JPS6278556A - ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法及び水洗代替安定液 - Google Patents
ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法及び水洗代替安定液Info
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- JPS6278556A JPS6278556A JP21891985A JP21891985A JPS6278556A JP S6278556 A JPS6278556 A JP S6278556A JP 21891985 A JP21891985 A JP 21891985A JP 21891985 A JP21891985 A JP 21891985A JP S6278556 A JPS6278556 A JP S6278556A
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- JP
- Japan
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- group
- washing
- processing
- silver halide
- stabilizer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/3046—Processing baths not provided for elsewhere, e.g. final or intermediate washings
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法及
び該処理方法に用いるのに適切な水洗代替安定液に関し
、更に詳しくは水洗処理工程を省略した上て、高温高湿
下での光に対する保存安定性が優れ、かつ未露光部にス
ティンの発生か少ない新規なハロゲン化銀カラー写真感
光材料の処理方法及び水洗代替安定液に関する。
び該処理方法に用いるのに適切な水洗代替安定液に関し
、更に詳しくは水洗処理工程を省略した上て、高温高湿
下での光に対する保存安定性が優れ、かつ未露光部にス
ティンの発生か少ない新規なハロゲン化銀カラー写真感
光材料の処理方法及び水洗代替安定液に関する。
[従来技術]
一般にハロゲン化銀写真感光材料は露光後、現像−漂白
定着−水洗あるいは現像−漂白一水洗一定石一水洗一安
定という工程で処理されるが、このような処理に関して
は近年環境保全の聞届、又は水資源の問題が重要視され
てきている。このため大量に使用される水洗水を減少す
る方法か提案されており1例えば水洗槽を多段構成して
水を逆流させることにより水洗水を少量にする技術とし
て、***特許第2.920,222号明細書及び技術文
献としてのニス ・アール・ゴールトワッサー(S、R,Goldwas
scr) 。
定着−水洗あるいは現像−漂白一水洗一定石一水洗一安
定という工程で処理されるが、このような処理に関して
は近年環境保全の聞届、又は水資源の問題が重要視され
てきている。このため大量に使用される水洗水を減少す
る方法か提案されており1例えば水洗槽を多段構成して
水を逆流させることにより水洗水を少量にする技術とし
て、***特許第2.920,222号明細書及び技術文
献としてのニス ・アール・ゴールトワッサー(S、R,Goldwas
scr) 。
「ウォーター・フロー・レイト・インマージョン・つオ
ツシング・オブ・モーションピクチャー・フィルム ”
Water Flow Rate in IIIIae
rsion−Washingof MoLionpic
ture Fi1m″Jour、SMPTE、64.2
48〜253.May(1955) Jが知られている
。更に水洗工程を省略し実質的に水洗を行わずに安定化
処理する方法か特開昭57−8543号、同58−14
834号、同58−134636号公Wi等に記載され
ている。
ツシング・オブ・モーションピクチャー・フィルム ”
Water Flow Rate in IIIIae
rsion−Washingof MoLionpic
ture Fi1m″Jour、SMPTE、64.2
48〜253.May(1955) Jが知られている
。更に水洗工程を省略し実質的に水洗を行わずに安定化
処理する方法か特開昭57−8543号、同58−14
834号、同58−134636号公Wi等に記載され
ている。
しかしながら、いずれの場合も水洗水の補充量を減少さ
せ、低公害化を計る技術であるけれども、写真画像の経
時保存性は極めて不充分てあり、特に高温高湿下での光
による色素の褪色か大きいという問題を有している。ま
た、水洗代替安定液による処理条件(処理層中の攪拌条
件や温度条件等)の変動によっては、前記問題が生じや
すいことか判った。
せ、低公害化を計る技術であるけれども、写真画像の経
時保存性は極めて不充分てあり、特に高温高湿下での光
による色素の褪色か大きいという問題を有している。ま
た、水洗代替安定液による処理条件(処理層中の攪拌条
件や温度条件等)の変動によっては、前記問題が生じや
すいことか判った。
また近年ミニラボは急増しており、日本国内に設置され
たミニラボの数は1985年5月現在て約:l、000
といわれており、このうち少なくとも3分の1は、ここ
−年間で設置されたものといわれている。まさに空前の
ミニラボブームである。そしてこのミニラボの大半はコ
ンパクト性と無配管という簡便性の故に水洗水を用いな
い水洗代替安定液を使用している。しかるに、ミニラボ
は処理量が極めて少ないラボか多く、このようなラボて
処理された際には、蒸発等により安定液が濃縮化され塩
濃度か上昇することによりて、イラジェーション防止色
素や増感色素の感光材料からの溶出による蓄植が極めて
増加し、スティンか発生する欠点か生じることか判った
。
たミニラボの数は1985年5月現在て約:l、000
といわれており、このうち少なくとも3分の1は、ここ
−年間で設置されたものといわれている。まさに空前の
ミニラボブームである。そしてこのミニラボの大半はコ
ンパクト性と無配管という簡便性の故に水洗水を用いな
い水洗代替安定液を使用している。しかるに、ミニラボ
は処理量が極めて少ないラボか多く、このようなラボて
処理された際には、蒸発等により安定液が濃縮化され塩
濃度か上昇することによりて、イラジェーション防止色
素や増感色素の感光材料からの溶出による蓄植が極めて
増加し、スティンか発生する欠点か生じることか判った
。
一方、近時におけるミニラボブームに伴ない各社が多種
多様の自動現像機を開発収光するに至ったか、このよう
な各種型式の自動現像機は処理液の攪拌方式及び攪拌能
力か千差万別てあって、V!I。
多様の自動現像機を開発収光するに至ったか、このよう
な各種型式の自動現像機は処理液の攪拌方式及び攪拌能
力か千差万別てあって、V!I。
押蓋が大き過ぎるきらいかある。このような処理液攪拌
能力差によつて前記スティンの発生についても非常に悪
いラボが生じているのか実情である。中ても、未露光部
においてスティンか目立ちカラーペーパーでは未露光部
が白地であるため僅かのスティンでも重大な欠点となる
し、カラーネガフィルムではプリンターの露光時間に影
響を与えカラーバランスがくずれてしまう欠点となる。
能力差によつて前記スティンの発生についても非常に悪
いラボが生じているのか実情である。中ても、未露光部
においてスティンか目立ちカラーペーパーでは未露光部
が白地であるため僅かのスティンでも重大な欠点となる
し、カラーネガフィルムではプリンターの露光時間に影
響を与えカラーバランスがくずれてしまう欠点となる。
また、このようなスティンの発生は、色素画像を保存し
た場合に特に高温高湿時ての光の照射下での保存耐久性
を悪化させることも判明した。
た場合に特に高温高湿時ての光の照射下での保存耐久性
を悪化させることも判明した。
[発明の目的]
従って本発明の目的は、実質的に水沈水を使わず、エネ
ルギーコスト及び公害負荷の少ない感光材料の処理方法
及び水洗代替安定液を提供することにある。
ルギーコスト及び公害負荷の少ない感光材料の処理方法
及び水洗代替安定液を提供することにある。
また本発明の他の目的は、実質的に水洗水を使うことな
く水洗代替安定液を用いて、連続処理をした場合の色素
画像の保存安定性の劣化、特に高温高湿時の光による保
存安定性の劣化を防止する感光材料の処理方法及び水洗
代替安定液を提供することにある。
く水洗代替安定液を用いて、連続処理をした場合の色素
画像の保存安定性の劣化、特に高温高湿時の光による保
存安定性の劣化を防止する感光材料の処理方法及び水洗
代替安定液を提供することにある。
さらにまた本発明の別なる目的は、水洗代替安定液を用
いて低処理量で非連続的に長期にわたって処理をした場
合に発生する感光材料の未露光部のスティンを防止する
感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供すること
にある。
いて低処理量で非連続的に長期にわたって処理をした場
合に発生する感光材料の未露光部のスティンを防止する
感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供すること
にある。
さらに別なる目的は、感光材料を高速搬送(例えば3
m / ts in以上)処理する場合等における安定
液の泡の発生を抑え、他処理液への泡による混入を防ぎ
、安定液のむだな損失を防ぐ感光材料の処理方法及び水
洗代替安定液を提供することにある。
m / ts in以上)処理する場合等における安定
液の泡の発生を抑え、他処理液への泡による混入を防ぎ
、安定液のむだな損失を防ぐ感光材料の処理方法及び水
洗代替安定液を提供することにある。
さらに別なる目的は、ラボにおける高速搬送(例えば3
m/min以上)処理においても、またどのような条件
下においても画像安定性が優れたカラー画像を安定に得
られる感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供す
ることにある。
m/min以上)処理においても、またどのような条件
下においても画像安定性が優れたカラー画像を安定に得
られる感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供す
ることにある。
さらに別なる目的は、水洗代替安定液の性能を低下させ
ることなく安定液の泡の発生を防止しうる化合物を添加
してなる水洗代替安定液を提供することにある。
ることなく安定液の泡の発生を防止しうる化合物を添加
してなる水洗代替安定液を提供することにある。
[問題を解決するための手段]
上述の目的を達成する本発明に係るハロゲン化銀カラー
写真感光材料の処理方法は、定着能を有する処理液で処
理し、引き続き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代
替安定液で処理するハロゲン化銀カラー写真感光材料の
処理方法において、該ハロゲン化銀カラー写真感光材料
が誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶媒を含有し、
か?該水洗代替安定液の表面張力が20〜60dyne
/ cmであることを特徴とする。
写真感光材料の処理方法は、定着能を有する処理液で処
理し、引き続き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代
替安定液で処理するハロゲン化銀カラー写真感光材料の
処理方法において、該ハロゲン化銀カラー写真感光材料
が誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶媒を含有し、
か?該水洗代替安定液の表面張力が20〜60dyne
/ cmであることを特徴とする。
本発明の好ましい実施態様は前記安定液がコンパウンド
タイプ及び/またはエマルジョンタイプのシリコーンを
含有することであり、これにより、本発明の目的をより
効果的に達成しうることを見い出した。
タイプ及び/またはエマルジョンタイプのシリコーンを
含有することであり、これにより、本発明の目的をより
効果的に達成しうることを見い出した。
更により好ましい実施態様として特に前記ハロゲン化銀
カラー写真感光材料が下記一般式[I]又は[■]で示
される誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶媒を含有
する際に、本発明の効果か、より発揮されるものである
。
カラー写真感光材料が下記一般式[I]又は[■]で示
される誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶媒を含有
する際に、本発明の効果か、より発揮されるものである
。
一般式[I]
式中、 R,及びR2はそれぞれアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基を表す。
ル基又はアリール基を表す。
一般式[II]
式中、R,、R,及びRsはそれぞれアルキル基、アル
ケニル基又はアリール基を表す。
ケニル基又はアリール基を表す。
上述の目的を達成する本発明に係る水洗代替安定液は、
シリコーンを含有することを特徴とする。
シリコーンを含有することを特徴とする。
以下1本発明について更に詳述する。
従来、特定のシリコーン化合物が、例えば特公昭49−
26262号、リサーチディスクロージャー (Res
earch Disclosure) 17431号及
び特開昭59−17551号等に記される様にフィルム
等の水滴むらを防止する目的で水洗代替安定液でない、
定着及び水洗後の最終処理液に添加することが知られて
いるか、本発明は特定の誘電率を有する高沸点有機溶媒
を含有する感光材料を、特定の表面張力を有する水洗代
替安定液で処理するのが特徴である。とりわけ本発明に
おいて定着とか漂白定着等の定着能を有する処理液に引
き続く水洗代替安定液(実質的な水洗工程を経ない)に
シリコーンを添加することにより、より良好に本発明の
効果を奏することができるものであり、この点において
前記水滴むら防止の目的で水洗代替安定液でない水洗後
の単なる従来から知られている安定浴に用いられる最終
処理液に添加する技術とは異なるものである。
26262号、リサーチディスクロージャー (Res
earch Disclosure) 17431号及
び特開昭59−17551号等に記される様にフィルム
等の水滴むらを防止する目的で水洗代替安定液でない、
定着及び水洗後の最終処理液に添加することが知られて
いるか、本発明は特定の誘電率を有する高沸点有機溶媒
を含有する感光材料を、特定の表面張力を有する水洗代
替安定液で処理するのが特徴である。とりわけ本発明に
おいて定着とか漂白定着等の定着能を有する処理液に引
き続く水洗代替安定液(実質的な水洗工程を経ない)に
シリコーンを添加することにより、より良好に本発明の
効果を奏することができるものであり、この点において
前記水滴むら防止の目的で水洗代替安定液でない水洗後
の単なる従来から知られている安定浴に用いられる最終
処理液に添加する技術とは異なるものである。
本発明に係わるシリコーンはオルガノポリシロキサン類
のことて、例えば、化学大辞典、4巻。
のことて、例えば、化学大辞典、4巻。
872ページ(共立出版■、昭和47年9月15日縮刷
版第14刷発行)に記載されているものである。また、
好ましいシリコーンは一般的には特定の界面活性剤やア
ルコール系の溶剤とともに消泡剤として知られているも
のである。
版第14刷発行)に記載されているものである。また、
好ましいシリコーンは一般的には特定の界面活性剤やア
ルコール系の溶剤とともに消泡剤として知られているも
のである。
また1本発明に係わるシリコーンとしては、オイルタイ
プ、溶液タイプ、コンパウンドタイプ、エマルジョンタ
イプが挙げられ、それらの具体的例示化合物としては例
えば以下に示すものか挙げられる。
プ、溶液タイプ、コンパウンドタイプ、エマルジョンタ
イプが挙げられ、それらの具体的例示化合物としては例
えば以下に示すものか挙げられる。
(i)オイルタイプ
・FSアンチフオーム200(ダウコーニング■製)
・L−45(日本ユニカー鞠製)
(if)溶液タイプ
・FS XD−2889(ダウコーニング■製)・FS
XD−2898(n )(iii)コンパ
ウンドタイプ ーFSアンチフオームDB−100(ダウコーニング■
製) ・FSアンチフオーム544 (II )・
FSアンチフオーム001 (I) )・FS
アンチフオーム026A (n )・5AG
−47(日本ユニカー−製) ・5AG−100(71) ・5AG−471()I) ・5AG−3:100()I) −FZ−328(II )−FZ
−334(II) ・FZ−5604(rt )・FZ−56
0:1(rt) (iv)エマルジョンタイプ ・FSアンチフオーム 545 (ダウコーニンク■製
) ・FSアンチフオーム01:lB ()I )・
FSアンチフオームAFE (n )・FSア
ンチフオーム DB−31Ct+ )・FSアン
チフオームDB−LION n )・FS
アンチフオーム025()l )・FSアンチフオ
ーム009 (I) )・FSアンチフオーム
CE (ツノ )・FSアンチフオーム B
E 、(ツノ )・FZ−336(日本ユニ
カー麹製) ・FZ−5205(11) ・5AG−30(H) ・5AG−10(j)) ・5AG−:l:110(r)) ・5AG−:1390−(t)) ・5AG−339:1(t)) ・5AG−3:195 (n
)・ユニサット (l) )−FZ
−340(Jj ) ・アンチホームE−20(花王石蝕■製)・FSアンチ
フオーム90(ダウコーニング■’m>これらシリコー
ンの中でも“、とりわけコンパウンドタイプ及びエマル
ジョンタイプのものか、本発明の効果の点て好ましく用
いられる。また特に、本発明においては安定性の点から
エマルジョンタイプのものか、とりわけ特に好ましく用
いられる。
XD−2898(n )(iii)コンパ
ウンドタイプ ーFSアンチフオームDB−100(ダウコーニング■
製) ・FSアンチフオーム544 (II )・
FSアンチフオーム001 (I) )・FS
アンチフオーム026A (n )・5AG
−47(日本ユニカー−製) ・5AG−100(71) ・5AG−471()I) ・5AG−3:100()I) −FZ−328(II )−FZ
−334(II) ・FZ−5604(rt )・FZ−56
0:1(rt) (iv)エマルジョンタイプ ・FSアンチフオーム 545 (ダウコーニンク■製
) ・FSアンチフオーム01:lB ()I )・
FSアンチフオームAFE (n )・FSア
ンチフオーム DB−31Ct+ )・FSアン
チフオームDB−LION n )・FS
アンチフオーム025()l )・FSアンチフオ
ーム009 (I) )・FSアンチフオーム
CE (ツノ )・FSアンチフオーム B
E 、(ツノ )・FZ−336(日本ユニ
カー麹製) ・FZ−5205(11) ・5AG−30(H) ・5AG−10(j)) ・5AG−:l:110(r)) ・5AG−:1390−(t)) ・5AG−339:1(t)) ・5AG−3:195 (n
)・ユニサット (l) )−FZ
−340(Jj ) ・アンチホームE−20(花王石蝕■製)・FSアンチ
フオーム90(ダウコーニング■’m>これらシリコー
ンの中でも“、とりわけコンパウンドタイプ及びエマル
ジョンタイプのものか、本発明の効果の点て好ましく用
いられる。また特に、本発明においては安定性の点から
エマルジョンタイプのものか、とりわけ特に好ましく用
いられる。
本発明のシリコーンはシリコーン純分として水洗代替安
定液11あたり 1mg〜Igの範囲て用いられること
が好ましく、より好ましくは3n+g〜200Bの範囲
で用いられる。 Igをこえると感光材料の表面に汚
れか生じる傾向かみられll1gを下まわると本発明の
効果か小さくなる。
定液11あたり 1mg〜Igの範囲て用いられること
が好ましく、より好ましくは3n+g〜200Bの範囲
で用いられる。 Igをこえると感光材料の表面に汚
れか生じる傾向かみられll1gを下まわると本発明の
効果か小さくなる。
本発明のシリコーンの安定液への添加方法としては、シ
リコーンの原液又は稀釈したものを連続的又は必要に応
して点滴する方法、スプレー等により吹きつける方法、
補充液又は感光材料に添加しておき添加する方法、定着
能を有する浴(前浴)に添加し感光材料に付着させて持
ち込ませる方法、水洗代替安定槽壁面に塗布し、微量づ
つ溶出させて添加する方法等が挙げられる。
リコーンの原液又は稀釈したものを連続的又は必要に応
して点滴する方法、スプレー等により吹きつける方法、
補充液又は感光材料に添加しておき添加する方法、定着
能を有する浴(前浴)に添加し感光材料に付着させて持
ち込ませる方法、水洗代替安定槽壁面に塗布し、微量づ
つ溶出させて添加する方法等が挙げられる。
本発明の処理に用いられる水洗代替安定液の表面張力は
、20〜60dyne/ cmとするが、該水洗代替安
定液の表面張力は、「界面活性剤の分析と試験法」(北
原文雄、早野茂夫、原一部共著、1982年3月1日発
行、鞠講談社発行)等に記載されである一般的な測定方
法で測定され、本発明ては20°Cにおける通常の測定
方法による表面張力の値である。
、20〜60dyne/ cmとするが、該水洗代替安
定液の表面張力は、「界面活性剤の分析と試験法」(北
原文雄、早野茂夫、原一部共著、1982年3月1日発
行、鞠講談社発行)等に記載されである一般的な測定方
法で測定され、本発明ては20°Cにおける通常の測定
方法による表面張力の値である。
本発明の水洗代替安定液の表面張力を20〜60dyn
e/ cm (20°C)にする方法は任意であり2い
かなるものを用いてもよいが、界面活性剤が好ましく用
いられる。これらの水洗代替安定液の表面張力を20〜
50dyne/ cmにする界面活性剤は、補充液より
タンク液に添加されてもよいし、あるいは前浴より感光
材料に付着させて添加させてもよい。
e/ cm (20°C)にする方法は任意であり2い
かなるものを用いてもよいが、界面活性剤が好ましく用
いられる。これらの水洗代替安定液の表面張力を20〜
50dyne/ cmにする界面活性剤は、補充液より
タンク液に添加されてもよいし、あるいは前浴より感光
材料に付着させて添加させてもよい。
さらに、該界面活性剤を感光材料中に含有させて本発明
の水洗代替安定液に溶出添加させてもよい。
の水洗代替安定液に溶出添加させてもよい。
本発明の界面活性剤の中でも、とりわけ本発明の目的の
効果に対する点から下記一般式[III]〜[VT]で
示される化合物が好ましく用いられる。
効果に対する点から下記一般式[III]〜[VT]で
示される化合物が好ましく用いられる。
一般式[ml
R+i (:ll COA+Ra
RアーCH−COOR9
式中Ra及びR7のうち一方は水素原子、他方は式−3
O,M (Mは水素原子又は−価の陽イオンを表わす。
O,M (Mは水素原子又は−価の陽イオンを表わす。
)で表わされる基を表わす、A、は酸素原子又は式−N
R+o (Rhoは水素原子又は炭素原子数1〜8の
アルキル基を表わす、)で表わされる基を表わす。R8
及びR9は、それぞれ炭素原子数4〜16のアルキル基
を表わす、但し、 Ra、 R9又はRIGで表わされ
るアルキル基はフッ素原子によって置換されていてもよ
い。
R+o (Rhoは水素原子又は炭素原子数1〜8の
アルキル基を表わす、)で表わされる基を表わす。R8
及びR9は、それぞれ炭素原子数4〜16のアルキル基
を表わす、但し、 Ra、 R9又はRIGで表わされ
るアルキル基はフッ素原子によって置換されていてもよ
い。
一般式[ff]
八z −0−(B)@−L
式中、A2は一価の有機基、例えば炭素原子数が6〜2
0.好ましくは6〜12のアルキル基(例えば、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
又はドデシル等の各基)1.又は炭素原子数が3〜20
のアルキル基で置換されたアリール基であり、置換基と
して好ましくは炭素原子数が3〜12のアルキル基(例
えば、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシ
ル等の各基)が挙げられ、アリール基としてはフェニル
、トリル、キシニル、ビフェニル又はナフチル等の各基
が挙げられ、好ましくはフェニル基又はトリル基である
。アリール基にアルキル基が結合する位置としては、オ
ルト、メタ、バラ位のいずれでもよい、Bはエチレンオ
キシド又はプロピレンオキサイドを表わし、 lは4〜
50の整数な表わす。xlは水素原子、 5o3y又は
PO,Y、を示し、 Yは水素原子、アルカリ金属原子
(Na、K又はLi等)又はアンモニウムイオンを表わ
す。
0.好ましくは6〜12のアルキル基(例えば、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
又はドデシル等の各基)1.又は炭素原子数が3〜20
のアルキル基で置換されたアリール基であり、置換基と
して好ましくは炭素原子数が3〜12のアルキル基(例
えば、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシ
ル等の各基)が挙げられ、アリール基としてはフェニル
、トリル、キシニル、ビフェニル又はナフチル等の各基
が挙げられ、好ましくはフェニル基又はトリル基である
。アリール基にアルキル基が結合する位置としては、オ
ルト、メタ、バラ位のいずれでもよい、Bはエチレンオ
キシド又はプロピレンオキサイドを表わし、 lは4〜
50の整数な表わす。xlは水素原子、 5o3y又は
PO,Y、を示し、 Yは水素原子、アルカリ金属原子
(Na、K又はLi等)又はアンモニウムイオンを表わ
す。
一般式[V]
式中 、 R111R12,8rs及びRI4はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基、フェニル基を示すが。
ぞれ水素原子、アルキル基、フェニル基を示すが。
1111、 l(+4、 RI3及びR14の炭素原
子数の合計が3〜50である。X、Qはハロゲン原子、
水酸基、硫酸基、炭酸基、硝酸基、酢酸基、p−トルエ
ンスルホン酸基等のアニオンを示す。
子数の合計が3〜50である。X、Qはハロゲン原子、
水酸基、硫酸基、炭酸基、硝酸基、酢酸基、p−トルエ
ンスルホン酸基等のアニオンを示す。
一般式[VI]
式中、 R15+ ”lli 、R1? を及びR16
はそれぞれ水素原子又はアルキル基を表わし、Mは一般
式[III]と同義である。n及びpはそれぞれ0又は
1〜4の整数を示し、 l≦nap≦8を満足する値で
ある。
はそれぞれ水素原子又はアルキル基を表わし、Mは一般
式[III]と同義である。n及びpはそれぞれ0又は
1〜4の整数を示し、 l≦nap≦8を満足する値で
ある。
以下に、一般式[ml−[VI]で表わされる化合物の
代表的具体例を挙げる。
代表的具体例を挙げる。
以下余白
(一般式〔■〕で表わされる化合物)
SO3Na
(閃 02Hs
(沁 0H20000H2+OF 20F z ) s
HcHOooOH2+0F20F2) 3HSo、Na (xi aH2coooap1゜ 菰 0HCOOO8F。
HcHOooOH2+0F20F2) 3HSo、Na (xi aH2coooap1゜ 菰 0HCOOO8F。
So、NIL
(一般式〔■ワつで表わされる化合物)(+1 0.H
,、O(O□H40)1oH(II) O,H1□0
(OsHaO) HsH(lul OgHHO(02
H40) 4SO3Nm(IV) 016H210(
02H40) 16P03Na23H7 9H19 (一般式(V)で表わされる化合物) OH3 0H。
,、O(O□H40)1oH(II) O,H1□0
(OsHaO) HsH(lul OgHHO(02
H40) 4SO3Nm(IV) 016H210(
02H40) 16P03Na23H7 9H19 (一般式(V)で表わされる化合物) OH3 0H。
2H5
2H5
OH3
OH8
OH。
0H1
OH8
(OH,OH,0)2H
(一般式〔■〕で表わされる化合物)
03Na
So 、H
8o、K
(×)
O3Na
本発明の目的の効果は前記界面活性剤等を用いて安定液
の表面張力を20〜60dyne/aIIにコントロー
ルする際に得られるが、特に表面張力か25〜50dy
ne/cmの際にとりわけ本発明の目的の効果に対し良
好な結果を与える。
の表面張力を20〜60dyne/aIIにコントロー
ルする際に得られるが、特に表面張力か25〜50dy
ne/cmの際にとりわけ本発明の目的の効果に対し良
好な結果を与える。
また、本発明においては、前記本発明の水洗代替安定液
で処理した後、通常は乾燥を行うか、リンスや、ホルマ
リンや界面活性剤等を含む清沙液で処理するのは任意で
ある。
で処理した後、通常は乾燥を行うか、リンスや、ホルマ
リンや界面活性剤等を含む清沙液で処理するのは任意で
ある。
次に本発明の処理方法が適用される処理工程の例を示す
、なお、安定液をS、定着能を有する液を(F)と、記
号表示する。
、なお、安定液をS、定着能を有する液を(F)と、記
号表示する。
(イ)発色現像→漂白→定石(F)→S→乾燥(ロ)発
色現像→漂白→リンス→定着(F)→S→清浄→乾燥 (ハ)発色現像→漂白→定着(F)→S→清浄→乾燥 (ニ)発色現像→漂白定着(F)→S→乾燥(ホ)発色
現像→漂白定着(F)→S→清浄→乾燥 (へ)−浴発色現像漂白定M (F)→S→乾燥(ト)
現像→リンス→反転→発色現像→調整→漂白→定着CF
)→S→清浄→乾燥 本発明の処理方法が上記例に限られないことは持ち論で
あるが、とりわけ前記(ロ)、(ハ)、(ホ)及び(ト
)が本発明では特に好ましく用いられる。
色現像→漂白→リンス→定着(F)→S→清浄→乾燥 (ハ)発色現像→漂白→定着(F)→S→清浄→乾燥 (ニ)発色現像→漂白定着(F)→S→乾燥(ホ)発色
現像→漂白定着(F)→S→清浄→乾燥 (へ)−浴発色現像漂白定M (F)→S→乾燥(ト)
現像→リンス→反転→発色現像→調整→漂白→定着CF
)→S→清浄→乾燥 本発明の処理方法が上記例に限られないことは持ち論で
あるが、とりわけ前記(ロ)、(ハ)、(ホ)及び(ト
)が本発明では特に好ましく用いられる。
本発明の処理方法は連続処理(処理による液疲労を補充
液を加えることにより処理性能を一定に維持させなから
J!l統的に処理する方法)に適用するのが効果が大き
い、連続処理には通常自動現像機が使用され、自動現像
機としてはハンガータイプ、ロールタイプ、シートタイ
プ、シネタイプ等が含まれ、本発明は特に自動現現像を
用いる連続処理に好ましく適用することかできる。また
、自動現像機の場合、定着部を有する液及び安定化処理
の各検量に感光材料に付着して持ち出される液の量を絞
るためスクイズや、ブレート等を設けるのが望ましい。
液を加えることにより処理性能を一定に維持させなから
J!l統的に処理する方法)に適用するのが効果が大き
い、連続処理には通常自動現像機が使用され、自動現像
機としてはハンガータイプ、ロールタイプ、シートタイ
プ、シネタイプ等が含まれ、本発明は特に自動現現像を
用いる連続処理に好ましく適用することかできる。また
、自動現像機の場合、定着部を有する液及び安定化処理
の各検量に感光材料に付着して持ち出される液の量を絞
るためスクイズや、ブレート等を設けるのが望ましい。
本発明は更に前記水洗代替安定液がpH3〜9.5であ
り、かつ防パイ性を付与された処理液であることによっ
て1本発明の目的の効果をより良好に奏し、かつ感光材
料表面の乾燥後の汚れもよくなるという別なる効果もあ
るためより好ましい実施形態となる。
り、かつ防パイ性を付与された処理液であることによっ
て1本発明の目的の効果をより良好に奏し、かつ感光材
料表面の乾燥後の汚れもよくなるという別なる効果もあ
るためより好ましい実施形態となる。
本発明の定着能を有する写真処理液(定着能を有する液
)とは、感光材料の処理において脱銀を目的とした処理
液のことであり、例えば定着液、漂白定着液、一浴現像
定着液、硬膜定着液、−浴現像漂白定着液等が含まれる
。
)とは、感光材料の処理において脱銀を目的とした処理
液のことであり、例えば定着液、漂白定着液、一浴現像
定着液、硬膜定着液、−浴現像漂白定着液等が含まれる
。
本発明において「定着能を有する処理液て処理し、引続
き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代替安定液て処
理」とは、定着能を有する処理液による処理後直ちに安
定化処理してしまい実質的に水洗処理を行わない安定化
処理のための処理を指し、該安定化処理に用いる処理液
を水洗代替安定液といい、処理槽を水洗代替安定浴(#
e)又は安定浴(槽)という。
き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代替安定液て処
理」とは、定着能を有する処理液による処理後直ちに安
定化処理してしまい実質的に水洗処理を行わない安定化
処理のための処理を指し、該安定化処理に用いる処理液
を水洗代替安定液といい、処理槽を水洗代替安定浴(#
e)又は安定浴(槽)という。
但し、水洗代替安定浴(槽)[該安定浴が2以上の複数
浴(槽)からなる場合は安定化処理最前槽]に持ち込ま
れる定着液又は漂白定着液の該槽における濃度か1/2
000以下にならない程度であれば、単槽または複数槽
向流方式による極〈短時間のリンス処理、補助水洗およ
び水洗促進浴等の処理を行ってもよい。
浴(槽)からなる場合は安定化処理最前槽]に持ち込ま
れる定着液又は漂白定着液の該槽における濃度か1/2
000以下にならない程度であれば、単槽または複数槽
向流方式による極〈短時間のリンス処理、補助水洗およ
び水洗促進浴等の処理を行ってもよい。
上記の如く本発明の水洗代替安定液による処理は定着処
理後、行われるものである。
理後、行われるものである。
本発明において水洗代替安定液に好ましく用いられる化
合物としては鉄イオンに対するキレート安定度定数か6
以上であるキレート剤か挙げられ、これらは本発明の目
的を達成する上て好ましく用いられる。
合物としては鉄イオンに対するキレート安定度定数か6
以上であるキレート剤か挙げられ、これらは本発明の目
的を達成する上て好ましく用いられる。
ここにキレート安定度定数とは、L、G、5illen
・A、E、Martel+著、” 5tability
Con5tantsof Metal−ion Co
ll1plexes” 、 The [:hemica
l 5ociety、London(1964)。S、
Chaberek−A、E、Martel!著、” O
rganicSequestering Agents
”、 Wiley(1959)等により一般に知られた
定数を意味する。
・A、E、Martel+著、” 5tability
Con5tantsof Metal−ion Co
ll1plexes” 、 The [:hemica
l 5ociety、London(1964)。S、
Chaberek−A、E、Martel!著、” O
rganicSequestering Agents
”、 Wiley(1959)等により一般に知られた
定数を意味する。
本発明の水洗代替安定液に好ましく用いられる鉄イオン
に対するキレート安定度定数が6以上であるキレート剤
としては、有機カルボン酸キレート剤、有機リン酸キレ
ート剤、無機リン酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物
等が挙げられる。なお上記鉄イオンとは、第2鉄イオン
(Fe 2 * )を意味する。
に対するキレート安定度定数が6以上であるキレート剤
としては、有機カルボン酸キレート剤、有機リン酸キレ
ート剤、無機リン酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物
等が挙げられる。なお上記鉄イオンとは、第2鉄イオン
(Fe 2 * )を意味する。
第2鉄イオンとのキレート安定度定数か6以上であるキ
レート剤の具体的化合物例としては、下記化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものてはない。即ち、エ
チレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジア
ミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチ
レンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルクリシン、エ
チレンジアミンニ酢酸、エチレンジアミンニプロピオン
酸、イミノニ酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒト
ロキシエチルイミノニ酢酸、ジアミノプ゛ロバノール四
酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、クリコ
ールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラ
キスメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、l−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
酸、 1.1−ジホスホンエタン−2−カルボン酸、
2−ホスホノブタン−1,2,4−)−リカルボン酸、
1−ヒドロキシ−1−ホ龜 スホノプロパン−1,2,3−)リカルボン酸、カテコ
ール−3,5−ジホスホン酸、ビロリン酸ナトリウム、
テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウムが挙げられ、特に好ましくはジエチレントリアミン
五酢酸、ニトリロ三酢酸、1−ヒドロキシエチリデン−
1,1−ジホスホン酸等であり、中でもl−ヒドロキシ
エチリデン−1,1−ジホスホン酸が最も好ましく用い
られる。
レート剤の具体的化合物例としては、下記化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものてはない。即ち、エ
チレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジア
ミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチ
レンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルクリシン、エ
チレンジアミンニ酢酸、エチレンジアミンニプロピオン
酸、イミノニ酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒト
ロキシエチルイミノニ酢酸、ジアミノプ゛ロバノール四
酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、クリコ
ールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラ
キスメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、l−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
酸、 1.1−ジホスホンエタン−2−カルボン酸、
2−ホスホノブタン−1,2,4−)−リカルボン酸、
1−ヒドロキシ−1−ホ龜 スホノプロパン−1,2,3−)リカルボン酸、カテコ
ール−3,5−ジホスホン酸、ビロリン酸ナトリウム、
テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウムが挙げられ、特に好ましくはジエチレントリアミン
五酢酸、ニトリロ三酢酸、1−ヒドロキシエチリデン−
1,1−ジホスホン酸等であり、中でもl−ヒドロキシ
エチリデン−1,1−ジホスホン酸が最も好ましく用い
られる。
上記キレート剤の使用量は水洗代替安定液1fL当り0
.01〜50gが好ましく、より好ましくは0.05〜
20gの範囲である。
.01〜50gが好ましく、より好ましくは0.05〜
20gの範囲である。
本発明の水洗代替安定液の補充量が、単位面積当り前浴
からの持ち込み量の0.5倍より少ない場合は1本発明
の水洗代替安定液中に蓄積する前浴成分が多くなり、写
真色素画像の保存安定性が悪化し、一方、50倍より多
い場合は本発明の目的の効果が小さくなる。このために
、本発明においては、0.5〜50倍の範囲で用いるこ
とが好ましい。
からの持ち込み量の0.5倍より少ない場合は1本発明
の水洗代替安定液中に蓄積する前浴成分が多くなり、写
真色素画像の保存安定性が悪化し、一方、50倍より多
い場合は本発明の目的の効果が小さくなる。このために
、本発明においては、0.5〜50倍の範囲で用いるこ
とが好ましい。
特に2〜30倍の範囲て用いる際には、前記本発明の目
的の効果をとりわけ、良好に奏し得る。特に感光材料1
ml当り 2000tml以下を添加するのが好ましい
。
的の効果をとりわけ、良好に奏し得る。特に感光材料1
ml当り 2000tml以下を添加するのが好ましい
。
本発明の水洗代替安定液の槽は、l槽でもよいが、2〜
IO槽程度まては槽の数を増やすことかでき、かつ槽増
加によって本発明の目的の効果も大゛きくなるため、こ
の範囲内で槽数を増やしてもよい。また、前記水洗代替
安定液に補充する補充液は何ケ所かに分けて補充しても
よいが、好ましくは、なるべく感光材料の処理の流れか
ら見て後の槽へ補充して、そのオーバーフロー(検量を
液面下に位置する管で連通させた場合、鎖管を浴液が通
る場合を含む、)を該槽の前の槽に流入させる型式にす
るのが好ましい。更に好ましくは、2槽以上の水洗代替
安定液て、最後の該安定槽へ水洗代替安定補充液を補充
して、オーバーフローを順次前の槽へ移入し、定着能を
有する液の次の水洗代替安定液からのオーバーフロー液
の一部又は全部は全て廃棄してもよいし、あるいは、該
定着能を有する液を流し込んでもよい。
IO槽程度まては槽の数を増やすことかでき、かつ槽増
加によって本発明の目的の効果も大゛きくなるため、こ
の範囲内で槽数を増やしてもよい。また、前記水洗代替
安定液に補充する補充液は何ケ所かに分けて補充しても
よいが、好ましくは、なるべく感光材料の処理の流れか
ら見て後の槽へ補充して、そのオーバーフロー(検量を
液面下に位置する管で連通させた場合、鎖管を浴液が通
る場合を含む、)を該槽の前の槽に流入させる型式にす
るのが好ましい。更に好ましくは、2槽以上の水洗代替
安定液て、最後の該安定槽へ水洗代替安定補充液を補充
して、オーバーフローを順次前の槽へ移入し、定着能を
有する液の次の水洗代替安定液からのオーバーフロー液
の一部又は全部は全て廃棄してもよいし、あるいは、該
定着能を有する液を流し込んでもよい。
本発明に用いられる水洗代替安定液に防パイ性を付与す
る手段としては、防パイ性を付与する化学的手段及び物
理的手段が挙げられる。
る手段としては、防パイ性を付与する化学的手段及び物
理的手段が挙げられる。
防パイ性を付与する化学的手段の具体例としては1本発
明の水洗代替安定液に防パイ剤を含有させることが挙げ
られる。好ましく用いられる防パイ剤は、ソルビン酸、
安息香酸系化合物、フェノール系化合物、チアゾール系
化合物、とリジン系化合物、グアニジン系化合物、カー
バメイト系化合物、モルホリン系化合物、四級ホスホニ
ウム系化合物、アンモニウム系化合物、尿素系化合物、
イソキサゾール系化合物、プロパツールアミノ系化合物
、スルファミド系化合物、ピロノン系化合物及びアミノ
酸系化合物である。
明の水洗代替安定液に防パイ剤を含有させることが挙げ
られる。好ましく用いられる防パイ剤は、ソルビン酸、
安息香酸系化合物、フェノール系化合物、チアゾール系
化合物、とリジン系化合物、グアニジン系化合物、カー
バメイト系化合物、モルホリン系化合物、四級ホスホニ
ウム系化合物、アンモニウム系化合物、尿素系化合物、
イソキサゾール系化合物、プロパツールアミノ系化合物
、スルファミド系化合物、ピロノン系化合物及びアミノ
酸系化合物である。
前記安息香酸系化合物は、サリチル酸、ヒドロキシ安息
香酸及びヒドロキシ安息香酸のエステル化合物としてメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブ
チルエステル等があるが、好ましくは、ヒドロキシ安息
香酸のn−ブチルエスチル、イソブチルエステル、プロ
ピルエステル及びサリチル酸であり、より好ましくは前
記ヒドロキシ安息香酸エステル3種の混合物である。
香酸及びヒドロキシ安息香酸のエステル化合物としてメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブ
チルエステル等があるが、好ましくは、ヒドロキシ安息
香酸のn−ブチルエスチル、イソブチルエステル、プロ
ピルエステル及びサリチル酸であり、より好ましくは前
記ヒドロキシ安息香酸エステル3種の混合物である。
フェノール系化合物は、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸
基、カルボン酸基、アミノ基、アルキル基(特に、アル
キル基が01〜6のアルキル基)又はフェニル基等を置
換基として持ってもよい化合物であり、好ましくはオル
トフェニルフェノール及びオルトシクロヘキシルフェノ
ール、ニトロフェノール、クロロフェノール、クレゾー
ル、グアヤコール、アミノフェノール、フェノール等で
ある。
基、カルボン酸基、アミノ基、アルキル基(特に、アル
キル基が01〜6のアルキル基)又はフェニル基等を置
換基として持ってもよい化合物であり、好ましくはオル
トフェニルフェノール及びオルトシクロヘキシルフェノ
ール、ニトロフェノール、クロロフェノール、クレゾー
ル、グアヤコール、アミノフェノール、フェノール等で
ある。
チアゾール系化合物は、五員環に窒素原子及びイオウ原
子を持つ化合物であり、好ましくは1,2−ベンツイソ
チアゾリン3−オン、 2−メチル−4−イソチアゾリ
ン3−オン、2−オクチル−4−イソチアゾリン3−オ
ン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアシリ3−ノ
ン、2−クロロ−チアゾリル−ベンツイミダゾールであ
る。
子を持つ化合物であり、好ましくは1,2−ベンツイソ
チアゾリン3−オン、 2−メチル−4−イソチアゾリ
ン3−オン、2−オクチル−4−イソチアゾリン3−オ
ン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアシリ3−ノ
ン、2−クロロ−チアゾリル−ベンツイミダゾールであ
る。
ピリジン系化合物は具体的には、2.6−ツメチルピリ
ジン、2,4.6−)ツメチルピリジン、ソシウムー2
−ピリジンチオール−1−オキサイド等があるが、好ま
しくはラジウム−2−ピリジンチオール−1−オキサイ
ドである。
ジン、2,4.6−)ツメチルピリジン、ソシウムー2
−ピリジンチオール−1−オキサイド等があるが、好ま
しくはラジウム−2−ピリジンチオール−1−オキサイ
ドである。
グアニジン系化合物は具体的には、シクロヘキシジン、
ポリへキサメチレンビグアニジン塩酸塩、ドデシルグア
ニジン塩酸塩等があり、好ましくはドデシルグアニジン
及びその塩である。
ポリへキサメチレンビグアニジン塩酸塩、ドデシルグア
ニジン塩酸塩等があり、好ましくはドデシルグアニジン
及びその塩である。
カーバメイト系化合物は具体的には、メチル−1−(プ
チルカーバモイル)−2−ベンツイミダゾールカーバメ
イト、メチルイミダゾールカーバメイト等がある。
チルカーバモイル)−2−ベンツイミダゾールカーバメ
イト、メチルイミダゾールカーバメイト等がある。
モルホリン系化合物は具体的には、4−(3−ニトロブ
チル)モルホリン、 4−(3−ニトロブチル)モルホ
リン等がある。
チル)モルホリン、 4−(3−ニトロブチル)モルホ
リン等がある。
四級ホスホニウム系化合物は、テトラアルキルホスホニ
ウム塩、テトラアルコキシホスホニウム塩等があるが、
好ましくは、テトラアルキルホスホニウム塩であり、更
に具体的な好ましい化合物はトリーnブチル−テトラデ
シルホスホニウムクロライト及びトリーフェニル・ニト
ロフェニルホスホニウムクロライドである。
ウム塩、テトラアルコキシホスホニウム塩等があるが、
好ましくは、テトラアルキルホスホニウム塩であり、更
に具体的な好ましい化合物はトリーnブチル−テトラデ
シルホスホニウムクロライト及びトリーフェニル・ニト
ロフェニルホスホニウムクロライドである。
四級アンモニウム系化合物は具体的には、ベンザルコニ
ウム塩、ベンゼトニウム塩、テトラアルキルアンモニウ
ム塩、アルキルピリジウム塩等があり、更に具体的には
ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライト、ド
デシルジメチルアンモニウムクロライト、ラウリルピリ
ジニウムクロライド等がある。
ウム塩、ベンゼトニウム塩、テトラアルキルアンモニウ
ム塩、アルキルピリジウム塩等があり、更に具体的には
ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライト、ド
デシルジメチルアンモニウムクロライト、ラウリルピリ
ジニウムクロライド等がある。
尿素系化合物は具体的には、N−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−N”−(4−クロロフェニル)尿素、N−(
3−トリフルオロメチル) −N ”−(4−クロロフ
ェニル)尿素等がある。
ェニル)−N”−(4−クロロフェニル)尿素、N−(
3−トリフルオロメチル) −N ”−(4−クロロフ
ェニル)尿素等がある。
イソキサゾール系化合物は具体的には、3−ヒドロキシ
−5−メチル−イソキサゾール等がある。
−5−メチル−イソキサゾール等がある。
プロパツールアミノ系化合物は、n−プロパツール類と
イソプロパツール類があり、具体的にはDL−2−ベン
ジルアミノ−1−プロパツール、トラエチルアミノ−1
−プロパツール、2−ジメチルアミノ−2−メチル−1
−プロパツール、3−アミノ−1−プロパツール、イド
プロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、N、
N−ジメチル−イソプロパツールアミン等がある。
イソプロパツール類があり、具体的にはDL−2−ベン
ジルアミノ−1−プロパツール、トラエチルアミノ−1
−プロパツール、2−ジメチルアミノ−2−メチル−1
−プロパツール、3−アミノ−1−プロパツール、イド
プロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、N、
N−ジメチル−イソプロパツールアミン等がある。
スルファミド系化合物は具体的には、0−ニトロベンゼ
ンスルファミド、p−アミノベンゼンスルファミド、フ
ッ素化スルファミド、4−クロロ−3,5−ジニトロベ
ンゼンスルファミド、α−アミノ−p−トルエンスルフ
ァミド、スルファニルアミド、アセトスルファグアニジ
ン、スルファチアゾール、スルファジアジン、スルファ
メラジン、スルファメタシン、スルファインオキサゾー
ル、ホモスルファミン、スルファミジン、スルファグア
ニジン、スルファメチゾール、スルファピラジン2フタ
ルイソスルフアチアゾール、スクシニルスルファチアゾ
ール等がある。
ンスルファミド、p−アミノベンゼンスルファミド、フ
ッ素化スルファミド、4−クロロ−3,5−ジニトロベ
ンゼンスルファミド、α−アミノ−p−トルエンスルフ
ァミド、スルファニルアミド、アセトスルファグアニジ
ン、スルファチアゾール、スルファジアジン、スルファ
メラジン、スルファメタシン、スルファインオキサゾー
ル、ホモスルファミン、スルファミジン、スルファグア
ニジン、スルファメチゾール、スルファピラジン2フタ
ルイソスルフアチアゾール、スクシニルスルファチアゾ
ール等がある。
ピロノン系化合物としては具体的には、デヒドロ醇酸等
がある。
がある。
アミノ酸系化合物は具体的には、N−ラウリル−β・−
アラニンがある。
アラニンがある。
なお上記防パイ剤のなかで本発明において好ましく用い
られる化合物はチアゾール系化合物、スルファミド系化
合物、ピロノン系化合物等である。
られる化合物はチアゾール系化合物、スルファミド系化
合物、ピロノン系化合物等である。
水洗代替安定液への防パイ剤の添加量は、水洗代替安定
液IJL当りo、ooi〜30gの範囲て用いられるこ
とが好ましく、より好ましくは0.003g〜5gの範
囲て使用される。
液IJL当りo、ooi〜30gの範囲て用いられるこ
とが好ましく、より好ましくは0.003g〜5gの範
囲て使用される。
一方、物理的手段としては水洗代替安定液に紫外線照射
したり、磁場を通すことによる防ハイ性付与か挙げられ
る。
したり、磁場を通すことによる防ハイ性付与か挙げられ
る。
本発明において水洗代替安定液に磁場を通すとは磁場の
正極と負極の間に発生する磁場に水洗代替安定液を通過
させることであり、感光材料は磁場を通過しても、しな
くてもよい。
正極と負極の間に発生する磁場に水洗代替安定液を通過
させることであり、感光材料は磁場を通過しても、しな
くてもよい。
本発明に用いる磁場は、強磁性体の鉄、コバルト、ニッ
ケルからなる永久磁石等を使用することにより得られ、
又はコイル等に直流を流すことによっても得ることがで
きるが、特に限定されず、磁場を形成しつる全ての手段
を用いることができる。なお、磁場は1個の磁石を用い
て磁力線を形成するようにしてもよいし、2個(正極と
負極)の磁石を対向させて対向磁石間に磁力線を形成す
るようにしてもよい。
ケルからなる永久磁石等を使用することにより得られ、
又はコイル等に直流を流すことによっても得ることがで
きるが、特に限定されず、磁場を形成しつる全ての手段
を用いることができる。なお、磁場は1個の磁石を用い
て磁力線を形成するようにしてもよいし、2個(正極と
負極)の磁石を対向させて対向磁石間に磁力線を形成す
るようにしてもよい。
本発明に用いる水洗代替安定液を磁場に通す方法として
は、磁場を形成する永久磁石等を使用して安定液中及び
/又は液外に設けた永久磁石を移動(回転を含む)させ
るか、又は水洗代替安定液を攪拌又は循環により水洗代
替安定液を移動する等の方法がある。特に望ましい方法
としては、循環系パイプの内部又は外部の一部又は全部
に永久磁石を固定し安定液を循環させる方法である。
は、磁場を形成する永久磁石等を使用して安定液中及び
/又は液外に設けた永久磁石を移動(回転を含む)させ
るか、又は水洗代替安定液を攪拌又は循環により水洗代
替安定液を移動する等の方法がある。特に望ましい方法
としては、循環系パイプの内部又は外部の一部又は全部
に永久磁石を固定し安定液を循環させる方法である。
個々にパイプ全部に永久磁石を固定するとはパイプ自体
が永久磁石であってもよいし、該永久磁石を該パイプ全
部に取付けてもよい。
が永久磁石であってもよいし、該永久磁石を該パイプ全
部に取付けてもよい。
自動現像機の場合には水洗代替安定浴に永久磁石等を設
置することで目的は達成せられるが、前述のように安定
浴の循環系(循環パイプに限らず、途中のタンクその他
の部材を含む。)に設置することが好ましい、また水洗
代替安定化処理工程が多段安定浴の場合、全水洗代替安
定浴の安定液をr磁場に通すことが最も好ましいが、定
M能を有する処理液に最も近い水洗代替安定浴以外の安
定浴の安定液を磁場に通すことも好ましいことである。
置することで目的は達成せられるが、前述のように安定
浴の循環系(循環パイプに限らず、途中のタンクその他
の部材を含む。)に設置することが好ましい、また水洗
代替安定化処理工程が多段安定浴の場合、全水洗代替安
定浴の安定液をr磁場に通すことが最も好ましいが、定
M能を有する処理液に最も近い水洗代替安定浴以外の安
定浴の安定液を磁場に通すことも好ましいことである。
なお、水洗代替安定浴自体、好ましくは水洗代替安定浴
内面に、磁力線を発生可能な素材を含有せしめた樹脂ラ
イニングを施してもよく、このライニングは循環系に施
すこともてきる。このようにして安定液を磁場に通すこ
とかてきる。
内面に、磁力線を発生可能な素材を含有せしめた樹脂ラ
イニングを施してもよく、このライニングは循環系に施
すこともてきる。このようにして安定液を磁場に通すこ
とかてきる。
本発明において水洗代替安定液に紫外線を照射する方法
は、一般に市販されている紫外線ランプ又は紫外線照射
装置等によって行なわれ、好ましくは紫外線ランプの出
力は5〜aoow (管出力)のものか好ましいが、こ
れに限定されるものではない。
は、一般に市販されている紫外線ランプ又は紫外線照射
装置等によって行なわれ、好ましくは紫外線ランプの出
力は5〜aoow (管出力)のものか好ましいが、こ
れに限定されるものではない。
また、本発明の好ましい実施態様によれば紫外線の波長
が220r+a+〜3SOnmの範囲のものである。
が220r+a+〜3SOnmの範囲のものである。
更に、照射方法としては、水洗代替安定液中又は水洗代
替安定液外に設置し直接照射する方法がある。
替安定液外に設置し直接照射する方法がある。
本発明によって処理される感光材料に用いられる有機溶
媒は誘電率3.5以上の化合物であり1例えば誘電$
3.5以上のフタル酸エステル、燐酸エステル等のエス
テル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭化水素化合物等
である。好ましくは誘電率4.0〜8.5の高沸点有機
溶媒である。より好ましくは、該高沸点有機溶媒中の7
タル酸エステル類或いは燐酸エステル類である。なお、
本発明に用いられる有機溶媒は、2種以上の混合物であ
ってもよく、この場合は混合物が誘電率3.5以上であ
ればよい、なお、本発明ての誘電率とは、30℃におけ
る誘電率を示している。
媒は誘電率3.5以上の化合物であり1例えば誘電$
3.5以上のフタル酸エステル、燐酸エステル等のエス
テル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭化水素化合物等
である。好ましくは誘電率4.0〜8.5の高沸点有機
溶媒である。より好ましくは、該高沸点有機溶媒中の7
タル酸エステル類或いは燐酸エステル類である。なお、
本発明に用いられる有機溶媒は、2種以上の混合物であ
ってもよく、この場合は混合物が誘電率3.5以上であ
ればよい、なお、本発明ての誘電率とは、30℃におけ
る誘電率を示している。
本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式[I]で示されるものが挙げられる。
ては、下記一般式[I]で示されるものが挙げられる。
一般式[I]
式中、 R1及びR2はそれぞれアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基を表す、但し、 R,及びR2で表
される基の炭素数の総和は2〜35であることか好まし
く、より好ましくは炭素数の総和が6〜24である。
ル基又はアリール基を表す、但し、 R,及びR2で表
される基の炭素数の総和は2〜35であることか好まし
く、より好ましくは炭素数の総和が6〜24である。
本発明において、前記一般式[NのRo及びR1で表さ
れるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものてあり、例
えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基。
れるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものてあり、例
えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基。
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、アリル基等である。R
1及びR2で表されるアリール基はフェニル基、ナフチ
ル基等であり、アルケニル基はへキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基
、アルケニル基及びアリール基は単一もしくは複数の置
換基を有していてもよい、アルキル基及びアルケニル基
の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アル
コキシカルボニル基等が挙げられる。アリール基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基
、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。これらの置
換基の2つ以上がアルキル基、アルケニル基又はアリー
ル基に導入されていてもよい。
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、アリル基等である。R
1及びR2で表されるアリール基はフェニル基、ナフチ
ル基等であり、アルケニル基はへキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基
、アルケニル基及びアリール基は単一もしくは複数の置
換基を有していてもよい、アルキル基及びアルケニル基
の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アル
コキシカルボニル基等が挙げられる。アリール基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基
、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。これらの置
換基の2つ以上がアルキル基、アルケニル基又はアリー
ル基に導入されていてもよい。
本発明において有利に用いられる燐酸エステルとしては
、下記一般式[■]で示されるものか挙げられる。
、下記一般式[■]で示されるものか挙げられる。
一般式[11]
式中、 R3、R4及びR,はそれぞれアルキル基、ア
ルケニル基又はアリール基を表す。但し、R3,R4及
びR5で表される基の炭素数の総和は3〜54であるこ
とが好ましい。
ルケニル基又はアリール基を表す。但し、R3,R4及
びR5で表される基の炭素数の総和は3〜54であるこ
とが好ましい。
本発明において、前記一般式[■]のR3、R4及びR
,で表されるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもので
あり1例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トソデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基等である。
,で表されるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもので
あり1例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トソデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基等である。
これらのアルキル基、アルケニル基及びアリール基は単
一もしくは複数の置換基を有していてもよい、好ましく
はRユ、 R4及びR,はアルキル基であり、例えばn
−ブチル基、2−エチルヘキシル3、n−オクチル基、
3,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n
−デシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、
t−オクチル基等が挙げられる。
一もしくは複数の置換基を有していてもよい、好ましく
はRユ、 R4及びR,はアルキル基であり、例えばn
−ブチル基、2−エチルヘキシル3、n−オクチル基、
3,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n
−デシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、
t−オクチル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、エチレン基、アリル基、ブテン
基等が挙げられ、またアリール基としては、フェニル基
、トリル基、キシリル基等が挙げられる。
基等が挙げられ、またアリール基としては、フェニル基
、トリル基、キシリル基等が挙げられる。
以下に本発明に係る銹電率3.5以上の高沸点有機溶媒
の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものては
ない。
の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものては
ない。
−IA−2
A −3A −4
−5A−6
A −7A −8
A−9A−1゜
A−11A−12
A−13A−14
A−15A−16
A−17A−18
■
2H5
OH3CH3
A−21A−22
A−23A−24
A−=25 A−26A−27A
−28 八−29A−30 A−31A−32 A−33A−34 0−0g81g(i) C’2H50
=P 0−C0H1,(i) OCH2CH(O
H2) 30H30−098,、(i)
0=P−00H20H(CH2)30H3C2Fl5 CH2CH(OH2) 3 C)I 32H5 A−35A−36 A−37A−38 0−C1oHz+(”) o=p−o−c1oH2,(n) OC1oHz+(n) 本発明に係る誘電率3.5以上である高沸点有機溶媒と
しては、上記の溶媒の他に、例えばマロン酸ジエチル、
マレイン酸ジエチル、γ−フチロラクトン、安息香酸メ
チル、ペンシルアルコール。
−28 八−29A−30 A−31A−32 A−33A−34 0−0g81g(i) C’2H50
=P 0−C0H1,(i) OCH2CH(O
H2) 30H30−098,、(i)
0=P−00H20H(CH2)30H3C2Fl5 CH2CH(OH2) 3 C)I 32H5 A−35A−36 A−37A−38 0−C1oHz+(”) o=p−o−c1oH2,(n) OC1oHz+(n) 本発明に係る誘電率3.5以上である高沸点有機溶媒と
しては、上記の溶媒の他に、例えばマロン酸ジエチル、
マレイン酸ジエチル、γ−フチロラクトン、安息香酸メ
チル、ペンシルアルコール。
1−オクタノール等を挙げることかてきる。
本発明に係るこれらの高沸点有機溶媒は、例えば酢酸エ
チル等の如き公知の低沸点有機溶媒と併用することもて
きる。
チル等の如き公知の低沸点有機溶媒と併用することもて
きる。
本発明において水洗代替安定液のpHは3.0〜9.5
の範囲か好ましく、更にpH15〜9.(lに調整する
ことか本発明の目的の−っである沈澱防止のために好ま
しい。
の範囲か好ましく、更にpH15〜9.(lに調整する
ことか本発明の目的の−っである沈澱防止のために好ま
しい。
更に本発明において水洗代替安定液に添加できるその他
の化合物としては、有Ia、酸塩(クエン酸、酢酸、コ
ハク酸、シュウ酸、安息香酸等)、p11緩衝剤(リン
酸、ホウ酸塩、塩酸、硫酸等)あるいは界面活性剤、防
腐剤、Bj、 Mg、Zn、 Ni。
の化合物としては、有Ia、酸塩(クエン酸、酢酸、コ
ハク酸、シュウ酸、安息香酸等)、p11緩衝剤(リン
酸、ホウ酸塩、塩酸、硫酸等)あるいは界面活性剤、防
腐剤、Bj、 Mg、Zn、 Ni。
A文、Sn、 Ti、 Zr等の金属塩等があるが、こ
れらの化合物の添加量は本発明による水洗代替安定液の
pt+を維持するに必要てかつカラー写真画像の保存時
の安定性と沈澱の発生に対し悪影響を及ぼさない範囲で
、どのような化合物を、どのような組合せて使用しても
さしつかえない。
れらの化合物の添加量は本発明による水洗代替安定液の
pt+を維持するに必要てかつカラー写真画像の保存時
の安定性と沈澱の発生に対し悪影響を及ぼさない範囲で
、どのような化合物を、どのような組合せて使用しても
さしつかえない。
安定化処理に際しての処理温度は50°C以下、特に1
5℃〜50°Cか好ましく、より好ましくは20℃〜4
5°CO′)範囲かよい。また処理時間も迅速処理の観
点から短時間であるほど好ましいが、通常20秒〜10
分間、最も好ましくは1分〜5分間てあり、複数槽安定
化処理の場合は前段槽はど短時間で処理し、後段槽はど
処理時間か長いことが好ましい。
5℃〜50°Cか好ましく、より好ましくは20℃〜4
5°CO′)範囲かよい。また処理時間も迅速処理の観
点から短時間であるほど好ましいが、通常20秒〜10
分間、最も好ましくは1分〜5分間てあり、複数槽安定
化処理の場合は前段槽はど短時間で処理し、後段槽はど
処理時間か長いことが好ましい。
特に前槽の20%〜50%増しの処理時間で順次処理す
ることが望ましい。
ることが望ましい。
本発明に係るハロゲン化銀カラー写真感光材料中に、シ
アンカプラーとして下記一般式[■]〜[IX]で示さ
れるシアンカプラーの少なくとも1つを含有する際には
本発明の効果をより良好に奏するために本発明ては、よ
り好ましく用いられる。
アンカプラーとして下記一般式[■]〜[IX]で示さ
れるシアンカプラーの少なくとも1つを含有する際には
本発明の効果をより良好に奏するために本発明ては、よ
り好ましく用いられる。
一般式[■]
式中、R20及びR21は一方か水素原子であり、他方
が少なくとも炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル
基てあり、Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体との
カブリンク反応により離脱しうる基を表し、 R21は
バラスト基を表す。
が少なくとも炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル
基てあり、Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体との
カブリンク反応により離脱しうる基を表し、 R21は
バラスト基を表す。
一般式[■]
一般式[tX]
を
式中、Yは−con2.、
(但しR24はアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基、アリール基またはへテロ環基な表し、 R25
は水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表し、 R24と
1(asとが互いに結合して5〜6員のへテロ環を形
成してもよい。)を表し、R2ffはバラスト基を表し
、2は水素原子又は発色現像主薬の酸化体とのカプリン
グ反応により離脱しつる基を表す。
キル基、アリール基またはへテロ環基な表し、 R25
は水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表し、 R24と
1(asとが互いに結合して5〜6員のへテロ環を形
成してもよい。)を表し、R2ffはバラスト基を表し
、2は水素原子又は発色現像主薬の酸化体とのカプリン
グ反応により離脱しつる基を表す。
本発明に係るシアンカプラーは前記一般式[■]〜[I
K]て表すことができるが、該一般式[■]について更
に説明する。
K]て表すことができるが、該一般式[■]について更
に説明する。
本発明において、前記一般式[■]のR2O、R21て
表される炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル基は
1例えばエチル基、プロピル基、フチル基である。
表される炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル基は
1例えばエチル基、プロピル基、フチル基である。
一般式[V[]において、R22て表されるバラスト基
は、カプラーか適用される層からカプラーを実質的に他
層に分散てきないようにするのに十分ながさばりをカプ
ラーに与えるところの大きさと形状を有する有機基であ
る。代表的なバラスト基としては、全炭素数8へ32の
アルキル基又はアリール基か挙げられるが、好ましくは
全炭素数13〜28である。これらのアルキル基とアリ
ール基は置換基を有してもよく、このアリール基の置換
基としては、例えばアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリルオキシ基、カルボキシ基、アシル基、エス
テル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルバモ
イル基、カルボンアミド基。
は、カプラーか適用される層からカプラーを実質的に他
層に分散てきないようにするのに十分ながさばりをカプ
ラーに与えるところの大きさと形状を有する有機基であ
る。代表的なバラスト基としては、全炭素数8へ32の
アルキル基又はアリール基か挙げられるが、好ましくは
全炭素数13〜28である。これらのアルキル基とアリ
ール基は置換基を有してもよく、このアリール基の置換
基としては、例えばアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリルオキシ基、カルボキシ基、アシル基、エス
テル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルバモ
イル基、カルボンアミド基。
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲンか挙げられ
、またアルキル基の置換基としては、アルキル基を除く
前記アリール基に挙げた置換基か挙げられる。
ホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲンか挙げられ
、またアルキル基の置換基としては、アルキル基を除く
前記アリール基に挙げた置換基か挙げられる。
該バラスト基として好ましいものは下記一般式%式%
R26は炭素数l〜12のアルキル基を表し、A「はフ
ェニル基等のアリール基を表し、このアリール基はWl
置換基有していてもよい。置換基としては、アルキル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルスルホンアミ
ド基等が挙げられるが、最も好ましものはL−ブチル基
等の分岐のアルキル基が挙げられる。
ェニル基等のアリール基を表し、このアリール基はWl
置換基有していてもよい。置換基としては、アルキル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルスルホンアミ
ド基等が挙げられるが、最も好ましものはL−ブチル基
等の分岐のアルキル基が挙げられる。
前記一般式[VI[]てXにより定義される発色現像主
薬の酸化体とのカプリングて離脱しつる基は、当業者に
よく知られているように、カプラーの当量数を決定する
と共に、カプリングの反応性を左右する0代表例として
は、塩素、フッ素に代表されるハロゲン、アソールオキ
シ基、置換又は未置換のアルコキシ基、アシルオキシ基
、スルホンアミド基、アリールチオ基、ヘテロイルチオ
基、ヘテロイルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルバ
モイルオキシ基等が挙げられる。さらに具体的な例とし
ては、特開昭50−10135号、同50−12033
4号、同50−130414号、同54−48237号
、同51−146828号、同54−14736号、同
47−37425号、同50−123341号、同5B
−95345号、特公昭4B−36894号、米国特許
3.476.56:1号、同3,737,316号、同
3,227.551号等に記載されている基が挙げられ
る。
薬の酸化体とのカプリングて離脱しつる基は、当業者に
よく知られているように、カプラーの当量数を決定する
と共に、カプリングの反応性を左右する0代表例として
は、塩素、フッ素に代表されるハロゲン、アソールオキ
シ基、置換又は未置換のアルコキシ基、アシルオキシ基
、スルホンアミド基、アリールチオ基、ヘテロイルチオ
基、ヘテロイルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルバ
モイルオキシ基等が挙げられる。さらに具体的な例とし
ては、特開昭50−10135号、同50−12033
4号、同50−130414号、同54−48237号
、同51−146828号、同54−14736号、同
47−37425号、同50−123341号、同5B
−95345号、特公昭4B−36894号、米国特許
3.476.56:1号、同3,737,316号、同
3,227.551号等に記載されている基が挙げられ
る。
次に一般式[■コ表されるシアンカプラーの例示化合物
を挙げるが、これらに限定されない、該例示化合物とし
ては、一般式[VII]において、下記のようにR2d
、 X 、 R2!、R2oを特定したものか挙げら
れる。
を挙げるが、これらに限定されない、該例示化合物とし
ては、一般式[VII]において、下記のようにR2d
、 X 、 R2!、R2oを特定したものか挙げら
れる。
以下余白
以下に本発明例示化合物の合成法を示すが、他の例示化
合物も同様の方法により合成することかできる。
合物も同様の方法により合成することかできる。
例示化合物C−Sの合成例
[(1)−a 3 2−ニトロ−4,6−ジクロロ−5
−エチルフェノールの合成 2−ニトロ−5−エチルフェノール33g、沃素0.6
g及び塩化第2鉄1.5gを氷酢酸15h見に溶解する
。これに40℃てスルフリルクロライド75m1を3時
間で滴下する0滴下途中で生成した沈澱はスルフリルク
ロライド滴下終了後、加熱還流することにより、反応溶
解する。加熱還流は約2時間を要する0反応液を水中に
注ぎ生成した結晶はメタノールにより再結晶精製する。
−エチルフェノールの合成 2−ニトロ−5−エチルフェノール33g、沃素0.6
g及び塩化第2鉄1.5gを氷酢酸15h見に溶解する
。これに40℃てスルフリルクロライド75m1を3時
間で滴下する0滴下途中で生成した沈澱はスルフリルク
ロライド滴下終了後、加熱還流することにより、反応溶
解する。加熱還流は約2時間を要する0反応液を水中に
注ぎ生成した結晶はメタノールにより再結晶精製する。
(1)−aの確認は核磁気共鳴スペクトル及び元素分
析により行った。
析により行った。
[(1)−b ] ]z−ニトロー4.6−ジクロロ
ー5エチルフェノールの合成 [(1)−a ]の化合物21.2gを300mMのア
ルコールに溶解し、これに触媒量のラネーニッケルを加
え、常圧にて水素吸収がなくなるまで水素を通じた0反
応後ラネーニッケルを除去し、アルコール減圧にて留去
した。残渣の[(1)−b ]は精製することなく次の
アシル化を行った。
ー5エチルフェノールの合成 [(1)−a ]の化合物21.2gを300mMのア
ルコールに溶解し、これに触媒量のラネーニッケルを加
え、常圧にて水素吸収がなくなるまで水素を通じた0反
応後ラネーニッケルを除去し、アルコール減圧にて留去
した。残渣の[(1)−b ]は精製することなく次の
アシル化を行った。
[(1)−c ] zr(2,4−ジーtert−ア
シルフェノキシ)アセトアミド]−4,6−ジクロロ−
5−エチルフェノールの合成 [(1)−b ]て得たクルードなアミド体18.5g
をSOO+sJlの氷酢酸と16.7gの酢酸ソーダよ
りなる混液に溶解し、これに2.4−ジーtert−ア
シルフェノキシ酢酸クロリド28.0gを酢酸50mM
に溶解した酢酸溶液を室温にて滴下する。30分間て滴
下し、更に30分間攪拌後、反応液を氷水中に注入する
。生成した沈澱を濾取し、乾燥後、アセトニトリルにて
2回再結晶すると目的物が得られる。目的物の確認は元
素分析及び核磁気共鳴スペクトルにて行った。
シルフェノキシ)アセトアミド]−4,6−ジクロロ−
5−エチルフェノールの合成 [(1)−b ]て得たクルードなアミド体18.5g
をSOO+sJlの氷酢酸と16.7gの酢酸ソーダよ
りなる混液に溶解し、これに2.4−ジーtert−ア
シルフェノキシ酢酸クロリド28.0gを酢酸50mM
に溶解した酢酸溶液を室温にて滴下する。30分間て滴
下し、更に30分間攪拌後、反応液を氷水中に注入する
。生成した沈澱を濾取し、乾燥後、アセトニトリルにて
2回再結晶すると目的物が得られる。目的物の確認は元
素分析及び核磁気共鳴スペクトルにて行った。
以下余白
C21H2SNO+l C交
次に、本発明に用いられる一般式[VII[]または[
IX]て示されるシアンカプラーについて説明する。前
記一般式[■]及び[IX]において、Yは、−COR
2,、 て表される基である。但しR24はアルキル基、好まし
くは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、し−ツチル、l〜デシルの各基等)、アルケニル基
好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリル基、
ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましくは
5〜7員環のもの(例えばシクロヘキシル等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基A9)
、ヘテロ環基、好ましくは窒素原子、酸素原子もしくは
イ才つ原子を1〜4個含む5員〜6n環のへテロ環基(
例えばフリル基、チェニル基、ベンゾチアゾリル基等)
を表す。R2Sは水素原子もしくはR24て表される基
を表す、R24と RISと互いに結合して5〜6員の
へテロ環を形成してもよい。なお、 R22及びFil
:lには任意の置換基を導入することかてき、例えば炭
素数1〜10のアルキル基(例えばメチル、j−プロピ
ル、i−メチル、L−ブチル、し−オクチル等)、アリ
ール基(例えばフェニル、ナフチル等)、ハロゲン原子
(フッ素、塩素、臭素等)、シアン、ニトロ、スルホン
アミド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホ
ンアミド、p−)−ルエンスルホンアミト等)、スルフ
ァモイル基(例えばメチルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等)、スルホニル基(例えばメタンスルホ
ニル、p−トルエンスルホニル等〉、フルオロスルホニ
ル基、カルバモイル基(例えばジメチルカルバモイル、
フェニルカルバモイル等)、オキシカルボニル基(例え
ばエトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等)、ア
シル基(例えばアセチル、ベンソイル等)、ヘテロ環基
(例えばピッシル基、ピラゾリル2!′等)、アルコキ
シ基、ア。
IX]て示されるシアンカプラーについて説明する。前
記一般式[■]及び[IX]において、Yは、−COR
2,、 て表される基である。但しR24はアルキル基、好まし
くは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、し−ツチル、l〜デシルの各基等)、アルケニル基
好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリル基、
ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましくは
5〜7員環のもの(例えばシクロヘキシル等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基A9)
、ヘテロ環基、好ましくは窒素原子、酸素原子もしくは
イ才つ原子を1〜4個含む5員〜6n環のへテロ環基(
例えばフリル基、チェニル基、ベンゾチアゾリル基等)
を表す。R2Sは水素原子もしくはR24て表される基
を表す、R24と RISと互いに結合して5〜6員の
へテロ環を形成してもよい。なお、 R22及びFil
:lには任意の置換基を導入することかてき、例えば炭
素数1〜10のアルキル基(例えばメチル、j−プロピ
ル、i−メチル、L−ブチル、し−オクチル等)、アリ
ール基(例えばフェニル、ナフチル等)、ハロゲン原子
(フッ素、塩素、臭素等)、シアン、ニトロ、スルホン
アミド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホ
ンアミド、p−)−ルエンスルホンアミト等)、スルフ
ァモイル基(例えばメチルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等)、スルホニル基(例えばメタンスルホ
ニル、p−トルエンスルホニル等〉、フルオロスルホニ
ル基、カルバモイル基(例えばジメチルカルバモイル、
フェニルカルバモイル等)、オキシカルボニル基(例え
ばエトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等)、ア
シル基(例えばアセチル、ベンソイル等)、ヘテロ環基
(例えばピッシル基、ピラゾリル2!′等)、アルコキ
シ基、ア。
リールオキシ基、アシルオキシ基等を挙げることかでき
る。
る。
一般式[■]及び一般式[IX]において。
R2つは一般式[’711[]及び一般式[IX]て表
されるシアンカプラー及び該シアンカプラーから形成さ
れるシアン色素に耐拡散性を付与するのに必要なバラス
ト基を表す。好ましくは炭素数4〜30のアルキル基、
アリール基またはへテロ環基である。
されるシアンカプラー及び該シアンカプラーから形成さ
れるシアン色素に耐拡散性を付与するのに必要なバラス
ト基を表す。好ましくは炭素数4〜30のアルキル基、
アリール基またはへテロ環基である。
例えば直鎖又は分岐のアルキル基(例えばし−メチル、
n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル等)。
n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル等)。
アルケニル基、シクロアルキル基、5負もしくは6員環
ヘテロ環基等が挙げられる。
ヘテロ環基等が挙げられる。
一般式[■コ及び一般式[IX]において、2は水素原
子又はN−ヒドロキシアルキル置換−p−フェニレンジ
アミン誘導体現像主薬の酸化体とのカブリンク反応時に
離脱可能な基を表す。例えば、ハロゲン原子(例えば塩
素、臭素、フッ素等)、置換又は未置換のアルコキシ基
、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、・スルホニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ホンアミド基等が挙げられ、更に具体的な例としては米
国特許:l、741,56:1号、特開昭47−374
25号、特公昭48−36894号、特開昭50−10
135号、同50−117422号。
子又はN−ヒドロキシアルキル置換−p−フェニレンジ
アミン誘導体現像主薬の酸化体とのカブリンク反応時に
離脱可能な基を表す。例えば、ハロゲン原子(例えば塩
素、臭素、フッ素等)、置換又は未置換のアルコキシ基
、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、・スルホニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ホンアミド基等が挙げられ、更に具体的な例としては米
国特許:l、741,56:1号、特開昭47−374
25号、特公昭48−36894号、特開昭50−10
135号、同50−117422号。
同50−130441号、同51−108841号、同
50−120343号、回52−18315号、同53
−105226号、同54−14736号、同54−4
8237号、同55−32071号、同55−6595
7号、同56−1938号、同56−12643号、同
56−27147号2同59−146050号、同59
−166956号、同60−24547号、同60−3
5731号、同60−37557号等に記載されている
ものを挙げることがてきる。
50−120343号、回52−18315号、同53
−105226号、同54−14736号、同54−4
8237号、同55−32071号、同55−6595
7号、同56−1938号、同56−12643号、同
56−27147号2同59−146050号、同59
−166956号、同60−24547号、同60−3
5731号、同60−37557号等に記載されている
ものを挙げることがてきる。
本発明においては前記一般式[■]または[[X]て表
されるシアンカプラーのうち、下記一般式[X]、[X
[]または[X[[]て表されるシアンカプラーか更に
好ましい。
されるシアンカプラーのうち、下記一般式[X]、[X
[]または[X[[]て表されるシアンカプラーか更に
好ましい。
一般式[X]
一般式[)a]
ロー(
一般式[X11]
一般式[X]において、R27は置換、未置換のアリー
ル基(特に好ましくはフェニル基)である。該アリール
基か置換基を有する場合のご換基としては、5OzRi
o、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等) 、 C
F:+ 、NO2、CN、 C0Rio、−C001
1*o、 5O20Rio、から選ばれる少なくとも1
つの置換基か包含される。
ル基(特に好ましくはフェニル基)である。該アリール
基か置換基を有する場合のご換基としては、5OzRi
o、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等) 、 C
F:+ 、NO2、CN、 C0Rio、−C001
1*o、 5O20Rio、から選ばれる少なくとも1
つの置換基か包含される。
ここて、 RffOはアルキル基、好ましくは炭素数1
〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、Lert
−ブチル、ドデシルの各基等)、アルケニル基、好まし
くは炭素数2〜20のアルケニル2ii(アリル基、ヘ
プタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましくは5
〜7員環2!i(例えばシクロヘキシル等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等)を表
し、R11は水素原子もしくはR3゜で表される基であ
る。
〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、Lert
−ブチル、ドデシルの各基等)、アルケニル基、好まし
くは炭素数2〜20のアルケニル2ii(アリル基、ヘ
プタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましくは5
〜7員環2!i(例えばシクロヘキシル等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等)を表
し、R11は水素原子もしくはR3゜で表される基であ
る。
−IQ式[X]て表される本発明のシアンカプラーの好
適な化合物は、R27か21換ないし未置換のフェニル
基であり、フェニル基への置換基としてシアノ、ニトロ
、 SOJユ2(Roはアルキル基)、ハロゲン原子、
トリフルオロメチルであるような化合物である。
適な化合物は、R27か21換ないし未置換のフェニル
基であり、フェニル基への置換基としてシアノ、ニトロ
、 SOJユ2(Roはアルキル基)、ハロゲン原子、
トリフルオロメチルであるような化合物である。
一般式[X[]及び[X[[]において、 R2(1
、R29はアルキル基、好ましくは炭素数1〜20のア
ルキル基(例えばメチル、エチル、Lert−ブチル、
ドデシルの各基等)、アルケニル基、好ましくは炭素数
2〜20のアルケニル基(アリル基、オレイル基等)、
シクロアルキル基、好ましくは5〜7員環基(例えばシ
クロヘキシル等)、アリール基(例えばフェニル基、ト
リル基、ナフチル基h?)、ヘテロ環基(例えば窒素原
子、酸素原子、もしくはイオウ原子を1〜4個含む5員
〜6員環のへテロ環か好ましく、例えばフリル基、チェ
ニル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。)を表す
。
、R29はアルキル基、好ましくは炭素数1〜20のア
ルキル基(例えばメチル、エチル、Lert−ブチル、
ドデシルの各基等)、アルケニル基、好ましくは炭素数
2〜20のアルケニル基(アリル基、オレイル基等)、
シクロアルキル基、好ましくは5〜7員環基(例えばシ
クロヘキシル等)、アリール基(例えばフェニル基、ト
リル基、ナフチル基h?)、ヘテロ環基(例えば窒素原
子、酸素原子、もしくはイオウ原子を1〜4個含む5員
〜6員環のへテロ環か好ましく、例えばフリル基、チェ
ニル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。)を表す
。
前記RffO1L+及び一般式[XI]及び[■コのR
11a、 R29には、さらに任意の置換基を導入す
ることかでき、具体的には、一般式[■コ及び[IX]
においてR24またはR2Sに導入することのてきるが
如き置換基である。そして置換基としては特にハロゲン
原子(塩素原子、フッ素原子等)か好ましい。
11a、 R29には、さらに任意の置換基を導入す
ることかでき、具体的には、一般式[■コ及び[IX]
においてR24またはR2Sに導入することのてきるが
如き置換基である。そして置換基としては特にハロゲン
原子(塩素原子、フッ素原子等)か好ましい。
一般式[X]、 [X[]または[X[[]おいてZ
及びR2,は各々一般式[■コ及び[IX]と同様の意
味を有している。 1t2ffて表されるバラスト基の
好ましい例は、下記一般式[Xfll]て表される基で
ある。
及びR2,は各々一般式[■コ及び[IX]と同様の意
味を有している。 1t2ffて表されるバラスト基の
好ましい例は、下記一般式[Xfll]て表される基で
ある。
一般式[X11
(nff4)K
式中、Jは酸素原子、硫黄原子又はスルホニル基を表し
、Kは0〜4の整数を表し、文は0又は1を示し、にが
2以上の場合2つ以上存在するR14は同一でも異なっ
ていてもよい。Roは炭素数1〜20の直鎖又は分岐、
及びアリール基等の置換したアルキレン基を表し、 R
ユ、は−価の基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン
原子(例えばクロム、ブロム)、アルキル基、好ましく
は直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルキル基(例えば
メチル、し−ブチル、し−ペンチル、し−オクチル、ド
デシル、ペンタデシル、ペンシル、フェネチル等の各基
)、アリール基(例えばフェニル基)、複素環基(例え
ば含有チッ素複素環基)アルコキシ基、好ましくは直鎖
又は分岐の炭素数1〜20のアルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、し−メチルオキシ、オクチルオキシ、
デシルオキシ、ドデシルオキシ等の各基)、アリールオ
キシ基(例えばフェノキシ基)、ヒドロキシ基、アシル
オキシ基、好ましくはアルキルカルボニルオキシ基、ア
リールカルボニルオキシ基(例えばアセトオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基)、カルボキシ、アルキルオキシカル
ボニル基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐の
アルキルカルボニル基、好ましくはフェノキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、好ましくは炭素数l〜20のア
シル基、好ましくは’tR票数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキルカルボニル基、アシルアミノ基、好ましくは
炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基
、ベンゼンカルボアミド基、スルホンアミl−基、好ま
しくは炭素fi1〜20の直鎖又は分岐のアルキルスル
ホンアミド基又はベンゼンスルホンアミド基、カルバモ
イル基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のア
ルキルア・ミノカルボニル基又はフェニルアミノカルボ
ニル基、スルファモイル基、好ましくは′j′j、素数
1〜20の直鎖又は分岐のアルキルアミノスルホニル基
又はフェニルアミノスルホニル基等を表す。
、Kは0〜4の整数を表し、文は0又は1を示し、にが
2以上の場合2つ以上存在するR14は同一でも異なっ
ていてもよい。Roは炭素数1〜20の直鎖又は分岐、
及びアリール基等の置換したアルキレン基を表し、 R
ユ、は−価の基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン
原子(例えばクロム、ブロム)、アルキル基、好ましく
は直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルキル基(例えば
メチル、し−ブチル、し−ペンチル、し−オクチル、ド
デシル、ペンタデシル、ペンシル、フェネチル等の各基
)、アリール基(例えばフェニル基)、複素環基(例え
ば含有チッ素複素環基)アルコキシ基、好ましくは直鎖
又は分岐の炭素数1〜20のアルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、し−メチルオキシ、オクチルオキシ、
デシルオキシ、ドデシルオキシ等の各基)、アリールオ
キシ基(例えばフェノキシ基)、ヒドロキシ基、アシル
オキシ基、好ましくはアルキルカルボニルオキシ基、ア
リールカルボニルオキシ基(例えばアセトオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基)、カルボキシ、アルキルオキシカル
ボニル基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐の
アルキルカルボニル基、好ましくはフェノキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、好ましくは炭素数l〜20のア
シル基、好ましくは’tR票数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキルカルボニル基、アシルアミノ基、好ましくは
炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基
、ベンゼンカルボアミド基、スルホンアミl−基、好ま
しくは炭素fi1〜20の直鎖又は分岐のアルキルスル
ホンアミド基又はベンゼンスルホンアミド基、カルバモ
イル基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のア
ルキルア・ミノカルボニル基又はフェニルアミノカルボ
ニル基、スルファモイル基、好ましくは′j′j、素数
1〜20の直鎖又は分岐のアルキルアミノスルホニル基
又はフェニルアミノスルホニル基等を表す。
次に一般式[■]又は[IX]で表されるシアンカプラ
ーの具体的な化合物例を示すか、これらに限定されない
。
ーの具体的な化合物例を示すか、これらに限定されない
。
以下余白
〔例示化合物〕
C−jり
(t −J。
1J
O−3!
p
(tic、H,□
0−j弘
C−35
0−it
2H5
1−I
CH。
C−ゾ
0−Jり
C−知
CH3
C−件/
C−幻
C−坪
C−り〆
−p7
0H
C−り?
C−ゲタ
H
(t)C5Ht□
C−タ1
H
n目
CH。
0−4り
t
−sl
H
−sr
04H5
C−S、?
CI
c −1;O
C’6H1コ
C−〆1
4H9
C−/2
n/
C−〆j
L
O−(弘
H
C6)(13
m1s
OF?
C−!り
H
−IJ
2Hs
C−?1
R
C−22
0−クダ
0−7.5″
C−りl
し2F15
−TT
C−ゴ9
c −1゜
0aH0SO7NH
○−と2
C−83
f−T
c−’atA
H
OCH2CH2QC!H。
−gb
−g7
0−6’i’
−qQ
0−’l’1
H
04H。
0−9r
c−qb
H
2H5
H
2H5
C−’?θ
0口
2H5
C−?9
H
(t)O,H,。
H
(! −IO+
a −(OZ
NH8O□CH。
0−10牛
H
(3−rob
0H2C!OOH
−IDT
1−T
04H9So2NH
H
8O□NH
(CH2)20C2H5
C−//フ
C−//θ
t
C−/ノ2
H
0−//、3
H
C1出、□(n)
0− //、f
t
Q −/2゜
H
0−/2J
C−/2り
nμ
0−/2り
0N
Cj −/xl
H
N
−1z7
p
これら本発明に好ましく用いられるシアンカプラーは公
知の方法によって合成することかてき、一般式[■]で
表される化合物の場合、例えば米国特許3,222,1
76号、同:l、446,522号、同3.9!]6.
253号、英国特許1,011,940号等に記載の合
成法によって合成することかてきる。また一般式[IX
]て表される化合物の場合、例えば米国特許2.772
,162号、同 :l、758.:108号、同 3,
880,661号、同4,124.]96号、英国特許
975.77:1号、−同8.011,693号、同8
,011,694号、特開昭47−21139号、同5
0−112038号、同55−163537号、同56
−29235号、同55−99341号、同56−11
6030号、同52−69329号、同56−5594
5号、同56−55945号、同50−134644号
並びに英国特許1,011,940号、米国特許1,4
46,622号、同’1,996,253号、特開昭5
6−65134号、同57−204543号、同57−
204544号、同57−204545号、特願昭56
−131309号、同56−131311号、同56−
131312号、同56−131313号、同56−1
31314号、同56−130459号、同57−14
9791号、特開昭59−146050号、同59−1
66956号、同60−37557号、同60−357
31号、同60−37557号等に記載の合成法によっ
て合成することかてきる。
知の方法によって合成することかてき、一般式[■]で
表される化合物の場合、例えば米国特許3,222,1
76号、同:l、446,522号、同3.9!]6.
253号、英国特許1,011,940号等に記載の合
成法によって合成することかてきる。また一般式[IX
]て表される化合物の場合、例えば米国特許2.772
,162号、同 :l、758.:108号、同 3,
880,661号、同4,124.]96号、英国特許
975.77:1号、−同8.011,693号、同8
,011,694号、特開昭47−21139号、同5
0−112038号、同55−163537号、同56
−29235号、同55−99341号、同56−11
6030号、同52−69329号、同56−5594
5号、同56−55945号、同50−134644号
並びに英国特許1,011,940号、米国特許1,4
46,622号、同’1,996,253号、特開昭5
6−65134号、同57−204543号、同57−
204544号、同57−204545号、特願昭56
−131309号、同56−131311号、同56−
131312号、同56−131313号、同56−1
31314号、同56−130459号、同57−14
9791号、特開昭59−146050号、同59−1
66956号、同60−37557号、同60−357
31号、同60−37557号等に記載の合成法によっ
て合成することかてきる。
一般式[V11]、[■]又は[IX]で表されるシア
ンカプラーは、本発明の目的に反しない範囲において本
発明外のシアンカプラーと組合せて用いることかてきる
。また、一般式[■]、〔■]及び[■]のシアンカプ
ラーを1又は2以上併用することもてきる。
ンカプラーは、本発明の目的に反しない範囲において本
発明外のシアンカプラーと組合せて用いることかてきる
。また、一般式[■]、〔■]及び[■]のシアンカプ
ラーを1又は2以上併用することもてきる。
一般式[■]〜[IX]て表される本発明に係るシアン
カプラーをハロゲン化銀乳剤層中に含有させるときは、
通常ハロゲン化銀1モル当り約0.005〜2モル、好
ましくは0.01〜1モルの範囲て用いられる。
カプラーをハロゲン化銀乳剤層中に含有させるときは、
通常ハロゲン化銀1モル当り約0.005〜2モル、好
ましくは0.01〜1モルの範囲て用いられる。
本発明において使用し得るハロゲン化銀乳剤としては、
1!1化銀、臭化銀、沃化銀、1n臭化銀、塩沃化銀、
沃臭化銀、塩沃臭化銀のごときいずれのハロゲン化銀を
用いたものてあってもよい。
1!1化銀、臭化銀、沃化銀、1n臭化銀、塩沃化銀、
沃臭化銀、塩沃臭化銀のごときいずれのハロゲン化銀を
用いたものてあってもよい。
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料には他に各種
の写真用添加剤を含有せしめることかてきる1例えばリ
サーチ・ディスクロージャー誌17643号に記載され
ているかぶり防止剤、安定剤、紫外線吸収剤、色汚染防
止剤、蛍光増白剤。
の写真用添加剤を含有せしめることかてきる1例えばリ
サーチ・ディスクロージャー誌17643号に記載され
ているかぶり防止剤、安定剤、紫外線吸収剤、色汚染防
止剤、蛍光増白剤。
色画像褪色防止剤、帯電防止剤、硬膜剤、界面活性剤、
可塑剤、湿潤剤等を用いることかてきる。
可塑剤、湿潤剤等を用いることかてきる。
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料において、乳
剤を調製するために用いられる親水性コロイドには、ゼ
ラチン、誘導体ゼラチン、ゼラチンと他の高分子とのグ
ラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒ
ドロキシエチルセルロース誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、澱粉誘導体、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル
アミド等の単一あるいは共重合体の合成親木性高分子等
の任意のものか包含される。
剤を調製するために用いられる親水性コロイドには、ゼ
ラチン、誘導体ゼラチン、ゼラチンと他の高分子とのグ
ラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒ
ドロキシエチルセルロース誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、澱粉誘導体、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル
アミド等の単一あるいは共重合体の合成親木性高分子等
の任意のものか包含される。
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料の支持体とし
ては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプ
ロピレン合成紙1及射層を併設した、又は反射体を併用
する透明支持体、例えばガラス板、セルロースアセテー
ト、セルロースナイトレート又はポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム
、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等
が挙げられ、その他通常の透明支持体であってもよい。
ては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプ
ロピレン合成紙1及射層を併設した、又は反射体を併用
する透明支持体、例えばガラス板、セルロースアセテー
ト、セルロースナイトレート又はポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム
、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等
が挙げられ、その他通常の透明支持体であってもよい。
これらの支持体は感光材料の使用目的に応じて適宜選択
される。
される。
本発明において用いられるハロゲン化銀乳剤層及びその
他の写真構成層の塗設には、ディッピング塗布、エアー
ドクター塗布、カーテン塗布。
他の写真構成層の塗設には、ディッピング塗布、エアー
ドクター塗布、カーテン塗布。
ホッパー塗布等種々の塗布方法を用いることができる。
また米国特許2,761,791号、同2,941,8
98号に記載の方法による2層以上の同時塗布法を用い
ることもできる。
98号に記載の方法による2層以上の同時塗布法を用い
ることもできる。
本発明においては各乳剤λ2の塗設位置を任意に定める
ことができる0例えばフルカラーの印画紙用感光材料の
場合には、支持体側から順次青感性ハロゲン化銀乳剤層
、緑感性ハロゲン化銀乳剤層、赤感性ハロゲン化銀乳剤
層の配列とすることか好ましい。これらの感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層は各々2以上の層から成っていてもよい。
ことができる0例えばフルカラーの印画紙用感光材料の
場合には、支持体側から順次青感性ハロゲン化銀乳剤層
、緑感性ハロゲン化銀乳剤層、赤感性ハロゲン化銀乳剤
層の配列とすることか好ましい。これらの感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層は各々2以上の層から成っていてもよい。
本発明の感光材料において、目的に応じて適当な厚さの
中間層を設けることは任意であり、更にフィルタ一層、
カール防止層、保護層、アンチハレーション層等の種々
の層を構成層として適宜組合せて用いることかてきる。
中間層を設けることは任意であり、更にフィルタ一層、
カール防止層、保護層、アンチハレーション層等の種々
の層を構成層として適宜組合せて用いることかてきる。
これらの構成層には結合剤として前記のような乳剤層に
用いることのてきる親木性コロイドを同様に用いること
かでき、またその層中には前記の如き乳剤層中に含有せ
しめることができる種々の写真用添加剤を含有せしめる
ことかてきる。
用いることのてきる親木性コロイドを同様に用いること
かでき、またその層中には前記の如き乳剤層中に含有せ
しめることができる種々の写真用添加剤を含有せしめる
ことかてきる。
本発明を適用できる感光材料としては、カラーベーパー
、反転ベーパー、カラーネガフィルム、カラーポジフィ
ルム、カラー反転フィルム、直接ポジベーパー、拡散写
真用感光材料等のいずれの感光材料てあってもよい。
、反転ベーパー、カラーネガフィルム、カラーポジフィ
ルム、カラー反転フィルム、直接ポジベーパー、拡散写
真用感光材料等のいずれの感光材料てあってもよい。
[実施例]
以下、実施例によって本発明の詳細な説明するか、これ
により本発明の実施態様が限定されるものてはない。
により本発明の実施態様が限定されるものてはない。
実施例 l
トリアセテートフィルムベース上にハレーション防止層
及びゼラチン層を設けこの上に赤感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層。
及びゼラチン層を設けこの上に赤感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層。
黄色コロイド銀を含有するフィルタ一層及び青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層を総体の銀量か100crn’当り62
mgになるよう塗布した。上記の乳剤層は沃化銀のモル
%か約4.8%の沃臭化銀であり、この際、青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層には黄色カプラーとしてα−(4−ニト
ロフェノキシ)−α−ピハリルー5−[γ−(2,4−
シーし一アミノフェノキシ)ブチルアミド]=2−クロ
ロアセトアニリドを用い、緑感性ハロゲン化銀乳剤層に
は、マゼンタカプラーとして1−(2,4,6−トリク
ロロフエニル)−31[α−(2,4−シし一アミルフ
ェノキシ)−アセトアミトコベンズアミド)−3−ピラ
ゾロン及び1−(2,4,6−トリクロロフエニル)−
3−([α−(2,4−シーし−アミルフェノキシ)−
アセトアミトコベンズアミドl−4−(4−メトキシフ
ェニルアゾ)−5−ピラゾロンを用い、赤感性ハロゲン
化銀乳剤層にはシアンカプラーとして下記(C−i)を
用い、各乳剤層にはそれぞれ増感色素、硬膜剤等の通常
の添加剤を加えた。但し、高沸点溶媒として例示化合物
(A −25) (誘電率7.5)を用いた。このよ
うにして得られたハロゲン化銀カラーネガ感光材料をフ
ィルム試料(1)とし、さらに、この高梯点溶媒(A
−25)の代わりに、流動パラフィン(誘電率2.2)
を用いて同様なフィルム試料(2)を作成した。
ゲン化銀乳剤層を総体の銀量か100crn’当り62
mgになるよう塗布した。上記の乳剤層は沃化銀のモル
%か約4.8%の沃臭化銀であり、この際、青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層には黄色カプラーとしてα−(4−ニト
ロフェノキシ)−α−ピハリルー5−[γ−(2,4−
シーし一アミノフェノキシ)ブチルアミド]=2−クロ
ロアセトアニリドを用い、緑感性ハロゲン化銀乳剤層に
は、マゼンタカプラーとして1−(2,4,6−トリク
ロロフエニル)−31[α−(2,4−シし一アミルフ
ェノキシ)−アセトアミトコベンズアミド)−3−ピラ
ゾロン及び1−(2,4,6−トリクロロフエニル)−
3−([α−(2,4−シーし−アミルフェノキシ)−
アセトアミトコベンズアミドl−4−(4−メトキシフ
ェニルアゾ)−5−ピラゾロンを用い、赤感性ハロゲン
化銀乳剤層にはシアンカプラーとして下記(C−i)を
用い、各乳剤層にはそれぞれ増感色素、硬膜剤等の通常
の添加剤を加えた。但し、高沸点溶媒として例示化合物
(A −25) (誘電率7.5)を用いた。このよ
うにして得られたハロゲン化銀カラーネガ感光材料をフ
ィルム試料(1)とし、さらに、この高梯点溶媒(A
−25)の代わりに、流動パラフィン(誘電率2.2)
を用いて同様なフィルム試料(2)を作成した。
シアンカプラー(C−i)
H
この試料なKS−7型感光計(小西六写真工業社製)を
用いて白色段階露光を与えた前記フィルム試料を次の工
程に従って処理を行った。
用いて白色段階露光を与えた前記フィルム試料を次の工
程に従って処理を行った。
処理工程(38°C) 槽数 処理時間発色現像
l槽 3分15秒漂 白 l
槽 4分20秒定 着 l槽
3分10秒水洗代替安定 2槽 1
分20秒(カスケード) 清 浄 l槽 30
秒使用した発色現像液の組成は2次の通りである。
l槽 3分15秒漂 白 l
槽 4分20秒定 着 l槽
3分10秒水洗代替安定 2槽 1
分20秒(カスケード) 清 浄 l槽 30
秒使用した発色現像液の組成は2次の通りである。
炭酸カリウム 28g炭酸水
素ナトリウム 2.5g亜硫酸カリ
ウム 3.0g臭化ナトリウム
1・2g沃化カリウム
1.2mgヒドロキシルアミン硫
mkm 2.5gジエチレントリアミン五
酢酸 ナトリウム 2.0g4−
アミノ−3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒドロキ
シエチル)アニリン硫酸11 4 、8 g水酸化カ
リウム 1.2g水を加えてM
Lとし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用いてpH
10,06に;J!l整する。
素ナトリウム 2.5g亜硫酸カリ
ウム 3.0g臭化ナトリウム
1・2g沃化カリウム
1.2mgヒドロキシルアミン硫
mkm 2.5gジエチレントリアミン五
酢酸 ナトリウム 2.0g4−
アミノ−3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒドロキ
シエチル)アニリン硫酸11 4 、8 g水酸化カ
リウム 1.2g水を加えてM
Lとし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用いてpH
10,06に;J!l整する。
使用した発色現像補充液の組成は、次の通りである。
炭酸カリウム 30g炭酸水素
ナトリウム 1.0g亜硫酸カリウ
ム 4.3g臭化ナトリウム
0・9gヒドロキシルアミン硫
酸塩3.0g ジエチレントリアミン五酸酢 酸トリウム 2,5g4−
アミノ−3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒドロキ
シエチル)アニリン&!2〜k14 5.5g水酸化
カリウム 1.4g水を加えて
1文とし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用いてp
H10,12に調整する。
ナトリウム 1.0g亜硫酸カリウ
ム 4.3g臭化ナトリウム
0・9gヒドロキシルアミン硫
酸塩3.0g ジエチレントリアミン五酸酢 酸トリウム 2,5g4−
アミノ−3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒドロキ
シエチル)アニリン&!2〜k14 5.5g水酸化
カリウム 1.4g水を加えて
1文とし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用いてp
H10,12に調整する。
使用した漂白液及び漂白補充液の組成は、次の通りであ
る。
る。
エチレンシアミン四酢酸鉄(III)
アンモニウム 100g臭化ア
ンモニウム 140g水を加えて1
文とし、氷酢酸及びアンモニア水を用いてpil 5.
8にyJ堕する。
ンモニウム 140g水を加えて1
文とし、氷酢酸及びアンモニア水を用いてpil 5.
8にyJ堕する。
使用した水洗代替安定液及び該定石補充液の組成は、次
の通りである。
の通りである。
チオ硫酸アンモニウム 180g無水亜
硫酸ナトリウム 12g水酸化カリウ
ム tg炭酸ナトリウム
8g水を加えて1文とし、濃ア
ンモニア水または酢酸を用いて、pH7,0に:A?!
!する。
硫酸ナトリウム 12g水酸化カリウ
ム tg炭酸ナトリウム
8g水を加えて1文とし、濃ア
ンモニア水または酢酸を用いて、pH7,0に:A?!
!する。
使用した安定液及び安定補充液は、次の通りである。
2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン o、 t
gエチレングリコール 1g水を加
えて !又とする。
gエチレングリコール 1g水を加
えて !又とする。
使用した清浄液及び清浄補充液は、次の通りである。
ホルマリン(35%水溶液) 7.0I+
+文前記安定液中に下記表1に示す界面活性剤を適宜添
加し、表面張力を表1に示す様にm整しながら、ランニ
ングテストを行った。各補充液の補充量は、発色現像及
び安定かフィルム試料1m’あたり60hi、漂白かフ
ィルム試料1m’あたり3011n文、定着及び清浄か
フィルム試料1rrr’あたり700m1てランニング
テストを行った。このランニングテストは水洗代替安定
液の総補充量か水洗代替安定処理槽のタンクボリューム
の3倍量になるまて非連続的に処理を行った。ランニン
クテスト終了、後の処理済の各フィルム試料の未露光部
透過レット濃度をサクラ光電濃度計PDへ−65(小西
六写真工業社製)を用いて311足した。
+文前記安定液中に下記表1に示す界面活性剤を適宜添
加し、表面張力を表1に示す様にm整しながら、ランニ
ングテストを行った。各補充液の補充量は、発色現像及
び安定かフィルム試料1m’あたり60hi、漂白かフ
ィルム試料1m’あたり3011n文、定着及び清浄か
フィルム試料1rrr’あたり700m1てランニング
テストを行った。このランニングテストは水洗代替安定
液の総補充量か水洗代替安定処理槽のタンクボリューム
の3倍量になるまて非連続的に処理を行った。ランニン
クテスト終了、後の処理済の各フィルム試料の未露光部
透過レット濃度をサクラ光電濃度計PDへ−65(小西
六写真工業社製)を用いて311足した。
さらに処理後のフィルム試料を70°C1湿度70%旧
1(相対湿度)の状態て、キセノンランプて1.5X
10’ルツクス・時間になるように15日間保存し、最
高濃度部の透過レット濃度を前記濃度計てJlll定し
、保存前後の退色率(%)を求めた。以上の結果を表1
にまとめて示す。
1(相対湿度)の状態て、キセノンランプて1.5X
10’ルツクス・時間になるように15日間保存し、最
高濃度部の透過レット濃度を前記濃度計てJlll定し
、保存前後の退色率(%)を求めた。以上の結果を表1
にまとめて示す。
表 1
上記表より、フィルム試料中に本発明の高沸点溶媒を用
い、安定液の表面張力か本発明の範囲内である際には、
未露光部のスティンか良好で、さらに驚くべきことに高
温、高湿下ての光に対する退色率も良好であることが判
る。しかるに、それぞれ単独て用いる際には、本発明の
効果を奏さない。
い、安定液の表面張力か本発明の範囲内である際には、
未露光部のスティンか良好で、さらに驚くべきことに高
温、高湿下ての光に対する退色率も良好であることが判
る。しかるに、それぞれ単独て用いる際には、本発明の
効果を奏さない。
実施例 2
実施例1のカラーネガ感光材料中に例示化合物m −(
xii)を用いてその他は実施例1のフィルム試料(1
)と同じにして、フィルム試料(3)を作成した。
xii)を用いてその他は実施例1のフィルム試料(1
)と同じにして、フィルム試料(3)を作成した。
実施例1の実験1と同様の方法てランニングテストを行
ったところ、安定液の表面張力はランニング終了時に:
17dyne/ c+*となワた。
ったところ、安定液の表面張力はランニング終了時に:
17dyne/ c+*となワた。
この収斂液てフィルム試料(3)を処理して、実施例1
と同じ実験を行ったところ、未露光部シアンスティン濃
度は0.Olで、退色率は8.4%てあり、極めて良好
な結果を得た。
と同じ実験を行ったところ、未露光部シアンスティン濃
度は0.Olで、退色率は8.4%てあり、極めて良好
な結果を得た。
これより、感光材料中に本発明に係わる界面活性剤を添
加し、安定液中に溶出せしめて、該安定液の表面張力を
本発明の範囲にコントロールしても、本発明の目的の効
果か得られることか判る。
加し、安定液中に溶出せしめて、該安定液の表面張力を
本発明の範囲にコントロールしても、本発明の目的の効
果か得られることか判る。
実施例 3
・ 実施例1の実験1て作成したランニングテスト終
了後の安定液に、例示化合物m−(xii)を適宜添加
して、表2に示す様な表面張力にコントロールし、実施
例1と同様な実験を行った。その結果・をまとめて表2
に示す。
了後の安定液に、例示化合物m−(xii)を適宜添加
して、表2に示す様な表面張力にコントロールし、実施
例1と同様な実験を行った。その結果・をまとめて表2
に示す。
たたし、表面張力を30dyne/cm以下にするには
、m −(xii)単独ではこの表面張力か得られない
のて一部シリコーンを併用した。
、m −(xii)単独ではこの表面張力か得られない
のて一部シリコーンを併用した。
表 2
なお表2において1表面G力が20dyne/ c!l
未nては、乾燥後のフィルム試料表面に汚れを生した。
未nては、乾燥後のフィルム試料表面に汚れを生した。
上記表より、安定液の表面張力か20〜60dyne/
clnである際に本発明の目的の効果を良好に奏し、さ
らに25〜50dyne/cmである際に、とりわけ良
好な効果を奏することか判る。
clnである際に本発明の目的の効果を良好に奏し、さ
らに25〜50dyne/cmである際に、とりわけ良
好な効果を奏することか判る。
実施例 4
実施例2の安定液中に木発明のシリコーン(FSアンチ
フオーム ロ25(ダウコーニンク株製)〕をシリコー
ン純分として安定液1文あたり20 +n gを添加し
て、同様の実験を行ったところ、退色率か、 7.3%
となり、良好な結果を得た。また、「Sアンチフオーム
BE (ダウコーニンク掴製)に替えて同様な実験
を行ったところ、これも、退色率か、 7.5%とよい
結果を得た。
フオーム ロ25(ダウコーニンク株製)〕をシリコー
ン純分として安定液1文あたり20 +n gを添加し
て、同様の実験を行ったところ、退色率か、 7.3%
となり、良好な結果を得た。また、「Sアンチフオーム
BE (ダウコーニンク掴製)に替えて同様な実験
を行ったところ、これも、退色率か、 7.5%とよい
結果を得た。
さらに、これら木発明に係るシリコーンを併用した場合
にはランニングテスト時の発泡作用も改善された。
にはランニングテスト時の発泡作用も改善された。
実施例 5
実施例1の試料(1)に用いたシアンカプラー(C−i
)を例示化合物(C−29)及び(C−51)にそれぞ
れ替えて同様の実験を行ったところ、本発明例の場合の
みシアン色素の高温、高温下ての光に対する退色率か、
さらに2〜3%改善された。
)を例示化合物(C−29)及び(C−51)にそれぞ
れ替えて同様の実験を行ったところ、本発明例の場合の
みシアン色素の高温、高温下ての光に対する退色率か、
さらに2〜3%改善された。
2炙91也畳り6
実施例1の安定液に用いられた防ハイ剤(2−メチル−
4−イソチアゾリン−3−オン)を、除去して実施例1
と同様の実験を行ったところ1本発明の目的の効果は得
られたものの、乾燥後のフィルム試料の表面に汚れか若
干生じ、さらにスティンの発生も0.01程度、悪化し
た。
4−イソチアゾリン−3−オン)を、除去して実施例1
と同様の実験を行ったところ1本発明の目的の効果は得
られたものの、乾燥後のフィルム試料の表面に汚れか若
干生じ、さらにスティンの発生も0.01程度、悪化し
た。
特許出願人 小西六写真工業株式会社代 理 人
弁理士 坂 口 信 昭(ほか1名)
弁理士 坂 口 信 昭(ほか1名)
Claims (6)
- (1)ハロゲン化銀カラー写真感光材料を定着能を有す
る処理液で処理し、引き続き実質的に水洗工程を経るこ
となく水洗代替安定液で処理するハロゲン化銀カラー写
真感光材料の処理方法において、該ハロゲン化銀カラー
写真感光材料が誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶
媒を含有し、かつ該水洗代替安定液の表面張力が20〜
60dyne/cmであることを特徴とするハロゲン化
銀カラー写真感光材料の処理方法。 - (2)水洗代替安定液がシリコーンを含有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料の処理方法。 - (3)誘電率3.5以上を有する高沸点有機溶媒が下記
一般式[ I ]又は[II]で示される化合物であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載のハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1及びR_2はそれぞれアルキル基、アルケ
ニル基又はアリール基を表す。 一般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_3、R_4及びR_5はそれぞれアルキル基
、アルケニル基又はアリール基を表す。 - (4)シリコーンがコンパウンドタイプ及び/又はエマ
ルジョンタイプであることを特徴とする特許請求の範囲
第2項又は第3項記載のハロゲン化銀カラー写真感光材
料の処理方法。 - (5)シリコーンを含有することを特徴とする水洗代替
安定液。 - (6)シリコーンがコンパウンドタイプ及び/またはエ
マルジョンタイプであることを特徴とする特許請求の範
囲第5項記載の水洗代替安定液。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21891985A JPS6278556A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法及び水洗代替安定液 |
CA000519459A CA1298729C (en) | 1985-10-01 | 1986-09-30 | Method of processing a silver halide color photosensitive material substantially free of rinsing and a stabilizing solution used therefor |
DE19863633175 DE3633175A1 (de) | 1985-10-01 | 1986-09-30 | Verfahren zum behandeln eines lichtempfindlichen farbphotographischen silberhalogenid-aufzeichnungsmaterials |
AU63423/86A AU589216B2 (en) | 1985-10-01 | 1986-10-01 | A method of processing a silver halide color photosensitive material substantially free of rinsing and a stabilizing solution used therefor |
GB8623542A GB2181856B (en) | 1985-10-01 | 1986-10-01 | A method of processing a silver halide color photosensitive material with a stabilizing solution and without rinsing |
US07/873,608 US5225320A (en) | 1985-10-01 | 1992-04-22 | Method of processing a silver halide color photosensitive material substantially free of rinsing and a stabilizing solution used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21891985A JPS6278556A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法及び水洗代替安定液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6278556A true JPS6278556A (ja) | 1987-04-10 |
JPH0439661B2 JPH0439661B2 (ja) | 1992-06-30 |
Family
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