JPS625898B2 - - Google Patents
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- JPS625898B2 JPS625898B2 JP58212860A JP21286083A JPS625898B2 JP S625898 B2 JPS625898 B2 JP S625898B2 JP 58212860 A JP58212860 A JP 58212860A JP 21286083 A JP21286083 A JP 21286083A JP S625898 B2 JPS625898 B2 JP S625898B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式（）
（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す）
で表わされるＮ−アルキル−１・２−ジメチルプ
ロピルアミンの製造法に関する。更に詳しくはメ
チルイソプロピルケトン（以下MIPKと略す）と
一般式（）： Ｒ−NH2 （） （式中、Ｒは前記と同じ） で表わされる１級アミンとをパラジウム触媒の存
在下接触水素還元せしめ一般式（）の化合物を
製造する方法に関する。
ロピルアミンの製造法に関する。更に詳しくはメ
チルイソプロピルケトン（以下MIPKと略す）と
一般式（）： Ｒ−NH2 （） （式中、Ｒは前記と同じ） で表わされる１級アミンとをパラジウム触媒の存
在下接触水素還元せしめ一般式（）の化合物を
製造する方法に関する。
一般式（）の化合物は医薬、農薬の原料とし
て有用である。この一般式（）の化合物の従来
知られた製造法としては２−アルキルアミノ−２
−メチルブタン−３−オールを出発原料として用
いる方法のみである〔G.Hennion著J.O.C.302650
（1965）〕。この方法によれば、出発原料を塩化水
素及び塩化チオニルで処理して水酸基を塩素に置
換し、次いで転位を伴なう脱塩酸反応を行ない得
られたＮ−アルキル−１・２−ジメチルアリルア
ミンを水素添加して一般式（）の化合物を製造
するという長い工程を経なけれがならず、工業的
に有利な製造法ではない。
て有用である。この一般式（）の化合物の従来
知られた製造法としては２−アルキルアミノ−２
−メチルブタン−３−オールを出発原料として用
いる方法のみである〔G.Hennion著J.O.C.302650
（1965）〕。この方法によれば、出発原料を塩化水
素及び塩化チオニルで処理して水酸基を塩素に置
換し、次いで転位を伴なう脱塩酸反応を行ない得
られたＮ−アルキル−１・２−ジメチルアリルア
ミンを水素添加して一般式（）の化合物を製造
するという長い工程を経なけれがならず、工業的
に有利な製造法ではない。
本発明者らは、一般に入手が容易であるMIPK
と一般式（）の１級アミンとを接触水素還元す
る方法を鋭意検討した結果、還元触媒として最も
汎用されるラネーニツケルやラネーコバルトを使
用した場合には、生成物は複雑な混合物であり、
目的物の一般式（）の化合物への選択率は極め
て低いものであつた。そこで、更に鋭意検討した
処、触媒としてパラジウムを用いることにより始
めて高選択的、高収率で高純度の一般式（）の
化合物が得られることを見い出し、本発明を完成
するに至つた。
と一般式（）の１級アミンとを接触水素還元す
る方法を鋭意検討した結果、還元触媒として最も
汎用されるラネーニツケルやラネーコバルトを使
用した場合には、生成物は複雑な混合物であり、
目的物の一般式（）の化合物への選択率は極め
て低いものであつた。そこで、更に鋭意検討した
処、触媒としてパラジウムを用いることにより始
めて高選択的、高収率で高純度の一般式（）の
化合物が得られることを見い出し、本発明を完成
するに至つた。
本発明において使用される一般式（）の１級
アミンとしては、例えばメチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、又はブチルアミンであ
り、その使用量はMIPKに対して0.8〜２倍モルの
割合である。パラジウム触媒はアルミナ、ケイソ
ウ土、白土、又は活性炭のような担体にパラジウ
ムを担持させたものである。該触媒に含有されて
いるパラジウムの量は普通0.2〜10重量％の範囲
内で選択される。該触媒はMIPKに対して0.1〜20
重量％の割合で用いられる。
アミンとしては、例えばメチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、又はブチルアミンであ
り、その使用量はMIPKに対して0.8〜２倍モルの
割合である。パラジウム触媒はアルミナ、ケイソ
ウ土、白土、又は活性炭のような担体にパラジウ
ムを担持させたものである。該触媒に含有されて
いるパラジウムの量は普通0.2〜10重量％の範囲
内で選択される。該触媒はMIPKに対して0.1〜20
重量％の割合で用いられる。
次いで反応条件としては、反応性は常圧以上、
好ましくは５〜100気圧の水素分圧で行なうのが
良い。反応温度は室温以上、好ましくは50〜150
℃の範囲内で行なうのが適当である。本反応には
溶媒は特に必要としないが、溶媒の存在下でも行
なうことができる。溶媒としては反応条件下で不
活性な液体が選ばれるが、その代表的なものとし
て、ｎ−ヘキサンのような飽和炭化水素、メタノ
ールのような飽和アルコール、ジオキサンのよう
な環状エーテル及び水などが挙げられる。
好ましくは５〜100気圧の水素分圧で行なうのが
良い。反応温度は室温以上、好ましくは50〜150
℃の範囲内で行なうのが適当である。本反応には
溶媒は特に必要としないが、溶媒の存在下でも行
なうことができる。溶媒としては反応条件下で不
活性な液体が選ばれるが、その代表的なものとし
て、ｎ−ヘキサンのような飽和炭化水素、メタノ
ールのような飽和アルコール、ジオキサンのよう
な環状エーテル及び水などが挙げられる。
本発明に従えば、１〜５時間で反応が完結し、
副反応は殆ど起らず、高収率で接触水素還元が達
成される。即ち、高純度の一般式（）の化合物
はMIPKに対して96％以上の収率で得られ、
MIPKのアルドール縮合物は実質的に生成しない
と云う極めて有利な製造法である。
副反応は殆ど起らず、高収率で接触水素還元が達
成される。即ち、高純度の一般式（）の化合物
はMIPKに対して96％以上の収率で得られ、
MIPKのアルドール縮合物は実質的に生成しない
と云う極めて有利な製造法である。
次に、実施例を挙げて本発明を説明する。但し
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例 １
１容量の電磁撹拌式オートクレーブに
MIPK258ｇ、70％エチルアミン水溶液193ｇ、及
び５％Pd−カーボン2.6ｇを仕込み、それに水素
を導入して圧力を20気圧にし、60℃で接触水素還
元した。反応が進行するにつれ水素圧力は減少す
るので、逐次水素を追加した。２時間で水素の吸
収はなくなり反応が終了した。得られた反応液を
ろ過して触媒を除去し、分液して、油層を蒸留し
て純度（ガスクロマトグラフイーによる、以下同
様）99.6％のＮ−エチル−１・２−ジメチルプロ
ピルアミン338ｇ（収率98.0％）を得た。
MIPK258ｇ、70％エチルアミン水溶液193ｇ、及
び５％Pd−カーボン2.6ｇを仕込み、それに水素
を導入して圧力を20気圧にし、60℃で接触水素還
元した。反応が進行するにつれ水素圧力は減少す
るので、逐次水素を追加した。２時間で水素の吸
収はなくなり反応が終了した。得られた反応液を
ろ過して触媒を除去し、分液して、油層を蒸留し
て純度（ガスクロマトグラフイーによる、以下同
様）99.6％のＮ−エチル−１・２−ジメチルプロ
ピルアミン338ｇ（収率98.0％）を得た。
実施例 ２
１容量の電磁撹拌式オートクレーブに
MIPK258ｇ、40％メチルアミン水溶液233ｇ、５
％Pd−カーボン2.6ｇを仕込み、それに水素を導
入して圧力を20気圧にし、50℃で接触水素還元し
た。反応が進行するにつれ水素圧力は減少するの
で、逐次水素を追加した。1.5時間で水素の吸収
はなくなり反応が終了した。次いで実施例１と同
様に処理して純度99.5％のＮ−メチル−１・２−
ジメチルプロピルアミン293ｇ（収率96.7％）を
得た。
MIPK258ｇ、40％メチルアミン水溶液233ｇ、５
％Pd−カーボン2.6ｇを仕込み、それに水素を導
入して圧力を20気圧にし、50℃で接触水素還元し
た。反応が進行するにつれ水素圧力は減少するの
で、逐次水素を追加した。1.5時間で水素の吸収
はなくなり反応が終了した。次いで実施例１と同
様に処理して純度99.5％のＮ−メチル−１・２−
ジメチルプロピルアミン293ｇ（収率96.7％）を
得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（）： （式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す） で表わされるＮ−アルキル−１・２−ジメチルプ
ロピルアミンを製造するにあたり、メチルイソプ
ロピルケトンと一般式（）： Ｒ−NH2 （） （式中、Ｒは前記と同じ） で表わされる１級アミンとをパラジウム触媒の存
在下接触水素還元することを特徴とするＮ−アル
キル−１・２−ジメチルプロピルアミンの製造
法。 ２ 一般式（）の１級アミンをメチルイソプロ
ピルケトンに対し0.8〜２倍モルの割合で用い、
50〜150℃の反応温度で接触水素還元を行なう特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 一般式（）の１級アミンがエチルアミンで
ある特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21286083A JPS60104044A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | Ν−アルキル−１，２−ジメチルプロピルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21286083A JPS60104044A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | Ν−アルキル−１，２−ジメチルプロピルアミンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60104044A JPS60104044A (ja) | 1985-06-08 |
| JPS625898B2 true JPS625898B2 (ja) | 1987-02-07 |
Family
ID=16629499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21286083A Granted JPS60104044A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | Ν−アルキル−１，２−ジメチルプロピルアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60104044A (ja) |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP21286083A patent/JPS60104044A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| SB VYS SK CHEM TECHNOL PRAZE ORG CHEM TECHNOL=1973 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60104044A (ja) | 1985-06-08 |
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