JPS6277376A - 新規グリシジル化合物およびその製造方法 - Google Patents
新規グリシジル化合物およびその製造方法Info
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- JPS6277376A JPS6277376A JP21841285A JP21841285A JPS6277376A JP S6277376 A JPS6277376 A JP S6277376A JP 21841285 A JP21841285 A JP 21841285A JP 21841285 A JP21841285 A JP 21841285A JP S6277376 A JPS6277376 A JP S6277376A
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- JP
- Japan
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- compound
- glycidyl
- catalyst
- directly bonded
- glycidyl compound
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、縮合環を有する１価または多価グリシジルア
ミン化合物及びその製造方法に関する。
ミン化合物及びその製造方法に関する。
更に詳しくは、分子内に縮合環を有し、高い耐熱性、機
械的特性を有する新規エポキシ樹脂について鋭意研究を
進めた結果、完成されたものであり、コーティング材料
、接着剤、注型材料の他、炭素繊維およびガラス繊維積
層板用マドＩＪックス樹脂としての用途が期待される。
械的特性を有する新規エポキシ樹脂について鋭意研究を
進めた結果、完成されたものであり、コーティング材料
、接着剤、注型材料の他、炭素繊維およびガラス繊維積
層板用マドＩＪックス樹脂としての用途が期待される。
〔問題点を解決するための手段及び作用効果〕本発明は
、炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の芳香
環に直接結合するグリシシルアグリシジルアミノ基が１
分子中に２個以上存在する新規グリシジル化合物、及び
炭素数１０以上の縮合環芳香族化合物、例えばナフタレ
ン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンゾピ
レンなどの芳香環に直接結合したアミン基を２つ以上有
する化合物と、エピハロヒドリンを付加させたのち、ア
ルカリで脱ハロゲン化水素反応を行なわせる製造方法を
内容とする。
、炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の芳香
環に直接結合するグリシシルアグリシジルアミノ基が１
分子中に２個以上存在する新規グリシジル化合物、及び
炭素数１０以上の縮合環芳香族化合物、例えばナフタレ
ン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンゾピ
レンなどの芳香環に直接結合したアミン基を２つ以上有
する化合物と、エピハロヒドリンを付加させたのち、ア
ルカリで脱ハロゲン化水素反応を行なわせる製造方法を
内容とする。
上記の新規グリシジル化合物の化学構造式は、例えば下
記（１）式に示す通りである。
記（１）式に示す通りである。
（但し、ａ、 ｂは同時に０ではない０〜４の整数、
Ｒ１，１２，ＩＬ８． Ｒ，４は水素原子またはグリシ
ジル基であり、Ｒ１，Ｒ２のうちの一方または両方、か
つＲａ、几４のうちの一方または両方はグリシジル基で
ある。） 本発明の新規グリシジル化合物の製造は、前記の通り、
先づ炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の芳
香環に直接結合するアミン基を２つ以上有する化合物と
エピハロヒドリンとを付加反応させるが、付加反応に際
しては水またはアルコールを触媒として用い、次の脱ハ
ロゲン化反応に際しては第４級アンモニウム塩または第
４級ホスホニウム塩を触媒として用いることが適切であ
ることを見出した。
Ｒ１，１２，ＩＬ８． Ｒ，４は水素原子またはグリシ
ジル基であり、Ｒ１，Ｒ２のうちの一方または両方、か
つＲａ、几４のうちの一方または両方はグリシジル基で
ある。） 本発明の新規グリシジル化合物の製造は、前記の通り、
先づ炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の芳
香環に直接結合するアミン基を２つ以上有する化合物と
エピハロヒドリンとを付加反応させるが、付加反応に際
しては水またはアルコールを触媒として用い、次の脱ハ
ロゲン化反応に際しては第４級アンモニウム塩または第
４級ホスホニウム塩を触媒として用いることが適切であ
ることを見出した。
第１段階の付加反応は、縮合環化合物とエピハロヒドリ
ンを水またはアルコールの存在下で反応させることによ
り行なう。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパツール、１ｓｏ−プロパツール、ブタノ
ールなどを用いることができる。触媒の使用量は、縮合
環化合物に対して、０．５〜３００モル％の範囲で任意
に選択できるが、好ましくは１〜２００モル％である。
ンを水またはアルコールの存在下で反応させることによ
り行なう。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパツール、１ｓｏ−プロパツール、ブタノ
ールなどを用いることができる。触媒の使用量は、縮合
環化合物に対して、０．５〜３００モル％の範囲で任意
に選択できるが、好ましくは１〜２００モル％である。
エピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピ
ブロムヒドリン、エピヨードヒドリンが使用でき、その
使用量はアミ７基の水素１原子につき等モル以上、好ま
しくは１．０〜２０倍モル量であり、より好ましくは１
．０５〜５倍モル量である。
ブロムヒドリン、エピヨードヒドリンが使用でき、その
使用量はアミ７基の水素１原子につき等モル以上、好ま
しくは１．０〜２０倍モル量であり、より好ましくは１
．０５〜５倍モル量である。
反応温度及び時間は３０〜１５０°Ｃで１０分〜１０時
間、より好ましくは６０〜１２０°Ｃで３０分〜７時間
である。この際、芳香族系、ケトン系、またはアルコー
ル類などの溶媒を用いてもよい。
間、より好ましくは６０〜１２０°Ｃで３０分〜７時間
である。この際、芳香族系、ケトン系、またはアルコー
ル類などの溶媒を用いてもよい。
第二段階でアルカリを用いて脱ハロゲン化水素反応を行
なう。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどが使用できる。触媒としてはテトラブチルア
ンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウ
ムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロラ
イドなどの第４級アンモニウム塩、テトラフェニルホス
ホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロラ
イドなどの第４級ホスホニウム塩が使用できる。
なう。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどが使用できる。触媒としてはテトラブチルア
ンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウ
ムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロラ
イドなどの第４級アンモニウム塩、テトラフェニルホス
ホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロラ
イドなどの第４級ホスホニウム塩が使用できる。
アンモニウム塩またはホスホニウム塩の使用量は、縮合
環化合物に対して００１〜１００モル％の範囲で任意に
選択できるが、好ましくは０．０２〜２０モル％の量を
使用できる。アルカリの使用量は、用いた縮合環化合物
のアミノ基の水素１原子に対し等モル以上、好ましくは
１．０５〜２．０倍モルを使用する。なお、脱ハロゲン
化水素反応を行なう前に、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトン、トルエン、キシレン、エタノールナ
トの溶媒中で反応を行なわせてもよい。反応終了後、生
成する塩を水洗により除き、未反応エピクロルヒドリン
および溶媒を留去することにより、目的のグリシジル化
合物を高純度、高収率で得ることができる。
環化合物に対して００１〜１００モル％の範囲で任意に
選択できるが、好ましくは０．０２〜２０モル％の量を
使用できる。アルカリの使用量は、用いた縮合環化合物
のアミノ基の水素１原子に対し等モル以上、好ましくは
１．０５〜２．０倍モルを使用する。なお、脱ハロゲン
化水素反応を行なう前に、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトン、トルエン、キシレン、エタノールナ
トの溶媒中で反応を行なわせてもよい。反応終了後、生
成する塩を水洗により除き、未反応エピクロルヒドリン
および溶媒を留去することにより、目的のグリシジル化
合物を高純度、高収率で得ることができる。
以下にグリシジル化合物の合成例を示すが、本発明は、
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例
■、５−ナフタレンジアミン１５．８ ｇ（０，１モル
）、エピクロルヒドリン５５．５１ （０，６モル）、
純水１．８Ｐ（０，１モル）を３００肩ｔの田ロフラス
コに入れ、窒素置換したのち、８０°Ｃに昇温し、撹拌
下６時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトン
４０ｍ１．ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド
０．４５６．ｆ（０，００２モル）を加え、５０°Ｃと
し、これに４０％Ｎａ０Ｔ−１水溶液６４ｇ（０，６４
モル）を３０分間で滴下後、引き続き５０’Ｃで２時間
反応させたのち、水８０ｔｘｌを加えて塩を溶解し、水
層を除いた。水で５回１先浄後、硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶剤を留去し、Ｎ、 Ｎ。
）、エピクロルヒドリン５５．５１ （０，６モル）、
純水１．８Ｐ（０，１モル）を３００肩ｔの田ロフラス
コに入れ、窒素置換したのち、８０°Ｃに昇温し、撹拌
下６時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトン
４０ｍ１．ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド
０．４５６．ｆ（０，００２モル）を加え、５０°Ｃと
し、これに４０％Ｎａ０Ｔ−１水溶液６４ｇ（０，６４
モル）を３０分間で滴下後、引き続き５０’Ｃで２時間
反応させたのち、水８０ｔｘｌを加えて塩を溶解し、水
層を除いた。水で５回１先浄後、硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶剤を留去し、Ｎ、 Ｎ。
Ｎｌ 、 Ｎｒ−テトラグリシジル−１，５−ジアミノ
ナフタレン８４．４１を得た。収率は９０％であった。
ナフタレン８４．４１を得た。収率は９０％であった。
このもののエポキシ当量（塩酸−ピリジン法による）は
１１１．５であり、加水分解塩素量は０．０３０％であ
った（ ＡＳＴＭ Ｄ−１７２６−７８によった）。
１１１．５であり、加水分解塩素量は０．０３０％であ
った（ ＡＳＴＭ Ｄ−１７２６−７８によった）。
実施例で得られたグリシジル化合物を無水メチルハイミ
ック酸で硬化させて得られたサンプルの物性を表１に示
す。
ック酸で硬化させて得られたサンプルの物性を表１に示
す。
表 １
註）（１）硬化条件は１４０°Ｃで２時間、更に１７０
゛°Ｃで１５時間加熱。
゛°Ｃで１５時間加熱。
（２）表−１のＨＤＴ、曲げ強度、曲げ弾性率の測定法
は何れもＪＩＳ Ｋ−６９１１による。
は何れもＪＩＳ Ｋ−６９１１による。
Claims (4)
- （１）炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の
芳香環に直接結合するグリシジルアミノ基 ▲数式、化学式、表等があります▼を有し、かつ該 グリシジルアミノ基が１分子中に２個以上存在する新規
グリシジル化合物。 - （２）グリシジル化合物が、下記（ I ）式で表わされ
る特許請求の範囲第１項記載の新規グリシジル化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （但し、ａ、ｂは同時に０ではない０か から４までの整数、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４は
水素原子またはグリシジル基であり、Ｒ＾１、Ｒ＾２の
うちの一方または両方、かつＲ＾３、Ｒ＾４のうちの一
方または両方はグリシジル基であ る。） - （３）炭素数１０以上の縮合環芳香族炭化水素化合物の
芳香環に直接結合するアミノ基を２つ以上有する化合物
とエピハロヒドリンを付加させたのち、アルカリで脱ハ
ロゲン化水素反応を行なわせることを特徴とする新規グ
リシジル化合物の製造方法。 - （４）エピハロヒドリンとアミノ基の付加触媒として水
またはアルコールを用い、脱ハロゲン化水素反応の触媒
として第４級アンモニウム塩または第４級ホスホニウム
塩を用いる特許請求の範囲第３項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21841285A JPS6277376A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 新規グリシジル化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21841285A JPS6277376A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 新規グリシジル化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6277376A true JPS6277376A (ja) | 1987-04-09 |
Family
ID=16719506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21841285A Pending JPS6277376A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 新規グリシジル化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6277376A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006152135A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Jsr Corp | 液晶配向剤および液晶表示素子 |
| JP2008110941A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アダマンチルアミノ基含有エポキシ化合物及びその製造方法 |
| US20130005855A1 (en) * | 2010-03-23 | 2013-01-03 | Atsuhito Arai | Epoxy resin composition for use in a carbon-fiber-reinforced composite material, prepreg, and carbon-fiber-reinforced composite material |
-
1985
- 1985-10-01 JP JP21841285A patent/JPS6277376A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006152135A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Jsr Corp | 液晶配向剤および液晶表示素子 |
| JP4636238B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-02-23 | Ｊｓｒ株式会社 | 液晶配向剤および液晶表示素子 |
| JP2008110941A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アダマンチルアミノ基含有エポキシ化合物及びその製造方法 |
| US20130005855A1 (en) * | 2010-03-23 | 2013-01-03 | Atsuhito Arai | Epoxy resin composition for use in a carbon-fiber-reinforced composite material, prepreg, and carbon-fiber-reinforced composite material |
| US9434811B2 (en) * | 2010-03-23 | 2016-09-06 | Toray Industries, Inc. | Epoxy resin composition for use in a carbon-fiber-reinforced composite material, prepreg, and carbon-fiber-reinforced composite material |
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