JPS6247171B2 - - Google Patents
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- JPS6247171B2 JPS6247171B2 JP56118537A JP11853781A JPS6247171B2 JP S6247171 B2 JPS6247171 B2 JP S6247171B2 JP 56118537 A JP56118537 A JP 56118537A JP 11853781 A JP11853781 A JP 11853781A JP S6247171 B2 JPS6247171 B2 JP S6247171B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジヤスモノイドの合成の重要な中間
体である下記式(1)、 但し式中、Rは低級アルキル基たとえばメチル
基もしくはエチル基を示す、 で表わされる2−アリル−3−アルコキシカルボ
ニルメチルシクロペンタノンの合成に有用な従来
文献未記載の下記式(2)、 但し式中、Rは同一でも異なつていてもよく、
夫々、低級アルキル基、たとえばメチル基もしく
はエチル基を示す、 で表わされる2−アリル−2・5−ジアルコキシ
カルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−
1−シクロペンタノン及びそれらの製法に関す
る。
体である下記式(1)、 但し式中、Rは低級アルキル基たとえばメチル
基もしくはエチル基を示す、 で表わされる2−アリル−3−アルコキシカルボ
ニルメチルシクロペンタノンの合成に有用な従来
文献未記載の下記式(2)、 但し式中、Rは同一でも異なつていてもよく、
夫々、低級アルキル基、たとえばメチル基もしく
はエチル基を示す、 で表わされる2−アリル−2・5−ジアルコキシ
カルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−
1−シクロペンタノン及びそれらの製法に関す
る。
従来、前記式(1)化合物の製造について工業的に
満足し得る方法は提案されていない。例えば、特
開昭53−103450号には、シス−ジヤスモン酸メチ
ルの製造過程に於て、2−アリル−3−メトキシ
カルボニルメチルシクロペンタノンの製法が記載
されている。この製法によれば、ジシクロペンタ
ジエンをヒドロキシ化工程及びアリル化工程を経
たのち熱分解処理して、2−アリルシクロペンテ
ン−2(または−3もしくは−4)−オン−1の
混合物を製造し、これを異性化して2−アリルシ
クロペンテン−2−オン−1に転化したのち、マ
ロン酸ジメチルと反応させて2−アリル−3−ジ
カルボメトキシメチルシクロペンタノンを形成
し、これを加熱分解処理して2−アリル−3−メ
トキシカルボニルメチルシクロペンタノンを製造
する。この方法では工業的実施に適しない煩雑な
操作及び多工程が要求される欠陥があり、更に副
生成物が多く、収率も悪いなどの不利益がある。
満足し得る方法は提案されていない。例えば、特
開昭53−103450号には、シス−ジヤスモン酸メチ
ルの製造過程に於て、2−アリル−3−メトキシ
カルボニルメチルシクロペンタノンの製法が記載
されている。この製法によれば、ジシクロペンタ
ジエンをヒドロキシ化工程及びアリル化工程を経
たのち熱分解処理して、2−アリルシクロペンテ
ン−2(または−3もしくは−4)−オン−1の
混合物を製造し、これを異性化して2−アリルシ
クロペンテン−2−オン−1に転化したのち、マ
ロン酸ジメチルと反応させて2−アリル−3−ジ
カルボメトキシメチルシクロペンタノンを形成
し、これを加熱分解処理して2−アリル−3−メ
トキシカルボニルメチルシクロペンタノンを製造
する。この方法では工業的実施に適しない煩雑な
操作及び多工程が要求される欠陥があり、更に副
生成物が多く、収率も悪いなどの不利益がある。
本発明者等は、上記従来提案の不利益ないし欠
陥を克服し得る新しい合成法を開発すべく研究を
行つた。
陥を克服し得る新しい合成法を開発すべく研究を
行つた。
その結果、前記式(2)で示される従来文献未記載
の化合物が合成でき、該式(2)化合物を酸の存在下
の脱炭酸反応せしめることにより、工業的に有利
に短縮された工程で、式(1)化合物を、高収率、高
純度をもつて製造できることを発見した。
の化合物が合成でき、該式(2)化合物を酸の存在下
の脱炭酸反応せしめることにより、工業的に有利
に短縮された工程で、式(1)化合物を、高収率、高
純度をもつて製造できることを発見した。
本発明者等の研究によれば、安価に且つ容易に
合成可能なアセトンジカルボン酸エステル誘導体
から、容易に製造できる下記式(3) 但し式中、Rは同一でも異つていてもよく、
夫々、低級アルキル基を示す、 で表わされる2−アリル−3−オキソグルタル酸
アルキルと下記式(4) 但し式中、Rは低級アルキル基を示し、Xはハ
ロゲン原子を示す、 で表わされる4−ハロクロトン酸アルキルとか
ら、前記式(2)の従来文献未記載の化合物が容易に
且つ高収率、高純度をもつて製造でき、該式(2)化
合物を脱炭酸反応に賦することによつて、一挙に
式(1)化合物を製造できることがわかつた。
合成可能なアセトンジカルボン酸エステル誘導体
から、容易に製造できる下記式(3) 但し式中、Rは同一でも異つていてもよく、
夫々、低級アルキル基を示す、 で表わされる2−アリル−3−オキソグルタル酸
アルキルと下記式(4) 但し式中、Rは低級アルキル基を示し、Xはハ
ロゲン原子を示す、 で表わされる4−ハロクロトン酸アルキルとか
ら、前記式(2)の従来文献未記載の化合物が容易に
且つ高収率、高純度をもつて製造でき、該式(2)化
合物を脱炭酸反応に賦することによつて、一挙に
式(1)化合物を製造できることがわかつた。
従つて、本発明の目的は、該式(1)化合物製造に
用いるのに有用な前記式(2)化合物及びその製法を
提供するにある。
用いるのに有用な前記式(2)化合物及びその製法を
提供するにある。
本発明の上記目的並びに更に多くの目的及び利
点は、以下の記載から一層明らかになるであろ
う。
点は、以下の記載から一層明らかになるであろ
う。
本発明方法によれば、前記式(3)の2−アリル−
3−オキソグルタル酸アルキル類から前記式(2)の
新規2−アリル−2・5−ジアルコキシカルボニ
ル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シク
ロペンタノン類を経由して、前記式(1)化合物を容
易な手段で且つ高収率高純度をもつて製造するこ
とができる。
3−オキソグルタル酸アルキル類から前記式(2)の
新規2−アリル−2・5−ジアルコキシカルボニ
ル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シク
ロペンタノン類を経由して、前記式(1)化合物を容
易な手段で且つ高収率高純度をもつて製造するこ
とができる。
本発明の製造方法の1具体例について、式(1)化
合物の製造例を含めて、その反応工程図を以下に
示す。
合物の製造例を含めて、その反応工程図を以下に
示す。
本発明の原料である前記式(3)の2−アリル−3
−オキソグルタル酸アルキル類は、入手容易で且
つ容易に合成できるアセトンジカルボン酸アルキ
ルを、たとえば、臭化アリルと反応せしめること
により好収率高純度をもつて容易に合成すること
ができる。以下に上記工程図に従つて前記式(1)化
合物の合成法の態様について述べる。
−オキソグルタル酸アルキル類は、入手容易で且
つ容易に合成できるアセトンジカルボン酸アルキ
ルを、たとえば、臭化アリルと反応せしめること
により好収率高純度をもつて容易に合成すること
ができる。以下に上記工程図に従つて前記式(1)化
合物の合成法の態様について述べる。
本発明において、新規なそれ自体香料として使
用できる持続性花様香気を有する前記式(2)2−ア
リル−2・5−ジアルコキシカルボニル−3−ア
ルコキシカルボニルメチル−1−シクロペンタノ
ン類の形成反応は、例えば、前記式(3)の2−アリ
ル−3−オキソグルタル酸アルキル類を、たとえ
ば不活性有機溶媒中、塩基の存在下に下記式(4) 但し式中、Rは低級アルキル基たとえばメチル
基もしくはエチル基を示し、Xはハロゲン原子を
示す、 で表わされる4−ハロクロトン酸アルキル誘導体
と接触せしめて縮合閉環反応させることにより高
収率且つ高選択率をもつて容易に行うことができ
る。
用できる持続性花様香気を有する前記式(2)2−ア
リル−2・5−ジアルコキシカルボニル−3−ア
ルコキシカルボニルメチル−1−シクロペンタノ
ン類の形成反応は、例えば、前記式(3)の2−アリ
ル−3−オキソグルタル酸アルキル類を、たとえ
ば不活性有機溶媒中、塩基の存在下に下記式(4) 但し式中、Rは低級アルキル基たとえばメチル
基もしくはエチル基を示し、Xはハロゲン原子を
示す、 で表わされる4−ハロクロトン酸アルキル誘導体
と接触せしめて縮合閉環反応させることにより高
収率且つ高選択率をもつて容易に行うことができ
る。
該反応の反応温度は適宜に選択でき、例えば、
約−20゜〜約+200℃程度の温度範囲、より好ま
しくは約20〜約100℃程度の温度範囲を例示する
ことができる。反応時間は反応温度等によつても
適宜に変更することができ、例えば、約1〜約
100時間程度の反応時間を例示することができ
る。
約−20゜〜約+200℃程度の温度範囲、より好ま
しくは約20〜約100℃程度の温度範囲を例示する
ことができる。反応時間は反応温度等によつても
適宜に変更することができ、例えば、約1〜約
100時間程度の反応時間を例示することができ
る。
該縮合閉環反応において用いられる塩基の具体
例としては、例えば、NaOC2H5、t−BuOK、t
−AmOK、NaH、Mg(OCH3)2、Mg
(CO2H5)2、NaNH2、KNH2、〔(CH3)2CH〕2NLi、
CH3SOCH2Na、K2CO3、Na2CO3、NaOH及び
KOH(t−Buはターシヤリブチルを、t−Am
はターシヤリイアミルを示す)等を挙げることが
できる。これらの塩基の使用量は適宜に選択で
き、例えば前記式(3)化合物1モルに対して約0.5
〜約5モル程度の範囲で充分であり、一層好まし
くは、約1.5〜約3モル程度の範囲がしばしば採
用される。
例としては、例えば、NaOC2H5、t−BuOK、t
−AmOK、NaH、Mg(OCH3)2、Mg
(CO2H5)2、NaNH2、KNH2、〔(CH3)2CH〕2NLi、
CH3SOCH2Na、K2CO3、Na2CO3、NaOH及び
KOH(t−Buはターシヤリブチルを、t−Am
はターシヤリイアミルを示す)等を挙げることが
できる。これらの塩基の使用量は適宜に選択で
き、例えば前記式(3)化合物1モルに対して約0.5
〜約5モル程度の範囲で充分であり、一層好まし
くは、約1.5〜約3モル程度の範囲がしばしば採
用される。
上記反応において用いられる前記式(4)4−ハロ
クロトン酸アルキル類の使用量は適当に選択で
き、前記式(3)化合物1モルに対して、例えばば、
約0.5〜約30モル程度がしばしば採用される。
クロトン酸アルキル類の使用量は適当に選択で
き、前記式(3)化合物1モルに対して、例えばば、
約0.5〜約30モル程度がしばしば採用される。
又、上記縮合閉環反応において用いる不活性有
機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、
エタノール、t−ブタノール、t−アミルアルコ
ール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグ
ム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、DMF及びDMSO等を
挙げることができる。これらの溶媒は、単独で
も、2種以上採用しても用いることができる。こ
れらの溶媒の使用量には特別の制約はないが、前
記式(3)化合物に対し約1〜約200量倍程度、一層
好ましくは、約5〜約50重量倍程度の範囲の使用
量を例示することができる。上記反応の終了後、
例えば、反応生成物を水中に注入し、中和し、適
当な溶媒で抽出し、溶媒層を水洗し、乾燥し、濃
縮することにより、式(2)で表わされる2−アリル
−2・5−ジアルコキシカルボニル3−アルコキ
シカルボニルメチル−1−シクロペンタノン類を
高収率高純度で得ることができる。更に望むなら
ば、減圧蒸留やカラムクロマト等の手段により、
さらに精製することも可能である。
機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、
エタノール、t−ブタノール、t−アミルアルコ
ール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグ
ム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、DMF及びDMSO等を
挙げることができる。これらの溶媒は、単独で
も、2種以上採用しても用いることができる。こ
れらの溶媒の使用量には特別の制約はないが、前
記式(3)化合物に対し約1〜約200量倍程度、一層
好ましくは、約5〜約50重量倍程度の範囲の使用
量を例示することができる。上記反応の終了後、
例えば、反応生成物を水中に注入し、中和し、適
当な溶媒で抽出し、溶媒層を水洗し、乾燥し、濃
縮することにより、式(2)で表わされる2−アリル
−2・5−ジアルコキシカルボニル3−アルコキ
シカルボニルメチル−1−シクロペンタノン類を
高収率高純度で得ることができる。更に望むなら
ば、減圧蒸留やカラムクロマト等の手段により、
さらに精製することも可能である。
又、前記式(3)化合物と前記式(4)化合物を反応さ
せて前記式(2)化合物を得る反応において、反応条
件、例えば、塩基の使用量、反応温度、反応時間
等は適宜に選択することができる。塩基の使用量
が比較的少なく、比較的温和な反応条件を選択し
た場合には、下記式(3)−1 但し式中、Rは同一もしくは異つて、夫々、低
級アルキル基、たとえばメチル基もしくはエチル
基を示す、 で表わされる5・7−ジアルコキシカルボニル−
6オキソ−2・9−デカンジエン酸アルキルを形
成することができ且つ単離することができる。そ
して、この鎖状ケトトリエステル類に塩基を更に
作用させて閉環せしめることにより、前記式(2)化
合物で表わされる2−アリル−2・5−ジアルコ
キシカルボニル−3−アルコキシカルボニルメチ
ル−1−シクロペンタノン類に誘導することがで
きる。
せて前記式(2)化合物を得る反応において、反応条
件、例えば、塩基の使用量、反応温度、反応時間
等は適宜に選択することができる。塩基の使用量
が比較的少なく、比較的温和な反応条件を選択し
た場合には、下記式(3)−1 但し式中、Rは同一もしくは異つて、夫々、低
級アルキル基、たとえばメチル基もしくはエチル
基を示す、 で表わされる5・7−ジアルコキシカルボニル−
6オキソ−2・9−デカンジエン酸アルキルを形
成することができ且つ単離することができる。そ
して、この鎖状ケトトリエステル類に塩基を更に
作用させて閉環せしめることにより、前記式(2)化
合物で表わされる2−アリル−2・5−ジアルコ
キシカルボニル−3−アルコキシカルボニルメチ
ル−1−シクロペンタノン類に誘導することがで
きる。
本発明において、例えば、上記のようにして得
られた式(2)化合物は、文献未記載の油状化合物で
ある。式(2)化合物に包含される新規化合物の具体
例としては、(a)2−アリル−2・5−ジメトキシ
カルボニル−3−メトキシカルボニルメチル−1
−シクロペンタノン(b)2−アリル−2・5−ジメ
トキシカルボニル−3−エトキシカルボニルメチ
ル−1−シクロペンタノン(c)2−アリル−2・5
−ジエトキシカルボニル−3−メトキシカルボニ
ルメチル−1−シクロペンタノン(d)2−アリル−
2・5−ジエトキシカルボニル−3−エトキシカ
ルボニルメチル−1−シクロペンタノンなどを好
ましく挙げることができる。これら新規化合物の
沸点を下記に記載する。
られた式(2)化合物は、文献未記載の油状化合物で
ある。式(2)化合物に包含される新規化合物の具体
例としては、(a)2−アリル−2・5−ジメトキシ
カルボニル−3−メトキシカルボニルメチル−1
−シクロペンタノン(b)2−アリル−2・5−ジメ
トキシカルボニル−3−エトキシカルボニルメチ
ル−1−シクロペンタノン(c)2−アリル−2・5
−ジエトキシカルボニル−3−メトキシカルボニ
ルメチル−1−シクロペンタノン(d)2−アリル−
2・5−ジエトキシカルボニル−3−エトキシカ
ルボニルメチル−1−シクロペンタノンなどを好
ましく挙げることができる。これら新規化合物の
沸点を下記に記載する。
化合物 沸 点
(a) 142〜145℃/2mmHg
(b) 145〜148℃/2mmHg
(c) 150〜155℃/2mmHg
(d) 153〜158℃/2mmHg
前記式(1)の2−アリル−3−アルコキシカルボ
ニルメチル−1−シクロペンタノンを前記式(2)化
合物から製造するには、例えば含水メタノールあ
るいは含水エタノールの如き含水アルコール溶媒
中、酸の存在下に脱炭酸反応(もしくは脱炭酸エ
ステル化反応)せしめることにより、好収率且つ
好選択率をもつて容易に製造することができる。
ニルメチル−1−シクロペンタノンを前記式(2)化
合物から製造するには、例えば含水メタノールあ
るいは含水エタノールの如き含水アルコール溶媒
中、酸の存在下に脱炭酸反応(もしくは脱炭酸エ
ステル化反応)せしめることにより、好収率且つ
好選択率をもつて容易に製造することができる。
この脱炭酸反応は、例えば、約10〜約100℃程
度の温度範囲で行うことができ、約50゜〜約90℃
程度の温度範囲が一層好ましく例示できる。反応
時間は反応温度等によつて適宜に変更でき、例え
ば、約1〜約50時間程度の反応時間を例示するこ
とができる。
度の温度範囲で行うことができ、約50゜〜約90℃
程度の温度範囲が一層好ましく例示できる。反応
時間は反応温度等によつて適宜に変更でき、例え
ば、約1〜約50時間程度の反応時間を例示するこ
とができる。
上記脱炭酸反応において用いられる酸の具体例
としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リ
ン酸、過塩素酸、p−トルエンスルホン酸及びベ
ンゼンスルホン酸等の無機及び有機酸を挙げるこ
とができる。これら酸の使用量には、特別の制約
はないが、式(2)化合物に対して、約1〜約50重量
倍程度、一層好ましくは、約5〜約30重量倍程度
の使用量を例示することができる。上記脱炭酸反
応の終了後、例えば、反応生成物を水中に注入
し、中和し、適当な溶媒で抽出し、溶媒層を水
洗、乾燥後、濃縮することにより、式(1)の2−ア
リル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シ
クロペンタノン類を高収率高純度で得ることがで
きる。更に望むならば、例えば、減圧蒸留やカラ
ムクロマト等の手段により、さらに精製すること
ができる。
としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リ
ン酸、過塩素酸、p−トルエンスルホン酸及びベ
ンゼンスルホン酸等の無機及び有機酸を挙げるこ
とができる。これら酸の使用量には、特別の制約
はないが、式(2)化合物に対して、約1〜約50重量
倍程度、一層好ましくは、約5〜約30重量倍程度
の使用量を例示することができる。上記脱炭酸反
応の終了後、例えば、反応生成物を水中に注入
し、中和し、適当な溶媒で抽出し、溶媒層を水
洗、乾燥後、濃縮することにより、式(1)の2−ア
リル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シ
クロペンタノン類を高収率高純度で得ることがで
きる。更に望むならば、例えば、減圧蒸留やカラ
ムクロマト等の手段により、さらに精製すること
ができる。
以下、実施例により本発明の数態様について更
に詳しく説明する。
に詳しく説明する。
参考例 1
2−アリル−3−オキソグルタル酸エチルの合
成容器に乾燥エタノール500ml、マグネシウム18
g(0.75モル)、ヨード0.2gを仕込み48時間
refluxをおこないマグネシウムエトキシドエタノ
ール溶液を調整する。次いで50℃に冷却後、アセ
トンジカルボン酸ジエチル150g(0.75モル)を
滴下注入する。滴下後更に1時間refluxした後再
び冷却し(30℃)、アリルブロミド60g(0.75モ
ル)を滴下注入する。加温し5時間reflux下反応
をおこなう。終了後冷却し、エタノールを留去す
る。残液に5%塩酸水1000ml、エーテル500mlを
加え分解する。次いで水層を更にエーテル500ml
で抽出し、エーテル層を合わせる。エーテル層を
水洗し、重ソ水洗、水洗した後、無水硫酸マグネ
シウム脱水処理をおこないエーテルを留去する。
残液を減圧下に蒸留して、沸点113℃/2mmHgを
有する留分164g(収率90%)を得る。
成容器に乾燥エタノール500ml、マグネシウム18
g(0.75モル)、ヨード0.2gを仕込み48時間
refluxをおこないマグネシウムエトキシドエタノ
ール溶液を調整する。次いで50℃に冷却後、アセ
トンジカルボン酸ジエチル150g(0.75モル)を
滴下注入する。滴下後更に1時間refluxした後再
び冷却し(30℃)、アリルブロミド60g(0.75モ
ル)を滴下注入する。加温し5時間reflux下反応
をおこなう。終了後冷却し、エタノールを留去す
る。残液に5%塩酸水1000ml、エーテル500mlを
加え分解する。次いで水層を更にエーテル500ml
で抽出し、エーテル層を合わせる。エーテル層を
水洗し、重ソ水洗、水洗した後、無水硫酸マグネ
シウム脱水処理をおこないエーテルを留去する。
残液を減圧下に蒸留して、沸点113℃/2mmHgを
有する留分164g(収率90%)を得る。
実施例 1
2−アリル−2・5−ジエトキシカルボニル−
3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロペン
タノンの合成。
3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロペン
タノンの合成。
トルエン500ml中にNaH40g(0.99モル)をけ
んだくさせ、これに2−アリル−3−オキソグル
タル酸エチル108g(0.45モル)を滴下する。水
素の発生が止んだのち、再びγ−ブロモクロトン
酸メチル89g(0.49モル)を室温にて滴下する。
同温度にて15時間反応を続けた後、加熱し80゜〜
85℃の温度で8時間反応を行う。反応液を5%塩
酸水500ml中に注入し分解する。トルエン層を水
洗し、重曹洗浄、水洗をおこなつた後、トルエン
を留去し得られた残液を減圧下に蒸留して、沸点
150゜〜155℃/2mmHgの留分を130g(収率84
%)を得る。構造はIR、NMR、MS、GLCにより
確認した。
んだくさせ、これに2−アリル−3−オキソグル
タル酸エチル108g(0.45モル)を滴下する。水
素の発生が止んだのち、再びγ−ブロモクロトン
酸メチル89g(0.49モル)を室温にて滴下する。
同温度にて15時間反応を続けた後、加熱し80゜〜
85℃の温度で8時間反応を行う。反応液を5%塩
酸水500ml中に注入し分解する。トルエン層を水
洗し、重曹洗浄、水洗をおこなつた後、トルエン
を留去し得られた残液を減圧下に蒸留して、沸点
150゜〜155℃/2mmHgの留分を130g(収率84
%)を得る。構造はIR、NMR、MS、GLCにより
確認した。
実施例 2
実施例1と同じ反応条件を採用して、前記式(2)
に相当する種々の化合物を合成した。その結果を
以下に示す。
に相当する種々の化合物を合成した。その結果を
以下に示す。
No. (生成物)
(a) 2−アリル−2・5−ジメトキシカルボニル
−3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン (b) 2−アリル−2・5−ジメトキシカルボニル
−3−エトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン、 (c) 2−アリル−2・5−ジエトキシカルボニル
−3−エトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン No. (沸 点) (収率) (a) 142−145℃/2mmHg 75% (b) 145−148℃/2mmHg 81% (d) 153−158℃/2mmHg 87% 構造はIR、NMR、MS、GLCにより確認した。
−3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン (b) 2−アリル−2・5−ジメトキシカルボニル
−3−エトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン、 (c) 2−アリル−2・5−ジエトキシカルボニル
−3−エトキシカルボニルメチル−1−シクロ
ペンタノン No. (沸 点) (収率) (a) 142−145℃/2mmHg 75% (b) 145−148℃/2mmHg 81% (d) 153−158℃/2mmHg 87% 構造はIR、NMR、MS、GLCにより確認した。
参考例 2
2−アリル−3−メトキシカルボニルメチル−
1−シクロペンタノンの合成 2−アリル−2・5−ジエトキシカルボニル−
3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロペン
タノン45g(0.132モル)を6N塩酸250ml、メタ
ノール250mlとともに反応フラスコに仕込み、40
時間加熱還流をおこなう。終了後エーテル抽出を
おこない、エーテル層を合わせ、水洗、重ソ水洗
浄、水洗し、無水硫酸マグネシウム脱水処理をお
こなう。エーテルを留去し、残液を減圧下に蒸留
し、沸点110゜〜115℃/3mmHgを有する留分を
22.5g(収率87%)を得る。構造はIR、NMR、
MS、GLCにより確認した。
1−シクロペンタノンの合成 2−アリル−2・5−ジエトキシカルボニル−
3−メトキシカルボニルメチル−1−シクロペン
タノン45g(0.132モル)を6N塩酸250ml、メタ
ノール250mlとともに反応フラスコに仕込み、40
時間加熱還流をおこなう。終了後エーテル抽出を
おこない、エーテル層を合わせ、水洗、重ソ水洗
浄、水洗し、無水硫酸マグネシウム脱水処理をお
こなう。エーテルを留去し、残液を減圧下に蒸留
し、沸点110゜〜115℃/3mmHgを有する留分を
22.5g(収率87%)を得る。構造はIR、NMR、
MS、GLCにより確認した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式(2) 但し式中、Rは同一でも異なつていてもよく、
夫々、低級アルキル基を示す、 で表わされ2−アリル−2・5−ジアルコキシカ
ルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−1
−シクロペンタンノン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11853781A JPS5821648A (ja) | 1981-07-30 | 1981-07-30 | 2−アリル−2・5−ジアルコキシカルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シクロペンタノン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11853781A JPS5821648A (ja) | 1981-07-30 | 1981-07-30 | 2−アリル−2・5−ジアルコキシカルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シクロペンタノン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5821648A JPS5821648A (ja) | 1983-02-08 |
JPS6247171B2 true JPS6247171B2 (ja) | 1987-10-06 |
Family
ID=14739040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11853781A Granted JPS5821648A (ja) | 1981-07-30 | 1981-07-30 | 2−アリル−2・5−ジアルコキシカルボニル−3−アルコキシカルボニルメチル−1−シクロペンタノン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5821648A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63115260U (ja) * | 1987-01-17 | 1988-07-25 | ||
JPH01283993A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Hitachi Ltd | 回路プリント板、その面付け部品位置認識装置、及び面付け部品検査装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5626846A (en) * | 1979-08-14 | 1981-03-16 | T Hasegawa Co Ltd | Preparation of jasmonate derivative and its intermediate |
-
1981
- 1981-07-30 JP JP11853781A patent/JPS5821648A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5626846A (en) * | 1979-08-14 | 1981-03-16 | T Hasegawa Co Ltd | Preparation of jasmonate derivative and its intermediate |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63115260U (ja) * | 1987-01-17 | 1988-07-25 | ||
JPH01283993A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Hitachi Ltd | 回路プリント板、その面付け部品位置認識装置、及び面付け部品検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5821648A (ja) | 1983-02-08 |
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