JPS6266442A - 光メモリ素子用フオトマスク - Google Patents
光メモリ素子用フオトマスクInfo
- Publication number
- JPS6266442A JPS6266442A JP20786485A JP20786485A JPS6266442A JP S6266442 A JPS6266442 A JP S6266442A JP 20786485 A JP20786485 A JP 20786485A JP 20786485 A JP20786485 A JP 20786485A JP S6266442 A JPS6266442 A JP S6266442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- resist
- optical memory
- memory element
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は光により情報の記録、再生、消去の少くとも1
つの動作を行なう光メモリ素子に関するものであり、更
に詳細には光メモリ素子の基板にガイドトラック或いは
トラック番地等のパターンを転写する際に使用するフォ
トマスクに関するものである。
つの動作を行なう光メモリ素子に関するものであり、更
に詳細には光メモリ素子の基板にガイドトラック或いは
トラック番地等のパターンを転写する際に使用するフォ
トマスクに関するものである。
〈発明の技術的背景とその問題点〉
近年、光メモリ素子は高密度・大容量のメモリ素子とし
て年々その必要性が高まっている。この光メモリ素子は
その使用形態により、再生専用メモリ、追加記録可能メ
モリ及び書き換え可能メモリの3種に分けることができ
る。
て年々その必要性が高まっている。この光メモリ素子は
その使用形態により、再生専用メモリ、追加記録可能メ
モリ及び書き換え可能メモリの3種に分けることができ
る。
このうち、追加記録可能メモリ及び書き換え可能メモリ
として使用する光メモリ素子は、情報の記録、再生を行
う光ビームを光メモリ素子の所定の位置に案内するため
に、通常光メモリ素子の基板にガイドトラックをそなえ
ている。またこのガイドトラックが何番目のトラックか
を識別するために、ガイドトラックの一部にトラック番
地を示す情報が書き込まれていることが多い。
として使用する光メモリ素子は、情報の記録、再生を行
う光ビームを光メモリ素子の所定の位置に案内するため
に、通常光メモリ素子の基板にガイドトラックをそなえ
ている。またこのガイドトラックが何番目のトラックか
を識別するために、ガイドトラックの一部にトラック番
地を示す情報が書き込まれていることが多い。
このガイドトラックを光メモリ素子の基板に形成するた
めの製法の1つに特開昭59−210547に示す方法
がある。これを第5図を用いて略説する。まず第5図(
a)に示すようにガラスディスク1にスピンナー等で塗
布したレジスト膜2を形成し、次に同図(b)のごとく
、あらかじめガイドトラックやガイド番地を形成したフ
ォトマスク3を用い、該フォトマスク3を介してガラス
ディスク1に柴外線4を照射してフォトマスク3のガイ
ドトラッりやトラック番地(図中5で示した)のパター
ンをレジスト2に転写し、次に同図(c)のごとくレジ
スト2を現像した後、同図(d)のごとくCF4やCH
F3ガス中でのりアクチイプイオンエッチングでガラス
ディスク1にガイドトラックやトラック番地をきざみ、
最後に同図(d)の工程で残ったレジスト2を除去し、
同図(e)の如く基板を形成する。
めの製法の1つに特開昭59−210547に示す方法
がある。これを第5図を用いて略説する。まず第5図(
a)に示すようにガラスディスク1にスピンナー等で塗
布したレジスト膜2を形成し、次に同図(b)のごとく
、あらかじめガイドトラックやガイド番地を形成したフ
ォトマスク3を用い、該フォトマスク3を介してガラス
ディスク1に柴外線4を照射してフォトマスク3のガイ
ドトラッりやトラック番地(図中5で示した)のパター
ンをレジスト2に転写し、次に同図(c)のごとくレジ
スト2を現像した後、同図(d)のごとくCF4やCH
F3ガス中でのりアクチイプイオンエッチングでガラス
ディスク1にガイドトラックやトラック番地をきざみ、
最後に同図(d)の工程で残ったレジスト2を除去し、
同図(e)の如く基板を形成する。
この従来方法において技術的に困難なのは、同図(b)
のガイドトラックやトラック番地のパターンの転゛写工
程である。すなわち、フォトマスク3とレジスト2とは
密着していることが望ましいが、従来では第6図のごと
くレジスト塗布時にレジスト膜2がガラスディスク1の
端面で一部もり上る現象6があり、そのだめレジスト膜
2とフォトマスク3との密着不良になる事が多かった。
のガイドトラックやトラック番地のパターンの転゛写工
程である。すなわち、フォトマスク3とレジスト2とは
密着していることが望ましいが、従来では第6図のごと
くレジスト塗布時にレジスト膜2がガラスディスク1の
端面で一部もり上る現象6があり、そのだめレジスト膜
2とフォトマスク3との密着不良になる事が多かった。
この密着不良部分の巾は1〜2fi程度である。同図の
フォトマスク3ではガイドトラック等のパターンは省略
している。
フォトマスク3ではガイドトラック等のパターンは省略
している。
く目 的〉
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、ガラスディ
スク端面のレジストのもり上りによるレジストとフォト
マスクの密着不良を防ぐフォトマスクを提供することを
目的とする。
スク端面のレジストのもり上りによるレジストとフォト
マスクの密着不良を防ぐフォトマスクを提供することを
目的とする。
〈実施例〉
以下本発明に係る光メモリ素子用のフォトマスクの実施
例を図面を用いて詳細に説明する。
例を図面を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明に係る光メモリ素子用フォトマスクの一
実施例の一部拡大断面図である。同図に示す如く、フォ
トマスク7のガラスディスク1の端部に対向する場所に
レジスト6のもり上り部を吸収する溝8を形成すること
で、密着不良を除去する。
実施例の一部拡大断面図である。同図に示す如く、フォ
トマスク7のガラスディスク1の端部に対向する場所に
レジスト6のもり上り部を吸収する溝8を形成すること
で、密着不良を除去する。
卆
この溝8は例えばガラスディスク1がσ130m±0.
1mの場合ならば、第2図に示すように直径127■の
ところから幅4mを持ち、その深さは0.2露〜0.5
■程度であることが望ましい。もちろんこの溝の断面形
状は第2図のごとく角型である必要は々く、第3図(a
)に示すごとく断面形状は三角形でもよいし、第3図(
b)に示すごとく半円形状でも良い。要するに、ガラス
ディスク1端部におけるレジスト6のもり上り部を吸収
する部分をフォトマスクに設ければよい。よってフォト
マスク7の端部を第4図に示すようにマスク中央部の厚
さよりも薄くして、その薄い部分でレジスト6のもり上
り部6を吸収することも可能である。
1mの場合ならば、第2図に示すように直径127■の
ところから幅4mを持ち、その深さは0.2露〜0.5
■程度であることが望ましい。もちろんこの溝の断面形
状は第2図のごとく角型である必要は々く、第3図(a
)に示すごとく断面形状は三角形でもよいし、第3図(
b)に示すごとく半円形状でも良い。要するに、ガラス
ディスク1端部におけるレジスト6のもり上り部を吸収
する部分をフォトマスクに設ければよい。よってフォト
マスク7の端部を第4図に示すようにマスク中央部の厚
さよりも薄くして、その薄い部分でレジスト6のもり上
り部6を吸収することも可能である。
〈効 果〉
本発明によれば光メモリ素子のガイドトラックやトラッ
ク番地のパターンをフォトマスクを用いて光メモリ素子
用基板に塗布されたレジスト膜に良好に転写ができる。
ク番地のパターンをフォトマスクを用いて光メモリ素子
用基板に塗布されたレジスト膜に良好に転写ができる。
第1図は本発明に係る光メモリ素子用フォトマスクの一
実施例の一部拡大断面図、第2図はその全体の断面図、
第3図、第4図は他の実施例の一部拡大断面図、第5図
は従来のガイドトラック形成手順の説明図、第6図は従
来のフォトマスクの一部拡大断面図を示す。 図中、1ニガラスデイスク 2ニレジスト啜 3:フォトマスク 4:柴外線 5:パターン 6:レジスト 7二フオトマスク 8:溝 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)第1図 第2図
実施例の一部拡大断面図、第2図はその全体の断面図、
第3図、第4図は他の実施例の一部拡大断面図、第5図
は従来のガイドトラック形成手順の説明図、第6図は従
来のフォトマスクの一部拡大断面図を示す。 図中、1ニガラスデイスク 2ニレジスト啜 3:フォトマスク 4:柴外線 5:パターン 6:レジスト 7二フオトマスク 8:溝 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板に塗布されたレジスト膜に対してパターンを転
写する為のフォトマスクであって、 前記レジスト膜の凸部に対応する位置に予め切り欠きが
形成されてなることを特徴とする光メモリ素子用フォト
マスク。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60207864A JP2534226B2 (ja) | 1985-09-19 | 1985-09-19 | 光メモリ素子用フオトマスク |
DE3689593T DE3689593T2 (de) | 1985-08-30 | 1986-08-29 | Element für optische Speicherung und Verfahren zu dessen Herstellung. |
EP90203177A EP0434114B1 (en) | 1985-08-30 | 1986-08-29 | Optical memory element and manufacturing method thereof |
DE8686306711T DE3682985D1 (de) | 1985-08-30 | 1986-08-29 | Verfahren zur herstellung eines optischen verzeichniselementes. |
EP19860306711 EP0214824B1 (en) | 1985-08-30 | 1986-08-29 | Manufacturing method for an optical memory element |
US07/229,753 US4925776A (en) | 1985-08-30 | 1988-08-08 | Optical memory element and manufacturing method thereof |
US08/074,272 US5470694A (en) | 1985-08-30 | 1993-06-10 | Optical memory element and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60207864A JP2534226B2 (ja) | 1985-09-19 | 1985-09-19 | 光メモリ素子用フオトマスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6266442A true JPS6266442A (ja) | 1987-03-25 |
JP2534226B2 JP2534226B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=16546806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60207864A Expired - Fee Related JP2534226B2 (ja) | 1985-08-30 | 1985-09-19 | 光メモリ素子用フオトマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2534226B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5532250A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Duplicating method for fine pattern |
JPS59102235A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ホトマスク |
JPS59210547A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Sharp Corp | 光メモリ素子の製造方法 |
-
1985
- 1985-09-19 JP JP60207864A patent/JP2534226B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5532250A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Duplicating method for fine pattern |
JPS59102235A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ホトマスク |
JPS59210547A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Sharp Corp | 光メモリ素子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2534226B2 (ja) | 1996-09-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |