JPS6293895A - 薄膜エレクトロルミネセンス素子 - Google Patents
薄膜エレクトロルミネセンス素子Info
- Publication number
- JPS6293895A JPS6293895A JP60232704A JP23270485A JPS6293895A JP S6293895 A JPS6293895 A JP S6293895A JP 60232704 A JP60232704 A JP 60232704A JP 23270485 A JP23270485 A JP 23270485A JP S6293895 A JPS6293895 A JP S6293895A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- emitting layer
- rare earth
- light
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は発光層に電界を印加すること(こより発光を呈
する薄膜エレクトロルミネセンス素子に関する。
する薄膜エレクトロルミネセンス素子に関する。
代表的な薄膜エレクトロルミネセンス素子(以下薄膜E
L素子と略記する)である二重絶縁型EL素子の基本的
断面構造を第1図に示す。図において、カラス等の基板
lの上にiTO等の透明電極2、第1絶縁/1113.
発光層4.第2絶縁層5.背面電極6が順次積層されて
いる。各層(JX窒蒸着法、スパッタ法、MBE法、プ
ラズマあるいは光CVD法、有機金属CVI)法、イオ
ンブレーティング法あるいは原子層エピタキシャル法等
により作製される。
L素子と略記する)である二重絶縁型EL素子の基本的
断面構造を第1図に示す。図において、カラス等の基板
lの上にiTO等の透明電極2、第1絶縁/1113.
発光層4.第2絶縁層5.背面電極6が順次積層されて
いる。各層(JX窒蒸着法、スパッタ法、MBE法、プ
ラズマあるいは光CVD法、有機金属CVI)法、イオ
ンブレーティング法あるいは原子層エピタキシャル法等
により作製される。
発光層4はZnS、Zone、CaS等の化合物薄膜か
らなり、適当な発光中心を添加することにより発光中心
固有の電界発光が生じる。
らなり、適当な発光中心を添加することにより発光中心
固有の電界発光が生じる。
発光中心として例えばM口を添加した場合は黄橙色T
b F、を添加した場合は緑色の電界発光を得ることが
できる。
b F、を添加した場合は緑色の電界発光を得ることが
できる。
(発明が解決しようとする問題点)
このような薄膜EL素子において、実用的な輝度が得ら
れているものは黄橙色のZnS:MnEL素子のみであ
る。’]、” b F、 、 S m F、等の希土類
フッ化物を発光中心とする薄膜EL素子はZIIS:M
IIEL素子の数分の1以下の輝度しか得られていない
。このように黄橙色以外で低い輝度しか得られない要因
の1つとして、希土類フッ化物添加量の増加とともに、
発光層母体であるZnS等の結晶粒径が低下し、発光中
心を衝突励起するに充分なホットエレクトロンが減少す
ることがあげられる。ZIIS等の結晶粒径が低下する
のは、希土類フッ化物のように大きな分子が母体格子中
に混入しζこくいことに原因がある。しかし全極希土類
元素あるいはフッ化物以外の希土類化合物を用いて、母
体の結晶性を低下させずに発光中心を添加することも試
みられたが、かえって輝度低下をまねいた。(例えばジ
ャパンディスプレイ83’P3.8)したがって、従来
は、Zrl5等の発光層母体に、スパッタ法や共蒸着法
により、できるだけ均一に’ll’bF5等の希土類フ
ッ化物発光中心を添加させることにより、輝度を向上さ
せる努力がされてきたが、上述の問題点のために、充分
な輝度を得るlこ至りでいない。
れているものは黄橙色のZnS:MnEL素子のみであ
る。’]、” b F、 、 S m F、等の希土類
フッ化物を発光中心とする薄膜EL素子はZIIS:M
IIEL素子の数分の1以下の輝度しか得られていない
。このように黄橙色以外で低い輝度しか得られない要因
の1つとして、希土類フッ化物添加量の増加とともに、
発光層母体であるZnS等の結晶粒径が低下し、発光中
心を衝突励起するに充分なホットエレクトロンが減少す
ることがあげられる。ZIIS等の結晶粒径が低下する
のは、希土類フッ化物のように大きな分子が母体格子中
に混入しζこくいことに原因がある。しかし全極希土類
元素あるいはフッ化物以外の希土類化合物を用いて、母
体の結晶性を低下させずに発光中心を添加することも試
みられたが、かえって輝度低下をまねいた。(例えばジ
ャパンディスプレイ83’P3.8)したがって、従来
は、Zrl5等の発光層母体に、スパッタ法や共蒸着法
により、できるだけ均一に’ll’bF5等の希土類フ
ッ化物発光中心を添加させることにより、輝度を向上さ
せる努力がされてきたが、上述の問題点のために、充分
な輝度を得るlこ至りでいない。
本発明はこの問題点を解決した薄膜EL素子を提供する
ことにある。
ことにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明イこよれば少なくとも一方が透明電極で構成され
た一対の電極間(こ発光層と1層以上の絶縁層で挟持し
た構造をもつ薄膜エレクトロルミネセンス素子において
、Z n F2の発光層母体に希土類元素または希土類
化合物を、添加した前記発光層を有するこ吉を特徴とし
た前記薄膜エレクトロルミネセンス素子が得られる。
た一対の電極間(こ発光層と1層以上の絶縁層で挟持し
た構造をもつ薄膜エレクトロルミネセンス素子において
、Z n F2の発光層母体に希土類元素または希土類
化合物を、添加した前記発光層を有するこ吉を特徴とし
た前記薄膜エレクトロルミネセンス素子が得られる。
(作 用)
従来の従術においては、Zl″ISの母体にTbF、等
の希土類フッ化物を添加して高輝度化が試みられてきた
が、前述したように、0発光中心添加量の増加ととも(
こ母体の結晶性低下を防止することが困難である。■希
土類はフッ化物の形で添加しないと輝度が低下する等が
知られている希土類フッ化物を用いた場合に最も痛い輝
度を得るが、その原因については不明である。しかし、
発光層母体格子にとりこみやすい形で、かつ希土類イオ
ンのまわりにフッ素イオンが存在すれば、上記■、■の
問題点が解決され、この結果従来より高輝度な薄1[E
L素子実現が期待される。
の希土類フッ化物を添加して高輝度化が試みられてきた
が、前述したように、0発光中心添加量の増加ととも(
こ母体の結晶性低下を防止することが困難である。■希
土類はフッ化物の形で添加しないと輝度が低下する等が
知られている希土類フッ化物を用いた場合に最も痛い輝
度を得るが、その原因については不明である。しかし、
発光層母体格子にとりこみやすい形で、かつ希土類イオ
ンのまわりにフッ素イオンが存在すれば、上記■、■の
問題点が解決され、この結果従来より高輝度な薄1[E
L素子実現が期待される。
Zn F2を発光層母体とし、希土類金属を添加してな
る薄1[EL素子は、高い発光中心添加量まで良質な7
. n k’を発光層であり、更ζこ高輝度な発光を示
した。高輝度化が可能となった原因については上述のよ
うな形で発光中心が格子中に添加されたためと考えられ
る。
る薄1[EL素子は、高い発光中心添加量まで良質な7
. n k’を発光層であり、更ζこ高輝度な発光を示
した。高輝度化が可能となった原因については上述のよ
うな形で発光中心が格子中に添加されたためと考えられ
る。
一方、ZnF2は1.5程度の屈折率であり、絶縁層お
よびガラス等の基板の屈折率とほぼ同じ屈折率である。
よびガラス等の基板の屈折率とほぼ同じ屈折率である。
このために発光層で生じた発光を外部へ取り出す効率が
増加し、輝度向上1こ寄与していると考えられる。
増加し、輝度向上1こ寄与していると考えられる。
この発明の要旨とするところは、母体にZnB’。
を用い、これに希土類元素を発光中心として添加した発
光層をもつ薄膜EL素子である。希土類元素はCe、P
r、Nd、Pm、SmJu、Qd、Tb、Dy。
光層をもつ薄膜EL素子である。希土類元素はCe、P
r、Nd、Pm、SmJu、Qd、Tb、Dy。
Ho、Er、Tm、Yb等を用いることができる。
以下に、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。本
発明の薄1)%EL素子の構造自体は前述の第1図で示
した構造と同じである。従って構造については第1図を
用いて説明する。本実例の薄膜EL素子においては発光
層4を、共蒸着法で作製したZnF、:TbあるいはZ
nF、 :Tbl!’、膜にライて述べる。
発明の薄1)%EL素子の構造自体は前述の第1図で示
した構造と同じである。従って構造については第1図を
用いて説明する。本実例の薄膜EL素子においては発光
層4を、共蒸着法で作製したZnF、:TbあるいはZ
nF、 :Tbl!’、膜にライて述べる。
製造工程を詳述する。ガラス等の透光性基板1上にIT
O等の透明電極2を200OA形成する。この上にマグ
ネトロンスパッタ装置によってTa、0゜とsio、を
混合・焼結したターゲットを用いて約0.4ミクロンの
厚みのに1絶縁層3を形成する。
O等の透明電極2を200OA形成する。この上にマグ
ネトロンスパッタ装置によってTa、0゜とsio、を
混合・焼結したターゲットを用いて約0.4ミクロンの
厚みのに1絶縁層3を形成する。
続いて発光層4を基板温度200℃、真空度10−5’
for r台で高純度znFtと金属’l’ bあるい
はTbI;”。
for r台で高純度znFtと金属’l’ bあるい
はTbI;”。
を別々のルツボよりそれぞれ抵抗加熱および電子ビーム
加熱で蒸着し、4000A程度形成する。蒸着速度は約
zooA/分である。その後5501w600t;10
−”l’orr前後で2時間熱処理する。ひきつづきY
、03を50OAおよびTa−8i−0を4000Aマ
グネトロンスパツタ装置で形成し、第2絶縁/C5を完
成させる。最後にAz裏面電極6を真空蒸着法で300
OA形成し、薄膜EL素子を得る。
加熱で蒸着し、4000A程度形成する。蒸着速度は約
zooA/分である。その後5501w600t;10
−”l’orr前後で2時間熱処理する。ひきつづきY
、03を50OAおよびTa−8i−0を4000Aマ
グネトロンスパツタ装置で形成し、第2絶縁/C5を完
成させる。最後にAz裏面電極6を真空蒸着法で300
OA形成し、薄膜EL素子を得る。
このようにして作製された二重絶縁型薄19EL素子に
交流パルス電圧を印加すると鮮やかな緑色発光を示し、
従来より高い輝度を示した。充分な防湿対策を施こせば
、数千時間安定な動作を示した。一方本実施例では真空
蒸着法で作製したが、スパッタ法で作製しても良い。Z
nF、とTb等の金属粉末あるいはT b F、粉末を
混合し焼結ターゲットを用いる。スパッタガスに八「等
の不活性ガスを用いたり、微量のフッ化イオウガスある
いは硫化水素等を混合したガスを用いても良好な結果を
得ている。またSmあるいはSmF”、を発光中心とし
てZ n F2に添加すれば、赤色の発光を得ることが
できる。
交流パルス電圧を印加すると鮮やかな緑色発光を示し、
従来より高い輝度を示した。充分な防湿対策を施こせば
、数千時間安定な動作を示した。一方本実施例では真空
蒸着法で作製したが、スパッタ法で作製しても良い。Z
nF、とTb等の金属粉末あるいはT b F、粉末を
混合し焼結ターゲットを用いる。スパッタガスに八「等
の不活性ガスを用いたり、微量のフッ化イオウガスある
いは硫化水素等を混合したガスを用いても良好な結果を
得ている。またSmあるいはSmF”、を発光中心とし
てZ n F2に添加すれば、赤色の発光を得ることが
できる。
(発明の効果)
このように、本発明による薄膜E L素子の発光特性は
改善されていることがわかる。
改善されていることがわかる。
この発明はZnF、発光層母体に希土類発光中心を添加
して薄膜EL素子を構成することを特徴としているが、
この結果、次のような効果が得られた。
して薄膜EL素子を構成することを特徴としているが、
この結果、次のような効果が得られた。
(1)高濃度発光中心でも良質な発光層が実現でき発光
層内部の発光効率を向上されている。
層内部の発光効率を向上されている。
(2)屈折率が基板や絶縁層と同程度(ごできたため発
光層で生じた発光を有効に外部(ことりだすことが可能
となった。
光層で生じた発光を有効に外部(ことりだすことが可能
となった。
輝度の向上により、ポータプルな多色発光薄膜ディスプ
レイが多方面に応用されることが期待される。
レイが多方面に応用されることが期待される。
第1図は薄9EL素子の断面図である。
1、・・−・・ガラス基板 2.・・・・・・透明
電極3、・・−・・第1絶縁層 4.・・・・・・
発光層5、・・〜・・第2絶縁層 6.・・〜・・
背面電極7、・・・・・・パルス電源
電極3、・・−・・第1絶縁層 4.・・・・・・
発光層5、・・〜・・第2絶縁層 6.・・〜・・
背面電極7、・・・・・・パルス電源
Claims (1)
- 少なくとも一方が透明電極で構成された一対の電極間
に発光層と1層以上の絶縁層で挾持した構造をもつ薄膜
エレクトロルミネセンス素子において、ZnF_2の発
光層母体に希土類元素または希土類化合物を添加した前
記発光層を有することを特徴とした前記薄膜エレクトロ
ルミネセンス素子
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60232704A JPS6293895A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 薄膜エレクトロルミネセンス素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60232704A JPS6293895A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 薄膜エレクトロルミネセンス素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6293895A true JPS6293895A (ja) | 1987-04-30 |
Family
ID=16943467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60232704A Pending JPS6293895A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 薄膜エレクトロルミネセンス素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6293895A (ja) |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP60232704A patent/JPS6293895A/ja active Pending
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