JPS6256535A - 焼結原料の水分制御方法 - Google Patents

焼結原料の水分制御方法

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JPS6256535A
JPS6256535A JP19818285A JP19818285A JPS6256535A JP S6256535 A JPS6256535 A JP S6256535A JP 19818285 A JP19818285 A JP 19818285A JP 19818285 A JP19818285 A JP 19818285A JP S6256535 A JPS6256535 A JP S6256535A
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mixer
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meter
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JP19818285A
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Etsuo Morimoto
悦央 森本
Tomoyoshi Koyama
小山 朝良
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Nippon Steel Corp
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Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は品質の安定した焼結鉱を製造ずべく焼結原料の
水分を制御する方法に関する。
(従来技術〕 高炉へ装入される主原料たる焼結鉱は粉鉱等の焼結原料
を焼結設備にて焼成して製造されており、焼結原料は通
気性を確保して焼結設備での生産性を向上させ、また焼
結鉱品質を安定化させるために擬似粒化されて粗大化せ
しめられる。
この擬似粒化のためには焼結設備へ供給する焼結原料中
へ水分を適当量含有せしめることが重要であり、このた
め焼結設備には一般に焼結機の前段に混合造粒設備が設
置されており、ここで水分管理を行っている。
さて、焼結設備における操業内容については、第2図に
示すように原料槽2から切り出された焼結原料は、ベル
トコンベア3にて焼結機40へ移送される間に第1造粒
ミキサー10.第2造粒ミキサー20にて注水され、こ
れらにおいて擬似粒化して粗大化し、焼結機40の原料
サージホッパー41へ装入され、次いでここから切り出
された焼結染料は焼結機40にて焼成されて焼結鉱とな
る。
上記造粒ミキサーでは焼結原料の水分を適当量に調整す
べく注水量制御が行われており、その注水量制御は中性
子水分計方式と赤外線水分計方式とに大別される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前者の中性子水分計方式は、第2図の原料サージホッパ
41へ取付けた中性子水分計42にて原料中の水分を測
定し、この測定値に基づき水分が目標値となるようにバ
ルブ21の開度を調整して第2造粒ミキサー20での注
水量を制御している。しかしながらこの方式の場合は対
象原料の水分応答遅れが生じ、焼結原料中の水分を十分
に調整できなかった。これは水分側定位ぽ〜注水位置間
距離が離れているためであり、具体的には造粒ミキサー
内での混合滞留時間が約1〜4分、造粒ミキサー原料サ
ージホッパーーまでのベルトコンへアによる搬送時間が
約0.5〜2分、原料サージホッパー内での中性子水分
計の検出位置までの原料滞留時間が約1〜2分掛かり、
更に中性子水分計での測定誤差低減のために時定数が約
0.5〜1分必要だからである。
後者の赤外線水分計方式は、第3図に示す如く第2造粒
ミキザー20の後に赤外線水分計30を配してこれにて
原料中の水分を測定し、このIII定値に基づいて水分
が目標値となるようにバルブ21の開度を調整して第2
造粒ミキサー20での注水量を制御している。
この方式の場合は中性子水分計方式の場合と異なり制御
の遅れが少ないが、赤外線水分計の測定精度、制御内容
等に問題がある。即ち、赤外線水分計は測定に際して焼
結原料の色1粒度及び太陽光等の外来光等によって影響
を受け、例えば原料銘柄毎の配合率の変化、注水量変化
による色変化等により影響を受けて測定誤差を生じ、こ
のため水分を目標値に調整できなかった。
また赤外線水分計が層状に積載された焼結原料の表面性
状、測定距離変化等によっても影響を受ける。したがっ
てこの影響を防止すべくベルトコンベア3上の原料高さ
を一定にするように掻き坂9 (第3図に示す)を設け
ている。
更に、この方式の場合には、測定位置が上流側にあるた
め、注水された焼結原料が焼結機40へ供給される迄の
期間に蒸発する水分量を把握し稚く、このため焼結原料
中の水分量を目的値に一致させることが困難であった。
なお、前述の焼結原料の色5粒度等による赤外線水分計
の測定誤差を解消すべく特開昭58−31038号が提
案されているが、この方法は測定誤差を無くずことが可
能であるが、他の問題については解決できなかった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは焼結原料への注水をフィードフォワ
ード制御及びフィードバック;lI制御することによっ
て制御遅れがなく、しかも焼結原料中の水分の調整精度
が高い焼結原料の水分制御方法を提供するにある。
本発明に係る焼結原料の水分制御方法は、造粒ミキサー
を備えた焼結設備にて焼結原料の水分を目標水分に制御
する方法において、焼結原料の水分を最終目標水分にす
べく注水する造粒ミキサーの上流側及び下流側に赤外線
水分計を配してこれらにて水分を測定し、上流側の赤外
線水分計の測定値に基づいて造粒ミキサーでの注水量を
フィードフォワード制御し、また下流側の赤外線水分計
の測定値に基づいて造粒ミキサーでの注水量をフィード
バック制御し、上記フィードフォワード制御系へ補正を
加えることを特徴とする。
〔実施例〕
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。
第1図は本発明の実施状態を示す模式図であり、図中1
は混合造粒設備を示す、原料槽2は混合造粒設備1の上
流側に配してあり、これには焼結原料が貯留されており
、焼結原料はこの下部よりベルトコンベア3上へ所定量
切り出されて白抜矢符方向へ移送される。
原料槽2の下流側には重量計量計4が設置されており、
ヘルドコンベア3上の焼結原料はこれにて重量が測定さ
れて第1造粒ミキサー10へ導入される。重量側定値は
第1造粒ミキサー用制御器5及び第2造粒ミキサー用制
御器6へ与えられる。
第1造粒ミキザー10へ導入された焼結原料はここで注
水される。このとき水流量調節器13は制御器5からの
出力信号に基づきバルブ11の開度を調整し、この開度
に基づいた水量がバルブ1工を通って第j造粒ミキサー
10へ供給されている。また水流量調節器13にはバル
ブ11よりも水源(図示せず)側に取付けられた流量計
12がらのフィードバンク信号が入力されるようになっ
ており、流量計12は水/jL量波節器13の外に制御
器5へ測定信号を出方している。そして第工造粒ミキサ
ーエ0にて注水された焼結原料は第1造粒ミキサー10
の下流側に設けた掻き板9にて掻かれた後、第2造粒ミ
キサー20の方へ送られていく。
第13ri粒ミキサー10〜第2造粒ミキサー20間の
掻き板9の下流側には焼結原料を臨む位置に例えば3波
長方式の赤外線水分計30aが設置されており、赤外線
水分計30aは第1造粒ミキサー10にて注水された焼
結原料中の水分を測定し、測定信号は水分計液接部30
bにて水分量に関する電気信号に変襖されて前記制御器
5及び6へ出力される。
水分が測定された後、焼結原料は第2造粒ミキサー20
へ導入されてここで更に注水される。このとき水流量調
節器23は制御器6の出力信号に基づきバルブ2Iの開
度を4節し、この開度に基づいた水量がバルブ21を通
って第2造粒ミキサー20へ供給されている。また水流
量調節器23及びホ1j御器6にはバルブ21よりも水
源(図示せず)側に取付けられた流量計22からのフィ
ードバック信号が入力されるようになっている。
第2造粒ミキサー20にて注水された焼結原料はその下
流便Iに設けた橿き板9′にて掻かれた後、焼結機40
の方へ送られていく。
上記撞き板9′の下流側には焼結原料を臨む位置に例え
ば3波長方式の赤外線水分計31aが設置されており、
赤外線水分計31.1は第2造粒ミキザー20までに注
水された焼結原料中の水分を測定し、測定信号は水分計
変換部31 bにて水分量に関する電気信号に変倹され
て前記制御器6へ出力される。
水分が測定された後、焼結原料は焼結機40の染料サー
ジホッパー41へ装入される。
前記制御器5及び制御器6には目標水分設定器8から注
水比率設定器7を会して夫々目標水分値、例えば制御器
6へは最終目標水分値、制御器5へは最終目標水分より
僅かに少ない水分値に関する信号が入力されるようにな
っており、制御器5ば重量計量計4.水分計変換部30
bからの各入力信号及び上記目標水分値の信号より第1
造粒ミキサー10での注水量を次に説明する水分制御内
容に基づいて算出し、算出信号を水流量調節器13へ出
力する。
一方、制御器6はM量計量計4.水分計変換部30b、
31b及び42bからの各入力信号及び注水比率設定器
7からの目標水分値の信号より第2造粒ミキサー20で
の注水量を、次に説明する水分制御内容に基づいて算出
し、算出信号を水流量調節器23へ出力する。
水流量調節器1.3.23夫には入力信号及び流量計1
2、22からの水流量に関するフィードバック信号に基
づいてバルブ11.21の開度を制御する。
このように構成された焼結設備、即ち混合造粒設備及び
焼結機における水分制御内容につき説明する。
重量計量計4にてヘルドコンヘア3上を所定速度で移送
されている焼結原料の積載輸送量(W、t/h)が測定
される。また第1造粒ミキサー10にて注水された焼結
原料中の水分m1が赤外線水分計30aにより測定され
る。
さて、このときW、ml、流量計12の測定値f1及び
目標水分値M1とするに必要な注水ff1F+は次の+
11式により求められる。
p、、に、  i、±(1−に+) ・W(K2・(M
+−Illo)+(1−に:り ・(Ml−ml) 1
・・・  (1) 但し、mo :注水される前の焼結原料中に含有する水
分 に、、に2 :定数 この(1+式を制御器5へ予め設定しておく、水分計変
換部30b等からのrJ 、W、、r、 1M、信号が
入力されると制御器5はF、を算出する。そして制御器
5はこの水流量に関する信号を水流量調節器13へ出力
して第1造粒ミキサー10の注水量をフィードハック制
御する。
ナオW 、 m Oはベルトコンベアの速度によりトラ
ッキングしておき、第1造粒ミキサー通過時のタイミン
グに合わせた値により計算する。
またm。の値が予め決められない場合はに2をゼロとし
てもよい。
一方、制御器6には第2造粒ミキサー20での注水IF
2に関する下記(2)式が予め設定されており、F2−
に3・f2±(1−に3) ・W(L値M2−ml )
+ (1−に4)値M2−1112) )・・・  (
2) 但し、K3.に、:定数 m2 :赤外線水分計31bの水分測定値f2 :流量
計22の測定値 水分計変換部30b、31b等からの信号ml 、 m
2 。
w、F2及び最終目標水分値M2よりF2を求める。な
お(2)式においてW及び注水量F2は第2造粒ミキサ
ー通過時のタイミングに合わせてトラッキングした値で
ある。
そして制御器6はこの注水量F2に関する信号を水流量
調節器23へ出力し、赤外線水分計30aからの信号m
1成分に基づき第2造粒ミキサー20の注水量をフィー
ドフォワード制御し、また赤外線水分計31aからの信
号m2成分に基づきフィードバンク制御する。
これにより水分が最終目標水分値となった焼結原料は焼
結機40にて焼成されて品質の安定した焼結鉱となる。
なお、上記説明では赤外線水分計30aによる水分測定
値に基づいて第1造粒ミキサーでの注水量をフィードバ
ック制御しているが、本発明はこの場合に限らず第1造
粒ミキサーでの注水量が一定である場合であっても実施
できる。
また、本発明は第1.第2造粒ミキサーにて注水する場
合に限らず、一方の造粒ミキサーにて注水する場合にあ
っても実施できる。この場合は該当造粒ミキサーの上流
側に設けた赤外線水分計での測定値に基づいてフィード
フォワード制御を行い、また該当造粒ミキサーの下流側
に設けた赤外線水分計での測定値に基づいてフィートバ
ック制御を行うことにより焼結原料中の水分を目標値に
調整できる。
〔効果〕
以上詳述した如く本発明は最終目標水分にすべく注水す
る造粒ミキサーの上、下流側夫々に設けた赤外線水分計
の測定値夫々に基づいてフィードフォワード制御及びフ
ィードバック制御を行うので、従来の中性子水分計のみ
による制御の場合に生じていた制御遅れを解消でき、ま
た従来の赤外線水分計1個のみによる制御の場合の原料
配合変更による色3粒度の変化、測定距離変動及び茄発
等による水損失等に基づき生じていた制御不良を改善で
き、上記の下流側に設けた赤外線水分計での測定値に基
づくフィードバック制御により水分制御が可能であり、
従って精度よく焼結原料中の水分を目標値に制御でき、
品質の安定した焼結鉱の製造が可能となる等優れた効果
を奏する。
また本発明による場合は、上流側又は下流側の赤外線水
分計のどちらか一方が故障したときでも直ちに一方の赤
外線水分計による注水制御が可能である利点を有してい
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施状態を示す模式図、第2図、第3
図は従来技術の説明図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、造粒ミキサーを備えた焼結設備にて焼結原料の水分
    を目標水分に制御する方法において、焼結原料の水分を
    最終目標水分にすべく注水する造粒ミキサーの上流側及
    び下流側に赤外線水分計を配してこれらにて水分を測定
    し、上流側の赤外線水分計の測定値に基づいて造粒ミキ
    サーでの注水量をフィードフォワード制御し、 また下流側の赤外線水分計の測定値に基づいて造粒ミキ
    サーでの注水量をフィードバック制御することを特徴と
    する焼結原料の水分制御方法。
JP19818285A 1985-09-06 1985-09-06 焼結原料の水分制御方法 Granted JPS6256535A (ja)

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JPH052731B2 JPH052731B2 (ja) 1993-01-13

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