JPS6259556A - 特殊基材ガラスからＣｓ＋イオンでイオン交換することにより製造される光導波管 - Google Patents
特殊基材ガラスからＣｓ＋イオンでイオン交換することにより製造される光導波管Info
- Publication number
- JPS6259556A JPS6259556A JP61011805A JP1180586A JPS6259556A JP S6259556 A JPS6259556 A JP S6259556A JP 61011805 A JP61011805 A JP 61011805A JP 1180586 A JP1180586 A JP 1180586A JP S6259556 A JPS6259556 A JP S6259556A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- glass
- ion exchange
- ions
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
- C03C13/046—Multicomponent glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
- G02B6/1345—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms using ion exchange
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明ハ、Ｓ！ ０２ ／Ｂ２０３ ／ＡＱ２０３ ／
に２０／Ｆ−ガラス系の特殊基材ガラス中に存在するア
ルカリイオンをＣｓ イオンで一部交換することによ
り該ガラスから製造される光導波管（ｌｉｇｈｔＷａＶ
ｅ−ｉ）Ｕｉｄｅ ）に関する。
に２０／Ｆ−ガラス系の特殊基材ガラス中に存在するア
ルカリイオンをＣｓ イオンで一部交換することによ
り該ガラスから製造される光導波管（ｌｉｇｈｔＷａＶ
ｅ−ｉ）Ｕｉｄｅ ）に関する。
（従来の技術）
今日の技術情況は、各種刊行物に明らか−である。
ジー・ステーワード（Ｇ、Ｓ丁ＥすＡＲＤ）著、ジャー
ナルオブ ノンークリスタライン ソリッドス（Ｊ。
ナルオブ ノンークリスタライン ソリッドス（Ｊ。
ｕｒｎａｌ ｏｆ Ｎｏｒｉ−ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ
５ｏｌｉｄｓ）第４７巻、１９１〜２００頁（１９８
２年〉に一般的総説が記載されている。この方法によれ
ば、光導波管は、Ｌ！２Ｏ−１Ｎａ２０−、に２０−含
有基材ガラス類からイオン交換方法により製造すること
ができる。イオン交換可能なイオンとして、Ｌｌ 、
ｉａ 。
５ｏｌｉｄｓ）第４７巻、１９１〜２００頁（１９８
２年〉に一般的総説が記載されている。この方法によれ
ば、光導波管は、Ｌ！２Ｏ−１Ｎａ２０−、に２０−含
有基材ガラス類からイオン交換方法により製造すること
ができる。イオン交換可能なイオンとして、Ｌｌ 、
ｉａ 。
Ｋ 、ＴΩ および八〇 が記載されている。
これらイオンのイオン交換方法により製造される先導波
管は、次の刊行物に記載されている：イー、つ４−ゲス
等著 アイイーイーイー ジャーナル オブ クオント
、エレクトリ）、（Ｅ、ＶＯＧＥＳ ｅｔ ａｌ、、Ｉ
［ＥＥ ＪＯＩＪｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔ、 Ｅｌ
ｅＣｔｒ、 ） ＱＥ−１８，１８７７（１９８２）、
ジー、エッチ、ヂψ−ティアー等箸エレク１ヘロニクス
レター（Ｇ、Ｈ，ＣＩｌ八ＲへＴ Ｉ Ｅ Ｉ？ｅｔ
ａｌ、、 Ｅｌｅｃｔｒｏｒｉｉｃｓ Ｌｅｔ
ｔ、） １３、 ７６３ （１９７７） 、ティ
ー、イザワ、エッチ、ナカゴメ著、アプル・フィシ、
レター （Ｔ、ＩＺ八へＡ、Ｈ，ＮＡＫＡＧＯＨＥ
八ｐｐｌ 、Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、）２１，５８４
（１９７２） 、アール・ジー、ヴオルカー、シー、デ
ー、ダブリュ、ウィルキンソン、ジエイ・エイ・エッチ
・ウイルギンソン著 アプル・オブディクス（Ｒ，Ｇ、
ΔＡＬＫＥＩ？、 Ｃ，Ｄ、 Ｗ、 ＷＩＬＫＩＮＳＯ
Ｎ、Ｊ、 へ、１１．ＷＩＬにｌＮ５ＯＮ、＾ｐｐ１．
０ｐｔｉｃｓ ） ２２．１９２３（１９８３）
。
管は、次の刊行物に記載されている：イー、つ４−ゲス
等著 アイイーイーイー ジャーナル オブ クオント
、エレクトリ）、（Ｅ、ＶＯＧＥＳ ｅｔ ａｌ、、Ｉ
［ＥＥ ＪＯＩＪｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔ、 Ｅｌ
ｅＣｔｒ、 ） ＱＥ−１８，１８７７（１９８２）、
ジー、エッチ、ヂψ−ティアー等箸エレク１ヘロニクス
レター（Ｇ、Ｈ，ＣＩｌ八ＲへＴ Ｉ Ｅ Ｉ？ｅｔ
ａｌ、、 Ｅｌｅｃｔｒｏｒｉｉｃｓ Ｌｅｔ
ｔ、） １３、 ７６３ （１９７７） 、ティ
ー、イザワ、エッチ、ナカゴメ著、アプル・フィシ、
レター （Ｔ、ＩＺ八へＡ、Ｈ，ＮＡＫＡＧＯＨＥ
八ｐｐｌ 、Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、）２１，５８４
（１９７２） 、アール・ジー、ヴオルカー、シー、デ
ー、ダブリュ、ウィルキンソン、ジエイ・エイ・エッチ
・ウイルギンソン著 アプル・オブディクス（Ｒ，Ｇ、
ΔＡＬＫＥＩ？、 Ｃ，Ｄ、 Ｗ、 ＷＩＬＫＩＮＳＯ
Ｎ、Ｊ、 へ、１１．ＷＩＬにｌＮ５ＯＮ、＾ｐｐ１．
０ｐｔｉｃｓ ） ２２．１９２３（１９８３）
。
この方法によれば、平型光導波管は、屈折率増加イオン
Ｌｉ、Ａｇ およびＴΩ でイオン交換法によりガラス
から製造することができる。基材ガラス材料として、商
業上の一般的な窓ガラス顕微鏡用カバーガラスおるいは
仙の標準ガラスが使用される。リチウムでイオン交換さ
れたガラスから光導波管を製造すること１よ、リチウム
と交換されるガラス中の１価イオンと比較すると、ｌ−
ｉ“イオンのイオン半径が本質的に小さいために問題を
含んでいる。このために、イオン交換後の冷却工程にお
いて大部分のガラスは、網状構造の破壊、すなわち、ガ
ラス表面が破壊してしまう。もし実際の破壊がなければ
、先導波管は、多くの場合には不利益効果で必る極めて
大きな応力複屈折を示すであろう。リチウム−イオン交
換により得られる屈折率の増加は、Δｎ＝ｏ。０１５で
は、多くの場合には不十分である。銀塩浴中のイオン交
換により製造される光導波管は、イオン交換されていな
い基材ガラス体と比較すると、しばしば著しく半透明に
なっている。この高い吸収は、高温にあける１価銀イオ
ンの不安定によるものである。
Ｌｉ、Ａｇ およびＴΩ でイオン交換法によりガラス
から製造することができる。基材ガラス材料として、商
業上の一般的な窓ガラス顕微鏡用カバーガラスおるいは
仙の標準ガラスが使用される。リチウムでイオン交換さ
れたガラスから光導波管を製造すること１よ、リチウム
と交換されるガラス中の１価イオンと比較すると、ｌ−
ｉ“イオンのイオン半径が本質的に小さいために問題を
含んでいる。このために、イオン交換後の冷却工程にお
いて大部分のガラスは、網状構造の破壊、すなわち、ガ
ラス表面が破壊してしまう。もし実際の破壊がなければ
、先導波管は、多くの場合には不利益効果で必る極めて
大きな応力複屈折を示すであろう。リチウム−イオン交
換により得られる屈折率の増加は、Δｎ＝ｏ。０１５で
は、多くの場合には不十分である。銀塩浴中のイオン交
換により製造される光導波管は、イオン交換されていな
い基材ガラス体と比較すると、しばしば著しく半透明に
なっている。この高い吸収は、高温にあける１価銀イオ
ンの不安定によるものである。
２５０℃以上では、使用される銀塩溶液または塩浴が分
解し、金属銀が溶液から析出する。もしこの分解が基材
ガラス体の表面で起るならば、より大きな光損失を生ず
る散乱中心が生じる。ざらに銀塩の価格が高いために、
工程上の不利益がある。
解し、金属銀が溶液から析出する。もしこの分解が基材
ガラス体の表面で起るならば、より大きな光損失を生ず
る散乱中心が生じる。ざらに銀塩の価格が高いために、
工程上の不利益がある。
溶融タリウム塩浴中でイオン交換された塞材ガラス体は
、高品質先導波管となる。しかしながら、周知の毒性の
高い化合物の作業は、特に６００”Ｃ，以上の高温にお
いて、種々の困難さを生ずる。洗浄溶液の非毒性化、必
要な高価な保護方法と同様に使用浴は、多額の費用を必
要としかつ作業員を危険に陥れるために、この方法は一
般的な製造方法としては不適である。ドイツ公告特許第
２４５６８９４号に記載された方法は、屈折率の低下を
生じ、かつここに記載された光導波管の製造に適してい
ない。
、高品質先導波管となる。しかしながら、周知の毒性の
高い化合物の作業は、特に６００”Ｃ，以上の高温にお
いて、種々の困難さを生ずる。洗浄溶液の非毒性化、必
要な高価な保護方法と同様に使用浴は、多額の費用を必
要としかつ作業員を危険に陥れるために、この方法は一
般的な製造方法としては不適である。ドイツ公告特許第
２４５６８９４号に記載された方法は、屈折率の低下を
生じ、かつここに記載された光導波管の製造に適してい
ない。
だから、Ｃ３イオンのイオン交換による先導波管の製造
を制御することはまだできない。
を制御することはまだできない。
明らかに、Ｃｓ イオン交換法を記載した文献がある
［ジー・エッチ・フリッシャット、エッチ。
［ジー・エッチ・フリッシャット、エッチ。
ジエイ、フラネック著、グラシュテヒン、ベル（Ｇ、
Ｈ，ＦＲＩＳＣＨ酊、Ｈ，Ｊ、ＦＲＡＮＥＫ、ＧＩａｓ
ｔｅｃｈｒｉ、Ｂｅｒ、） ５４．２４３（１９８１）
］が、それらの場合に得られた交換層は、先導波管用
に適してはいなかった。
Ｈ，ＦＲＩＳＣＨ酊、Ｈ，Ｊ、ＦＲＡＮＥＫ、ＧＩａｓ
ｔｅｃｈｒｉ、Ｂｅｒ、） ５４．２４３（１９８１）
］が、それらの場合に得られた交換層は、先導波管用
に適してはいなかった。
光導波管用とＸ十分な層厚は、極めて長い交換時間また
は極めて高温を適用することによって達成されるだけで
ある。表面に２〜３μｍの厚みの腐食の跡がめれば、そ
れら表面は、先導波管としての使用には不適当である。
は極めて高温を適用することによって達成されるだけで
ある。表面に２〜３μｍの厚みの腐食の跡がめれば、そ
れら表面は、先導波管としての使用には不適当である。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明の先導波管は、Ｃ５＋イオン交換法用に特に改良
されたガラス系に関する。主要成分３ｉ０２、Ｂ２０３
、ＡＵｚ０３ 、に２０を含−み、かつ０２−をＦ−
で部分置換したこれら基材ガラスは、比較的低温かつ比
較的短い交換時間でＣＳ塩浴中でイオン交換法により、
屈折率がΔｎ＝０．０５まで増加した十分な厚みの層を
与える。このようにして得られた光導波管は、基材ガラ
ス体と比較してもＣＳ イオンの安定性のために著し
く半透明が増加することはない。本発明の基材がラスは
、０２−イオンのめる部分がＦ−イオンで置換されるこ
とにより、従来から使用されていガラスとは本質的に区
別される。Ｆ−イオンはガラスの網状構造を失なわせる
ので比較的大きなＣｓ イオンを基材ガラス体中に拡
散ざぜることは容易である。
されたガラス系に関する。主要成分３ｉ０２、Ｂ２０３
、ＡＵｚ０３ 、に２０を含−み、かつ０２−をＦ−
で部分置換したこれら基材ガラスは、比較的低温かつ比
較的短い交換時間でＣＳ塩浴中でイオン交換法により、
屈折率がΔｎ＝０．０５まで増加した十分な厚みの層を
与える。このようにして得られた光導波管は、基材ガラ
ス体と比較してもＣＳ イオンの安定性のために著し
く半透明が増加することはない。本発明の基材がラスは
、０２−イオンのめる部分がＦ−イオンで置換されるこ
とにより、従来から使用されていガラスとは本質的に区
別される。Ｆ−イオンはガラスの網状構造を失なわせる
ので比較的大きなＣｓ イオンを基材ガラス体中に拡
散ざぜることは容易である。
ｊｑられる交換時間の短いことおよび温度の低いことは
、溶融した攻撃的なＣＳ塩浴によるガラス表面の攻撃を
妨げるから、欠点のない表面構造を有する先導波管が得
られる。イオン交換法は、転移温度付近で行なわれるた
め、徐冷後、応力のない光導波管が得られる。
、溶融した攻撃的なＣＳ塩浴によるガラス表面の攻撃を
妨げるから、欠点のない表面構造を有する先導波管が得
られる。イオン交換法は、転移温度付近で行なわれるた
め、徐冷後、応力のない光導波管が得られる。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、次の組成（モル％）の基材ガラスから製造さ
れ、そのガラス中に存在する０２− イオンの一部が１
〜１５％のＦ−イオンで置換されており： Ｓ！
（ｈ ４５〜７２８２０３ ８〜２５ 八〇２０３ １〜２５ Ｌ！２０ ０〜１ Ｎ８２０ ０〜２ に２ ０ ６〜１８ Ｍ０ Ｏ〜１ （ＭＯ＝ＭＱ Ｏ，Ｃａ Ｏ，Ｓｒ ｏ。
れ、そのガラス中に存在する０２− イオンの一部が１
〜１５％のＦ−イオンで置換されており： Ｓ！
（ｈ ４５〜７２８２０３ ８〜２５ 八〇２０３ １〜２５ Ｌ！２０ ０〜１ Ｎ８２０ ０〜２ に２ ０ ６〜１８ Ｍ０ Ｏ〜１ （ＭＯ＝ＭＱ Ｏ，Ｃａ Ｏ，Ｓｒ ｏ。
Ｂａ Ｏ，Ｚｎ Ｏ，Ｐｂ Ｏ）
かつその先導波管域がＫ”、ｕ＋および／またはＮａ
インオンのＣ５イオンのイオン交換により製造される
ことを特徴とする先導波管により達成される。
インオンのＣ５イオンのイオン交換により製造される
ことを特徴とする先導波管により達成される。
本発明の先導波管は、該基材ガラスがざらに次の酸化物
を合計で最大５モル％まで含有する：Ｔｉ ０２ 、
Ｚｒ ０２ 、 Ｐ２０５ 、 Ｇｅ ０２ 、 Ｙ２
Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３，Ｎｔ１２０５．Ｔａ２０５．ＷＯ２
、・Ｓｎ ０２ 、ＡＳ２０３．５ｔ）２０３ 、Ｂ！
２０ｓ 。
を合計で最大５モル％まで含有する：Ｔｉ ０２ 、
Ｚｒ ０２ 、 Ｐ２０５ 、 Ｇｅ ０２ 、 Ｙ２
Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３，Ｎｔ１２０５．Ｔａ２０５．ＷＯ２
、・Ｓｎ ０２ 、ＡＳ２０３．５ｔ）２０３ 、Ｂ！
２０ｓ 。
本発明の先導波管は、該基材ガラスが１〜１０モル％の
ＡΩ２０３を含有する。
ＡΩ２０３を含有する。
本発明の先導波管は、該基材ガラスが１０〜２５モル％
のＡｆ１２０ｓを含有する。
のＡｆ１２０ｓを含有する。
本発明の光導波管は、該基材ガラスがざらにＱ。
２−Ｔニル％のＣ３２０を含有する。
本発明め光導波管は、ＡΩ２０３ ： Ｍ２０ （Ｍ
２０−１ ｉ２０．Ｎａ２Ｏ，に２０．Ｃ３２０）のモ
ル比が０．８〜１．２の間でおる。
２０−１ ｉ２０．Ｎａ２Ｏ，に２０．Ｃ３２０）のモ
ル比が０．８〜１．２の間でおる。
本発明１よ、みがかれまたは火でみがかれ表面を有する
基材ガラス体は、高温で溶融したＣ３塩中で処理されて
、イオン交換により先導波管域を生産することを特徴と
する先導波管の製造方法である。。
基材ガラス体は、高温で溶融したＣ３塩中で処理されて
、イオン交換により先導波管域を生産することを特徴と
する先導波管の製造方法である。。
本発明は、該イオン交換は、電界の適用により補助Ｕら
れることを特徴どする方法である。
れることを特徴どする方法である。
界の適用により、第２のイオン交換処理されるの”ｃ、
ｃｓ＋イオンは、さらにガラス内部に移動し、そして塩
からのＫ および７／またはＮａ イオンはその後、
光導波管域表面に溶は合うことを特徴とする先導波管の
製造方法である。
ｃｓ＋イオンは、さらにガラス内部に移動し、そして塩
からのＫ および７／またはＮａ イオンはその後、
光導波管域表面に溶は合うことを特徴とする先導波管の
製造方法である。
本発明は、いずれの好適な先導波管構造もイオン交換前
にガラス表面をマスキンダブることにより製造されるこ
とを特徴とする先導波管の１！！！造方法である。
にガラス表面をマスキンダブることにより製造されるこ
とを特徴とする先導波管の１！！！造方法である。
本発明は、光学信号またはデータ伝送用一体光学組成物
としで、前記方法により製造される先導波管の使用方法
または適用法である。
としで、前記方法により製造される先導波管の使用方法
または適用法である。
本発明による先導波管製造に使用される材料は、毒性が
高くないので、安全のための保護は必要ではない。銀塩
と比較すると、セシウム塩は、８〜１０倍程安価でおる
。本発明による先導波管は、その屈折率プロフィルがい
ずれにも適用可能なために幅広く応用される。屈折率の
最大増加は、基材ガラス中のアルカリイオンを最大可能
なＣ３Ｃ度で置換することにより決定される。本発明に
よるイオン交換処理される基材ガラス体にみいて、この
量は６〜２１モル％の間であろう。ガラス中の与えられ
たアルカリ濃度に対して、屈折率プロフィルは、イオン
交換助変数により決定される。
高くないので、安全のための保護は必要ではない。銀塩
と比較すると、セシウム塩は、８〜１０倍程安価でおる
。本発明による先導波管は、その屈折率プロフィルがい
ずれにも適用可能なために幅広く応用される。屈折率の
最大増加は、基材ガラス中のアルカリイオンを最大可能
なＣ３Ｃ度で置換することにより決定される。本発明に
よるイオン交換処理される基材ガラス体にみいて、この
量は６〜２１モル％の間であろう。ガラス中の与えられ
たアルカリ濃度に対して、屈折率プロフィルは、イオン
交換助変数により決定される。
置換時間に関して第１図に示された屈折率プロフィルが
得られる。
得られる。
多モード導波管は、交換に艮時間費やして１専られるか
、単［−ド導波管は２時間の交換時間で１ｑられる。第
２図に示すように、屈折率プロフィルは、最終の調節方
法を適用することにより平らにすることができまたは高
めることができる。
、単［−ド導波管は２時間の交換時間で１ｑられる。第
２図に示すように、屈折率プロフィルは、最終の調節方
法を適用することにより平らにすることができまたは高
めることができる。
屈折率曲線またはプロフィルの計画的な形を許容する他
の可能性は、界磁補助イオン交換法の適用にある。１拡
散速度は、使用する電界強度と伴に増加するので、界磁
補助イオン交換法により、交換温度または交換時間をか
なり減少することができる。温度低下は、Ｃ３塩類また
は異なるＱＳ塩類の共融化合物の相対的に高溶融温度に
より制限を受ける。界磁補助イオン交換法は、基材ガラ
ス体上のＣＳ イオン交換でガラス内部に移動するこ
とにより得られる屈折率プロフィルを作る他の選択の自
由を提供する。この目的のため必要な手段を第３図に示
す。
の可能性は、界磁補助イオン交換法の適用にある。１拡
散速度は、使用する電界強度と伴に増加するので、界磁
補助イオン交換法により、交換温度または交換時間をか
なり減少することができる。温度低下は、Ｃ３塩類また
は異なるＱＳ塩類の共融化合物の相対的に高溶融温度に
より制限を受ける。界磁補助イオン交換法は、基材ガラ
ス体上のＣＳ イオン交換でガラス内部に移動するこ
とにより得られる屈折率プロフィルを作る他の選択の自
由を提供する。この目的のため必要な手段を第３図に示
す。
第１段の方法において、回折率の増加は電界を使用して
、あるいは無しでＣｓ塩浴中でイオン交換により（ｑら
れる。Ｋ塩浴中の第２段のイオン交換法においてＣｓ
イオンは、電界中において、Ｋ イオノが溶融浴から
追随し、かつ基体ガラス体表面の屈折率を再び下げると
ともにガラス内部に移動させられる。
、あるいは無しでＣｓ塩浴中でイオン交換により（ｑら
れる。Ｋ塩浴中の第２段のイオン交換法においてＣｓ
イオンは、電界中において、Ｋ イオノが溶融浴から
追随し、かつ基体ガラス体表面の屈折率を再び下げると
ともにガラス内部に移動させられる。
（実施例）
実施例
１、平型の多、あるいは単モード先導波管５９．３モル
％のＳ！０２．１８．０モル％の８２０３．５゜２モル
％の△１２０３および１７゜５モル％のに２０の組成で
、０２−イオンの一部分がＫＦの形態で６．８％のＦ″
′を加えて置換された基材ガラスを、ＡＳ２０３のよう
な清澄剤（０゜２千愼％）を使用する光学ガラスの製造
方法により溶融し、モールド中でキャストしかつ冷却後
、１０ｍｍｘ ２０ｍ１ＴＩＸ ２ｍｍのがラス板に切
断する。これらのガラス板を、表面粗さがλ／１０（λ
＝ ５００ｎｍ）より良くなるまで磨く。このようにし
て得られたガラス板を、その後４４１℃の硝酸セシウム
溶融品中に２．４，８．１６または２４時間保持する。
％のＳ！０２．１８．０モル％の８２０３．５゜２モル
％の△１２０３および１７゜５モル％のに２０の組成で
、０２−イオンの一部分がＫＦの形態で６．８％のＦ″
′を加えて置換された基材ガラスを、ＡＳ２０３のよう
な清澄剤（０゜２千愼％）を使用する光学ガラスの製造
方法により溶融し、モールド中でキャストしかつ冷却後
、１０ｍｍｘ ２０ｍ１ＴＩＸ ２ｍｍのがラス板に切
断する。これらのガラス板を、表面粗さがλ／１０（λ
＝ ５００ｎｍ）より良くなるまで磨く。このようにし
て得られたガラス板を、その後４４１℃の硝酸セシウム
溶融品中に２．４，８．１６または２４時間保持する。
塩浴から取り出した後、ガラス板を約′ＩＯＯ〜２００
’Ｃ／ｈの速度で冷却し、付着した塩を水で洗い落とし
、そしてガラス板を乾燥する。導波管層側面に鋭いエッ
チを作るべく、基材ガラス体の最終表面を磨いた後、こ
れらのガラス板は、平型光導波管として使用できる。そ
れらの屈折率ブ［コツイルを第７図に示す。
’Ｃ／ｈの速度で冷却し、付着した塩を水で洗い落とし
、そしてガラス板を乾燥する。導波管層側面に鋭いエッ
チを作るべく、基材ガラス体の最終表面を磨いた後、こ
れらのガラス板は、平型光導波管として使用できる。そ
れらの屈折率ブ［コツイルを第７図に示す。
２、平型ストリップ導波管
５４．２モル％のＳｉＯ２，１８，５モル％の８２０３
．９．９モル％のＡｌ２Ｏ３および１５゜６モル％のに
２０．１．４モル％のＮａ２Ｏ＃よび０．４％の１−ｉ
２０の組成で、０２−イオンの一部分がＫＦの形態で６
．５％のＦ−を加えて置換された基材ガラスを、実施例
１のガラスと同様な方法で製造し、調製する。基材ガラ
ス板表面を磨いた後、約２０００への厚みのへ（層を蒸
着し、光ラッカーで被覆し、そしてマスクと接触して３
〜５μ雇巾の薄いストリップを露光する。これらのスト
リップは、例えば第４図に模式的に示される１：８配電
器のように異なった構造であろう。
．９．９モル％のＡｌ２Ｏ３および１５゜６モル％のに
２０．１．４モル％のＮａ２Ｏ＃よび０．４％の１−ｉ
２０の組成で、０２−イオンの一部分がＫＦの形態で６
．５％のＦ−を加えて置換された基材ガラスを、実施例
１のガラスと同様な方法で製造し、調製する。基材ガラ
ス板表面を磨いた後、約２０００への厚みのへ（層を蒸
着し、光ラッカーで被覆し、そしてマスクと接触して３
〜５μ雇巾の薄いストリップを露光する。これらのスト
リップは、例えば第４図に模式的に示される１：８配電
器のように異なった構造であろう。
露光後、光ラッカーまたはフィルムは現像され、露光面
積からそれ自体がはがされる。その後、もはや光ラッカ
ーにより被覆されていないアルミニウムをエツチングに
より除去し、未露光の光ラッカーをはがし、そして洗浄
、乾燥後、基材ガラス板を、７０モル％のＣ８Ｎ○３お
よび３０モル％のＣｓＣｌから成る塩浴に３９５℃で２
時間含浸する。さらに、実施例１と同様に処理する。こ
の方法で、カップリング後、対応する光伝送繊維がマス
ク上でカプラー、配電器または類似部品として使用され
る単モードストリップ（狭い）導波管が得られる。
積からそれ自体がはがされる。その後、もはや光ラッカ
ーにより被覆されていないアルミニウムをエツチングに
より除去し、未露光の光ラッカーをはがし、そして洗浄
、乾燥後、基材ガラス板を、７０モル％のＣ８Ｎ○３お
よび３０モル％のＣｓＣｌから成る塩浴に３９５℃で２
時間含浸する。さらに、実施例１と同様に処理する。こ
の方法で、カップリング後、対応する光伝送繊維がマス
ク上でカプラー、配電器または類似部品として使用され
る単モードストリップ（狭い）導波管が得られる。
３、平型埋め込みストリップ導波管
製法は、最初実施例１に記載したように進める。
第１イオン交換俊、Ａ１マスクをはがし、−基材ガラス
板の２つの磨かれたガラス面が４２０℃で２つの相対的
に電気絶縁ＫＮＯ３溶融塩でぬらして第２イオン交換を
行う。塩浴中に浸漬されている両方のＰｔ電極へ、５０
Ｖの電圧を約３０分間供給する。冷却、洗浄および乾燥
後、ガラス表面下２０〜３０μｍに構造を有するストリ
ップ導波管が得られる。
板の２つの磨かれたガラス面が４２０℃で２つの相対的
に電気絶縁ＫＮＯ３溶融塩でぬらして第２イオン交換を
行う。塩浴中に浸漬されている両方のＰｔ電極へ、５０
Ｖの電圧を約３０分間供給する。冷却、洗浄および乾燥
後、ガラス表面下２０〜３０μｍに構造を有するストリ
ップ導波管が得られる。
特許請求の範囲第４項に記載の基材ガラスは、特許請求
の範囲第３項に記載のガラスと前者がより多くのＡｌ２
Ｏ３を含有することにおいて区別される。この高いＡｌ
２Ｏ３含有但は、特に高アルカリ含有において拡散を促
進するためにイオン交換時間が短縮され、または、好ま
しい時間で好適な拡散厚みが得られる。さらに、より高
いＡｌ２Ｏ３含量は、イオン交換塔または構造化工程で
使用される丁ツヂング溶液による化学的攻撃に対・して
ざらに安定化させるので、無傷の表面構造を有する先導
波管が得られる。
の範囲第３項に記載のガラスと前者がより多くのＡｌ２
Ｏ３を含有することにおいて区別される。この高いＡｌ
２Ｏ３含有但は、特に高アルカリ含有において拡散を促
進するためにイオン交換時間が短縮され、または、好ま
しい時間で好適な拡散厚みが得られる。さらに、より高
いＡｌ２Ｏ３含量は、イオン交換塔または構造化工程で
使用される丁ツヂング溶液による化学的攻撃に対・して
ざらに安定化させるので、無傷の表面構造を有する先導
波管が得られる。
高Ａｌ２Ｏ３含有基材ガラス用実施例
１、平型の多、または単モード光導波管６２．９０モル
％のＳｉＯ２，１２，０モル％の８２０３．１２．５モ
ル％のＡｌ２Ｏ３，１２゜５モル％のに２０の組成で、
０２−イオンの一部分がＡ Ｉ Ｆ３の形態で６．２６
％のＦ−を加えることにより置換されている基材ガラス
を、△Ｓ２０３のような清澄剤（Ｏ９２硯徂３）を使用
する光学ガラスの製造方法により溶融し、モールドでキ
ャストし、そして冷却後、１０ｍｍｘ ２０ｍｍｘ ２
ｍｍのガラス板に切断する。ガラス板を、表面粗さがλ
／１０（λ＝ ５００ｎｍ）より良くなるまで磨く。こ
のようにして得られたガラス板を、４３６°Ｃでセシウ
ム溶融塩中に２．４，８．１６または２４時間浸漬する
。塩浴からガラス板を取り出した後、約１００〜２００
℃／ｈの速度で冷却し、付着した塩残分を水で洗浄し、
かつ乾燥する。導体層側面にするどいエッチを作り、基
材ガラス体の最終表面を磨いた後に、これらのガラス板
は、平型光導波体として使用できる。屈折率プロフィル
を第１図に示す。
％のＳｉＯ２，１２，０モル％の８２０３．１２．５モ
ル％のＡｌ２Ｏ３，１２゜５モル％のに２０の組成で、
０２−イオンの一部分がＡ Ｉ Ｆ３の形態で６．２６
％のＦ−を加えることにより置換されている基材ガラス
を、△Ｓ２０３のような清澄剤（Ｏ９２硯徂３）を使用
する光学ガラスの製造方法により溶融し、モールドでキ
ャストし、そして冷却後、１０ｍｍｘ ２０ｍｍｘ ２
ｍｍのガラス板に切断する。ガラス板を、表面粗さがλ
／１０（λ＝ ５００ｎｍ）より良くなるまで磨く。こ
のようにして得られたガラス板を、４３６°Ｃでセシウ
ム溶融塩中に２．４，８．１６または２４時間浸漬する
。塩浴からガラス板を取り出した後、約１００〜２００
℃／ｈの速度で冷却し、付着した塩残分を水で洗浄し、
かつ乾燥する。導体層側面にするどいエッチを作り、基
材ガラス体の最終表面を磨いた後に、これらのガラス板
は、平型光導波体として使用できる。屈折率プロフィル
を第１図に示す。
２、平型ストリップ導波管
５３３５モル％のＳ！０２．８．０３モル％の８２０３
．１９．５モル％のＡｌ２Ｏ３，１８゜０モル％のに２
０および１．０モル％のＮａ２Ｏの組成で、０２−イオ
ンの一部分がＡｌＦ３の形態で７．２２％の「−を加え
ることにより置換された基材ガラスは、実施例１のガラ
スと同様な方法で製造されかつ調製される。基材ガラス
板表面を磨いた後、約２０００Ａの厚みのＴｉ層を蒸着
し、かつ光ラッカーで被覆し、マスクと接触して３〜５
μｍ巾のうすいストリップを露光する。そのストリップ
は、例えばドイツ連邦共和国特許出願筒ｏ ３５０１８
９８．４号の第４図に模式的に示されたある１−８配電
器のようなひろく変化する構造であろう。露光後、光ラ
ッカーまたはフィルムは現像され露光部分からはがされ
る。その後、もはや光フィルムで被覆されていないチタ
ニウムをエツチングで除去し、未露光の光フィルムをは
がし、そして洗浄、乾燥後、基材ガラス板を、７０モル
％の０５ＮＯ３および３０モル％のＣｓＣｌ塩浴に３９
５°Ｃで２時間浸漬する。さらに、実施例１と同様に処
理する。この方法で、カップリング後、対応する光伝送
ｗ４維が、使用されるマスク上でカプラー、配電器また
は類似部品として使用される単モードストリップ導波管
が得られる。
．１９．５モル％のＡｌ２Ｏ３，１８゜０モル％のに２
０および１．０モル％のＮａ２Ｏの組成で、０２−イオ
ンの一部分がＡｌＦ３の形態で７．２２％の「−を加え
ることにより置換された基材ガラスは、実施例１のガラ
スと同様な方法で製造されかつ調製される。基材ガラス
板表面を磨いた後、約２０００Ａの厚みのＴｉ層を蒸着
し、かつ光ラッカーで被覆し、マスクと接触して３〜５
μｍ巾のうすいストリップを露光する。そのストリップ
は、例えばドイツ連邦共和国特許出願筒ｏ ３５０１８
９８．４号の第４図に模式的に示されたある１−８配電
器のようなひろく変化する構造であろう。露光後、光ラ
ッカーまたはフィルムは現像され露光部分からはがされ
る。その後、もはや光フィルムで被覆されていないチタ
ニウムをエツチングで除去し、未露光の光フィルムをは
がし、そして洗浄、乾燥後、基材ガラス板を、７０モル
％の０５ＮＯ３および３０モル％のＣｓＣｌ塩浴に３９
５°Ｃで２時間浸漬する。さらに、実施例１と同様に処
理する。この方法で、カップリング後、対応する光伝送
ｗ４維が、使用されるマスク上でカプラー、配電器また
は類似部品として使用される単モードストリップ導波管
が得られる。
３、平型埋め込みストリップ導波管
製造方法は、まずＡ１被覆を除いて実施例２に記載され
ている方法である。第１イオン交換後、Ａ１被覆をはが
し、基材ガラス板の二つの磨かれたガラス面を二つの相
対的に電気絶縁である４２０℃の２ＨＫＮＯ＋溶融塩で
ぬらして第２イオン交換を行う。５０Ｖの電圧で約３０
分間、溶融塩中に浸漬されている白金電極中に供給する
。冷却、洗浄および乾燥後、ガラス表面下２０〜３０μ
ｍにその構造を有するストリップ導波管を得る。
ている方法である。第１イオン交換後、Ａ１被覆をはが
し、基材ガラス板の二つの磨かれたガラス面を二つの相
対的に電気絶縁である４２０℃の２ＨＫＮＯ＋溶融塩で
ぬらして第２イオン交換を行う。５０Ｖの電圧で約３０
分間、溶融塩中に浸漬されている白金電極中に供給する
。冷却、洗浄および乾燥後、ガラス表面下２０〜３０μ
ｍにその構造を有するストリップ導波管を得る。
第１図は、４４１℃の交換温度、４．．８．１６および
２４時間の交換時間における実施例１のガラスのイオン
交換により実施された屈折率プロフィルを示す図であり
、第２図は追加温度方法により実施された実施例１のガ
ラスの平らな、−または下った屈折率プロフィルを示す
図であり、第３図は複数イオン交換により埋め込んだ先
導波管の製造方法を示す図であり、第３図Ａは交換なし
の基材ガラスの説明図、第３図Ｂは電界あり（１）およ
び電界なしく２）の場合のＣＳ 塩浴中のイオン交換
の説明図、第３図Ｃは電界を有するＫ 塩浴中の第２イ
オン交換の説明図であり、第４図はストリップ導波管用
実施例としてのに８導波管に関する概略図を示す図であ
る。 特許出願人 カール ツアイス スティフツンクトレー
ディング アズ ショット グラスヴエルケ
２４時間の交換時間における実施例１のガラスのイオン
交換により実施された屈折率プロフィルを示す図であり
、第２図は追加温度方法により実施された実施例１のガ
ラスの平らな、−または下った屈折率プロフィルを示す
図であり、第３図は複数イオン交換により埋め込んだ先
導波管の製造方法を示す図であり、第３図Ａは交換なし
の基材ガラスの説明図、第３図Ｂは電界あり（１）およ
び電界なしく２）の場合のＣＳ 塩浴中のイオン交換
の説明図、第３図Ｃは電界を有するＫ 塩浴中の第２イ
オン交換の説明図であり、第４図はストリップ導波管用
実施例としてのに８導波管に関する概略図を示す図であ
る。 特許出願人 カール ツアイス スティフツンクトレー
ディング アズ ショット グラスヴエルケ
Claims (11)
- （１）次の組成（モル％）の基材ガラスから製造され、
そのガラス中に存在するＯ＾２＾−イオンの一部が１〜
１５％のＦ＾−イオンで置換されており；ＳｉＯ＿２
４５〜７２ Ｂ＿２Ｏ＿３ ８〜２５ Ａｌ＿２Ｏ＿３ １〜２５ Ｌｉ＿２Ｏ ０〜１ Ｎａ＿２Ｏ ０〜２ Ｋ＿２Ｏ ６〜１８ ＭＯ ０〜１ （ＭＯ＝ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、 ＢａＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ） かつその光導波管域がＫ＾＋、Ｌｉ＾＋および／または
Ｎａ＾＋イオンのＣｓ＾＋イオンのイオン交換により製
造されることを特徴とする光導波管。 - （２）該基材ガラスがさらに次の酸化物を合計で最大５
モル％まで含有することを特徴とする特許請求の範囲第
１項に記載の光導波管： ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２、Ｐ＿２Ｏ＿５、ＧｅＯ＿２、
Ｙ＿２Ｏ＿３、Ｌａ＿２Ｏ＿３、Ｎｂ＿２Ｏ＿５、Ｔａ
＿２Ｏ＿５、ＷＯ＿３、ＳｎＯ＿２、Ａｓ＿２Ｏ＿３、
Ｓｂ＿２Ｏ＿３、Ｂｉ＿２Ｏ＿３。 - （３）該基材ガラスが１〜１０モル％のＡｌ＿２Ｏ＿３
を含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の光導波管。 - （４）該基材ガラスが１０〜２５モル％のＡｌ＿２Ｏ＿
３を含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載の光導波管。 - （５）該基材ガラスがさらに０．２モル％のＣｓ＿２Ｏ
を含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の光導波管。 - （６）Ａｌ＿２Ｏ＿３：Ｍ＿２Ｏ（Ｍ＿２Ｏ＝Ｌｉ＿２
Ｏ、Ｎａ＿２Ｏ、Ｋ＿２Ｏ、Ｃｓ＿２Ｏ）のモル比が０
．８〜１．２の間であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載の光導波管。 - （７）みがかれまたは火でみがかれ表面を有する基材ガ
ラス体は、高温で溶融したＣｓ塩中で処理されて、イオ
ン交換により光導波管域を生産することを特徴とする特
許請求の範囲第１〜６項のいずれか１項に記載の光導波
管の製造方法。 - （８）該イオン交換は、電界の適用により補助せられる
ことを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の方法。 - （９）特許請求の範囲第７項または第８項に記載した方
法により製造された光導波管は、Ｎａ＾＋および／また
はＫ＾＋イオンを含有する溶融塩中で、必要により電界
の適用により、第２のイオン交換処理されるので、Ｃｓ
＾＋イオンはさらにガラス内部に移動し、そして塩から
のＫ＾＋および／またはＮａ＾＋イオンはその後、光導
波管域表面に溶け合うことを特徴とする光導波管の製造
方法。 - （１０）いずれの好適な光導波管構造もイオン交換方法
前にガラス表面をマスキングすることにより製造される
ことを特徴とする特許請求の範囲第７〜第９項のいずれ
か１項に記載の光導波管の製造方法。 - （１１）光学信号またはデータ伝送用一体光学組成物と
して、特許請求の範囲第７〜１０項のいずれか１項に記
載の方法により製造される光導波管の使用方法または適
用法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19853501898 DE3501898A1 (de) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | Lichtwellenleiter, hergestellt aus speziellen substratglaesern durch einen ionenaustausch gegen cs(pfeil hoch)+(pfeil hoch)-ionen |
| DE3501898.4 | 1985-01-22 | ||
| DE19853524605 DE3524605A1 (de) | 1985-01-22 | 1985-07-10 | Lichtwellenleiter, hergestellt aus speziellen hoch-aluminiumhaltigen substratglaesern durch ionenaustausch gegen cs+-ionen |
| DE3524605.7 | 1985-07-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259556A true JPS6259556A (ja) | 1987-03-16 |
| JPH0627015B2 JPH0627015B2 (ja) | 1994-04-13 |
Family
ID=25828720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61011805A Expired - Lifetime JPH0627015B2 (ja) | 1985-01-22 | 1986-01-22 | 特殊基材ガラスからＣｓ＋イオンでイオン交換することにより製造される光導波管 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5004707A (ja) |
| JP (1) | JPH0627015B2 (ja) |
| DE (1) | DE3524605A1 (ja) |
| FR (1) | FR2576299B1 (ja) |
| GB (1) | GB2170797B (ja) |
| NL (1) | NL8600139A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1320508C (en) * | 1987-10-22 | 1993-07-20 | Corning Incorporated | Fluoroborosilicate glass and clad article |
| US5742760A (en) * | 1992-05-12 | 1998-04-21 | Compaq Computer Corporation | Network packet switch using shared memory for repeating and bridging packets at media rate |
| US5432907A (en) * | 1992-05-12 | 1995-07-11 | Network Resources Corporation | Network hub with integrated bridge |
| JPH063546A (ja) * | 1992-06-18 | 1994-01-14 | Ibiden Co Ltd | シングルモード光導波路 |
| CA2201576A1 (en) * | 1996-04-17 | 1997-10-17 | James Edward Dickinson, Jr. | Rare earth doped oxyhalide laser glass |
| DE19643870C2 (de) * | 1996-10-30 | 1999-09-23 | Schott Glas | Verwendung eines Glaskörpers zur Erzeugung eines chemisch vorgespannten Glaskörpers |
| JPH11153705A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 軸方向屈折率分布型レンズ |
| JP3899825B2 (ja) * | 2001-01-31 | 2007-03-28 | Ｆｄｋ株式会社 | 光導波路素子及びその製造方法 |
| JP2002265233A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | レーザ加工用母材ガラスおよびレーザ加工用ガラス |
| US6947651B2 (en) * | 2001-05-10 | 2005-09-20 | Georgia Tech Research Corporation | Optical waveguides formed from nano air-gap inter-layer dielectric materials and methods of fabrication thereof |
| US6515795B1 (en) * | 2001-06-29 | 2003-02-04 | Corning Incorporated | Borosilicate cladding glasses for germanate core thulium-doped amplifiers |
| US7132158B2 (en) * | 2003-10-22 | 2006-11-07 | Olin Corporation | Support layer for thin copper foil |
| DE102009008954B4 (de) | 2009-02-13 | 2010-12-23 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
| DE102009008951B4 (de) | 2009-02-13 | 2011-01-20 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
| DE102009008953B4 (de) | 2009-02-13 | 2010-12-30 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
| CN102732930A (zh) * | 2011-04-14 | 2012-10-17 | 上海光芯集成光学股份有限公司 | 制作玻璃基离子交换光导的方法 |
Family Cites Families (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL122215C (ja) * | 1961-06-12 | |||
| FR1589397A (ja) * | 1967-04-25 | 1970-03-31 | ||
| US3941474A (en) * | 1968-03-15 | 1976-03-02 | Nippon Selfoc Kabushiki Kaisha | Light-conducting glass structures |
| BE729880A (ja) * | 1968-03-15 | 1969-08-18 | ||
| US3647406A (en) * | 1968-11-04 | 1972-03-07 | Bell Telephone Labor Inc | Method of achieving surface refractive index changes in a glass light guide element |
| US3607322A (en) * | 1969-05-22 | 1971-09-21 | Owens Corning Fiberglass Corp | Light transmitting glass fibers, core and cladding glass compositions |
| GB1284673A (en) * | 1970-04-20 | 1972-08-09 | British American Tobacco Co | Improvements relating to tobacco-smoke filters |
| US3784386A (en) * | 1971-02-16 | 1974-01-08 | Corning Glass Works | Cladding glasses for photochromic optical fibers |
| US4166795A (en) * | 1971-04-26 | 1979-09-04 | Suntech, Inc. | Chemical reaction product of sulfur, lard oil and polyisobutylene |
| JPS5121594B2 (ja) * | 1971-12-25 | 1976-07-03 | ||
| DE2205844C3 (de) * | 1972-02-08 | 1975-08-14 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Durch Alkaliionenaustausch chemisch gehärtetes Brillen-Fernteilglas |
| US3853674A (en) * | 1973-04-30 | 1974-12-10 | Owens Illinois Inc | Multiple ion exchange steps for strengthening glass and methods of making same |
| DE2359657C3 (de) * | 1973-11-30 | 1984-08-02 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Verwendung von Gläsern im System SiO↓2↓-PbO-K↓2↓O für Lichtleitfasern mit niedrigen optischen Verlusten |
| US4236930A (en) * | 1978-06-09 | 1980-12-02 | Macedo Pedro B | Optical waveguide and method and compositions for producing same |
| DE2456894C3 (de) * | 1974-12-02 | 1978-04-06 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Anorganisches, glasiges Material zur Verwendung in einem Ionenaustausch zwecks Erzeugung eines Brechwertgradienten bei weitgehender Vermeidung einer Änderung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten |
| US4452508A (en) * | 1977-06-28 | 1984-06-05 | British Telecommunications | Graded index optical fibres |
| US4220461A (en) * | 1978-04-06 | 1980-09-02 | Mrinmay Samanta | Low temperature synthesis of vitreous bodies and their intermediates |
| US4166745A (en) * | 1977-12-16 | 1979-09-04 | Corning Glass Works | Refractive index-corrected copper-cadmium halide photochromic glasses |
| JPS5812213B2 (ja) * | 1978-05-16 | 1983-03-07 | 株式会社東芝 | 高耐候性光通信用多成分系ガラスファイバ− |
| GB2033372B (en) * | 1978-09-28 | 1983-01-19 | Sumitomo Electric Industries | Method of producing an optical waveguide |
| JPS5851900B2 (ja) * | 1978-10-06 | 1983-11-18 | 日本板硝子株式会社 | 高耐水性の光伝送体用ガラス |
| US4290793A (en) * | 1978-12-08 | 1981-09-22 | Liberty Glass Company | Fluid bed chemical strengthening of glass objects |
| JPS605538B2 (ja) * | 1979-11-27 | 1985-02-12 | 日本板硝子株式会社 | セシウム含有光学ガラス |
| JPS577402A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Michio Nomiyama | Emulsified granule |
| US4375312A (en) * | 1980-08-07 | 1983-03-01 | Hughes Aircraft Company | Graded index waveguide structure and process for forming same |
| JPS5734502A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Near parabolic optical transmission body and its production |
| US4430258A (en) * | 1981-05-28 | 1984-02-07 | Mcfarland Robert C | Method of producing liquid equivalent solid gamma ray calibration standards |
| GB2115403B (en) * | 1982-02-20 | 1985-11-27 | Zeiss Stiftung | Optical and opthalmic glass |
| JPS58181740A (ja) * | 1982-04-15 | 1983-10-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光集束性レンズ用ガラス組成物 |
| DE3216451C2 (de) * | 1982-05-03 | 1984-04-19 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Optisches Leichtgewichtglas mit einem Brechwert ≥ 1.70, einer Abbezahl ≥ 22 und einer Dichte ≦ 3,5 g/cm↑3↑ |
| JPS6015607A (ja) * | 1983-07-07 | 1985-01-26 | カ−ル・エ・シリス | 光フアイバ |
| FR2558152B1 (fr) * | 1984-01-13 | 1992-03-27 | Corning Glass Works | Verres a usage ophtalmique de faible densite, absorbant les radiations ultraviolettes et ayant une haute transmission dans le visible et lentilles correctrices constituees de ces verres |
| JPS60155551A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-15 | Toshiba Corp | 光フアイバ用被覆ガラス |
| JPS62283845A (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ド−プト石英系光フアイバ |
| US4842629A (en) * | 1986-12-01 | 1989-06-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for producing buried regions of raised refractive index in a glass member by ion exchange |
-
1985
- 1985-07-10 DE DE19853524605 patent/DE3524605A1/de active Granted
-
1986
- 1986-01-20 FR FR868600690A patent/FR2576299B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-01-21 GB GB08601428A patent/GB2170797B/en not_active Expired
- 1986-01-22 JP JP61011805A patent/JPH0627015B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-01-22 NL NL8600139A patent/NL8600139A/nl not_active Application Discontinuation
-
1989
- 1989-11-16 US US07/437,295 patent/US5004707A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-11-27 US US07/618,606 patent/US5114453A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0627015B2 (ja) | 1994-04-13 |
| FR2576299B1 (fr) | 1990-01-26 |
| US5114453A (en) | 1992-05-19 |
| NL8600139A (nl) | 1986-08-18 |
| DE3524605A1 (de) | 1987-01-15 |
| US5004707A (en) | 1991-04-02 |
| GB8601428D0 (en) | 1986-02-26 |
| GB2170797A (en) | 1986-08-13 |
| FR2576299A1 (fr) | 1986-07-25 |
| GB2170797B (en) | 1988-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6259556A (ja) | 特殊基材ガラスからＣｓ＋イオンでイオン交換することにより製造される光導波管 | |
| US4913717A (en) | Method for fabricating buried waveguides | |
| CN108383398A (zh) | 具有靠近玻璃表面处改进的k2o分布的含锂玻璃或者玻璃陶瓷制品 | |
| KR20210086721A (ko) | 광피삭성 층을 포함한 융합-인발된 유리 적층 구조부의 기계가공 방법 | |
| JP2002174810A (ja) | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ | |
| KR100752904B1 (ko) | 고함량의 은을 갖는 보로실리케이트 유리 | |
| JP3834590B2 (ja) | 光導波路の形成方法 | |
| JP2002228861A (ja) | 光導波路素子及びその製造方法 | |
| DE3501898C2 (ja) | ||
| CN107643560A (zh) | 一种磁光玻璃基离子交换制备磁光平面波导的方法 | |
| US5192402A (en) | Method of dealkalizing glass | |
| JPH0353263B2 (ja) | ||
| JPS624335B2 (ja) | ||
| JPS63169601A (ja) | 屈折率分布型光学素子 | |
| JPS61201639A (ja) | 平板レンズ | |
| JPH05307125A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| JPH0623804B2 (ja) | 埋込型光導波路の製造方法 | |
| JPS6385506A (ja) | 中赤外スペクトル用光導波路の製造方法 | |
| JPH0462644B2 (ja) | ||
| EP0445930B1 (en) | Lithium niobate etchant | |
| JPS5598707A (en) | Forming method of glass thick film light circuit | |
| JP2002321938A (ja) | 光増幅ガラスおよび光増幅導波路製造方法 | |
| JPH0216484B2 (ja) | ||
| JPS63250608A (ja) | 埋込み型光導波路の製造方法 | |
| JPH05306145A (ja) | アルカリ溶出防止ガラス基板 |