JP3208298B2 - ３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法 - Google Patents
３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は３−ホルミルテトラ
ヒドロフランをアンモニア水溶液中、金属触媒の存在下
に接触水素化することを特徴とする３−（テトラヒドロ
フリル）メチルアミンまたはその塩の製造法に関する。
本発明の方法は食品、医薬、農薬等の分野において利用
される化合物またはその中間体の合成に際して有用であ
る。
ヒドロフランをアンモニア水溶液中、金属触媒の存在下
に接触水素化することを特徴とする３−（テトラヒドロ
フリル）メチルアミンまたはその塩の製造法に関する。
本発明の方法は食品、医薬、農薬等の分野において利用
される化合物またはその中間体の合成に際して有用であ
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、新規な（テトラヒドロ−３−フラ
ニル）メチルアミン誘導体の或種の化合物が極めて高い
殺虫活性を示し、しかも低毒性であることが知られてい
る。特に、その中でも下記構造を有するフラニル系殺虫
剤は活性が極めて大きい事が知られている（特開平７−
１７９４４８号公報）。
ニル）メチルアミン誘導体の或種の化合物が極めて高い
殺虫活性を示し、しかも低毒性であることが知られてい
る。特に、その中でも下記構造を有するフラニル系殺虫
剤は活性が極めて大きい事が知られている（特開平７−
１７９４４８号公報）。
【０００３】
【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2又はＲ3は水素、低級アルキル基を示
す。）
す。）
【０００４】前記特開平７−１７９４４８号公報には、
その原料となる３−（テトラヒドロフリル）メチルアミ
ン類の製造法が次に示すの方法で合成出来ることが記
載されている。
その原料となる３−（テトラヒドロフリル）メチルアミ
ン類の製造法が次に示すの方法で合成出来ることが記
載されている。
【０００５】３−（テトラヒドロフリル）メチルアル
コールを３−（テトラヒドロフリル）メチルハライドま
たは３−（テトラヒドロフリル）メチル スルホネート
等に誘導し、フタルイミドカリウムと反応させ、加水分
解またはヒドラジン分解を行って得る方法（特開平７−
１７９４４８号公報）。
コールを３−（テトラヒドロフリル）メチルハライドま
たは３−（テトラヒドロフリル）メチル スルホネート
等に誘導し、フタルイミドカリウムと反応させ、加水分
解またはヒドラジン分解を行って得る方法（特開平７−
１７９４４８号公報）。
【０００６】しかしながら、方法においては３−（テ
トラヒドロフリル）メチルアルコールを活性化する工程
が必要な事、また、フタルイミド由来の副生物が大量に
生成する事、毒性、危険性の高いヒドラジンを使用する
事等の欠点を有し、工業的に有利な方法とは言えない。
トラヒドロフリル）メチルアルコールを活性化する工程
が必要な事、また、フタルイミド由来の副生物が大量に
生成する事、毒性、危険性の高いヒドラジンを使用する
事等の欠点を有し、工業的に有利な方法とは言えない。
【０００７】３−（テトラヒドロフリル）メチルアミン
と酸素の置換位置が異なるテトラヒドロフルフリルアミ
ンの製造法については良く知られており、例えば以下の
ものが挙げられる。
と酸素の置換位置が異なるテトラヒドロフルフリルアミ
ンの製造法については良く知られており、例えば以下の
ものが挙げられる。
【０００８】フルフラールと一級アミンの混合物を液
体アンモニア及びコバルトまたはニッケル触媒の存在
下、接触水素化し、テトラヒドロフルフリルアミンを得
る方法（特公平４−４９５４９号公報）。
体アンモニア及びコバルトまたはニッケル触媒の存在
下、接触水素化し、テトラヒドロフルフリルアミンを得
る方法（特公平４−４９５４９号公報）。
【０００９】テトラヒドロフルフリルアルコールをア
ンモニア及びニッケル触媒の存在下に水素化してテトラ
ヒドロフルフリルアミンを得る方法（特開昭６０−１７
８８７７号公報）。
ンモニア及びニッケル触媒の存在下に水素化してテトラ
ヒドロフルフリルアミンを得る方法（特開昭６０−１７
８８７７号公報）。
【００１０】方法においては反応温度は１００℃乃至
１５０℃であり、溶媒としてジオキサンを使用し、この
際少量のテトラヒドロフルフリルアミンを共存させるこ
とが特徴となっている。テトラヒドロフルフリルアミン
を共存させないと収率が大幅に低下し、溶媒をエタノー
ルにしても収率が大幅に低下する事が比較例として記載
されている。方法は反応が２００℃と苛酷であり、転
化率も１５％と非常に低いものであり、到底工業的製法
と言えるものではない。
１５０℃であり、溶媒としてジオキサンを使用し、この
際少量のテトラヒドロフルフリルアミンを共存させるこ
とが特徴となっている。テトラヒドロフルフリルアミン
を共存させないと収率が大幅に低下し、溶媒をエタノー
ルにしても収率が大幅に低下する事が比較例として記載
されている。方法は反応が２００℃と苛酷であり、転
化率も１５％と非常に低いものであり、到底工業的製法
と言えるものではない。
【００１１】アルデヒドとアンモニアまたは一級アミン
から水素化によってアミン類を製造する方法は良く知ら
れている。例えばフラン誘導体に限れば次のものが挙げ
られる。
から水素化によってアミン類を製造する方法は良く知ら
れている。例えばフラン誘導体に限れば次のものが挙げ
られる。
【００１２】アンモニアのエタノール溶液中、フルフ
ラールをラネーニッケル触媒の存在下に水素化し、フル
フリルアミンを得る方法（米国特許２１０９１５９
号）。
ラールをラネーニッケル触媒の存在下に水素化し、フル
フリルアミンを得る方法（米国特許２１０９１５９
号）。
【００１３】方法においてはアルコール中で水素化を
行っており、大量のジフルフリルアミンが生成すること
が記載されている。
行っており、大量のジフルフリルアミンが生成すること
が記載されている。
【００１４】以上記載した様に、からの方法はいず
れも３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法
としては反応温度が苛酷であるか、または、選択性が悪
く、工業的製造法とは言い難い。
れも３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法
としては反応温度が苛酷であるか、または、選択性が悪
く、工業的製造法とは言い難い。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は（テト
ラヒドロ−３−フラニル）メチルアミノ基を有する殺虫
剤または種々の中間体の有利な原料となる３−（テトラ
ヒドロフリル）メチルアミンの改善された工業的に製造
しうる方法を提供する事にある。従って、安価であり、
且つ設備面及び製造上の安全性の点から、極力温和な反
応条件であることが望ましい。
ラヒドロ−３−フラニル）メチルアミノ基を有する殺虫
剤または種々の中間体の有利な原料となる３−（テトラ
ヒドロフリル）メチルアミンの改善された工業的に製造
しうる方法を提供する事にある。従って、安価であり、
且つ設備面及び製造上の安全性の点から、極力温和な反
応条件であることが望ましい。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは３−ホルミ
ルテトラヒドロフラン（以下ＦＡＤと略記することがあ
る）を出発原料として３−（テトラヒドロフリル）メチ
ルアミン（以下、ＦＡＭと略記することがある）を工業
的に製造する方法を鋭意検討した結果、水素化を水溶液
中で実施する事により、公知技術に比べて温和な温度及
び圧力条件でＦＡＭの収率、選択率が飛躍的に向上する
事を見いだし、本発明を完成させた。
ルテトラヒドロフラン（以下ＦＡＤと略記することがあ
る）を出発原料として３−（テトラヒドロフリル）メチ
ルアミン（以下、ＦＡＭと略記することがある）を工業
的に製造する方法を鋭意検討した結果、水素化を水溶液
中で実施する事により、公知技術に比べて温和な温度及
び圧力条件でＦＡＭの収率、選択率が飛躍的に向上する
事を見いだし、本発明を完成させた。
【００１７】即ち、本発明は３−ホルミルテトラヒドロ
フランをアンモニア水溶液中、パラジウム触媒、白金触
媒またはニッケル触媒より選ばれる金属触媒の存在下に
接触水素化することを特徴とする３−（テトラヒドロフ
リル）メチルアミンまたはその塩の製造法である。
フランをアンモニア水溶液中、パラジウム触媒、白金触
媒またはニッケル触媒より選ばれる金属触媒の存在下に
接触水素化することを特徴とする３−（テトラヒドロフ
リル）メチルアミンまたはその塩の製造法である。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の原料である３−ホルミル
テトラヒドロフランは２，５−あるいは２，３−ジヒド
ロフランのハイドロホルミル化反応により製造できる
（米国特許４３７６２０８号）。
テトラヒドロフランは２，５−あるいは２，３−ジヒド
ロフランのハイドロホルミル化反応により製造できる
（米国特許４３７６２０８号）。
【００１９】本発明に使用される触媒は貴金属触媒等の
一般的な水素化触媒が使用できるが、特にパラジウム触
媒、白金触媒またはニッケル触媒が好ましい。パラジウ
ム触媒または白金触媒とは、例えば、パラジウムまたは
白金の酸化物、パラジウム黒または白金黒、パラジウム
または白金の塩化物、白金酸ナトリウムまたは塩化白金
酸、これら触媒に助触媒を含むもの、これら触媒を活性
炭、硫酸バリウム、二酸化ケイ素等の担体に担持させた
もの等が挙げられる。ニッケル触媒とは例えば、ラネー
触媒、ニッケル塩類や水酸化物、これら触媒に助触媒を
含むもの、これら触媒をケイソウ土、活性炭、セライト
等の担体に担持させたもの等が挙げられる。
一般的な水素化触媒が使用できるが、特にパラジウム触
媒、白金触媒またはニッケル触媒が好ましい。パラジウ
ム触媒または白金触媒とは、例えば、パラジウムまたは
白金の酸化物、パラジウム黒または白金黒、パラジウム
または白金の塩化物、白金酸ナトリウムまたは塩化白金
酸、これら触媒に助触媒を含むもの、これら触媒を活性
炭、硫酸バリウム、二酸化ケイ素等の担体に担持させた
もの等が挙げられる。ニッケル触媒とは例えば、ラネー
触媒、ニッケル塩類や水酸化物、これら触媒に助触媒を
含むもの、これら触媒をケイソウ土、活性炭、セライト
等の担体に担持させたもの等が挙げられる。
【００２０】これら触媒の使用量はＦＡＤに対して０．
１乃至１００重量％であり、好ましくは１乃至５０重量
％である。
１乃至１００重量％であり、好ましくは１乃至５０重量
％である。
【００２１】本発明の反応はアンモニア水溶液中で実施
され、用いるアンモニア水の濃度には制限はないが余り
に濃度が低いと反応速度に影響を与える。通常、２５〜
２８％濃度が使用される。
され、用いるアンモニア水の濃度には制限はないが余り
に濃度が低いと反応速度に影響を与える。通常、２５〜
２８％濃度が使用される。
【００２２】アンモニアの使用量はＦＡＤに対して１倍
モル以上であれば幾らでも良いが、好ましくは１乃至１
００倍モルである。
モル以上であれば幾らでも良いが、好ましくは１乃至１
００倍モルである。
【００２３】ＦＡＤ、触媒、アンモニア水を装入した後
に水素を通気又は圧入する。水素量はＦＡＤに対して理
論量以上あれば良く、通常過剰に使用する。
に水素を通気又は圧入する。水素量はＦＡＤに対して理
論量以上あれば良く、通常過剰に使用する。
【００２４】反応温度は０乃至１５０℃であり、好まし
くは１０乃至１００℃である。反応圧力は大気圧乃至１
００ｋｇ／ｃｍ2であり、好ましくは５乃至５０ｋｇ／
ｃｍ2である。反応時間は、反応温度・圧力により変動
するが、通常１〜２４時間で十分である。
くは１０乃至１００℃である。反応圧力は大気圧乃至１
００ｋｇ／ｃｍ2であり、好ましくは５乃至５０ｋｇ／
ｃｍ2である。反応時間は、反応温度・圧力により変動
するが、通常１〜２４時間で十分である。
【００２５】反応終了後の処理については、常法に従っ
て行う事が可能である。例えば、触媒を濾過し、蒸留す
る事によってフリーのＦＡＭを得る事ができる。また、
反応溶液から有機溶媒による抽出を行い、溶媒を留去し
てもフリーのＦＡＭを得る事ができ、抽出層を適当な酸
で処理し、晶析すればＦＡＭの塩を得る事ができる。
て行う事が可能である。例えば、触媒を濾過し、蒸留す
る事によってフリーのＦＡＭを得る事ができる。また、
反応溶液から有機溶媒による抽出を行い、溶媒を留去し
てもフリーのＦＡＭを得る事ができ、抽出層を適当な酸
で処理し、晶析すればＦＡＭの塩を得る事ができる。
【００２６】
【実施例】以下に実施例及び比較例によって本発明の内
容を具体的に説明する。 実施例１ ５％パラジウム／カーボン（５０ｗｔ％ 含水品）２
ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、 ２８％アンモニア水１００ｇを攪
拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反
応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌
速度 １０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾別
し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果を
表１に示す。
容を具体的に説明する。 実施例１ ５％パラジウム／カーボン（５０ｗｔ％ 含水品）２
ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、 ２８％アンモニア水１００ｇを攪
拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反
応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌
速度 １０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾別
し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果を
表１に示す。
【００２７】実施例２ ５％パラジウム／カーボン（５０ｗｔ％ 含水品）２
ｇ、ＦＡＤ １０ｇ、２８％アンモニア水１００ｇを攪
拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反
応温度室温（３０℃）、反応圧力１０ｋｇ／ｃｍ2、攪
拌速度 １０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾
別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果
を表１に示す。
ｇ、ＦＡＤ １０ｇ、２８％アンモニア水１００ｇを攪
拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反
応温度室温（３０℃）、反応圧力１０ｋｇ／ｃｍ2、攪
拌速度 １０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾
別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果
を表１に示す。
【００２８】実施例３ ３％白金／カーボン（５０ｗｔ％ 含水品）３．３ｇ、
ＦＡＤ１０ｇ、 ２８％アンモニア水１００ｇを攪拌機
付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反応温
度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度
１０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾別し、
濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果を表１
に示す。
ＦＡＤ１０ｇ、 ２８％アンモニア水１００ｇを攪拌機
付きオートクレーブに仕込み、水素を導入して、反応温
度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度
１０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒を濾別し、
濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。結果を表１
に示す。
【００２９】実施例４ １．５％パラジウム＋１．５％白金／カーボン（乾燥
品）１．７ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモニア水１０
０ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入
して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ
2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒
を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。
結果を表１に示す。
品）１．７ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモニア水１０
０ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を導入
して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ
2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。触媒
を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析した。
結果を表１に示す。
【００３０】実施例５ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力４
０ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応
させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィー
で分析した。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力４
０ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応
させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィー
で分析した。結果を表１に示す。
【００３１】実施例６ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力２
０ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応
させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィー
で分析した。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力２
０ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応
させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィー
で分析した。結果を表１に示す。
【００３２】実施例７ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５
ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応さ
せた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで
分析した。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５
ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応さ
せた。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで
分析した。結果を表１に示す。
【００３３】実施例８ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度４５℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度４５℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
【００３４】実施例９ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表−１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表−１に示す。
【００３５】実施例１０ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度８０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度８０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
【００３６】実施例１１ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
アンモニアガスを導入して圧力２ｋｇ／ｃｍ2とした
後、水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋ
ｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させ
た。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
アンモニアガスを導入して圧力２ｋｇ／ｃｍ2とした
後、水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋ
ｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させ
た。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を表１に示す。
【００３７】実施例１２ ラネーニッケル２．０ｇ、ＦＡＤ２０ｇ、２８％アンモ
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
ニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、
水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
【００３８】実施例１３ ラネーニッケル０．２５ｇ、ＦＡＤ２．５ｇ、２８％ア
ンモニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込
み、水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋ
ｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させ
た。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を表１に示す。
ンモニア水１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込
み、水素を導入して、反応温度６０℃、反応圧力１０ｋ
ｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させ
た。触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を表１に示す。
【００３９】比較例１ ５％パラジウム／カーボン（５０ｗｔ％ 含水品）２
ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、１７％アンモニア／メタノール溶液
１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を
導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、１７％アンモニア／メタノール溶液
１００ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、水素を
導入して、反応温度室温（３０℃）、反応圧力５ｋｇ／
ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐｍで２時間反応させた。
触媒を濾別し、濾液をガスクロマトグラフィーで分析し
た。結果を表１に示す。
【００４０】比較例２ ラネーニッケル１．０ｇ、ＦＡＤ１０ｇ、１７％アンモ
ニア／メタノール溶液１００ｇを攪拌機付きオートクレ
ーブに仕込み、水素を導入して、反応温度室温（３０
℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐ
ｍで２時間反応させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロ
マトグラフィーで分析した。結果を表１に示す。
ニア／メタノール溶液１００ｇを攪拌機付きオートクレ
ーブに仕込み、水素を導入して、反応温度室温（３０
℃）、反応圧力５ｋｇ／ｃｍ2、攪拌速度１０００ｒｐ
ｍで２時間反応させた。触媒を濾別し、濾液をガスクロ
マトグラフィーで分析した。結果を表１に示す。
【００４１】以下に上記反応で得られたＦＡＭの物性値
を挙げる。 ○無色透明液状 ○沸点 １０２−１０４℃（８８ｍｍＨｇ）または ７
３−７５℃（３０ｍｍＨｇ） ○1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：１．３６（２
Ｈ，ｂｒ），１．５２−１．６４（１Ｈ，ｍ），１．９
８−２．１０（１Ｈ，ｍ），２．３２（１Ｈ，ｓｅｐｔ
ｅｔ，Ｊ＝７．３），２．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
３），３．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，Ｊ＝８．
８），３．７５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３），３．８２−
３．９１（２Ｈ，ｍ）． ○ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）：３３６３，１６６０，１
０６０．
を挙げる。 ○無色透明液状 ○沸点 １０２−１０４℃（８８ｍｍＨｇ）または ７
３−７５℃（３０ｍｍＨｇ） ○1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：１．３６（２
Ｈ，ｂｒ），１．５２−１．６４（１Ｈ，ｍ），１．９
８−２．１０（１Ｈ，ｍ），２．３２（１Ｈ，ｓｅｐｔ
ｅｔ，Ｊ＝７．３），２．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
３），３．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，Ｊ＝８．
８），３．７５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３），３．８２−
３．９１（２Ｈ，ｍ）． ○ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）：３３６３，１６６０，１
０６０．
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、３−ホルミ
ルテトラヒドロフランを原料とし、アンモニア水溶液
中、金属触媒の存在下に接触水素化することにより、食
品、医薬、農薬等の分野において利用される化合物また
はその中間体の合成に際して有用な３−（テトラヒドロ
フリル）メチルアミンまたはその塩を温和な温度及び圧
力条件下で製造する事ができる。また転化率、収率がと
もに高く、工業的製造法として特に有用である。
ルテトラヒドロフランを原料とし、アンモニア水溶液
中、金属触媒の存在下に接触水素化することにより、食
品、医薬、農薬等の分野において利用される化合物また
はその中間体の合成に際して有用な３−（テトラヒドロ
フリル）メチルアミンまたはその塩を温和な温度及び圧
力条件下で製造する事ができる。また転化率、収率がと
もに高く、工業的製造法として特に有用である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 307/14 B01J 23/44 B01J 25/02 C07B 61/00 300 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】３−ホルミルテトラヒドロフランをアンモ
ニア水溶液中、水素化触媒の存在下に接触水素化するこ
とを特徴とする３−（テトラヒドロフリル）メチルアミ
ンまたはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26511595A JP3208298B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26511595A JP3208298B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09110848A JPH09110848A (ja) | 1997-04-28 |
| JP3208298B2 true JP3208298B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=17412828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26511595A Expired - Fee Related JP3208298B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ３−（テトラヒドロフリル）メチルアミンの製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3208298B2 (ja) |
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| JPWO2005121111A1 (ja) * | 2004-06-14 | 2008-04-10 | 三井化学株式会社 | ３−アミノメチルテトラヒドロフラン誘導体の製造方法 |
| KR100848977B1 (ko) * | 2004-06-14 | 2008-07-30 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 3－아미노메틸테트라히드로푸란 유도체의 제조방법 |
| JP6624490B2 (ja) * | 2015-07-17 | 2019-12-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | メチルアミノ基を有する芳香族化合物又はフラン誘導体の製造法 |
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| CN107935970B (zh) * | 2017-12-27 | 2020-04-28 | 浙江先锋科技股份有限公司 | 一种高纯度低含水量3-甲胺四氢呋喃的制备方法 |
| CN109438396B (zh) * | 2018-10-31 | 2020-11-13 | 山东新和成药业有限公司 | 一种四氢呋喃-3-甲胺的制备方法 |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP26511595A patent/JP3208298B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH09110848A (ja) | 1997-04-28 |
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