JPS6236385A - ３，７−ジ置換−３−セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は新規な３．７−ジ置換−３−セフェム化合物
およびその塩類に関する。

さらに詳細には、この発明は抗菌活性を有する新規な３
．７−ジ置換−３−セフェム化合物およびその塩類、そ
れらの製造法、それらを含有する抗菌剤に関する。

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病ｖ、ｇＪ
に対して強い抗菌活性を有し、抗菌剤として有用な新規
３．７−ジ置換−３−セフェム化合物およびその塩類を
提供することである。

この発明のもう一つの目的は、新規３．７−ジ置換−３
−セフェム化合物およびその塩類の製造法を提供するこ
とである。

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記３．７−ジ置換−３−セフェム化合物およびその塩類
を含有することを特徴とする抗菌剤を提供することであ
る。

この発明による３、７−ジ置換−３−セフェム化合物は
新規化合物であり、下記一般式（１）で示すことができ
る。

［式中、Ｒ１はアミノ基または保護されたアミノ基、 Ｒはカルボキシ基、Ｃ０ｏｅまたは保護されたカルボキ
シ基、 Ｒは（Ｃ−Ｃ）アルキル基、（０３〜Ｃ６）アルケニル
基、低級アルキニル基、１．２．３−トリアゾリルチオ
メチル基、１．２．３−チアジアゾリルチオメチル基、
適当な置換基を有していてもよいピリジニオメチル基、
スルホ（低級）アルキルテトラゾリルチオメチル基、ピ
リジルビニル基、ビリンルビニルチオ基、１−ピリダシ
ニオメチル基、ト・す（低級）アルキルアンモニオメチ
ル基、ピロリジニルメチル基または式： （式中、Ａは−Ｓ−または一〇−１ Ｙは低級アルキル・基、低級アルケニル基または複素環
基を意味する）で示される基、 Ｒ４は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味し、 ただし、ＲがＣ００ｅである場合には、Ｒ３は適当な置
換基を有していてもよいピリジニオメチル基、１−ピリ
ダシニオメチル基、またはトリ（低級）アルキルアンモ
ニオメチル基を意味する］。

この明細書において使用する「シン異性体」とは、式： （式中、Ｒ４は前と同じ意味）で示きれる立体特異性部
分構造を有する化合物（１）を意味するものとする。

目的化合物（Ｉ）の好適な塩類は慣用の無毒性塩類であ
り、無機塩基との塩、その例として、例えばナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニ
ウム塩７有機塩基との塩、その例として、例えばトリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、Ｎ、Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩等の
有機アミン塩等；例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩
、燐酸塩等の無機酸付加塩；例えばぎ酸塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスル
ホン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有機スルホン
酸付加塩；例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸等の塩基性または酸性アミノ酸との塩等のような
塩基との塩または酸付加塩が挙げられる。

さらに、記号「Ｒ２」がカルボキシ基を意味し、記号「
Ｒ３Ｊが適当な置換基を有していてもよいピリジニオメ
チル基、１−ビリダシニオメチル基またはトリ（低級）
アルキルアンモニオメチル基を意味する場合には、目的
化合物（Ｉ）の塩類としではまた、例えば塩化物、臭化
物、フッ化物、沃化物、硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩等
の酸残基との分子間塩類も含まれる。

この発明の目的化合物（Ｉ）またはその塩類は、下記製
造法によって製造することができる。

製造法１ もしくはアミン基にお けるその反応性誘導体 またはその塩 またはその塩 製造法２ またはその塩 またはその塩 製造法３ （ｍＶ） またはその塩 またはその塩 製造法４ またはその塩 またはその塩 梨Ｊ目（互 またはその塩 またはその塩 製造法６ またはその塩 またはその塩 製造法７ ↑ またはその塩 またはその塩 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ而と同
じ意味であり、 Ｒ１は保護されたアミノ基、 Ｒ２は保護されたカルボキシ基、 Ｒはカルボキシ基またはＣ００ｅ、 Ｒ２はエステル化されたカルボキシ基、Ｒ６はカルボキ
シ基または保護されたカルボキシ基、 Ｒ４はヒドロキシ保護基、 Ｘはハロゲン、 Ｒ３は適当な置換基を有していてもよいピリジニオメチ
ル基、１−ピリダシニオメチル基またはトリ（低級）ア
ルキルアンモニオメチル基、Ｘ　は酸残基を意味するコ
。

この発明の原料化合物中、化合物（Ｎ）、化合物（Ｖ’
ｆ）および化合物（Ｉ）は新規を含み、それらの新規化
合物は下記反応式に示す製造法または常法によって製造
することができる。

製ｊｌＬΔ もしくはアミン基におけるその 反応性誘導体またはその塩 またはその塩 製造法Ｂ （ＥＸ） またはその塩 ↑ （ＸＩ） またはその塩 （ＸＩＩ） またはその塩 （ＸＩＩＩ） またはその塩 またはその塩 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ２Ｒ３、Ｒ３、Ｒ４、ｄ’　　
　　　　　　　ａ ＸおよびＸ　はそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒｂは適
当な置換基を有していてもよいピリジン、ピリダジン、
またはトリ（低級）アルキルアミン、 Ｒ５は保護きれたアミノ基をそれぞれ意味する］。

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる １低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子１〜６個
を意味するものとする。

「高級」とは、特に指示がなければ、炭素原子７〜２０
個を意味するものとする。

好適な１保護されたアミン」基としては、ペニシリンお
よびセファロスポリン化合物に使用される常用のアミノ
保護基、その例として、下記のアシル基、例えばベンジ
ル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ（またはジまた
はトリ）−フェニル（低級）アルキル基のようなアル（
低級）アルキル基、例えば１−メトキシカルボニル−１
−プロペン−２−イル等の低級アルコキシカルボニル（
低級）アルキリデンまたはそのエナミン型互変異性体、
例えばジメチルアミノメチレン等のジ（低級）アルキル
アミノメチレン等によって置換されたアミノ基が挙げら
れる。

好適な「アシル基」としては、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、複素環アシル基および芳香族または複素環基
で置換きれた脂肪族アシル基が挙げられる。

脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメシル、エクンスルホニル、プロパン
スルホニル等の低級アルカンスルホニル基、例えはメト
キシカルポール、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニ
ル等の低級アルコキシカルボニル基、例工ばアクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイ
ル基、例えばシクロヘキサン力ルホニル等の（０３〜Ｃ
７）シクロアルカンカルボニル非環式または環式脂肪族
アシル基が挙げられる。

芳香族アシル基としては、例えばヘンジイル、トルオイ
ル、キジロイル等のアロイル基、例えば・＼ンゼンスル
ホニル、トシル等のアレンスルホニル基等が挙げられる
。

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、インニコチノイル、チアソリル力ルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニ
ル等の複素環カルボニル基等が挙げられる。

芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、イ列え
ばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニル
ヘキサノイル等のフェニル（低級）アルカノイル基のよ
うなアル（低級）アルカノイル基、例えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニ
ル（低級）アルコキシカルボニル基のようなアル（低級
）アルフキジカルボニル基、例えば゛フェノキシアセチ
ル、フェノキシプロビオニル等のフェノキン（低級）ア
ルカノイル基等が挙げられる。

複素環基で置換された脂肪族アシル基としては、チェニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジア
ゾリルアセチル、チェニルプロピオニル、チアジアゾリ
ルプロピ才二ル等が挙げられる。

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、沃素、フッ素の
ようなハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキン、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等の低級アルコキシ基、例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ基、ニトロ基等のような１個以上の適当な置換基で置
換されていてもよく、そのようなｒＭ．換基を有する好
ましいアシル基としては、例えばクロロアセチル、ブロ
モアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル
等のモノ（またはンまたはトリ）−ハロ（低級）アルカ
ノイル基、例えばクロロメトキシカルボニル キシカルボニル カルボニル等のモノ（またはジまたはトリ）−ハロ（低
級）アルコキシカルボニル基、例えばニトロベンジルオ
キシカルボニル、クロロベンジルオキ７カルボニル、メ
トキシベンジルオキシカルボニル等のニトロ（またはハ
ロまたは低級アルコキシ）フェニル（低級）アルコキシ
カルボニル基等が挙げられる。

好適な１保護きれたカルボキシ基」としては、ペニシリ
ンまたはセファロスポリン化合物に常用きれるエステル
化きれたカルボキシ基が挙げられる。

１エステル化きれたカルボキシ基，の好適な１工ステル
部分」としては、例えばメチルニス５−ル、エチルエス
テル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキ
シルエステル等の低級アルキルエステル、例えばビニル
エステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル
、例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低
級アルキニルエステル、例えばメトキシメチルエステル
、エトキシメチルエステル、インプロポキシメチルエス
テル、１−メトキシエチルニスデル、１−エトキシエチ
ルエステル等の低級アルコキシ（低級）アルキルエステ
ル、例えばメチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエスチル、エチルチオエチルエステル、イソプロビル
チオメデルエステル等の低級アルキルチオ（低級）アル
キルエステル、例えばカルボキシメチルエステル、２−
カルボキシエテルエステルカルポキシブロビルエステル
等のカルボキシ置換低級アルキルエステル、例えば第三
級ブトキシカルボニルメチルエステル、２−第三級ブト
キシカルボニルエチルエステル、３−第三級ブトキシカ
ルボニルプロビルエステル等の低級アルコキシカルボニ
ル置換（低級）アルキルエステルのような保護されたカ
ルボキシ置換（低級）アルキルエステル、例えば２−ヨ
ードエチルエステル、２．２。

２　−　１−　ＩＪ　クロロエチルエステル等のモノ（
またはシまたはトリ）ハロ（低級）アルキルエステル、
イ列えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオキ
シメチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バ
レリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチル
エステル、ヘキサノイルオキジメチルエステル、１（ま
たは２）−アセトキシエチルエステル、１（または２ま
たは３）−アセトキシプロピルエステル、１（または２
または３または４）−アセトキシエチルエステル呟　１
（または２）−プロピオニルオキシエチルエステル、１
（または２または３）−プロピオニルオキシプロビルエ
ステル、１（または２）−ブチリルオキシエチルエステ
ル、１（または２）−イソブチリルオキシエチルエステ
ル、１（または２）−とバレリルオキシメチルエステル
、１（または２）−ヘキサノイルオキシエチルエステル
、インプチリルオキンメチルエステル、２−エチルブチ
リルオキシメチルエステル、３．３−ジメチルブチリル
オキシメチルエステル、１（または２）−ペンタノイル
オキシエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ（低
級）アルキルエステル、例えばヘプタノイルオキシメチ
ルエステル、オクタノイルオキシメチルエステル、ノナ
ノイルオキシメチルエステル、デカノイルオキシメチル
エステＬ，ウンデカノイルオキシメチルエステル、ラウ
ロイルオキシメチルエステル、トリデカノイルオキシメ
チルエステル ペンタデカノイルオキシメチルエステル、パルミトイル
オキシメチルエステル、ヘプタデカノイルオキシメチル
エステル、ステアロイルオキシメチルエステル、ノナデ
カノイルオキシメチルエステル、エイコサノイルオキシ
メチルエステル、１（または２）−ヘプタノイルオキシ
エチルエステル、１（または２）−オクタノイルオキシ
エチルエステル、１（または２）−ノナノイルオキシエ
チルエステル、１（または２）−デカノイルオキシエチ
ルエステル、１（または２）−ウンデカノイルオキシエ
チルエステル、１（または２）−ラウロイルオキシエチ
ルエステル、１（または２）−トリデカノイルオキシエ
チルエステルたは２）−ミリストイルオキシエチルエス
テル、１（または２）−ペンタデカノイルオキシエチル
エステル エチルエステル、１（または２）−ヘプタデカノイルオ
キシエチルエステル、１（または２）−ステアロイルオ
キシエチルエステル、１（または２）−ノナデカノイル
オキシメチルエステル、１（または２）−二イフサノイ
ルオキシエチルエステル等の高級アルカノイルオキシ（
低級）アルキルエステル、例えばメトキシカルボニルオ
キシメチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチル
エステル、プロポキシカルボニルオキシメチルエステル エステル、第三級ブトキシカルボニルオキシメチルエス
テル、１（または２）−メトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、１（または２）−エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル は２）−’ロボキシカルボニルオキシエチルエステル、
１（または２）−イソプロポキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、１（または２）−ブトキシカルボニルオキ
シエチルエステル、１（または２）−イソブトキシカル
ボニルオキシエチルエステル、１（または２）−第三級
ブトキシカルボニルオキシエチルエステル、１（または
２）−へキシルオキシカルボニルオキシエチルエステル
、１（または２または３）−メトキシカルボニルオキシ
プロビルエステル、１（または２または３）−エトキシ
力ルポニルオキシブロピルエステル、１（または２また
は３）−イソプロボキシカルボニルオキンブロビルエス
テル、１（または２または３または４）−エトキシカル
ボニルオキシブチルエステル、１（または２または３ま
たは４）−ブトキシカルボニルオキシブチルエステル、
１（または２または３または４または５）−ペンチルオ
キシカルボニルオキシペンチルエステル、１（または２
または３または４または５）−ネオペンチルオキシカル
ボニルオキジペンチルエステル、１（または２または３
または４または５または６）−エトキシカルボニルオキ
シヘキシルエステル等の低級アルフキジカルボニルオキ
シ（低級）アルキルエステル、例えば（５−メチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソールー４−イル）メチルエ
ステル、（５−エチル−２−オキソ−１゜３−ジオキソ
−ルー４−イル）メチルエステル、（５−プロピル−２
−才キソー１．３−ジオキソ−ルー４−イル）エチルエ
ステル等の（５−低級アルキルー２−才キソー１．３−
ジオキソ−ルー４−イル）（低級）アルキルエステル、
例えばメシルメチルエステル、２−メシルエチルエステ
ル等の低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステ
ル、例えばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエ
ステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエス
テル、ベンズヒドリルエステル、トリチルエステル、ビ
ス（メトキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメ
トキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第三級ブチルベンジルエステル等の１個以上の適当な置
換基を有していてもよいモノ（またはジまたはトリ）フ
ェニル（低級）アルキルエステルのような１個以上の置
換基を有していてもよいアル（低級）アルキルエステル
、例えばフェニルエステル、トリルエステル、第三級ブ
チルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエ
ステル、クメニルエステル、サリチルエステル等の１個
以上の適当な置換基を有していてもよいアリールエステ
ル、例えばフタリジルエステル等の複素環エステル等が
挙げられる。

好適な１ハロゲン」としては塩素、臭素、沃素等が挙げ
られる。

好適な１低級アルキル基ｊとしては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、ヘキシル等のような炭素原子１〜６個を有する直
鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられるが、好ましいも
のは炭素原子１〜３個を有するアルキル基である。

好適な「（０２〜Ｃ６）アルキル基」としては、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等のような炭素原子２〜６個を有する
直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられるが、好ましい
ものは炭素原子２〜４個を有するアルキル基である。

好適な１低級アルケニル基」は炭素原子２〜６個を有す
るものであり、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−
プロペニル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げら
れるが、好ましくは炭素原子２〜４個を有するものであ
る。

好適な「（０３〜Ｃ６）アルケニル基」は炭素原子３〜
６個を有するものであり、アリル、イソプロペニル、１
−プロペニル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げ
られるが、好ましくは炭素原子３〜４個を有するもので
ある。

好適な「低級アルキニル基」は炭素原子２〜６個を有す
るものであり、エチニル、２−プロピニル、２−ブチニ
ル、３−ペンチニル、３−へキシニル等が挙げられるが
、好ましくは炭素原子２〜４個を有するものである。

「複素環基」とは酸素原子、イ才つ原子、窒素原子等の
ようなペテロ原子少なくとも１個を含む飽和または不飽
和、単環式または多環式複素環基を意味する。それらの
中でとりわけ好ましい複素環基としては、 例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾ
リル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ジヒドロピリ
ジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、例えば
４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、ＩＨ−１，２，３−
トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等のト
リアゾリル、例えばＩＨ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラ
ゾリル等のテトラゾリル等の窒素原子１〜４個を含む不
飽和３〜８員複素単環基； イ列えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ
、ピペラジニル等の窒素原子１〜４個を含む飽和３〜８
員複素単環基； 例えばインドリル、イソインドリル、イントリジニル、
ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イミダ
ゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル、テ
トラシロピリダジニル、ジヒドロトリアゾロピリダジニ
ル等の窒素原子１〜５個を含む不飽和縮合複素環基； イ列えば、オキサシリル、イソオキサシリル、例えば１
，２．４−オキサジアゾリル、１．３．４−オキサジア
ゾリル、１．２．５−オキサジアゾリル等のオキサジア
ゾリル等の酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を
含む不飽和３〜８員複素単環基； 例えば、モルホリニル、シンドニル等の酸素原子１〜２
個および窒素原子１〜３個を含む飽和３〜８員複素単環
基； 例えば、ベンズ・オキサシリル、ベンズオキサジアゾリ
ル等の酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む
不飽和縮合複素環基； 例えば、テアシリｊ呟　イソチアゾリル、例えば１．２
．３−チアジアゾリル、１．２．４−チアジアゾリル、
１．３．４−チアジアゾリル、１．２．５−チアジアゾ
リル等のチアジアゾリル呟　ジヒドロチアジニル等のイ
才つ原子１〜２個、窒素原子１〜３個を含む不飽和３〜
８員複素単環基；例えばチアゾリジニル等のイオウ原子
１〜２個および窒素原子１〜３個−を含む飽和３〜Ｂ員
複素単環基： 例えば、チェニル、ジヒドロジチオニル、ジヒドロジチ
オニル等のイ才つ原子１〜２個を含む不飽和３〜８員複
素単環基； 例えば、ベンゾチアシリＪ呟ベンゾチアジアゾリル等の
イオウ原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む不飽
和縮合複素環基； 、　例えば、フリル等の酸素原子１個を含む不飽和３〜
８員複素単環基； 例えば、ジヒドロオキサチイニル等の酸素原子１ｇおよ
びイ才つ原子１〜２個を含む不飽和３〜８員複素単環基
； 例えば、ベンゾチェニル、ペンゾジチイニル等のイ才つ
原子１〜２個を含む不飽和縮合複素環基； 例えば、ベンズオキサチイニル等の酸素原子１個および
イオウ原子１〜２個を含む不飽和縮合複素環基等のよう
な複素環基が挙げられる。

１適当な置換基を有していてもよいピリジニオメチル基
」のピリジニオ基の好適な置換基としては、メチル、エ
チル等のような低級アルキル基が挙げられる。

好適な「スルホ（低級）アルキルテトラゾリルチオメチ
ル基」としては、１−スルホメチル−ＩＨ−テトラゾリ
ルチオメチル、２−スルホメチル−２Ｈ−テトラゾリル
チオメチル、１−スルホエチル−ＩＨ−テトラゾリルチ
オメチル等が挙げられる。

好適なゝピリジルビニル基ｊとしては、２−ピリジル、
３−ピリジルビニル等が挙げられる。

好適な１ピリジルビニルチオ基」としては、２−ピリジ
ルビニルテオ、３−ピリジルビニルチオ、４−ピリジル
ビニルチオ等が挙げられる。

好適な「酸残基」としては、アシルオキシ基、アジド基
、ハロゲン等が挙げられ、「アシルオキシ基」のアシル
部分およびハロゲンについては前に例示したものを参照
すればよい。

好適な「エステル化されたカルボキシ基」については前
記のような保護されたカルボキシ基で例示したものを参
照すればよい。

「適当な置換基を有していてもよいピリジン」における
ピリジンの好適な置換基としては、メチル、エチル等の
ような低級アルキル基が挙げられる。

好適な「ヒドロキシ保護基」としては、前記アシル基、
例えばベンジル、トリチル等のアル（低級）アルキル基
、例えば１−メチル−１−メトキシエチル、メトキシプ
ロピル等の低級アルフキシ（低級）アルキル基、テトラ
ヒドロピラニル基等が挙げられる。

好適な「トリ（低級）アルキルアンモニオメチル基」と
しては、トリメチルアンモニオメチノ呟トリエチルアン
モニオメチル、トリプロピルアンモニオメチル、トリイ
ソプロピルアンモニオメチル、トリヘキシルアンモニオ
メチル等が挙げられる。

好適な「トリ（低級）アルキルアミン」としては、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン
、トリ？ソブロビルアミン、トリヘキシルアミン等が挙
げられる。

目的化合物（Ｉ）の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。

Ｒ１の好ましい実施態様はアミン基またはアル（低級）
アルキルアミノ基、さらに好ましくはアミン基およびモ
ノ（またはジまたはトリ）−フェニル（低級）アルキル
アミノ基、最も好ましくはアミノ基およびトリチルアミ
ノ基； Ｒ２の好ましい実施態様は、カルボキシ基、モノもしく
はジもしくはトリアル（低級）アルコキシカルボニル基
、さらに好ましくはカルボキシ基、ペンスヒドリルオキ
シカルボニル基、ニトロ基で置換されたアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、さらに、より好ましくはカルボ
キシ基、ニトロベンジルオキシカルボニル基または低級
アルカノイルオキシ（低級）アルコキシカルボニル基、
最も好ましくはカルボキシ基およびピバロイルオキシメ
トキシカルボニル基； Ｒの好ましい実施態様は、（０２〜ｃ６）アルキル基、
（０３〜Ｃ６）アルケニル基、低級アルキニル基、１．
２．３−トリアゾリルチオメチル基、１．２．３−チア
ジアゾリルチオメチル基、ピリジニオメチル基、低級ア
ルキル基を有するピリジニオメチル基、ピリジルビニル
基、スルホメチルテトラゾリルチオメチル基、ピリジル
ビニルチ′才基、１−ピリダシニオメチル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基
、１，２．３−トリアゾリルチオ基、１−ピロリジニル
メチル基またはトリメチルアンモニオメチル基であり、
最も好ましくはエチル、１−プロペニル、エチニル、１
．２．３−トリアゾール−４−イルチオメチル、１，２
．３−チアジアゾール−５−イルチオメチル、１−ピリ
ジニオメチル、３−メチル−１−ピリジニオメチル、１
−スルホメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イルチオメ
チ＆。

２−（３−ピリジル）ビニル、２−（３−ピリジル）ビ
ニルチオ、１−ピリダジニオメチノ呟トリメチルアンモ
ニオ、メトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ビニルチオ
、１．２．３−トリアゾール−４−イルチオまたはピロ
リジン−１−イルメチルである。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

製造法１ 目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｉ）もしく
はアミ７基におけるその反応性誘導体またはその塩を、
化合物（Ｉ［［＞もしくはカルボキシ基におけるその反
応性誘導体またはその塩と反応きせることにより製造す
ることができる。

化合物（Ｉ［）のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、化合物（Ｉｆ）とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性体；化合
物（ｎ）とビス（トリメチルシリル）アセトアミド、モ
ノ（トリメチルシリル）アセトアミド等との反応によっ
て生成するシリル誘導体；化合物（Ｉ）と三塩化溝また
はホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙げら
れる。

化合物（Ｉ［）および＜ｍ＞の好適な塩としては、例え
ば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩または例えば
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩の
ような酸付加塩；例えばすトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等の金属塩；アンモニウム
塩；例えばトリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩等の有機アミン塩等が挙げられる。

化合物（Ｉ［［）のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。

その好適な例としては、酸塩化物、酸アジド；例えばジ
アルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ンヘン
ジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換８　ｔ’した燐酸、
ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル
炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペンタン酸
、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カル
ボン酸または例えは安息香酸等の芳香族カルボン酸のよ
うな酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イミダゾール
、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリア
ゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド；また番≠
例えばシアンメチルエステル、メトキシメチルエステル
、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ３）２食＝ＣＨ−］　
　エステノ呟ヒニルエステノ呟プロパルギルエステル、
ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−’；ニトロフェ
ニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェ
ニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、ｐ
−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−タレジルチオエス
テル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノ
リルチオエステル等の活性化エステル、または例えばＮ
、Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−
２−（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミ
ド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６
−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキ
シ化合物とのエステル等が挙げられる。これらの反応性
誘導体は使用すべき化合物（Ｉ［［）の種類に応して任
意に選択することができる。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼきない溶媒であればその他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの慣
用の溶媒は水と混合して使用することもできる。

化合物（Ｉ［［）を遊離酸の形またはその塩の形で反応
に使用する場合には、反応をＮ、Ｎ’　−ジシクロへキ
シルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’　−モ
ルホリノエチルカルポジイミ）？、Ｎ−シクロへキシル
−Ｎ’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボ
ジイミド、Ｎ、Ｎ’　−ジエチルカルボジイミド、Ｎ、
Ｎ’　−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−
Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド
、Ｎ、Ｎ−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾール
）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン
；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エト
キシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン
；亜燐酸トリアルキル；ポリ燐酸エテル；ポリ燐酸イソ
プロピル；オキシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化溝
；塩化チオニル；塩化オキザリル；トリフェニルホスフ
ィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾ
リウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イ
ンオキサシリウムヒドロキシド分子内塩；１（ｐ−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−ＩＨ−ベ
ンゾトリアゾール；ジメチルホルムアミドと塩化チオ二
Ｊ呟ホスゲン、オキシ塩化燐等との反応によって調製し
たいわゆるビルスマイヤー試薬等のような慣用の縮合剤
の存在下に行うのが好ましい。

反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級）ア
ルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモルボ
リン、　Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等
のような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよ
い。

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる。

Ｒ４のヒドロキシ保護基がこの製造法の反応中または後
処理工程中に脱離きれる場合もこの反応の範囲内に包含
される。

１激羞ユ 化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）の好適な塩類としては、
化合物（Ｉ）について例示したものと同じものが挙げら
れる。

この脱離反応の好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる。

（１）加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが好ましい。

好適な酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の
無機酸、例えはぎ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピ
オン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等
が挙げられる。トリフルオロ酢酸およびｐ−トルエンス
ルホン酸のような有機酸をこの反応に使用する場合には
、例えばアニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反応
を行うのが好ましい。

さらに、上記酸の代りに三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ
素−エーテル付加化合物、三塩化アルミニウム、五塩化
アンチモン、塩化第二鉄、塩化第二スズ、四塩化チタン
、塩化亜鉛等のようなりューイス酸もこの反応に使用す
ることができ、リューイス酸を使用する場合には、反応
は好ましくは例えばアニソールのような陽イオン捕捉剤
の存在下に行われる。

加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、フロパ
ノール、第三級ブチルアルコール、テトラヒドロフラン
、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
セトアミド、ジオキサン、塩化メチレンのような反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中
で行われ、さらに上記酸もそれらが液体であれば溶媒と
して使用することができる。

この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし若干温度を上昇きせる程度の温度範囲で反
応が行われる。

（ｉ）還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法で行われる
。

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばぎ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。

接触還元に使用きれる好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、ウル
マン鋼等の銅触媒等のような慣用のものである。

この還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドのような反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中
で行われる。さらに、化学的還元に使用される上記酸が
液体である場合には、それらを溶媒として使用すること
もできる。

またさらに、接触還元に使用される好適な溶媒としては
上記溶媒、およびジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のようなその他の慣用の溶媒またはそ
れらの混合物が挙げられる。

この還元の反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。

カルボキシ保護基のこの脱離反応では、別の保護された
カルボキシ基および／または保護きれたアミノ基が、こ
の製造法の反応中または後処理工程中に対応する遊離カ
ルボキシ基および／またはアミノ基に変化する場合もそ
の範囲内に包含される。

製造法３ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（■）またはその
塩を化合物（Ｖ）と反応させることにより製造すること
ができる。

化合物（ＥＶ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ＞につ
いて例示したようなものと同じ塩が挙げられる。

この反応は通常、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジ
オキサン、水、酢酸、ぎ酸等のような反応に悪影響を及
ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行われる
。

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

製造法４ 化合物（Ｉｃ）またはその塩は、化合物（Ｉｂ＞または
その塩をエステル化反応に付すことにより製造すること
ができる。

化合物（Ｉｂ）および（Ｉｃ）の好適な塩については、
化合物（Ｉ）について例示したものを参照すればよい。

この反応は化合物（Ｉｂ）またはその塩をエステル化剤
と反応きせることにより行えばよい。

好適なエステル化剤としては、式： （式中、Ｒ７は前記エステル化されたカルボキシ基のエ
ステル部分、 Ｚはヒドロキシ基またはその反応性誘導体を意味する）
で示きれる化合物が挙げられる。

２のヒドロキシ基の好適な反応性誘導体としては、前記
ハロゲンのような酸残基が挙げられる。

この反応は通常、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ヘ
キサメチル燐酸トリアミド、ジメチルスルホキシドのよ
うな溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。

化合物（Ｉｂ）を遊離酸の形で使用する場合には、下記
塩基の存在下に反応を行うのが好ましい。

反応温度は特に限定されないが、冷却下、常温または加
温下に反応を行うのが好ましい。

このエステル化反応においては、化合物（Ｉｂ）の別の
遊離カルボキシ基が、反応条件および保護基の種類によ
って、反応中および／または反応の後処理中にエステル
化されたカルボキシ基に変化する場合もその範囲内に包
含される。

１盗孟１ 化合物（Ｉｅ）またはその塩は化合物（Ｉｄ）またはそ
の塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより製
造することができる。

化合物（Ｉｄ）および（Ｉ　ｅ）の好適な塩としては、
化合物（１）について例示したようなものと同じものが
挙げられる。

化合物（Ｉｄ）のヒドロキシ保護基のこの脱離反応は前
記Ｂと同様にして行うことができ、従って使用する試薬
および例えば溶媒、反応温度等の反応条件については悩
ｊＬ医」、を参照すればよい。

この脱離反応においては、保護されたアミン基および／
または保護されたカルボキシ基が、この製造法の反応中
または後処理工程中に、対応する遊離アミノ基および／
または遊離カルボキシ基に変化する場合もその範囲内に
包含される。

１産迭１ 化合物（Ｉｇ）またはその塩は、化合物（Ｉｆ）または
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造
することができる。

化合物（Ｉｆ）および（Ｉｇ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）について例示したようなものと同じものが挙
げられる。

この脱離反応は前記製ｊＥ味」、と同様にして行うこと
ができ、従って使用する試薬および例えば溶媒、反応温
度等の反応条件については、斃ｊ［広」。

を参照すればよい。

１盗韮ユ 化合物（Ｉｈ）またはその塩は、化合物（■）またはそ
の塩を還元することにより製造することができる。

化合物（Ｉｈ）および（Ｖｌ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）について例示したようなものと同じものが挙
げられる。

る常法、例えば、三塩化燐、塩化スズと塩化アセチルの
組合わせ、例えば沃化ナトリウム等のアルカリ金属沃化
物と例えば無水トリフルオロ酢酸等の無水トリハロ酢酸
との組合わせ等を用いることによる方法で行うことがで
きる。

この反応は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、ヘキサン、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチルのような溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる。

この発明の原料化合物の製造法を以下詳細に説明する。

製造法Ａ−■ 化合物（■〉また、はその塩は、化合物（ｎ）もしくは
アミン基におけるその反応性誘導体またはその塩を、化
合物（■）もしくはカルボキシ基におけるその反応性誘
導体またはその塩と反応きせることにより製造すること
ができる。

化合物（■）の好適な反応性誘導体としては、ジケテン
とハロゲンとの反応によって製造きれうる酸塩化物、酸
臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられる。

化合物（■）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）につ
いて例示したような塩基と同じようなものが挙げられ、
化合物（■）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）の塩
類と同じものが挙げられる。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキサメチルホスホラミ
ド等のような反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒また
はそれらの混合物中で行われる。

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

１１蒸人二層 化合物（■ａ）またはその塩は、化合物（■）またハソ
の塩をニトロソ化剤と反応させることにより製造するこ
とができる。

化合物（ＩＶａ）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）
について例示したものと同じ塩類が挙げられる。

好適なニトロソ化剤としては、亜硝酸および例えば塩化
ニトロシル、臭化ニトロシル等のハロゲン化ニトロシル
、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカ
リ金属亜硝酸塩、例えば亜硝酸ブチノ呟亜硝酸ペンチノ
呟亜硝酸イソアミル等の亜硝酸アルキル等のような亜硝
酸の慣用の誘導体が挙げられる。

亜硝酸の塩またはそのアルカリ金属塩をニトロソ化剤と
して使用する場合には、例えば塩酸、硫酸、ぎ酸、酢酸
等の無機酸または有機酸のような酸の存在下に反応を行
うのが好ましい。

この反応は好ましくはアセチルアセトン、アセト酢酸エ
チル等のような活性メチレン化合物の存在下に行われる
。

この反応は通常、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノ−Ｊ呟テトラヒドロフラン、塩化メチレンのような
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混
合物中で行われる。

反応温度は特に限定されないが、冷却下ないし常温の範
囲で反応を行うのが好ましい。

この反応の化合物（ＩＶａ）には、シン異性体、アンチ
異性体およびこれらのヒドロキシイミノ基におけるそれ
らの混合物が含まれ、そのような化合物は部分構造式： ％式％ 製造法ｌニル 目的化合物（Ｘ　Ｉ　）またはその塩は、化合物（ＩＸ
）またはその塩を化合物（Ｘ）またはその塩と反応させ
ることにより製造することができる。

化合物（ＩＸ）、（Ｘ）および（ＸＩ）の好適な塩につ
いては、化合物（Ｉ＞について例示したものを参照すれ
ばよい。

この反応は水、燐酸塩類樹液、アセトン、クロロホルム
、アセトニトリル、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩
化エチレン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、メ
タノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラン
、ジメチルホルホキンドのような溶媒中で行えばよいが
、反応に悪影響を及＋２さない溶媒であればその他のい
かなる有ａ溶媒中で反応を行ってもよく、強い極性を有
する溶媒中で反応を行うのが好ましい、溶媒中親水性溶
媒は水との混合物として使用してもよい。

反応は中性媒質中で行うのが好ましい。

化合物（ＩＸ）を遊離の形で使用する場合には、例えば
、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸１１迭に１ 塩、アルカリ金属炭酸水素塩のような無機塩基、トリア
ルキルアミンのような有機塩基等の塩基の存在下に反応
を行うのが好ましい。

反応温度は特に限定されないが、通常は常温、加温下ま
たは加熱下に反応が行われる。

この反応は好ましくは、例えば沃化ナトリウム、沃化カ
リウム等のアルキル金属ハロゲン化物、例えばチオシア
ン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等のアルカリ金
属チオシアン酸塩等の存在下に行われる。

［１Ｂ二■ 化合物（ＸＩＩ）またはその塩は、化合物（Ｘ　Ｉ　）
またはその塩を還元することにより製造することができ
る。

化合物（ＸＩＩ）の好適な塩については、化合物（Ｉ）
について例示したものを参照すればよい。

この還元は前記製造法７と同様にして行うことができる
。

この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、たはその
塩をアミン保護基の脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。

化合物（ＸＩ［［）の好適な塩については、化合物（Ｉ
）について例示したものを参照すればよい。

この脱離反応は前記製造法２と同様にして行うことがで
きる。

製造法Ｃ−■ 化合物（ＸＶ）またはその塩は化合物（ＸＩＶ）または
その塩を酸化することにより製造することができる。

化合物（ＸＩＶ）および（ＸＶ）の好適な塩類について
は、化合物（Ｉ）について例示したものを参照すればよ
い。

この酸化反応は、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過安
息香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過沃素酸等のよ
うな酸化剤を使用することによ方法によって行うことが
できる。

テトラヒドロフラン、酢酸エチルのような溶媒中で行わ
れるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他
のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。

反応温度は特に限定されないが、冷却下または常温で反
応を行うのが好ましい。

１産跋且二層 化合物（Ｖｌ）またはその塩は、化合物（ＸＶ）または
その塩を化合物（Ｘ）またはその塩と反応させることに
より製造することができる。

この反応は前記１激抜ｌ二虚と同様にして行うことがで
きる。

この発明の目的化合物（１）およびその塩類は新規であ
り、強い抗菌活性を有し、ダラム陽性菌およびダラム陰
性菌を含む広汎な病原菌の発育を阻止し、抗菌剤として
有用である。

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的な
化合物の抗菌活性を以下に示す。

Δ塵ｍ助Ｅ農厘 （Ａ　）Ｅ監羞 試験管内抗菌活性を下記寒天板倍々希釈法により測定し
た。

トリプトケース・ソイ・ブロス中各試験菌株を一夜培養
してその一白金耳（生菌数１０８個／絨）を各濃度段階
の代表的試験化合物を含むハート・インフュージョン寒
天（ＨＩ寒天）に接種し、３７°Ｃで２０時間インキュ
ベート後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）をｐｇｌ−で表
わした。

（Ｂ）区凱生皇勿 （１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ピニルデ
オー３−セフェムー４−カルボン酸（シン異性体）。

（２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコー３−（１，２
，３−デアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム（シン異性体）。

（３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（１−ピ
リジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）。

（Ｃ）区象塁１ Ｍ、ｘ、ｃ、（ｘ／ｍＱ） この発明の化合物を治療のために使用するにあたり、前
記化合物を有効成分として含有し、経口、非経口または
外用投与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状
賦形剤のような医薬として許容される担体と混合して慣
用の医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤は
錠剤、顆粒、粉剤、カプセルのような固体状であっても
よいし、溶液、懸濁液、シロップ、エマルジョン、レモ
ネード等のような液状であってもよい。

必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリン酸
マグネシウム、白土、シュークロース、コーンスターチ
、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリ
ーブ油、カカオ詣、エチレングリコール等のようなその
他の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。

化合物（１）の投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類
、使用する化合物（１）の種類等によって選択される。

一般的には１日当り１ｍｇから約４０００■の間の量も
しくはそれ以上を患者に投与してもよい、この発明の目
的化合物（Ｉ）は、病原菌感染症治療に平均１回投与量
約５０ｍｇ、　１００ｍｇ、　２５０ｍｇ１５００ｍｇ
、　１０００ｍｇ、　２０００ｍｇを使用すればよい。

以下製造例および実施例に従ってこの発明を説明する。

５し／− １盗■ニ チーアミノ−３−メトキシ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ｐ−ニトロベンジルエステル・塩酸塩（３，Ｏｇ）
およびＮ、Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）尿素（４，
４ｇ）のテトラヒドロフラン（３０１１１）溶液に、ジ
クロロメタン中ジケテン（０，８１１１１）および臭素
（０，５３ｆｆｌｌｌ　）から得られた臭化４−ブロモ
アセトアセチルを〜２０”Ｃに冷却下に加え、混合物を
一１５°Ｃで３０分間攪拌する０反応混合物を酢酸エチ
ル（１５０ｍ１　）と水との混合物中に注ぐ、有機層を
分取し、水および食塩水で洗浄して溶媒を留去する。残
渣をジイソプロピルエーテル（２００１１１１１）中で
粉砕する。生成する沈殿を濾取し、真空乾燥して、７−
（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−メトキシ−３
−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル（２，７８ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　３．５３−３．９
０　（４１（、ｍ＞、　３．８２（３Ｈ，ｓ）、　４．
４２　（ＩＨ，ｓ）、　５．１２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ＞。

５．３３　（２Ｈ，ｓ）、　５．４８　（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ：５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

７．５−８．３　（４Ｈ，ｍ）、　　９．０５　（ＩＨ
，ｄ、に８Ｈｚ＞製造例２ 胴」Ｅ例」２と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−エ
チルチオ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル。

ＮＭＲ（Ｄｌ’ｌ５Ｏ−ｄｓ、δ）　：　１．０７　（
３Ｈ，ｔ、ＪニアＨｚ）、　２．８３（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝
７Ｈｚ）、　３．７０　（２１，ＡＢｑ、Ｊ：１８Ｈｚ
。

２６Ｈ２）、　３．５０−３．８７　（２Ｈ，ｍ）、　
４．４０　＜２Ｈ，ｓ）。

５．１７　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．４３−５
．８３　（ＬＨ，ｍ）。

６．８４　（ＬＨ，ｓ）、　７．０３−７．６０　（１
０Ｈ，ｍ）。

９．０３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ （２）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−エ
チニル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル。

ＩＲ（スジ２−ル）　　：　　２９００．　２ｇ４０．
　１７６０．　１７１０゜１５２０　ｃｍ−’ （３）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−ビ
ニルチオ−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル。

ＩＲ（Ｘジｉ−ル）　　’　　２９２０．　１７８０．
　１７０Ｇ、　　１６５０゜１６１０　ｃｍ−１ （４）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−（
２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＮＭＲ（ｏｈｓｏ−ｄｓ、　Ｓ　）　’　３．５０−３
．８０　（２Ｈ１ｍ）　、３−８０−４．１７　＜２Ｈ
，ｍ）、　４．６３　（２Ｈ，ｓ）、　５．１６　（Ｉ
Ｈ，ｓ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．７７　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：５Ｈｚ
、　８Ｈｚ＞、　７．９３（ＬＨ，ｓ）、　９．３０　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（５）７−（４−ブロモアセ
トアセトアミド）−３−（２Ｈ−１，２，３−トリアゾ
ール−４−イル）チオ−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル。

（６）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−エ
テル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル。

（７）７−（４−クロロアセトアセトアミド）−３−（
１，２，３−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　２９００．　１７６５．
　１５２０　　ａｎ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、　ｌ
；　’）　：　３．６７　（２Ｈ，ｓ）、　４．３３（
２Ｈ，ｓ）、　　４．６３　（２）１．ｓ）、　　５．
２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．４７　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ）、
　　８．９３　（ＬＨ，ｓ）。

９．１３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 製ｊ１１互 ７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−（２Ｈ−
１，２，３−トリアゾール−４−イフレ）チオメチル−
３−セフェム−４−カルホン酸（１，２ｇ）の酢酸（１
２１１１９’）溶液に、亜硝酸ナトリウム（０，２８ｇ
）の水（１，２誠）溶液を０°Ｃで滴下する。混合物を
常温で１，５時間攪拌する。

反応混合物に水（２０ｍ１ｌ　）、酢酸エチル（３０Ｉ
ＩＩＩＩ）およびテトラヒドロフラン（１５１＋１１１
）の混合物を加える。有機層を分取し、水および食塩水
で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し
、残渣をジイソプロピルエーテル中で粉砕して濾取し、
真空乾燥して、７−（４−ブロモ−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアセトアミド）−３−（２Ｈ−１，２，３−ト
リアゾール−４−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸を得る。

製１」」。

型ｊＬ因」−と同様にして下記化合物を得る。

７−（４−クロロ−２−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド）−３−（１，２，３−チアジアゾール−５−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（ＸＳｉｉ−４＞　　’　　２９００．　１７７０
．　１７０Ｇ、　　１５３０　　ａｎ−ＩＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄｓ、Ｓ　）　：３．７０　（２Ｈ１ｓ）、４．
２７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．８３　（２
Ｈ，ｓ）、　５．２５（ｌＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５
．８３　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ＞。

８．８５　（ＩＨ，ｓ）、　９．３６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ）１産］１ 艶ｊＬ例」１と同様にして下記化合物を得る。

７−（４−クロロアセトアセトアミド）−３−［（ｚ）
−１−プロペニル］−３−セフェムー４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　）　’　１．３７　（３
Ｍ、ｄＪ＝６Ｈｚ＞、　３．３７−３．７７　（４Ｈ劃
）、　４．５５　（２Ｈ，ｓ）、　５．１９　（ＬＨ，
ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．４６　（ＩＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ、　１１Ｈｚ）。

５．７２　（ＬＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ）
、　　６．０３　　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１１Ｈｚ）、　　６．８５　　（ＬＨ，ｓ）、　　
７．０７−７．７７＜１０Ｈ，ｍ）、　　９．０４　　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）製造例６ （１）　トリフェニル−［７−フェニルアセトアミド−
４−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３−セフェム−
４−イル］ホスホニウム・沃化物（１ｇ）のクロロホル
ム（５０ｍＱ）および水（５０ｍＱ　）混合物溶液に、
ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８，５に調整
し、混合物を５分間攪拌する。有機層を分取して濃縮し
、濃縮液にアセトアルデヒド（３，５ｍ１２）を室温で
加える。混合物を同条件で３時間攪拌する０反応部合物
を減圧濃縮して得る残渣を、ンリカゲル（５２ｇ）を使
用するカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルと
ｎ−ヘキサンとの混合物（３ニア）で溶出する。所望の
化合物を含む画分を集め、溶媒を留去して、７−フェニ
ルアセトアミド−３−［（ｚ）−１−プロペニルツー３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（
０，０１ｇ）を得る。

ＩＲ（メタノール）　　：　　３２８０．　１７７０．
　１７１０．　１６５５゜１５２０　Ｃｍ’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　１．３８　（３Ｈ
，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

３．５５　（４Ｈ，ｓ）、　　５．１９　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝５）１ｚ）、　　５．４８（ＩＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝１
１Ｈｚ、　　７Ｈｚ）、　　５．７２　（１１，ｄ−ｄ
。

Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ＞、　　６．０６　（ＬＨ，ｄ
、Ｊ＝１１Ｈｚ＞、　　６．８８（１）１．ｓ）、　　
７．１０−７．６０　（１５Ｈ，ｍ＞、　　９．０８　
（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） （２）五塩化溝のジクロロメタン中懸濁液を室温で３０
分間攪拌する。−２０〜−１５℃に冷却後、この混合物
にピリジン（０，０９１ｎｌｌ　）および７−フェニル
アセトアミド−３−［（Ｚ）−１−プロペニルツー３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（０
，４ｇ）を同条件下に順次加える。混合物を同温で２０
分間攪拌し、次いで一５°Ｃで２時間撹拌する０次いで
メタノールＣＩＩＩＬＩＩ）をこれに−２０℃で加える
。混合物を一５〜０°Ｃで２時間攪拌する。溶媒を留去
して残渣を水中で粉砕し、五酸化燐で乾燥して、７−ア
ミノ−３−［（Ｚ）−ｔ−フロベニル］−３−セフェム
ー４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・塩酸塩（１
，２ｇ）を得る。

ＮＭＲ＜ＤＭＳＯ−ｄ　６．　　δ　）　　：　　１．
４６　　（３）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　３．３３−
３．８３　（２Ｈ，ｍ）、　５．１５　（ＩＨ，ｄ、に
５１（ｚ）、　５．２９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　
　５．６１　（ＩＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ。

１１Ｈｚ）、　６．２２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ＞
、　６．８７　（ＩＨ，ｓ）。

７．０７−７．５３　（１０Ｈ，ｍ） 製ｊ１１ヱ ？−［２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−ヨードメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル−１−オキシト（１
０，０ｇ）のジクロロメタン（１００ｍ１１　）溶液に
、トリメデルアミンの３０％水溶液（２ｆｆｌＤを水冷
下に加える。混合物を１５分間攪拌し、反応物を分取し
、イソプロピルエーテルで洗浄して五酸化リンで乾燥し
て、７−［２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイ
ミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）アセトアミド］−３−トリメチルアンモニオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
−１−オキシト・沃化物（シン異性体）　（９；９ｇ　
）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、Ｓ　）　’　１．２７−２−
０５　（８Ｈ１ｍ）　、２．９０（９Ｈ，ｓ）、　５．
２３　（ｌ）１．ｄ）、　５．９７　（ＩＨ，ｄ−ｄ。

Ｊ＝５．　８Ｈｚ）、　　６．８７　　（ＬＨ，ｓ）、
　　７．１０　　（１）１．ｓ）。

７．１０−７．７０　　（１５）１．ｍ）、　　８．８
０　　（１）１．ｓ）、　　９．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ） １１贋１ 艶ｊＥ医１−と同様にして下記化合物を得る。

７−（２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−ピロリジン−１−イルメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル−１
−オキシト。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　）　’　１．１５−２．
１０　（ＩＯＨｌｍ）、２．７０−３．９０　（１０Ｈ
，ｍ）、　５．２０　（２Ｈ，ｍ）、　５．９０　（Ｉ
Ｈ，ｄｄ。

Ｊ＝５．８）１ｚ）、　６．９０　（ＩＨ，ｓ）、　７
．０　（ＩＨ，ｓ）実施例１ ジメチルホルムアミド（ｏ、　９３ｍｘ　）と酢酸エチ
ル（２，６５＋ｎｆ’）との混治物にオキシ塩化燐（１
，１１１１１ｉ）を水冷下に加える。混合物を水冷下に
３０分間攪拌する。混合物に２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（１−メチル−１−メト
キシエトキシイミノ）酢酸（シン異性体）（５，５１ｇ
）のテトラヒドロフラン（ｓｏｍｕ　）溶液を水冷攪拌
下に加える。混合物を３〜５℃で４０分間攪拌して活性
化酸溶液を生成せしめる。

一方別に、７−アミノ−３−メチルチオ−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・塩酸塩（５
，５２ｇ）のモノトリメチルシリルアセトアミド（Ｌｏ
ｇ）を含む酢酸エチル溶液に、上記で得られる活性化酸
溶液を一２０°Ｃに冷却しながら一挙に加え、この混合
物を−２０〜−１０°Ｃで２時間攪拌する０反応混合物
に水を力ａえる。不溶物を濾去し、濾液の有機層を分取
する。水層を塩化ナトリウムで飽和して酢酸エチルで数
回抽出する。抽出液を合わせて水、炭酸水素ナトリウム
水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、
硫酸゛７グネンウムで乾燥する。溶媒を留去して残渣を
シリカゲル（２５０ｇ）をイ吏用するカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチルとイソプロとル工−テルと
の混合物（１：３）で溶出する。目的化合物を含む画分
を合わせ、減圧濃縮する。残渣をジイソプロピルエーテ
ル中で粉砕して、７−［２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−（１−メチル−１−メトキシ
エトキシイミノ）アセトアミド］−３−メチルチオ−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（
シン異性体）　（１，７０ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　：　　３３００．　１７８０．　
１６７０−１６９０゜１５２５　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｌ；　）　’　ｔ、　４０　
（６Ｈ１ｓ）、２−３４（３Ｈ，ｓ）、　３．１３　（
３Ｌｓ）、　３．８０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）。

５．１８　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．６５　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ＞、　６．７９　（ＩＨ，ｓ）、　６．８４　（
ＩＨ，ｓ）。

７．０７−７．６３　（２５Ｈ，ｍ）、　８．８０　（
ＩＨ，ｂｒ　ｓ）。

９．４８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例２ 実施例１と同様にして下記化合物を得る。

（Ｌ）７−［２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイ
ミノアセトアミド］−３−（３−メチル−１−ピリジニ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）。

ＩＲ（、スジヲール）　　：　　２９００．　１７７０
．　１６５０．　１５８０゜１５６０　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　）　’　Ｌ３０−２−０
０　（８Ｈ９ｍ）、３．５７（２Ｈ）、　５．３　（Ｉ
Ｈ）、　５．６３　（ＩＨ）、　６．８７　（ＩＨ，ｓ
）。

７、Ｈ）−７，５０（ｍ）、　８．１０−９．１０　（
５Ｈ，ｍ）（２）７−　［２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）−２−（２−テトラヒドロピラニ
ル）オキシイミノアセトアミド］−３−（１−ピリジニ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　ｉ　　２９２０．　２ｇ５０．
　１７８５．　１６１０゜１５２０　ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ）　’　９．１３　（２Ｈ
１ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、８５３（１）１．ｔ、Ｊ＝６）ｔ
ｚ）、　８．２　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　７．１
０−７．６０　（ｍ）、６．８０　（ＩＨ，ｓ）、　、
５．６７　（ＬＨ）、　　５．３（ＩＨ）、　　３．５
７　（２Ｈ）、　　１．２−２．０　（８Ｈ，ｍ）（３
）？−［２−（２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ
）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−［（１−スルホメチル−ＩＨ−テ
トラゾール−５−イル）チオメチルツー３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

（４＞７−［２−（２−トリプルアミノチアゾール−４
−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノアセ
トアミド］−３−［２−（３−ピリジル）ビニル］−３
−セフェムー４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（
シス、トランス混合物）（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　２９５０．　２８５０．
　１７８０．　１７２０　　ａｍ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄａ、ｌ；　）　’　１．２０−２．００’　（８Ｈ
９ｍ）　、６．８０（ＩＨ，ｓ）、　７．００−７．６
５　（２５Ｈ，ｍ）、　８．３０−８．８０（４Ｈ，ｍ
）、　　９．５７　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（５）
７−［２−（２−テトラヒド口ビラニル才キシイミノ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−［２−（３−ピリジル）ヒニルテオ
］−３−セフェムー４−カルボン厳ベンズヒドリルエス
テル性体）。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，　Ｓ　）　：　１．３０−
１．８５　（８Ｈ劃＞、　５．３０（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５
Ｈｚ）、　　５．８０　　（ＩＨ．ｄ−ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ
．　　８）ｔｚ）。

６、７８　（ＩＨ．ｓ）、　６．９２　（ＩＨ．ｓ）、
　７．００−７．６０（１０Ｈ．ｍ）、　７．６３−Ｌ
８３　（４Ｈ，ｍ）、　９．７７　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ：８Ｈｚ＞ 犬亙遭ユ （１）７−［２−（２−）クチルアミノチアゾール−４
ーイル）−２−（　１−メチル−１−メトキシエトキシ
イミノ）アセトアミド］−３−メチルチオ−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）（１．４ｇ）のジクロロメタン（　４．　２１１１
１　）およびアニソール（４．２１１１）混合物溶液に
、トリフルオロ酢酸（８．　４１１１Ｑ　）を冷却下に
加え、混合物を室温で２時間攪拌する．反応混合物をジ
イソプロピルエーテル中に滴下しながら注ぐ．沈殿を濾
取してジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して．７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒ
ドロキシイミノアセトアミド］−３−メチルチオ−３−
セフェム−４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩（シン
異性体）（０．７４区）を得る。

Ｎｌ’ｌＲ　　（ＤＭＳＯ−ｄ　６，　ε　）　　：　
　２．３１　　（３Ｈ．ｓ）、　　３．７２　　（２Ｈ
。

ｂｒ　ｓ）、　５．１２　（ＩＨ．ｄ．に５Ｈｚ）、　
５．６５　（１８，ｄｄ。

Ｊ”５Ｈｚおよび８Ｈｚ）、　６．７９　（ＬＨ，ｓ）
、　９．５０（ＬＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ） （２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メチルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩（シン異性体’）　（　０．７４ｇ　）を炭酸水素ナ
トリウム水溶液に冷却下に溶解する．溶液をξらに１０
％塩酸でｐＨ４に調整し、ＨＰ−２０　（　２０ｍＱ　
）のカラムを通過させ、１０％イソプロピルアルコール
で溶出する．溶出液をＩＮ塩酸でー３、５に調整し、凍
結乾燥して、７−（２−（２−７ミノチアゾールー４−
イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メ
チルチオ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
）（ｏ．４７ｇ）を得る。

ＺＲ　　（スジ礁−ル）　　：　　３２００−３３００
．　　１７４０−１７ｆｉＯ。

１５２Ｇ−１６６０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，ε）　：　２．２Ｇ　（３
Ｈ，ｓ）、　３．３３−３．８７（２Ｈ．ｍ）、　５．
０　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．５８　（ＩＨ．
ｄｄ。

Ｊ：５Ｈｚ．　８Ｈｚ）、　６．６４　（１８，ｓ）、
　６．９７−７、２０（２Ｈ．ｂｒ　ｓ）、　９．３０
　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞（３）７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノア
セトアミド］−３−メチルチオ−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）（０．３０ｇ）の酢酸エチル中
懸濁液に、ｎ−プロパツール中３Ｎ塩酸を冷却下に加え
る．混合物を室温で１時間攪拌し、次いでこれにジエチ
ルエーテルを加える．沈殿を濾取して、７−［２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド１，３−メチルチオ−３−セフェム−４
−カルボン酸・塩酸塩（シン異性体）（０．２７ｇ）を
得る。

ＩＲ　　（スジヲール）　　：　　３２００−３４００
．　　１７５０．　　１６４０−１６８０。

１５９０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　２．３５　（３
１，ｓ）、　３．７７　（２Ｈ。

ｂｒ　ｓ）、　　５、１７　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）
、　　５．６５　（ＩＨ．ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ．　　８Ｈｚ）、　　６．９３　（ＩＨ．ｓ
）、　　９．６７　（ＩＨ．ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、　　１２．４　（ＩＨ．ｂｒ　ｓ）泡Ｊ
１１土 （１）７−（４−ブロモアセトアセトアミド）−３−メ
トキシ−３−セフェム−４−カルボン１１［ｐ−ニトロ
ベンジルエステル（２．７８ｇ）のジクロロメタン（　
３０ａｌｌ　）および酢酸（　Ｈ．　ＩＩＩＩＱ　）混
合物溶液に、亜硝酸ナトリウム（０．５４ｇ）の水（　
５１１１）溶液を−２０〜−１５℃で滴下する．混合物
を一２０℃で１５分間攪拌する．反応混合物を氷水中に
注ぐ．有機層を分取し、水および食塩水で洗浄して、７
−（４−ブロモ−２−ヒドロキシイミノアセトアセトア
ミド）−３−メトキシ−３−セフェム−４−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステルを得る。

７−（４−ブロモ−２−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド）−３−メトキシ−３−セフェム−４−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステルの溶液に、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド（６，３１１１１１）に溶解したチオ
尿素（０，５２ｇ）を加える。混合物の溶媒を３５℃で
減圧下に留去して得る残渣を、テトラヒドロフラン（ｚ
ｚｍｔ　）、酢酸エチル（５０１Ｑ　）および氷水（３
ＯｆｆｌＱ　）の混合物に溶解する０次いでＩＮ水酸化
ナトリウム水溶液を加えてｐＨ６，２に調整する０ｍ液
を水で２回次いで食塩水で順次洗浄して溶媒を留去する
。残渣をジイソプロピルエーテル中で粉砕し、濾取して
ジイソプロピルエーテルで洗浄し、真空乾燥して、？−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミド］−３−メトキシ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル（シ
ン異性体）（２．２６ｇ）を得る。

ＩＲ　　（スジそール）　　：　　３３Ｇ０．　　１７
６０−１７８０．　　１６７０。

１６１０（至）−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）　：　３．１７−３．
９０　（２Ｂ，ｍ）、　３．８２（３Ｈ．ｓ）、　５．
１７　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．６７　（ＩＨ
．ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ．　８Ｈｚ）、　５．３３　（２Ｈ．ｓ）、
　６．７１　（ＩＨ．ｓ）。

６、９７−７、１０　　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、７．４７
−８．３３　　（４Ｈ．ｍ）。

９、３０　　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）（２）７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミドコ−３−メトキシ−３−セフェム
−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル（シン’
Ａ性体）　（２．　ｏｓｇ）を、水素雰囲気中！気圧下
、１０％パラジウム−ｆｆ素（２．０６ｇ）により、テ
トラヒドロフラン（　４４＋１１１１　）、メタ／　−
　ル（　１１１１）　）および酢酸（０．２２鶴）の混
合物中室温で２時間水素添加する．触媒を濾去後、メタ
ノールで洗浄し、濾液と沈渣とを合わせて減圧濃縮する
．残渣に酢酸エチルを加え、混合物を１０％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で−７〜７．５に調整する．攪拌後、分
取した水層をジエチルエーテルで洗浄し、許らに１０％
塩酸でー３、５にａｌｌ！する．酸性化した水層をＨＰ
−２０　（　４０＋１１１　）のカラムを通過させて１
０％イソプロピルアルコールで溶出する．溶出液をＩＮ
塩酸でｐＨ３．０に調整し、次いで凍結乾燥して、？−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミド］−３−メトキシ−３−セフ
ェム−４〜カルボン酸（シン異性体）（０．６７ｇ）を
得る。

ＬＲ　　（スジョール）　　：　　１７５５．　　１６
００−１６６０．　　１５２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄｓ，ｌ；　）　’　３．　５９　（２Ｈ．
ｂｒ　ｓ−）、３−　７４（３）１．ｓ）、　５．１１
　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．５４（１）１．ｄ
ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ．　　８Ｈｚ）、　　６．７１　　（Ｌ
Ｈ．ｓ）。

７、０５　（２）１．ｂｒ　ｓ）、　　９．３２　（Ｉ
Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）、　　１１．２（ＩＨ．ｂｒ　ｓ
） （３）　東亙１ニュ打と同様にして下記化合物を得る。

７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メトキン−３−
セフェム−４−カルボン酸・塩酸塩（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジｅ−ル）　　：　　１７６０．　　１６
９５．　　１６６０．　　１６２０−１６４０。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄａ．ｌ；　）　’　３．　５８
　（２Ｈ．ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ。

２２Ｈｚ）、　３．７６　（３Ｈ．ｓ）、　５．１４　
（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）。

５、４９　（ＬＨ．ｄｄ．Ｊ：５Ｈｚ．　８Ｈｚ）、　
６．９４　（ＩＨ，ｓ）。

９、５９　（１）１，ｄ．Ｃ８Ｈｚ＞、　　１２．３　
（ＬＨ．ｂｒ　ｓ）去ｎ互 ｍ　　４−（ｌと同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジ曹−ル）　　：　　３２ＧＧ．　　３３
００．　　１７７０．　　１７００．　　１６５５。

１６１０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄｓ．ｌ；　）　二０．　９３−
１．　３３　（３Ｈ．ｍ）、２．８６（２Ｈ．ｑ．Ｊ＝
７）Ｉｚ）、　３．７７　（２Ｈ．ｂｒ　ｓ）、　５．
２３（ＬＨ．ｄ．Ｊ＝５１（ｚ）、　５．７６　（ＩＨ
．ｄｄ．Ｊ＝５Ｈｚ．　８Ｈｚ）。

６、７０　（ｌＨ．ｓ）、　６．８４　（ＩＨ．ｓ）、
　６．９３−７．６３（１２Ｈ．ｍ）、　９．３８　（
ＩＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）（２）？−［２−（２−アミノ
チアゾール−４ーイル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−エチニル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジ確−ル）　　：　　３２Ｂ０，　　２９
００．　　１７８０．　　１７２０．　　１６８０。

１６００　ａｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：３．７０　（２Ｈ，ｓ
）、　４．６３（ＬＨ，ｓ）、　　５．２３　　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．９０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ、　　８Ｈｚ）、　　６．６３　　（ＬＨ，ｓ＞
。

６．９０　（ＩＨ，ｓ）、　　７．０−７．６７　　（
１５Ｈ，ｍ）、　　９．４７＜ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８）＋２
） （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ビニルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンンル
エステル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌ九−ル）　　’　　２９５０．　　Ｌ？？０．
　１６７０．　１６１ＯＣＴＩＩ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６．　ｌ；　）　：　３．６３および３．９５　（
２１゜ＡＢｑ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　５．２５　（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．４５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１７
Ｈｚ）、　　５．５６　　＜１１（、ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ
）。

５．８２　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ）
、　　６．７０　　（１）１．ｓ）。

７．６７および８．２１　（４Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝８Ｈｚ
）、　９．４８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ （４）７−［２−（２−アミンチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−
１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、Ｓ　　）　　：　５．２３　
　＜ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　　ｓ、８２（ＬＨ，
ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ＞、　　６．６５　　（
ＩＨ，ｓ）。

６．９２　　（ＬＨ，ｓ）、　　７．０−７．７０　　
（２５Ｈ，ｍ）、　　８．１８（１１，ｓ）、　　９．
４２　　＜１）１．ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（５）？−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−エチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＩ（Ｓｏ−ｄ　　δ）　：　０．７３−１．
２３　（３８，ｍ）、　１．６０−６゜ １．９３　（２）１．ｍ＞、　５．２０　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．６６−６．００　（１１（、ｍ＞
、　６．７０　（ＬＨ，ｓ）、　６．９０　（ＩＨ，ｓ
）。

７．４０　（１２Ｈ，ｍ＞、　９．４０　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）衷皇贋１ 衷星贋１ニュ訂と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−エチニル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　２９２０．　２３５０．
　１７６０．　１６１０　　ｃｍ−’北Ｒ（ＤＭＳＯ−
ｄａ、８　）　’　３．９９　（ＬＨｌｓ）、５．０５
　（ＩＨｌｄ。

Ｊ＝５１（ｚ）、　５．６５　＜ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ、　８Ｈｚ）、　６．６１（ＩＨ，ｓ）、　７．１０
　（２Ｈ，ｓ）、　９．３９　（ＩＨ，ｄ、に８Ｈｚ＞
（２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−ビニルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　２９６０．　１７６０．
　１６５０．　１５２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ１’ｌ
５Ｏ−ｄ　　Ｓ　）　：　３．５６および３．９０　（
２８゜ＡＢｑＪ＝１８Ｈｚ＞、　５．２０　（ＩＨ，ｄ
、、ｃ５Ｈｚ）、　５．４３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈ２
）、　５．５０　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈ２）。

５．７６　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　
６．７０　（ＩＨ，ｓ）。

９．４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（２Ｈ−
１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−セフ
ェム−４−カルボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　２９２０．　２８５０．
　１７５０．　１６００　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ
−九、　８　）　：　５．０１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、　５．６０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ
）、　６．６２　（ＬＨ，ｓ）、　７．０６（２Ｈ，ｓ
）、　７．９４　（ＬＨ，ｓ）、　９．３３　（ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（４）７〜［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド
コ−３−エテル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲＣＺスジ−ル）　　：　　２９００．　１７５０．
　１５１０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　Ｓ　
）　：　０．８０−１．２０　（３Ｈ，ｍ＞、　Ｌ９５
−６゛ ２．４０　（２Ｈ，ｍ＞、　３．４５　（２Ｈ，ｓ）、
　５．０５　（１）ｔ、ｄ。

に５Ｈｚ）、　５．５２−５．７８　（ＩＨ，ｎ＋）、
　６．６３　（Ｌ）ｌ、ｓ）。

７．０５　（２Ｈ，ｓ）、　９．３１　（ＩＨ，ｄＪ：
８Ｈｚ）実施例７ ？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチルチオ−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（
シン異性体）　（２，６ｇ　）のジクロロメタンＣ７，
８ｍＱ）およびアニソール（２，ｓ＋ｎｃ）混合物中懸
濁液に、トリフルオロ酢酸（５２ｍＭ）を水冷下に加え
る。１５℃で２時間攪拌後、反応混合物をジイソプロピ
ルエーテルに滴下する。生成する沈殿を濾取し、テトラ
ヒドロフランと酢酸エチルとの混合物に溶解する。これ
に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７，５に調整
する。水層を分取して１０％塩酸でｐＨ２，５に調整し
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水および食塩水で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去
して、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−エチルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（１
，７ｇ）を得る。

ＩＲ（スノヨール）　　；　　１７５５．　１６８０．
　１６５０．　１５９０゜１５２０　ｃ＋ｎ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　１１４　（３Ｈ，
ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　２．７７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ
＞、　３．３３　（２Ｈ，ｍ）、　５．Ｌｌ　（ＩＨ，
ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．６３　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、　８Ｈｚ）、　６．６５（ＬＨ，ｓ）、　７．０７　
（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　９．３７　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ＞、　１１．４０　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）衷Ｍ
Ｂ、４乳互 （１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチルチ
オ−３−セフェム−４−カルリボン謙（シン異性体）（
０，５ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０１１
１１”）溶液に、炭酸セシウム（０，１９ｇ）を加え、
混合物を２５℃で２０分間攪拌する０反応混合物に沃化
ピバロイルオキシメチル（０，５６ｇ）を０〜３℃で滴
下する。同温で４０分間攪拌後、反応混合物を酢酸エチ
ル（１００ｍＱ　）中に注ぐ、不溶物を濾去する。濾液
を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、次いで
硫酸マグネシウムで乾燥する。有機溶媒を減圧下に留去
し、残渣をジエチルエーテル中で粉砕して、？−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−エチルチオ−３−セフェム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シ
ン異性体）　（０，５６ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３３００．　１７５０−
１７８０．　１６６０゜１６１０　ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、Ｓ　）　’　１．０−１．４
５　（１１Ｈ，ｍ＞、　２．９０（３Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
７Ｈｚ、　　１４Ｈｚ＞、　　３．７８　（２１，ｂｒ
　ｓ）。

５．２１　　＜ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．５７
−５．９７　（３Ｈ，ｍ）。

６．６９　（ＩＨ，ｓ）、　　７．０６　（２Ｈ，ｂｒ
　ｓ）、　　９．４１　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　１１．２７　（ＩＨ，５）（２
）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチルチオ−
３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチル
エステル（シン異性体）（０，５ｇ）の酢酸エチル（５
０ｒｌｄｌ　）溶液に、塩化水素（０，０５ｇ）を含む
イソプロピルアルコール（０，２７ｍ１１）を水冷下に
加える。混合物を同条件で３０分間攪拌する０反応混合
物にジエチルエーテルを加える。沈殿を濾取してジエチ
ルエーテルで洗浄し、五酸化溝で乾燥して、？−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミドコ−３−エチルチオ−３−セフェム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル・塩
酸塩（シン異性体）　（０，３２ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ５−ＩＬ）　　’　　１７７０．　１？４０
．　１６６０．　１６２０゜１５２０　Ｃ１Ｃ１１ｌ −１Ｎ　（ＤＭＳＯ−ｄ　　Ｓ　）　’　０．９０−１
．３７　（１２）１．ｍ）、　２．９０６゜ （２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝６Ｈｚ、　１４Ｈｚ）、　３．７
７　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）。

５．２３　（１）１．ｄＪ＝５Ｈｚ）、　５．５０−５
．９５　（３Ｈ，ｍ）。

６．９１　（ＬＨ，ｓ）、　９．６７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ＞、　１２．３８（ＩＨ，ｂｒ　ｓ） Ｘ厘贋ニ ア−（４−プロモー２−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド）−３−（２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）（０，６ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルアセトア
ミド（５，３１１１Ｊｌ）溶液番こ、チオ尿素（０，１
４ｇ）を５℃で加える。混合物を常温で１時間攪拌後、
反応混合物に水（３０１１１１’）と酢酸エチル（３０
１ｆｉ１１　’）との混合物を加える１次０で、これに
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨ６〜７に調整す
る。水層を減圧濃縮し、次ｌ／）でＩＮ塩酸でＰＨ４，
５に調整する。溶液を）ＩＰ−２０のカラムを通通せし
め、１０％イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。

目的化合物を含む画分を集めて減圧濃縮し、凍結乾燥し
て、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−１
，２，３−トリアゾール−４−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）　（０，２４
ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジツール）　　：　　２９２０．　１７６０．
　１６００　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　
）　’　５−０２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．
５８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：５Ｈｚ、　１ＩＨｚ）、　６．
６０　（ＩＨ，ｓ）、　７．０５（２Ｈ，ｓ）、　７．
６３　（ＩＨ，ｓ）、　９．３５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８
Ｈｚ）衷ＪＪＬ四 Ｕと同様にして下記化合物を得る。

７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（１，２，３−
チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ナトリウム（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６６０．　１６００゜１５２０　ＣＩＣｌＴｌ −１Ｎ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ’）　：　４．４１　（
２Ｈ，ｓ）、　４．９８　（２）１゜ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、　　５．５７　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈ
ｚ）。

５．６０　（ＩＨ，ｓ）、　　７．０６　（２Ｈ，ｓ）
、　　８．９５　（ＩＨ，ｓ）。

９．３２　（ＬＨ，ｄ、に８Ｈｚ＞ 火ＪＬ［Ｌ！ｉ 実施例４−（２）と同様にして下記化合物を得る。

＜１）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−
１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　２９２０．　１７６０．
　１６００　　ｏｎ−１（２）７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−（１，２，３−デアジアゾール−５−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６６０．　１６００゜１５２０■−１ 叉１目１聾 Ａ」［匿」−と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メトキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジ縫−ル）　　：　　１７５５．　１６６０−
１６００．　１５２０　　ａｎ−’（２）７−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド］−３−メチルチオ−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ慟−ル）　　：　　３３００−３２００．　
１７６０−１７４０゜１６６０−１５２０　ａｍ−’ （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　２９００．　１７５０．
　１５１０　　ａｍ−１（４）？−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−エチルチオ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　１７＋５５．　１６８０
．　１６５０．　１５９０゜１５２０６ｍ−’ （５）７−［２−（２−’アミノチアゾールー４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
チオ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　＝　　２９６０．　１７６０．
　１６５０．　１５２０　　ｃ＋ｎ−’（６）７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミド］−３−エチニル−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ＜Ｚジｍ−４）　　：　２９２０．　２３５０．　
１７６０．　１６１０　　ａｎ−１（７）７−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミドコ−３−（２）（−１，２，３−）リ
アゾール−４−イル）チオ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ＊−ｘ）　　：　　２９２０．　２８５０．
　１７５０．　１６００　　ｃｍ−１（８）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−エチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、８　）　’　ｏ、　７３−１
．２３　（３Ｈ９ｍ）、１．６０−１．９３　（２Ｈ，
ｍ）、　５．２０　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．
６６−６．００　（ＬＨ，ｍ＞、　６．７０　（ＬＨ，
ｓ）、　６．９０　（ＩＨ，ｓ）。

７．４０　（１２Ｈ，ｍ）、　９．４０　（ＩＨ，ｄＪ
＝８Ｈｚ＞（９）？−［２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３
−ニブルチオ−３−セツエムー４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　３２００．　３３００．
　１７７０．　１７００．　１６５５゜１６１０　ａｍ
−１ （１０）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−エチニ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）。

ＩＲ（ｚジ＊−ル）　　：　　３２８０．　２９００．
　１７８０．　１７２０．　１６８０゜１６００　ｃｍ
−１ （１１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（２Ｈ
−１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン
異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、δ）　：　５．２３　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）、　５．８２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：５
Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　６．６５　（ＩＨ，ｓ）、　６．
９２（ＬＨ，ｓ）、　７．０−７．７０　（２５Ｈ，ｍ
）、　８．１８　（ＬＨ，ｓ）、　−９，４２（ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （１２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−ビニル
チオ−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（ス；＊−Ｊ　　：　　２９５０．　１７７０．　
１６７０．　１６１０　　ｃｍ−１（１３）？−［：２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミドコ−３−エチルチオ−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（
シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　３３００．　１７８０−
１７５０．　１６６０゜１６１０　ａｎ−’ 衷２ｍ（＊１３ １員」」二ュＵと同様にして下記化合物を得る。

（１）？−［：２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル（シン異性体）。

ＮＭＲ（ｏＭｓｏ−ｄａ、　ｌ；　）　’　ｏ、　７３
−１−２３　（３Ｈ１ｍ）、１．６０−１．９３　（２
Ｌｍ＞、　５．２０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５
．６６−６．００　（ＬＨ，ｍ）、　６．７０　（ＬＨ
，ｓ）、　６．９０　（ＩＨ，ｓ）。

７．４０　（１２Ｈ，ｍ）、　９．４０　（ＩＨ，ｄ、
ＪＪＨｚ）（２）７−［：２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−
３−エチルチオ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２００．　３３００．
　１７７０．　１７００．　１６５５゜１６１０　ｃｍ
−１ （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−エチニル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ嘗−ル”）　　：　　３２ｇ０．　２９００
．　１７８０．　１７２０．　１６８０゜ｔｓｏｏ■−
１ （４）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（２Ｈ−
１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、δ）　：　５．２３　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）、　５．８２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：５
Ｈｚ、　８Ｈｚ＞、　６．６５　（ＬＨ，ｓ）、　６．
９２（ＩＨ，ｓ）、　７．０−７．７０　（２５Ｈ，ｍ
）、　８．１８　（ＬＨ，ｓ）。

９．４２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ （５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メトキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエ
ステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３３００．　１７８０−
１７６０．　１６７０゜１６１０　ｃｍ−１ （６）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−ビニルチ
オ−３−一セフエムー４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　２９５０．　１７７０．
　１６７０．　１６１０　　ｃｍ−’（７）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミドコー３−［（Ｚ）−１−プロペニル
ツー３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル異性体）。

ＩＲ　　（スジシール）　：　　３３００．　　１７７
５．　　１７２０．　　１６７０。

１６１５　ｃｍ−１ 実施例１４ ７−と同様にして下記化合物を得る。

−　（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコー３−エチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジａ−Ｌ）　　’　　２９００，　　１７
５０，　　１５１０　　ＣＴｎ−’（２）？−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミドコ−３−ビニルチオ−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（Ｘジａ−ＪＬ）　　：　　２９６０，　　１
７６０．　　１６５０，　　１５２０　　ｃａｎ−１（
３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−エチニル−
３−・セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジｉ−＋Ｌ）　　：　　２９２０．　　２
３５０，　　１７６０．　　１６１０　　ｃｍ−１（４
＞７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−１．
２．３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（Ｘシロ−ＩＬ）　　：　　２９２０，　　２
８５０．　　１７５０．　　１６００　　ｃｍ−１（５
）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−１．
２．３−トリアゾール−４−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（Ｘジａ−４）　　：　　２９２０．　　１７
６０．　　１６００　　ａｍ−’（６）７−［２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド］−３−（１２．３−チアジアゾール−
５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　２９００．　　１７
６０，　　１６６０．　　１６００１５２０　ａｎ−’ （７）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−１−プロペニルコー３ーセフェムー４ーカルボン酸（
シン異性体）。

ＩＲ　　（スジシール）　　：　　１７６０−１７８０
．　　１６３０．　　１６６０　　ｃｍ−１ＨＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄｓ．Ｓ　）　’　１−　６３　（３Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．７３−４、１３　（２Ｈ．ｍ）
、　　５．１８　　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５
．４−５、８３　（ＬＨ．ｍ＞、　　５．６７　（１８
，ｄ−ｄ．、Ｃ５Ｈｚ）、　　６．１２（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝１１Ｈｚ）、　　６．７３　（ＩＨ．ｓ）、　　９．
５　（ＩＨ．ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、１１．８３−１１．９７　（ＩＨ．ｍ）
（８）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［２−（
３−ピリジル）ビニルツー３−セフェム−４−カルボン
酸（シス−トランス混合物）（シン異性体）。

ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　２９５０．　　２８
６０．　　１７６０．　　１６００　　ｃｍ−’ＮＭＲ
　（ＤＭＳＯ−ｄａ．８　）　’　５．１０　（ＩＨ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、５、６８（ＬＨ，ｄｄ．Ｊ＝５．　
８Ｈｚ）、　６．６４　（ＩＨ．ｓ）、　７．２０−７
、４２　（ＩＨ．ｍ）、　７．７５　（ＩＨ．ｄ）、　
８．３４　（ＩＨ，ｄ）。

８、５２　（ＩＨ．ｓ）、　９．３９　（ＬＨ，ｄ．、
Ｔ＝８Ｈｚ＞（９）７−［２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−
３−［１−スルホメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル］−３−セフェム−４−力ルボン酸（シ
ン異性体）。

ＬＲ（Ｚ；１−Ａ）　　’　　２９００．　１７６０．
　１６２０　　ＣｌＴｌ−１Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＱ−ｄ
　ａ　、ｆ；　）　’　３−５４　（２Ｈ、Ａ　Ｂｑ　
、Ｊ　：１８　Ｈｚ　＞　。

４．３０　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ＞、　５．７
２　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５゜８Ｈｚ）、　６．６４　（
ＬＨ，ｓ）、　９．３９　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）爽
鳳±旦 実施例４−（２）と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−エチルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　１７５５．　１６８０．
　１６５０．　１５９０゜１５２０　ｃｍ−１ （２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−［（Ｚ）
−ｔ−プロペニル］−３−セフェムー４−カルボン酸（
シン異性体）。

ＺＲ＜スジタール）　　：　　１７６０−１７８０．　
１６３０．　１６６０　　ｃｒｎ−１（３）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−［２−（３τピリジル）ビ
ニル］−３−セフェムー４−カルボン酸（シス−トラン
ス混合物）（シン異性体）。

ＬＲ（スジｉ４）　　’　　２９５０．　２８６０．　
１７６０．　１６００　　ｃｍ−１（４＞７−４２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキンイ
ミノアセトアミトコ−ａ−［（１−スルホメチル−ＩＨ
−テトラゾール−５−イル）テオメテルコー３−セフェ
ムー４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６２０　　ｃｒｎ−１夫履±旦 ？−［２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）−２−（２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ）ア
セトアミトコ−３−（１−ピリジニオメチル）−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体）　（２０
，Ｏｇ　）のメタノール（２０ｍ１１　）溶液に、トリ
フルオロ酢酸（６０ｍ１１　）を０°Ｃで加える。常温
で１．５時間攪拌後、反応混合物をジイソプロピルエー
テル（３ＱＱｍｌｌ　）中に冷却下に滴下する。沈殿を
濾取してエーテルで洗浄して粉末を得る。粉末の水（３
００＋１１１１　）および酢酸エチル（１５０ｍＱ　）
混合物中懸濁液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ
５に調整する。不溶物を濾去４″る。水層を分取してＩ
Ｎ塩酸でｐｉ（２，８にＵ！４ｔする。溶液を非イオン
吸着樹脂１ダイヤイオンＨＰ−２０Ｊ　（２００ｍ１１
　）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、５％
イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液を凍
結乾燥して、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−（
１−ピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート（シン異性体）（３，２０ｇ）を得る。

ＩＲ（スジタール）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６００．　１５２０　　ローＩＮＭＲ（Ｄ２０．δ
）　’　３．４２　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、
　５．２８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．４５　（
２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ４４Ｈｚ）。

５．８７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　６．９２　（
ＬＨ，ｓ）、　８．０６（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　
８．５５　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　８．９２（２
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　） 実施例１７ ７−［２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］　−３−（：
１−ピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート（シン異性体）（ｚ、ｓｏｇ）の５０％ギ酸水
溶液（１２，ｓｍＱ）溶液を６０′Ｃで２０分間攪拌す
る。この混合物に水と酢酸エチルとの混合物を加え、炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ４，０に調整する。

水層を分取して濃縮し、残渣を１ダイヤイオンＨＰ−２
０Ｊのカラムを通過させて、１０％イソプロピルアルコ
ール水溶液で溶出する。溶出液を濃縮し、凍結乾燥して
、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−（１−ピリジ
ニオメチル）−３−ｔ−フェムー４−カルボキシレート
（シン異性体）　（０，１３ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ：＋−ル）　：　　２９００．　１７７０．
　１６１０．　１５２０　　Ｃｆｎ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６．　ｌ；　）　’　３．３７　（２Ｈ，ＡＢｑ
ｊ＝１８Ｈｚ。

２７Ｈｚ）、　５．２４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、
　５．４Ｌ　＜２Ｈ，ｄ−ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ、　１３Ｈｚ＞、　７．７８　（ＩＨ，ｄ−
ｄ、、Ｃ３Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．９０　（ＩＨ，ｓ）、　７．９０−８．７０　（５
Ｈ，ｍ＞、　８．９１（ｔｕ、ｄ、Ｊ＝ｓｕｚ） 米ｍ　（Ｍ　１８ 犬履孤旦と同様にして下記化合物を得る。

７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（３−メチル−
１−ピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　２９２０．　２８５０．
　１７６０．　１６００゜１５２０　ｃｍ−’ ＮＭＲ（Ｄ２０．　Ｓ　）　：　２．５３　（３Ｈ，ｓ
）、　３．４０　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　５．２６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１
ｚ）、　５．４０　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、　５．８５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ＞、　６．８０（ＩＨ，ｓ）、　７．９０　（
ＩＨ，ｔ＞、　８．３５　（ＬＨ，ｄ）。

８．７３　（２Ｈ，） 及簾五Ｕ Ｋ１１辷」旦と同様にして下記化合物を得る。

７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−１−
プロペニル］−３−セフェムー４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ會−ル）　　：　　３３００．　１７７５．
　１７２０．　１６７０゜１６１５　ａｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ｌ；　）　’　１．４０　（
３Ｈ１ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．２３−３．８７　（２
Ｈ，ｍ）、　５．２４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　
５．４８（ＩＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝７）１ｚ、　ＩＩＨ２）
、　６．０６　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１１Ｈｚ）、　６．６６　（ＩＨ，ｓ）、　６．８
６　（ＩＨ，ｓ）。

６．９５−７．７３　（ＩＯＨ，ｍ）、　９．４０　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞。

１１．２６　（ＩＨ，ｓ） 火】ｕ１銭 ジメチルホルムアミド（０，８８ｇ）およびテトラヒド
ロフラン（２，６６ｇ）の混合物に、オキシ塩化燐（１
，９３ｇ）を０℃で加える。３０分間攪拌後、これに２
−（２−トリチルアミノデアゾール−４−イル）−２−
（１−メチル−１−メトキシエトキシイミノ）酢酸（５
，２５ｇ）のテトラヒドロフラン（５０１１１Ｑ　）溶
液を加える。混合物を０℃で１時間攪拌して活性化酸溶
液を得る。モノトリメチルシリルアセトアミド（１７ｇ
）を含む７−アミノ−３−（１−ピリジニオメチル）−
３−セフェム−４−カルボキシレート（３，４９ｇ）の
テトラヒドロフラン（１２０１１１１）溶液に、上記で
得られる活性化酸溶液を一３０℃で一挙に加え、混合物
を−３０〜−１５℃で２時間攪拌する０反応混合物を水
（１２０１Ｑ　’）と酢酸エチル（１２０ｍ１１　）と
の混合物に加える。有機層を分取して水および食塩水で
洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去し、残渣をイソプロピルエーテルで粉砕して濾取し、
真空乾燥して、７−［２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド
］−３−（１−ピリジニオメチル）−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）（２，５０客）を得る。

火簾輿」 東鳳忽Ａ：ユＵおよび罠凰±１と同様にして下記化合物
を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（１−ピ
リジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）。

ＩＲ（ｚジｍ−ル）　　：　　２９００．　１７７０．
　１６１０．　１５２０　　Ｃｍ″″１（２）？−［２
−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミド］−３−（３−メチル−１−ピリ
ジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）。

ＩＲ（スジ勘−ル）　　：　　２９２０．　２８５０．
　１７６０．　１６０Ｇ。

１５２０　ｃｍ−１ （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコー３−［（Ｚ）
−１−プロペニルツー３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　１７６０−１７８０．　１
６３０．　１６６０　　ｃｍ−１（４）７−［２−（２
−アミノデアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド］−３−［２−（３−ピリジル）ビニル
コー３−セフェムー４−カルボン酸（シス−トランス混
合物）（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　２９５０．　２８６０．
　１７６０．　１６００　　ｃｍ−１（５）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−［（１−スルホメチル−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル］−３−セフ
ェムー４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ”）　　’　　２９００．　１７６０．　１
６２０　　ｃｍ−’Ｘ鼻血η Ｗ烈！−と同様にして下記化合物を得る。

（ｔ＞７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［２−（
３−ピリジル）ビニルチオコー３−セフェムー４−カル
ボン酸（シン異性体）（シス異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２５０．　１７６０．
　１６００　　ｃｒｎ−１ｔｎｌＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．
δ）　：　３．８８　（２１１，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ
＞。

５．２２　（ＬＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）、　５．８２　＜
ＬＨ，ｄ−ｄ、Ｊ：５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　６．６３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ）、
　６．９０　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１２Ｈｚ）、　６．７０　（ＩＨ，ｓ）、　７．３
５−７．５５　（ＬＨ，＋ｎ）。

７．７５−８．００　（ＩＨ，ｍ）、　８．４９　（１
Ｂ、ｄ）、　８．６６（ＬＨ，ｓ）、　９．４９　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（２）７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトア
ミド］−３−（１−ピリダシニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．８　）　：　３．４０−４．
２０　（２Ｈ）、　５．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）
、　５．７０−５．９０　（３Ｈ）、　６．６５（ＬＨ
，ｓ）、　７．１０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　８．６０
−８．８０（２１，ｍ）、　９．４３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
：８Ｈｚ）、　９．５０−９．７０（ＬＨ，ａ＋）、　
９．９０−１０．ＩＱ　（ＩＬｍ）、　１１．３３　（
１１゜ｂｒｓ） 叉Ｊ己Ｉ競 え凰（Ｍ４−（幻と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイ
ミノアセトアミド］−３−（３−メチル−１−ピリジニ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　２９００．　１７７０．
　１６５０．　１５８Ｇ。

１５６０　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ＞　’　１．３０−２．０
０　（８Ｈ，ｍ）、　３．５７（２Ｈ）、　５．３　（
ＩＨ）、　５．６３　（ＩＨ）、　６．８７　（ＩＨ，
ｓ）。

７．１０−７．５０　（ｍ）、　８．１０−９．１０　
（５Ｈ，ａ＋）（２）７−［２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（２−テトラヒドロピラ
ニル）オキシイミノアセトアミド］−３−（１−ピリジ
ニオメチル）〜３−セフェムー４−カルボキシレート（
シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　２９２０．　２８５０．
　１７ｇ５．　１６１０゜ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．ε
）　７９．１３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　８．５
３（ＩＨ，ｔ、、Ｃ１ｚ）、　　８．２　（２Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、　　７．１０−７．６０　（ｍ）、　　
６．８０　（ＬＨ，ｓ）、　　５．６７　（ＩＨ）。

５．３　（ＩＨ）、　　３．５７　（２Ｈ）、　　１．
２−２．０　（８Ｈ，ｍ）（３）７−［２−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシイミノ）−２−（２−）リチル
アミノデアゾールー４−イル）アセトアミド］−３−［
（１−スルホメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）
チオメチル］−３−セフェムー４−カルボン酸（シン異
性体）。

東亙孤犯 火蓋！ＡニュＵおよび裏蓋■１と同様にして下記化合物
を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［２−（
３−ピリジル）ビニルチオ〕−３−セフエムー４−カル
ボン酸（シン異性体）（シス異性体）。

ＩＲ（Ｘジー４）　　：　　３２５０．　１７６０．　
１６００　　ａｍ−１（２）７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−ヒドロキンイミノアセトア
ミド〕−３−（１−ビリダシニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキンレート（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．　ｆ；　）　：　３．４０−
４．２０　（２Ｈ）、　５．１５（１）１．ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ＞、　５．７０−５．９０　（３Ｈ）、　６．６５
（Ｌ）１．ｓ）、　　７．１０　　＜２Ｈ，ｂｒ　　ｓ
）、　　８．６０−８．８０（２Ｈ，ｍ）、９．４３　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　９．５０−９．７０＜１
）１．ｍ）、　９．９Ｏ−ＩＱ、１０　（ＩＨ，ｍ＞、
　１１．３３（ｌＨ，ｂｒ　９） 実施例２５ 実施例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキンイミノアセトアミド］−３−メトキン
−３−セフェム−４−カルボン酸（ノン異性体）。

ＩＲ（スノヨール）　　’　　１７５５．　１６６０−
１６００．　１５２０　　ｃｍ−１（２）７−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド］−３−メチルチオ−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−Ａ）　　’　　３３００−３２００．　
１７６０−１７４０．　１６６０−１５２０　ｃｍ−１ （３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−エチル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジｉ−ル）　：　　２９００．　１７５０．　
１５１０　　ｃｍ−’（４）７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトア
ミド］−３−エテルチオ−３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジｖ−ル）　　：　　１７５５．　１６８０．
　１６５０．　１５９０゜１５２０　ｃｍ−１ （５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４〜イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ビニルチ
オ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　’　　２９６０．　１７６０．
　１６５０．　１５２０　　ｃｍ−１（６）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−エチニル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スフ３−ル）　　：　　２９２０．　２３５０．
　１７６０．　１６１０　　印−１（７）７−［２−（
２−アミノデアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド］−３−（２Ｈ−１，２，３−トリア
ゾール−４−イル）千オー３−セフェムー４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９４）　　：　　２９２０．　２８５０．　
１７５０．　１６００　　ａｍ−’（８）７−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキンイ
ミノアセトアミトコ−３−エチル−３−セフェム−４−
カルリボン酸ベンスヒドリルすステル（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　　）　　’　　ｏ、７３
−１．２３　　（３Ｈ９ｍ）、　　ｔ、６０−１．９３
　（２）１．ｍ）、　５．２０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈ
ｚ）、　５．６６−６．００　（ＩＨ，ｍ）、　６．７
０　（ｌＨ，ｓ＞、　６．９０　（１）１．ｓ）。

７．４０　（１２Ｈ，ｍ）、　９．４０　（ＩＨ，ｄ、
、Ｃ３Ｈｚ）（９）７−［２−（２−アミノデアゾール
−４−イル）−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−
３−エチルチオ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シンＭ性体）。

ＩＲ（スジ−−４）　　：　３２００．　３３００．　
１７７０．　１７００．　１６５５゜１６１０　ｃｍ−
１ （１０）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキンイミノアセトアミトコ−３−エチニ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）。

ＩＲ（ｚジａ−ル）　　：　　３２８０．　２９００．
　１７８０．　１７２０．　１６８０゜１６００ロー１ （１１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−−（
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（２
Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル）チオ−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シ
ン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　５．２３　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　６．６５　（ＬＨ，ｓ）、　６．
９２（ＬＨ，ｓ）、　７．０−７．７０　（２５Ｈ，ｍ
）、　８．１８　（ＩＨ，ｓ）。

９．４２　（ＬＨ，ｄ、に８Ｈｚ） （１２＞７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
チオ−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（シンＭ性体）。

ＩＲ（スジミール〉　：　　２９５０．　１７７０．　
１６７０．　１６１０　　ｃｍ−１（１３）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミドコ−３−エチルチオ−３−セフェム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　４　３３００．　１７８０−１
７５０．　１６６０゜１６１０　ｅｌｌ＋’ （１４）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−メトキ
シ−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジル
エステル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル＞　　：　　３３００．　１７８０−
１７６０．　１６７０゜１６１０　ｃ７ｎ−１ （１５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−３−（２Ｈ
−１，２，３−１−リアゾール−４−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　２９２０．　１７６０．
　１６００　　ｃｍ−１（１６）７−Ｃ２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセ
トアミドコ−３−（１，２゜３−チアジアゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６６０．　１６００゜１５２０　ｃｍ−１ ＜１７）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ
）−１−プロペニルコー３−セフェムー４−カルボン酸
（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　１７６０−１７８０．　
１６３０．　１６６０　　ｃｍ−１（１ｇ）７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミド］−３−［２−（３−ピリジル）ビ
ニルツー３−セフェム−４−カルボン酸（シス−トラン
ス混合物）（シン異性体）。

ＩＲ（スジ、＋−ル）　　’　　２９５０．　２ｇ６０
．　１７６０．　１６００　　ｃｍ−’（１９）７−　
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミドコ−３−［（１−スルホメチ
ル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル］−３
−セフェムー４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　２９００．　１７６０．
　１６２０　　ｃｍ−１（２０）７−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセ
トアミド］−３−［２−（３−ピリジル）ビニルチオ］
−３−セフェムー４−カルボン酸（シン異性体）（’／
ス異性体）。

ＩＲ（７ジａ−ル＞　　’　　３２５０．　１７６０．
　１６００　　ｃｍ−１（２１）７−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセ
トアミドコ−３−（１−ピリジニオメチル）−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジ５−４）　　’　　２９００．　１７７０．
　１６１０．　１５２０　　ｃｍ−１（２２）７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミド］−３−（３−メチル−１−ピリ
ジニオメチル）−３−セフェム−４，−カルボキシレー
ト（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル’）　　：　　２９２０．　２８５０
．　１７６０．　１６００゜１５２０　ＣｌＴｌ−１ （２３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（１−
ピリダシニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　３．４０−４．２
０　（２）１）、　５．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ：５）１ｚ
）、　５．７０−５．９０　（３Ｈ）、　６．６５（Ｉ
Ｈ，ｓ）、　７．１０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　８．６
０−８．８０（２Ｈ，ｍ）、　９．４３　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）、　９．５０−９．７０（ＬＨ，ｍ）、　
９．９０−１０．１０　（ＩＨ，ｍ）、　１１．３３（
ＩＨ，ｂｒ　５） （２４）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ヒドロキシ（ミノアセトアミド］−３−［（Ｚ
）−１−プトベニルコー３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステルン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３３００．　１７７５．
　１７２０．　１６７０゜１６１５印′″１ 実施例２６ ７−［２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−トリメチルアンモニオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル−１
−オキシト・沃化物（シン異性体）（９，９ｇ）のジメ
チルホルムアミド（５０ａｉ　）　＃液ｉ：、ＥｊＪＣ
化燐（３，２ｇ　）　ヲ−２０℃で加える。混合物を同
温で半時間攪拌し、次いで塩化メチレンと水との混合物
中に注ぐ、有機層を分取し、水および食塩水で洗浄し、
溶媒を減圧下に留去する。残渣を９０％テトラヒドロフ
ラン水溶液に溶解し、陰イオン交換樹脂’　ＩＲＡ−４
００。

（ＣＦ３Ｃ０〇−型）（商標、ローム・アンド・ハース
社製）のカラムを通過させ、９０％テトラヒドロフラン
水ｍ液で溶出する。生成物を含む溶出液を濃縮して生成
する沈殿を濾取し、五酸化溝で乾燥して、７−［２−（
２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ−２−（トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−トリメチルアンモニオメゾルー３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロ酢酸塩
（シン異性体）　（１１，７２ｇ　）を得る。

ＮＭＲ（ＤＩ（Ｓｏ−九、δ　）　　：　　１．１０−
２．２５　　（ｍ）、　　　５．４０　　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．９０　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
．８Ｈｚ）、　６．８０（１８，ｓ）、　７．１０　（
ＬＨ，ｓ）、　９．８６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）Ｋ
直型ｐ ｍと同様にして下記化合物を得る。

７−［２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ
−２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−ピロリジン−１−イルメチル− ズヒドリルエステル（シン異性体）。

東履五舒 ７−［２−（２−テトラヒドロピラニル）オキシイミノ
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミトコ−３−トリメチルアンモニオメチル−３−
セフェム−４−カルボン隘ベンズヒドリルエステル・ト
リフルオロ酢酸塩（シン異性体）（７．５ｇ）のジクロ
ロメタン（　２２．　５ｍｌｌ　）　１容ｌ夜に、アニ
ソール（７．５１１ＬＩｌ）およびトリフルオロ酢酸（
　１５＋１１１１　）を水冷下に加える．室温で４時間
攪拌後、混合物をジイソプロピルエーテル中に注ぐ．生
成する沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し
て５％炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解する．水溶液を
ＩＮ塩酸でｐ）１２．５に調整し、非イオン吸着ｍ　Ｊ
ｌｌ　’　ＨＰ−２０　、を使用するカラムクロマトグ
ラフィーに付す．所望の生成物を５％イソプロピルアル
コールで溶出して溶出液を濃縮し、凍結乾燥して、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミド］−３−トリメチルアンモニ
オメチル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体）　（　０．７０ｇ　）を得る。

ＩＲ　　（Ｘジｖ−４＞　　：　　３２５０．　　１７
７０．　　１６２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ　（Ｃ２０，ｌ
；　）　；３．　０９　（９）１．ｓ）、３．　３８．
３．　９３　（２Ｈ。

ＡＢｑ，Ｃ１７Ｈｚ）、　３．９５．　４．７０　（２
Ｈ．ＡＢｑ。

Ｊ＝１２Ｈｚ）、　５．３３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ
＞、　５．８４　（２Ｈ．ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　６．９０　（ＩＨ，ｓ）寞Ｊｄ１並 東五匿遷と同様にして下記化合物を得る。

７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−ピロリジン−１
−イルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ　　（スジ雪−ル）　　：　　３３００，　　１７
７０．　　１６２０．　　１５３０　　ｃｍ−’ＮＭＲ
　（ＤＭＳＯ−ｄ６．　Ｓ　）　ｊ　１．５Ｇ−２．１
０　（４８）、　２．７５−３、１０　（４Ｈ）、　３
．４５　（２Ｈ．ｓ）、　３．４１．　３．８２（２Ｈ
．ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ＞、　５．９５　（ＬＨ，ｄ．Ｊ＝
５Ｈｚ＞、　５．５８（ＬＨ．ｄ−ｄ．Ｊ＝５．　８Ｈ
ｚ）、　６．４０　（ＩＨ，ｓ）、　９．２０（ＩＨ．
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ｌ履！迎 衷１±ユ、衷１！」二」Ｕおよび衷墨」１と同様にして
下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−トリメチ
ルアンモニオメチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート（シン異性体）。

ＩＲ＜Ｚ九−ＪＬ）　　：　　３２５０．　１７７０．
　１６２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．Ｓ　）　’　
３．０９　（９Ｈ１ｓ）、３．３８，３．９３　（２Ｈ
０ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ）、　　３．９５．　４．７０
　（２Ｈ，ＡＢＱ。

Ｊ＝１２Ｈｚ＞、　　５．３３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５）
１ｚ）、　　５．８４　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ：５Ｈｚ＞、　　６．９０　　（ＩＨ，５）（２）７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒ
ドロキシイミノアセトアミド］−３−ピロリジン−１−
イルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）。

ＩＲ（Ｘジｉ−ル）　：　　３３００．　１７７０．　
１６２０．　１５３０　０ｎ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ
６．　ｌ；　）　：　１．５０−２．１０　（４Ｈ）、
　２．７５−３．１０　（４８）、　３．４５　（２Ｈ
，ｓ）、　３．４１．３．８２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１３Ｈ
ｚ）、　５．９５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．
５８（ＩＨ，ｄ−ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、　６．４０　
（ＩＨ，ｓ）、　９．２０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、
   Ｒ＾２はカルボキシ基、ＣＯＯ＾■または保護されたカ
   ルボキシ基、Ｒ＾３は（Ｃ＿３〜Ｃ＿６）アルキル基、
   （Ｃ＿３〜Ｃ＿６）アルケニル基、低級アルキニル基、
   １，２，３−トリアゾリルチオメチル基、１，２，３−
   チアジアゾリルチオメチル基、適当な置換基を有してい
   てもよいピリジニオメチル基、スルホ（低級）アルキル
   テトラゾリルチオメチル基、ピリジルビニル基、ピリジ
   ルビニルチオ基、１−ピリダジニオメチル基、トリ（低
   級）アルキルアンモニオメチル基、ピロリジニルメチル
   基または式： −Ａ−Ｙ （式中、Ａは−Ｓ−または−Ｏ−、Ｙは低級アルキル基
   、低級アルケニル基または複素環基を意味する）で示さ
   れる基、Ｒ＾４は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞ
   れ意味し、 ただしＲ＾２がＣＯＯ＾■である場合には、Ｒ＾３は適
   当な置換基を有していてもよいピリジニオメチル基、１
   −ピリダジニオメチル基、またはトリ（低級）アルキル
   アンモニオメチル基を意味する］で示されるセフェム化
   合物およびその塩類。 ２）Ｒ＾１がアミノ基、Ｒ＾２がカルボキシ基またはＣ
   ＯＯ＾■、Ｒ＾４が水素である特許請求の範囲第１）項
   記載の化合物。 ３）Ｒ＾３がエチル、１−プロペニル、エチニル、１，
   ２，３−トリアゾール−４−イルチオメチル、１，２，
   ３−チアジアゾール−５−イルチオメチル、１−ピリジ
   ニオメチル、３−メチル−１−ピリジニオメチル、１−
   スルホメチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イルチオメチ
   ル、２−（３−ピリジル）ビニル、２−（３−ピリジル
   ）ビニルチオ、１−ピリダジニオメチル、トリメチルア
   ンモニオ、メトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ビニル
   チオ、１，２，３−トリアゾール−４−イルチオまたは
   ピロリジン−１−イルメチルである特許請求の範囲第２
   ）項記載の化合物。 ４）ｉ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾２はカルボキシ基、ＣＯＯ＾■または保護
   されたカルボキシ基、Ｒ＾３は（Ｃ＿２〜Ｃ＿６）アル
   キル基、（Ｃ＿３〜Ｃ＿６）、アルケニル基、低級アル
   キニル基、１，２，３−トリアゾリルチオメチル基、１
   ，２，３−チアジアゾリルチオメチル基、適当な置換基
   を有していてもよいピリジニオメチル基、スルホ（低級
   ）アルキルテトラゾリルチオメチル基、ピリジルビニル
   基、ピリジルビニルチオ基、１−ピリダジニオメチル基
   、トリ（低級）アルキルアンモニオメチル基、ピロリジ
   ニルメチル基または式： −Ａ−Ｙ （式中、Ａは−Ｓ−または−Ｏ−、Ｙは低級アルキル基
   、低級アルケニル基または複素環基を意味する）で示さ
   れる基をそれぞれ意味する］ で示される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘
   導体またはその塩を、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、
   Ｒ＾４は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味す
   る） で示される化合物またはカルボキシ基におけるその反応
   性誘導体またはその塩と反応させて、式：▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩を得るか； ｉｉ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｒ＾２＿ａは保護されたカルボキシ基を
   意味する） で示される化合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱
   離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｒ＾２＿ｂはカルボキシ基またはＣＯＯ
   ＾■を意味する） で示される化合物またはその塩を得るか； ｉｉｉ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｘはハロゲンを意味する） で示される化合物またはその塩を、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾は前と同じ意味） で示される化合物と反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩を得るか； ｉｖ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２＿ｂ、Ｒ＾３およびＲ＾４はそ
   れぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩をエステル化反応に付し
   て、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｒ＾２＿ｃはエステル化されたカルボキ
   シ基を意味する） で示される化合物またはその塩を得るか； ｖ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｒ＾４＿ａはヒドロキシ保護基を意味す
   る） で示される化合物またはその塩をヒドロキシ保護基の脱
   離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味） で示される化合物またはその塩を得るか； ｖｉ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味であり、Ｒ＾１＿ａは保護されたアミノ基を意味
   する） で示される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
   応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ前と同
   じ意味） で示される化合物またはその塩を得るか； ｖｉｉ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１およびＲ＾４はそれぞれ前と同じ意味で
   あり、Ｒ＾２＿ｄはカルボキシ基または保護されたカル
   ボキシ基、Ｒ＾３＿ａは適当な置換基を有していてもよ
   いピリジニオメチル基またはトリ（低級）アルキルアン
   モニオメチル基、１−ピリダジニオメチル基、Ｘ＿ａは
   酸残基をそれぞれ意味する］で示される化合物またはそ
   の塩を還元に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２＿ｄ、Ｒ＾３＿ａ、Ｒ＾４およ
   びＸ＿ａはそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物を得ることを特徴とする一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、 ただし、Ｒ＾２がＣＯＯ＾■である場合には、Ｒ＾３は
   適当な置換基を有していてもよいピリジニオメチル基、
   １−ピリダジニオメチル基またはトリ（低級）アルキル
   アンモニオメチル基を意味する］で示されるセフェム化
   合物またはその塩類の製造法。 ５）有効成分として特許請求の範囲第１項記載の化合物
   または医薬として許容されるその塩類を含有ることを特
   徴とする抗菌剤。