジオールモノメチルエーテル等が有用
である。前記有機溶剤の現像液中における含有量として
は、0.5〜15重量%が好適であり、より好ましい範
囲としては、1〜5重訂%である。
以下、本発明の感光性組成物および本発明の感光性平版
印刷版を実施例により説明するが本発明はこれらに限定
されるものではない。
印刷版を実施例により説明するが本発明はこれらに限定
されるものではない。
合成例1(例示化合物NO62の合成)n−カプロンア
ルデヒド(東京化成工業tmy>、50g (0,5モ
ル)、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(東
京化成工業■l ) 164(] (11モルのベンゼ
ン500tg溶液を攪拌しながらこれに硫M2.5Qを
徐々に加えた。その後還流下に20時間反応させ、反応
により生成する反応水を共沸混合物として分離した。
ルデヒド(東京化成工業tmy>、50g (0,5モ
ル)、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(東
京化成工業■l ) 164(] (11モルのベンゼ
ン500tg溶液を攪拌しながらこれに硫M2.5Qを
徐々に加えた。その後還流下に20時間反応させ、反応
により生成する反応水を共沸混合物として分離した。
反応終了後、無水炭酸カリウム15(+を加え室温で2
時間攪拌した。口過によりベンゼン溶液を分離した後、
ベンゼンを減圧留去した。
時間攪拌した。口過によりベンゼン溶液を分離した後、
ベンゼンを減圧留去した。
その後、約120℃で高真空に減圧し、低沸点成分を留
去し、粘調な油状生成物を(qた。
去し、粘調な油状生成物を(qた。
IR,NMR1元素分析によりその構造が例示化合物N
O12であることを確認した。
O12であることを確認した。
合成例2(例示化合物N0.9の合成)p−アニスアル
デヒド(東京化成工ffi +[VJ )及びトリエチ
レングリコールモノメチルエーテルを合成例1と同様に
反応させ生成物を得た。また、その構造を同様にして’
ffl 認した。
デヒド(東京化成工ffi +[VJ )及びトリエチ
レングリコールモノメチルエーテルを合成例1と同様に
反応させ生成物を得た。また、その構造を同様にして’
ffl 認した。
合成例3(例示化合物No、15の合成)0−ニトロベ
ンズアルデヒド(東京化成工業■製) 75.6(+
(0,5モル)、トリエチレングリコールモノメチル
エーテル164i7 (1モル)及びp−トルエンスル
ホン110.08(]のトルエン300d溶液を、窒素
雰囲気下46時間攪拌、還流し、反応させた。
ンズアルデヒド(東京化成工業■製) 75.6(+
(0,5モル)、トリエチレングリコールモノメチル
エーテル164i7 (1モル)及びp−トルエンスル
ホン110.08(]のトルエン300d溶液を、窒素
雰囲気下46時間攪拌、還流し、反応させた。
この時生成する反応水は共沸U合物として分離した。
反応終了後、トルエンを減圧留去し、その後約150℃
で高真空に減圧し低沸点成分を留去し生成物を得た。
で高真空に減圧し低沸点成分を留去し生成物を得た。
IR,NMR1元素分析によりその構造が例示化合物N
0.15であることを確認した。
0.15であることを確認した。
合成例4(例示化合物No、27の合成)ベンズアルア
ヒド(関東化学■裂)及びトリエチレングリコールモノ
エチルエーテル(東京化成工業■製)を合成例1と同様
に反応させ生成物を得た。またその構造を同様に確認し
た。
ヒド(関東化学■裂)及びトリエチレングリコールモノ
エチルエーテル(東京化成工業■製)を合成例1と同様
に反応させ生成物を得た。またその構造を同様に確認し
た。
合成例5(例示化合物No、64の合成)3.3−ジメ
トキシヘキサン(ジャーナル・オフ・オーガニック・ケ
ミストリイー、25,521(1960)に記載の方法
と類似の方法により合成したもの) 14.6(1(0
,1モル)、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル32.8g (0,2モル)及びp−トルエンスル
ホン酸30maを攪拌しながら100℃で1時間反応さ
せ、その後150℃まで徐々に温度を上げ、更に150
℃で4時間反応させた。
トキシヘキサン(ジャーナル・オフ・オーガニック・ケ
ミストリイー、25,521(1960)に記載の方法
と類似の方法により合成したもの) 14.6(1(0
,1モル)、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル32.8g (0,2モル)及びp−トルエンスル
ホン酸30maを攪拌しながら100℃で1時間反応さ
せ、その後150℃まで徐々に温度を上げ、更に150
℃で4時間反応させた。
反応により生成するメタノールはこの間に留去される。
冷却後テトラヒドロフラン200i及び無水炭酸カリウ
ム0.19を加えて攪拌し、口過した。口演から溶媒を
減圧留去し、更に150℃、高真空下で低沸点成分を留
去し、粘調な油状生成物を得た。
ム0.19を加えて攪拌し、口過した。口演から溶媒を
減圧留去し、更に150℃、高真空下で低沸点成分を留
去し、粘調な油状生成物を得た。
l R,NMR1元素分析によりその構造が例示化合物
N0.64であることを確認した。
N0.64であることを確認した。
合成例6(例示化合物No、77の合成)アセトフェノ
ンジメチルケタール[ジャーナル・オフ・オーガニック
・ケミストリイー、11゜521 (1960)に記載
の方法と類似の方法により合成したちの]及びジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル(東京化成工業@製)
を合成例5と同様に反応させ生成物を得た。またその構
造を上記と同様に確認した。
ンジメチルケタール[ジャーナル・オフ・オーガニック
・ケミストリイー、11゜521 (1960)に記載
の方法と類似の方法により合成したちの]及びジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル(東京化成工業@製)
を合成例5と同様に反応させ生成物を得た。またその構
造を上記と同様に確認した。
合成例7(例示化合物No、86の合成)1.1−ジメ
トキシシクロヘキザン(東京化成工業+tl製)及びト
リエチレングリコールモノエチルエーテルを合成例5と
同様に反応させ生成物を得た。また、その構造を上記と
同様に確認した。
トキシシクロヘキザン(東京化成工業+tl製)及びト
リエチレングリコールモノエチルエーテルを合成例5と
同様に反応させ生成物を得た。また、その構造を上記と
同様に確認した。
合成例8(例示化合物No、 112の合成)voンM
!t52C1(0,5モ/Lz) 及ヒ!水酢酸611
11 (0,6モル)の混合物を攪拌しながらこれに
1.5dの硫酸を加えた。次に20〜25℃に保ちなが
ら、これにアセトン320 (0,55モル)を徐々
に加えた。反応混合物を冷蔵1に一晩放置し、得られた
結晶を0別して集め、ざらにこれを氷水で3回洗浄して
生成物を得た。
!t52C1(0,5モ/Lz) 及ヒ!水酢酸611
11 (0,6モル)の混合物を攪拌しながらこれに
1.5dの硫酸を加えた。次に20〜25℃に保ちなが
ら、これにアセトン320 (0,55モル)を徐々
に加えた。反応混合物を冷蔵1に一晩放置し、得られた
結晶を0別して集め、ざらにこれを氷水で3回洗浄して
生成物を得た。
生成物の再結晶は乾燥後、アセトンに溶解させ、口過し
、口演に水を加えることにより行った。
、口演に水を加えることにより行った。
IR,NMR1元素分析によりその構造が例示化合物N
o、 112であることを確認した。
o、 112であることを確認した。
実施例1
[感光性平版印刷版試料1の作成]
厚さ0.24n+mのアルミニウム板(材質1050、
調質H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分
間脱脂処理を行った後、0.5モル12の塩酸水溶液中
で温度:25℃、電流密度: 60A/df 、処理時
間;30秒間の条件で電解エツチング処理を行った。次
いで、5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデ
スマット処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;2
0℃、電流密度;3A/df、処理時間;1分間の条件
で陽極酸化処理を行った。更に又、30℃の熱水で20
秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体の
アルミニウム板を作製した。
調質H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分
間脱脂処理を行った後、0.5モル12の塩酸水溶液中
で温度:25℃、電流密度: 60A/df 、処理時
間;30秒間の条件で電解エツチング処理を行った。次
いで、5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデ
スマット処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;2
0℃、電流密度;3A/df、処理時間;1分間の条件
で陽極酸化処理を行った。更に又、30℃の熱水で20
秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体の
アルミニウム板を作製した。
次にこのアルミニウム板に下記組成の感光性組成物塗布
液を回転塗布薇を用いて塗布し、90℃で4分間乾燥し
、ポジ型感光性平版印刷版試料1を得た。
液を回転塗布薇を用いて塗布し、90℃で4分間乾燥し
、ポジ型感光性平版印刷版試料1を得た。
(感光性組成物塗布液組成)
・例示化合物No、27(合成例4)の化合物2、14
g ・フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、m−クレ
ゾール、及びp−クレゾールの各々17)−EjLr比
カ2.0: 4.8: 3.2 重母平均分1f
iMW = 9,000.分散度MY /Mn = 6
.3、Mn;数平均分子坦)
5.74(トビクトリアビュアブルーBOH(採土ケ
谷化学(作製) O
,osg・2−トリクロロメチル−5−[β−(2−ベ
ンゾフリル)ビニル11,3.4−オキサジアゾール(
特開昭60−138539号公報に記載の例示化合物(
1) ) 0.27(
トエチルセロソルブ 100112
乾燥後の塗布重量は約20 m(1/ dn’であった
。
g ・フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、m−クレ
ゾール、及びp−クレゾールの各々17)−EjLr比
カ2.0: 4.8: 3.2 重母平均分1f
iMW = 9,000.分散度MY /Mn = 6
.3、Mn;数平均分子坦)
5.74(トビクトリアビュアブルーBOH(採土ケ
谷化学(作製) O
,osg・2−トリクロロメチル−5−[β−(2−ベ
ンゾフリル)ビニル11,3.4−オキサジアゾール(
特開昭60−138539号公報に記載の例示化合物(
1) ) 0.27(
トエチルセロソルブ 100112
乾燥後の塗布重量は約20 m(1/ dn’であった
。
かくして得られた感光性平版印刷版にステップタブレッ
ト(イーストマン・コダック社INO,2、濃度差0.
15ずつで21段階のグレー・スケール)、及び絵柄の
入ったポジ型フィルムを密着して4KWメタルハライド
ランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000 )を光
源として9Qcmの距離から同一試料の平版印刷版にそ
れぞれ異なる露光時間の露光を行い、その後、同一試料
の平版印刷版を5DP−1<小西六写真工業(■8倍希
釈で40秒間現像した。現像された同一試料の平版印刷
版から前記ステップタブレットが完全に現株されて、そ
の5段目がクリ′アとなる露光時間を計測した。
ト(イーストマン・コダック社INO,2、濃度差0.
15ずつで21段階のグレー・スケール)、及び絵柄の
入ったポジ型フィルムを密着して4KWメタルハライド
ランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000 )を光
源として9Qcmの距離から同一試料の平版印刷版にそ
れぞれ異なる露光時間の露光を行い、その後、同一試料
の平版印刷版を5DP−1<小西六写真工業(■8倍希
釈で40秒間現像した。現像された同一試料の平版印刷
版から前記ステップタブレットが完全に現株されて、そ
の5段目がクリ′アとなる露光時間を計測した。
例示化合物No、27を使用した感光性組成物による平
版印刷版では、必要な露光時間は14秒であった。
版印刷版では、必要な露光時間は14秒であった。
実施例2
例示化合物No、86(合成例7)の化合物を用いて、
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて
平版印刷版を作製して実施例1と同様に操作して、同一
試料に異なる露光時間で露光を与え、実施例1と同様に
現像を行なった。平版印刷版のステップタブレットの5
段面がクリアとなる為に必要な露光時間を求めた結果を
表−1に示した。
実施例1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて
平版印刷版を作製して実施例1と同様に操作して、同一
試料に異なる露光時間で露光を与え、実施例1と同様に
現像を行なった。平版印刷版のステップタブレットの5
段面がクリアとなる為に必要な露光時間を求めた結果を
表−1に示した。
実施例3
例示化合物No、89に示された化合物を用いて実施例
1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作して、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作して、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
実施例4
例示化合物N0.90に示された化合物を用いて実施例
1と同様に感光性組成物を81し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作して、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
1と同様に感光性組成物を81し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作して、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
実施例5
例示化合物No、91に示された化合物を用いて実施例
1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作し人、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
1と同様に感光性組成物を調製し、これを用いて平版印
刷版を作製した。実施例1と同様に操作し人、露光を与
え、この平版印刷版の露光時間を求めた。結果を表−1
に示した。
比較例1
酸分解化合物として、下記構造単位を有するポリマm:
(比較化合物No、1) (特開昭53−133429号公報に記載の方法により
合成した。)を用いて塗布液をFA製し、平版印刷版と
して実施例1と同様に操作して、露光、現像を行った。
(比較化合物No、1) (特開昭53−133429号公報に記載の方法により
合成した。)を用いて塗布液をFA製し、平版印刷版と
して実施例1と同様に操作して、露光、現像を行った。
この平版印刷版における必要な露光時間を求めた。結果
を表−1に示した。
を表−1に示した。
比較例2
酸分解化合物として、下記構造単位を有するポリマー:
(比較化合物N0.2) (特開昭53−133429号公報に記載の方法により
合成した。)を用いて塗布液を調製し、平版印刷版とし
て実施例1と同様に操作して、露光、現像を行った。こ
の平版印刷版における必要な露光時間を求めた。結果を
表−1に示した。
(比較化合物N0.2) (特開昭53−133429号公報に記載の方法により
合成した。)を用いて塗布液を調製し、平版印刷版とし
て実施例1と同様に操作して、露光、現像を行った。こ
の平版印刷版における必要な露光時間を求めた。結果を
表−1に示した。
実施例1〜5、比較例1.2の結果をまとめて表−1に
示す。
示す。
表−1
比較例3
特公昭55−22778号公報、実施例3に記載のサン
プルN o、 5に相当する感光液を作成した。
プルN o、 5に相当する感光液を作成した。
すなわち、
四臭化炭素 10gフOフクロ
シノール 5gトリオキシトリメチレ
ン 15gポリビニルブチラール(3重ff
i% テトラヒドロフラン溶液) 150gの溶
液を調製し、実施例1と同様に塗布し、感光性平版印刷
版を得た。
シノール 5gトリオキシトリメチレ
ン 15gポリビニルブチラール(3重ff
i% テトラヒドロフラン溶液) 150gの溶
液を調製し、実施例1と同様に塗布し、感光性平版印刷
版を得た。
得られた感光性平版印刷版を実施例1と同様に操作して
露光、現像を行ったところ十分なレジストが得られなか
った。
露光、現像を行ったところ十分なレジストが得られなか
った。
表−1及び比較例3の結果から、本発明の感光性組成物
による感光性層を有する平版印刷版では、実用上十分な
高感度を有しており、安定した感度が表−1の本発明の
例示化合物の如く良好に得られていることがiする。こ
れに対して、本発明外のポリマー構成の酸分解化合物を
用いて得られる平版印刷版では、十分に高い感度が得ら
れない。
による感光性層を有する平版印刷版では、実用上十分な
高感度を有しており、安定した感度が表−1の本発明の
例示化合物の如く良好に得られていることがiする。こ
れに対して、本発明外のポリマー構成の酸分解化合物を
用いて得られる平版印刷版では、十分に高い感度が得ら
れない。
更に特公昭55−22778@公報記載の組成物では十
分なレジストが得られない。
分なレジストが得られない。
以上、総合して、本発明の感光性組成物を感光性層とす
る平版印刷版は実用に供し得るのに十分な高感度が得ら
れることが明らかである。
る平版印刷版は実用に供し得るのに十分な高感度が得ら
れることが明らかである。
Claims (2)
- (1)実質的に水に不溶でアルカリ性水溶液に可溶であ
る高分子量結合剤、活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物および酸により分解し得る化合物とを含有する
感光性組成物において、前記酸により分解し得る化合物
が下記構造単位を1つ含有することを特徴とする感光性
組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、Xは▲数式、化学式、表等があります▼ある
いは−Hを表わし、Yは▲数式、化学式、表等がありま
す▼を表わす。更にXおよびYはそれぞれ同一でも異な
っていてもよい。) - (2)支持体上に実質的に水に不溶でアルカリ性水溶液
に可溶である高分子量結合剤、活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物および酸により分解し得る化合物と
を含有する感光性組成物から形成される感光性層を有す
る感光性平版印刷版において、前記酸により分解し得る
化合物が下記構造単位を1つ含有することを特徴とする
感光性平版印刷版。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、Xは▲数式、化学式、表等があります▼ある
いは−Hを表わし、Yは▲数式、化学式、表等がありま
す▼を表わす。更にXおよびYはそれぞれ同一でも異な
っていてもよい。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61155481A JP2719909B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61155481A JP2719909B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6310153A true JPS6310153A (ja) | 1988-01-16 |
JP2719909B2 JP2719909B2 (ja) | 1998-02-25 |
Family
ID=15606988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61155481A Expired - Lifetime JP2719909B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2719909B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01106040A (ja) * | 1987-09-13 | 1989-04-24 | Hoechst Ag | ポジ型感放射線性混合物、ポジ型感放射線性記録材料および該記録材料の製造法 |
JPH01106041A (ja) * | 1987-09-13 | 1989-04-24 | Hoechst Ag | ポジ型感放射線混合物、ポジ型感放射線記録材料及びその製法 |
JPH03107160A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Nippon Zeon Co Ltd | レジスト組成物 |
WO2005043247A1 (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-12 | Az Electronic Materials (Japan) K.K. | 厚膜および超厚膜対応化学増幅型感光性樹脂組成物 |
EP1627736A1 (en) | 2004-08-18 | 2006-02-22 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same |
WO2021046043A1 (en) * | 2019-09-04 | 2021-03-11 | Eastman Chemical Company | Branched acetal coalescing aids |
US11312873B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-04-26 | Eastman Chemical Company | Aromatic enol ether paint additives |
US11518899B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-12-06 | Eastman Chemical Company | Aromatic enol ether paint additives |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4889003A (ja) * | 1972-02-09 | 1973-11-21 | ||
JPS51120714A (en) * | 1975-03-27 | 1976-10-22 | Hoechst Ag | Radiation sensitive copy composition and method of recording high energy radiation |
JPS5617345A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-19 | Hoechst Ag | Producing irradiation sensitive mixture and relief picture image |
JPS5699336A (en) * | 1979-12-26 | 1981-08-10 | Du Pont | Photosensitive element |
-
1986
- 1986-07-02 JP JP61155481A patent/JP2719909B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
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US11312873B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-04-26 | Eastman Chemical Company | Aromatic enol ether paint additives |
US11518899B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-12-06 | Eastman Chemical Company | Aromatic enol ether paint additives |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2719909B2 (ja) | 1998-02-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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