JPS62290192A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents

印刷配線板の製造方法

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Publication number
JPS62290192A
JPS62290192A JP13299086A JP13299086A JPS62290192A JP S62290192 A JPS62290192 A JP S62290192A JP 13299086 A JP13299086 A JP 13299086A JP 13299086 A JP13299086 A JP 13299086A JP S62290192 A JPS62290192 A JP S62290192A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printed wiring
wiring board
photosensitive resin
resist
manufacture
Prior art date
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Pending
Application number
JP13299086A
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English (en)
Inventor
浅野 智明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS62290192A publication Critical patent/JPS62290192A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷配線板の製造方法に関し、特にフォ1−エ
ツチング法における感光性樹脂の塗布方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、印刷配線板の感光性樹脂の塗布方法は第2図(a
) 、 (b)に示すように槽4内の溶剤で希釈した感
光性樹脂3中に印刷配線基板1を浸漬することにより、
印刷配線基板1表面に感光性樹脂層2を塗布する、いわ
ゆるディップ法が広く知られている。本方法は簡便であ
り、また形成される感光性樹脂層にピンホールが発生し
ないため、数μ〜10数μの比較的薄い膜厚を必要とす
る場合には有効な方法である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、上述したディップ法は第2図(a)、 、 (
b)に示すように感光性樹脂層(以下レジスト層と称す
る)2の形成を行うと、印刷配線基板1の下端部laに
レジストたまり2aが発生し、露光、現像の後、レジス
トだまり2aの部位のみレジスト層2の厚みが用いため
、現像残りを生ずる欠点を有していた。
さらに、現像装置内部の気密ロールにレジストの再付着
を生じ、これが他の印刷配線基板に再付着して全体の歩
留りを低下させる原因ともなっていた。
〔発明の従来技術に対する相違点〕
本発明はかかるディップ法による感光性樹脂塗右方法に
より生じる基板下端部へのレジストだまりを溶剤に浸漬
して除去するという独創的内容を有する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の印刷配線板の製造方法は感光性樹脂中に印刷配
線基板を浸漬することにより、前記印刷配線基板の表面
に感光性樹脂を塗布する工程と、前記印刷配線基板の下
端部を溶剤に浸漬させ、該基板の下端部に付着した感光
性樹脂を除去する工程と、前記感光性樹脂をフォトマス
クを介して露光した後現像を行い所望の回路パターンを
得る工程とを行うことを特徴とするものである。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
(実施例1) 第1図(a)に示ず如く、200nn X 200rI
nの大きさに切断した印刷配線基板1を用意し、これを
メチルエチルケトンおよび酢酸メチルで希釈し粘度3c
pに調整した東京応化■製、OSレジスト3中に浸漬さ
せ、300na/分の速度で引き上げ、レジスト層2の
形成を行う。このとき、印刷配線基板1の下端部約5m
mにレジストだまり3を生じた。
次に第1図(b)に示すように、印刷配線基板1の下端
部約5mを弱い攪拌を行った1、1.1−トリクロロエ
タンの溶解液5中に約40秒浸漬させて第1図(c)の
如くレジストだまり2aを溶解・除去した後、80℃で
10分間乾燥した。次にフォトマスクを介して約100
mJ/cJの光量で露光を行いスプレ一式現像装置を用
い、約40秒間1,1.1−トリクロロエタンで現像を
行った。このとき、印刷配線基板の下端部の現像残りは
全く見られなかった。
(実施例2) 200iio X 200+nmの大きさに切断した印
刷配線基板1を用意し、これをエチルセロソルブで希釈
し、粘度5cpにした東京応化製op−n■レジスト3
中に浸漬させ、200+n+++/分の速度で引き上げ
レジスト層2の形成を行った。
次に実施例1と同様に印刷配線基板1の下端部約51m
を弱い攪拌を行ったエチルセロソルブの溶解液5中に約
1分浸漬した後、80℃で10分間乾燥した。
次にフォトマスクを介して約80mJ/a&の光量で露
光を行い、スプレ一式現像装置を用い約30秒間1%炭
酸ナトリウム水溶液により現像を行ったところ、実施例
1と同様印刷配線基板1の下端部1aの現像残りは全く
見られなかった。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明はディップ法によりレジスト
層を形成する際に下端部に発生するレジストだまりを溶
剤浸漬により除去することにより、露光・現像後の現像
残りの発生を防ぎ、さらに現像装置でのレジストの再付
着を未然に防止でき、全体の歩留りを向上できる効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、(b) 、 (c)は本発明に係る製
造方法の工程図、第2図(a) 、 (b)は従来の製
造方法の工程図である。 1・・・印刷配線基板、2・・・感光性樹脂層(レジス
ト層)、3・・・レジストだまり、4・・・レジスト、
5・・・溶解液 (α)(b)         CC)第1図 (α) 第2図 (b)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光性樹脂中に印刷配線基板を浸漬することによ
    り、前記印刷配線基板の表面に感光性樹脂を塗布する工
    程と、前記印刷配線基板の下端部を溶剤に浸漬して該基
    板の下端部に付着した感光性樹脂を除去する工程と、前
    記感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後、現像
    を行い、所望の回路パターンを得る工程とを行うことを
    特徴とする印刷配線板の製造方法。
JP13299086A 1986-06-09 1986-06-09 印刷配線板の製造方法 Pending JPS62290192A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02143584A (ja) * 1988-11-25 1990-06-01 Matsushita Electric Works Ltd スルーホール付配線板の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02143584A (ja) * 1988-11-25 1990-06-01 Matsushita Electric Works Ltd スルーホール付配線板の製造方法

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