JPH1196606A - 光ディスク製作用マスタディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスク製作用マスタディスクの製造方法Info
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- JPH1196606A JPH1196606A JP10092063A JP9206398A JPH1196606A JP H1196606 A JPH1196606 A JP H1196606A JP 10092063 A JP10092063 A JP 10092063A JP 9206398 A JP9206398 A JP 9206398A JP H1196606 A JPH1196606 A JP H1196606A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ディスク製作用マスタディスクの製造方法
を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板上に１次フォトレジスト層をコーテ
ィングする段階３００と、１次フォトレジスト層を溝及
びランドに各々相応する溝形成リセス及びランド形成突
出部パターンにより露光させる段階３１０と、基板及び
１次フォトレジスト層を蝕刻して基板に溝形成リセス及
びランド形成突出部を形成させる段階３２０と、基板上
に２次フォトレジスト層をコーティングすることにより
溝及びランドを形成する段階３３０と、２次フォトレジ
スト層を所定の情報の記録されるピットパターンによっ
て露光させる段階３４０と、２次フォトレジスト層を蝕
刻して溝及びランドにピットを形成させる段階３５０と
を備える方法とした。
を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板上に１次フォトレジスト層をコーテ
ィングする段階３００と、１次フォトレジスト層を溝及
びランドに各々相応する溝形成リセス及びランド形成突
出部パターンにより露光させる段階３１０と、基板及び
１次フォトレジスト層を蝕刻して基板に溝形成リセス及
びランド形成突出部を形成させる段階３２０と、基板上
に２次フォトレジスト層をコーティングすることにより
溝及びランドを形成する段階３３０と、２次フォトレジ
スト層を所定の情報の記録されるピットパターンによっ
て露光させる段階３４０と、２次フォトレジスト層を蝕
刻して溝及びランドにピットを形成させる段階３５０と
を備える方法とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光記録/再生媒体の
光ディスクを製作するためのマスタディスクを製造する
方法に関する。
光ディスクを製作するためのマスタディスクを製造する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、DVD-RAMのような高密度光ディス
クには、図１に示されたように、螺旋状のトラックに沿
って情報の記録される溝1とランド2とが備えられてい
る。従って、前記溝1とランド2とに各々ピット3を形成
させることにより、所望の情報を記録しうる。即ち、溝
1とランド2の両方に情報を記録しうるので、溝1または
ランド2のうち何れか一つにのみ情報を記録していた従
来の光ディスクに比べて高密度で大容量の情報を記録し
うる。
クには、図１に示されたように、螺旋状のトラックに沿
って情報の記録される溝1とランド2とが備えられてい
る。従って、前記溝1とランド2とに各々ピット3を形成
させることにより、所望の情報を記録しうる。即ち、溝
1とランド2の両方に情報を記録しうるので、溝1または
ランド2のうち何れか一つにのみ情報を記録していた従
来の光ディスクに比べて高密度で大容量の情報を記録し
うる。
【０００３】前記光ディスクは図２乃至図５に示された
ような工程を経て製作される。まず図２に示されたよう
に、基板10上に感光媒体のフォトレジスト20をコーティ
ングした後、その基板10を回転させながらフォトレジス
ト20の表面に溝用レーザー30及びピット用レーザー30'
を同時に照射することにより、溝、ランド及びピットの
パターンに応じて露光させる。部材番号31及び31'はレ
ーザーをオン/オフさせるモジュレータを示す。次い
で、図３に示されたように、前記露光されたフォトレジ
ストに蝕刻液を噴射させ、溝、ランド及びピットの形成
されたマスタディスク15を製造する。製造された前記マ
スタディスク15を図４のようにスタンピングすることに
より父ディスク(father disc)25を製造した後、図５に
示されたように、前記父ディスク25を金型40に装着した
後、樹脂35を注入する射出成形法により光ディスクを複
製する。
ような工程を経て製作される。まず図２に示されたよう
に、基板10上に感光媒体のフォトレジスト20をコーティ
ングした後、その基板10を回転させながらフォトレジス
ト20の表面に溝用レーザー30及びピット用レーザー30'
を同時に照射することにより、溝、ランド及びピットの
パターンに応じて露光させる。部材番号31及び31'はレ
ーザーをオン/オフさせるモジュレータを示す。次い
で、図３に示されたように、前記露光されたフォトレジ
ストに蝕刻液を噴射させ、溝、ランド及びピットの形成
されたマスタディスク15を製造する。製造された前記マ
スタディスク15を図４のようにスタンピングすることに
より父ディスク(father disc)25を製造した後、図５に
示されたように、前記父ディスク25を金型40に装着した
後、樹脂35を注入する射出成形法により光ディスクを複
製する。
【０００４】前記製造方法において、ランド、溝及びピ
ットのパターンが一枚のフォトレジスト層上に露光を通
して形成されてから同時に蝕刻されるので、ランド、溝
及びピットの間の境界が明確でない。従って、光ディス
クの情報再生時、情報信号の開始点と終了点とが正確に
検出されないため、適時に出力信号が出力できない所謂
ジッタ(jitter)エラーが増加する。
ットのパターンが一枚のフォトレジスト層上に露光を通
して形成されてから同時に蝕刻されるので、ランド、溝
及びピットの間の境界が明確でない。従って、光ディス
クの情報再生時、情報信号の開始点と終了点とが正確に
検出されないため、適時に出力信号が出力できない所謂
ジッタ(jitter)エラーが増加する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解決するために創出されたものであって、多量の情報を
高密度に記録すると同時に、ジッタエラーを減少させる
ように改善された光ディスク製作用マスタディスクの製
造方法を提供するにその目的がある。
解決するために創出されたものであって、多量の情報を
高密度に記録すると同時に、ジッタエラーを減少させる
ように改善された光ディスク製作用マスタディスクの製
造方法を提供するにその目的がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明のマスタディスクの製造方法は、基板上に1次
フォトレジスト層をコーティングする段階と、前記1次
フォトレジスト層を溝及びランドに各々相応する溝形成
リセス及びランド形成突出部パターンにより露光させる
段階と、前記基板及び前記1次フォトレジスト層を蝕刻
して前記基板に前記溝形成リセス及びランド形成突出部
を形成させる段階と、前記基板上に２次フォトレジスト
層をコーティングすることにより溝及びランドを形成す
る段階と、前記２次フォトレジスト層を所定の情報の記
録されるピットパターンによって露光させる段階と、前
記２次フォトレジスト層を蝕刻して前記溝及びランドに
前記ピットを形成させる段階とを含む。ここで、前記基
板はSiO2よりなる。
の本発明のマスタディスクの製造方法は、基板上に1次
フォトレジスト層をコーティングする段階と、前記1次
フォトレジスト層を溝及びランドに各々相応する溝形成
リセス及びランド形成突出部パターンにより露光させる
段階と、前記基板及び前記1次フォトレジスト層を蝕刻
して前記基板に前記溝形成リセス及びランド形成突出部
を形成させる段階と、前記基板上に２次フォトレジスト
層をコーティングすることにより溝及びランドを形成す
る段階と、前記２次フォトレジスト層を所定の情報の記
録されるピットパターンによって露光させる段階と、前
記２次フォトレジスト層を蝕刻して前記溝及びランドに
前記ピットを形成させる段階とを含む。ここで、前記基
板はSiO2よりなる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図６乃至図１０に基づき本
発明の実施の形態によるマスタディスクの製造方法を説
明する。まず、段階300において、図６に示されたよう
に基板100上に1次フォトレジスト層110を塗布する。こ
の際、前記基板100はSiO2からなっている。次いで、前
記基板100を回転させながら１次フォトレジスト層110を
レーザー光210で露光させる(段階310)。この際、前記1
次フォトレジスト層110は後述する溝101(図８参照)及び
ランド102に相応するパターンに露光される。段階320に
おいて、前記露光された基板100を、例えば反応性イオ
ン蝕刻法等で蝕刻した後、前記1次フォトレジスト層110
を除去する。そうすると、図７に示されたように前記Si
O2基板100に、溝101及びランド102に相応する溝形成リ
セス101'とランド形成突出部102’とが形成される。
発明の実施の形態によるマスタディスクの製造方法を説
明する。まず、段階300において、図６に示されたよう
に基板100上に1次フォトレジスト層110を塗布する。こ
の際、前記基板100はSiO2からなっている。次いで、前
記基板100を回転させながら１次フォトレジスト層110を
レーザー光210で露光させる(段階310)。この際、前記1
次フォトレジスト層110は後述する溝101(図８参照)及び
ランド102に相応するパターンに露光される。段階320に
おいて、前記露光された基板100を、例えば反応性イオ
ン蝕刻法等で蝕刻した後、前記1次フォトレジスト層110
を除去する。そうすると、図７に示されたように前記Si
O2基板100に、溝101及びランド102に相応する溝形成リ
セス101'とランド形成突出部102’とが形成される。
【０００８】次いで、図８のように前記SiO2基板100上
に再び２次フォトレジスト層120をコーティングする(段
階330)。この際、前記２次フォトレジスト層120は前記
溝形成リセス101'及びランド形成突出部102’との表面
に沿って厚さが均一にコーティングされる。従って、こ
の２次フォトレジスト層120をコーティングすることに
より溝101及びランド102の形成が完了される。ピットを
形成させるために、前記２次フォトレジスト層120はレ
ーザー光の照射によりピットパターンに露光される(段
階340)。前記ピットパターンは前記溝101及びランド102
上に形成される。例えば、ガルバノミラー(galvano mir
ror)のようなレーザー反射ミラーを微細に調整すること
により、前記レーザー光のスポットが前記溝102及びラ
ンド101を正確に追跡できるようにする。次いで、段階3
50において、前記２次フォトレジスト層120を蝕刻し
て、図９に示されたように、２次フォトレジスト層120
の溝101及びランド102にピット103を形成させる。これ
により、マスタディスクを完成する。本発明によれば、
基板と２次フォトレジスト層に対して各段階別に蝕刻工
程が行われるので、溝、ランド及びピットが比較的明確
に形成される。前記マスタディスクを用いて前述したよ
うに光ディスクを型押しする。
に再び２次フォトレジスト層120をコーティングする(段
階330)。この際、前記２次フォトレジスト層120は前記
溝形成リセス101'及びランド形成突出部102’との表面
に沿って厚さが均一にコーティングされる。従って、こ
の２次フォトレジスト層120をコーティングすることに
より溝101及びランド102の形成が完了される。ピットを
形成させるために、前記２次フォトレジスト層120はレ
ーザー光の照射によりピットパターンに露光される(段
階340)。前記ピットパターンは前記溝101及びランド102
上に形成される。例えば、ガルバノミラー(galvano mir
ror)のようなレーザー反射ミラーを微細に調整すること
により、前記レーザー光のスポットが前記溝102及びラ
ンド101を正確に追跡できるようにする。次いで、段階3
50において、前記２次フォトレジスト層120を蝕刻し
て、図９に示されたように、２次フォトレジスト層120
の溝101及びランド102にピット103を形成させる。これ
により、マスタディスクを完成する。本発明によれば、
基板と２次フォトレジスト層に対して各段階別に蝕刻工
程が行われるので、溝、ランド及びピットが比較的明確
に形成される。前記マスタディスクを用いて前述したよ
うに光ディスクを型押しする。
【０００９】本発明の効果は次の実験例によりさらに明
確になる。 ＜実験例＞本実験例において、マスタディスクa、bは従
来の方法により製造されたものであって、それぞれの容
量が10Gbyteと15.12GByteである。マスタディスクc、d
は本発明の方法によって製造されたものであって、溝の
深さはλ/6η(λ：再生用レーザー光の波長、η：ディ
スクの屈折率)、ピットの深さはλ/4n(n=1,2,3,...)で
あり、露光用レーザー光は430nmの波長を有した青色レ
ーザーが使われた。前記マスタディスクa、b、c、dに対
する溝の角度及びジッタエラー率は次の表1の通りであ
る。ここで、溝の角度とは溝の側面とディスクの水平面
との角度を意味する。
確になる。 ＜実験例＞本実験例において、マスタディスクa、bは従
来の方法により製造されたものであって、それぞれの容
量が10Gbyteと15.12GByteである。マスタディスクc、d
は本発明の方法によって製造されたものであって、溝の
深さはλ/6η(λ：再生用レーザー光の波長、η：ディ
スクの屈折率)、ピットの深さはλ/4n(n=1,2,3,...)で
あり、露光用レーザー光は430nmの波長を有した青色レ
ーザーが使われた。前記マスタディスクa、b、c、dに対
する溝の角度及びジッタエラー率は次の表1の通りであ
る。ここで、溝の角度とは溝の側面とディスクの水平面
との角度を意味する。
【００１０】
【表１】 表から分かるように、マスタディスクa、bの溝の角度は
約50゜であることに比べ、本発明によるマスタディスク
c、dの溝の角度は約80゜である。即ち、マスタディスク
c、dの溝がさらに明確に形成されたことが分かる。ま
た、本発明によって製造されたマスタディスクに対する
ジッタエラー率は従来のものに比べて1/2程度に減少す
ることが分かる。
約50゜であることに比べ、本発明によるマスタディスク
c、dの溝の角度は約80゜である。即ち、マスタディスク
c、dの溝がさらに明確に形成されたことが分かる。ま
た、本発明によって製造されたマスタディスクに対する
ジッタエラー率は従来のものに比べて1/2程度に減少す
ることが分かる。
【００１１】
【発明の効果】前述したように本発明によるマスタディ
スク製造方法によれば、溝、ランド及びピットの間の境
界線を鋭利に形成できるため、情報記録及び再生特性を
改善すると同時に高密度の情報記録を実現しうる。
スク製造方法によれば、溝、ランド及びピットの間の境
界線を鋭利に形成できるため、情報記録及び再生特性を
改善すると同時に高密度の情報記録を実現しうる。
【図１】 一般の光ディスクの一部斜視図である。
【図２】 従来のマスタディスクの製作過程を説明する
ための図であって、フォトレジスト層にレーザー光を照
射している図である。
ための図であって、フォトレジスト層にレーザー光を照
射している図である。
【図３】 図２に続いて、露光されたフォトレジストに
蝕刻液を噴射させて、マスタディスクを製造することを
示す図である。
蝕刻液を噴射させて、マスタディスクを製造することを
示す図である。
【図４】 図３に続いて、マスタディスクから父ディス
クを製造することを示す図である。
クを製造することを示す図である。
【図５】 図４に続いて、父ディスクを金型に装着して
光ディスクを複製することを示す図である。
光ディスクを複製することを示す図である。
【図６】 本発明によるマスタディスクの製造方法を示
す図であって、１次フォトレジスト層をレーザー光で露
光している図である。
す図であって、１次フォトレジスト層をレーザー光で露
光している図である。
【図７】 図６に続いて、溝形成リセス及びランド形成
突出部を形成することを示す図である。
突出部を形成することを示す図である。
【図８】 図７に続いて、溝及びランドを形成すること
を示す図である。
を示す図である。
【図９】 図８に続いて、溝及びランドにピットを形成
させることを示す図である。
させることを示す図である。
【図１０】 本発明によるマスタディスクの製造方法を
示した流れ図である。
示した流れ図である。
１００ 基板 １０１ 溝 １０１’ 溝形成リセス １０２ ランド １０２’ ランド形成突出部 １０３ ピット １１０ １次フォトレジスト層 １２０ ２次フォトレジスト層
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に1次フォトレジスト層をコーテ
ィングする段階と、 前記1次フォトレジスト層を溝及びランドに各々相応す
る溝形成リセス及びランド形成突出部パターンにより露
光させる段階と、 前記基板及び前記1次フォトレジスト層を蝕刻して前記
基板に前記溝形成リセス及びランド形成突出部を形成さ
せる段階と、 前記基板上に２次フォトレジスト層をコーティングする
ことにより溝及びランドを形成する段階と、 前記２次フォトレジスト層を所定の情報の記録されるピ
ットパターンによって露光させる段階と、 前記２次フォトレジスト層を蝕刻して前記溝及びランド
に前記ピットを形成させる段階とを含むことを特徴とす
る光ディスク製作用マスタディスクの製造方法。 - 【請求項２】 前記蝕刻は反応性イオン蝕刻法で行うこ
とを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製作用マス
タディスクの製造方法。 - 【請求項３】 前記基板はSiO2材質よりなることを特徴
とする請求項１に記載の光ディスク製作用マスタディス
クの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970047210A KR100234291B1 (ko) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 광디스크 제작용 마스타 디스크 제조방법 |
| KR199747210 | 1997-09-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1196606A true JPH1196606A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=19521266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10092063A Pending JPH1196606A (ja) | 1997-09-12 | 1998-04-03 | 光ディスク製作用マスタディスクの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6071586A (ja) |
| JP (1) | JPH1196606A (ja) |
| KR (1) | KR100234291B1 (ja) |
| CN (1) | CN1112677C (ja) |
| NL (1) | NL1008602C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9145163B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-09-29 | Crown Equipment Corporation | Electrical steering assist features for materials handling vehicles |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7239602B2 (en) * | 1998-08-27 | 2007-07-03 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium with a partition wall between an information tracks groove and a preformat pit encoding information therefor |
| KR100234292B1 (ko) * | 1997-10-08 | 1999-12-15 | 윤종용 | 광디스크 제작용 마스터 디스크 제조방법 |
| KR100433238B1 (ko) * | 1998-04-04 | 2004-09-16 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크및마스터디스크제조방법및장치 |
| FR2928486B1 (fr) * | 2008-03-07 | 2011-08-19 | Commissariat Energie Atomique | Structure de stockage optique a haute densite |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5911551A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Toshiba Corp | 光学式情報記憶媒体 |
| US4861699A (en) * | 1983-03-16 | 1989-08-29 | U.S. Philips Corporation | Method of making a master disk used in making optical readable information disks |
| US4544443A (en) * | 1983-05-13 | 1985-10-01 | Shap Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing an optical memory element |
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| JPH01237943A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Toshiba Corp | 光ディスク成形用金型およびその製造方法 |
| KR100200803B1 (ko) * | 1992-04-30 | 1999-06-15 | 윤종용 | 정보소스 디스크와 이 정보소스 디스크의 광기록장치 및 그 정보소스 디스크의 복제방법과 그 복제장치 |
| JP2868682B2 (ja) * | 1992-05-15 | 1999-03-10 | シャープ株式会社 | 光ディスク |
| FR2702077B1 (fr) * | 1993-02-22 | 1995-04-21 | Digipress Sa | Procédé de fabrication d'un disque maître et d'une matrice de pressage de disques optiques perfectionnés, disque optique obtenu à partir de ce disque maître ou de cette matrice de pressage. |
| JPH0750038A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の作製方法 |
| US5471455A (en) * | 1994-05-17 | 1995-11-28 | Jabr; Salim N. | High density optical storage system |
-
1997
- 1997-09-12 KR KR1019970047210A patent/KR100234291B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-03-10 US US09/037,851 patent/US6071586A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 CN CN98105526A patent/CN1112677C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-16 NL NL1008602A patent/NL1008602C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1998-04-03 JP JP10092063A patent/JPH1196606A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9145163B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-09-29 | Crown Equipment Corporation | Electrical steering assist features for materials handling vehicles |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL1008602C2 (nl) | 1999-07-20 |
| KR19990025545A (ko) | 1999-04-06 |
| US6071586A (en) | 2000-06-06 |
| CN1211786A (zh) | 1999-03-24 |
| NL1008602A1 (nl) | 1999-03-15 |
| CN1112677C (zh) | 2003-06-25 |
| KR100234291B1 (ko) | 1999-12-15 |
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