JPS62264543A - 対象物の微小移動のための装置 - Google Patents
対象物の微小移動のための装置Info
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- JPS62264543A JPS62264543A JP62070519A JP7051987A JPS62264543A JP S62264543 A JPS62264543 A JP S62264543A JP 62070519 A JP62070519 A JP 62070519A JP 7051987 A JP7051987 A JP 7051987A JP S62264543 A JPS62264543 A JP S62264543A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
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- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/02—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors
- H02N2/021—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors using intermittent driving, e.g. step motors, piezoleg motors
-
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- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H02N2/02—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/202—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using longitudinal or thickness displacement combined with bending, shear or torsion displacement
- H10N30/2027—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using longitudinal or thickness displacement combined with bending, shear or torsion displacement having cylindrical or annular shape
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
゛ 本発明は対象物の微小運動、特に顕微鏡的に検査さ
れるべき対象物の運動のための運動装置に関する。この
運動装置は特に顕微鏡で検査されるべき対象物の運動及
び操作のために役立つ。
れるべき対象物の運動のための運動装置に関する。この
運動装置は特に顕微鏡で検査されるべき対象物の運動及
び操作のために役立つ。
(従来の技術)
機械的に高精密度の運動過程は最近の顕微鏡工学では必
要性が増大している。従来このために使用された、レバ
機構、歯車及びマイクロメータねじを備えた機械的調整
要素は多くの場合必要な条件に合致しない。 微小運動
の実施のために良好な電気的又は圧電調整要素が好適で
ある。
要性が増大している。従来このために使用された、レバ
機構、歯車及びマイクロメータねじを備えた機械的調整
要素は多くの場合必要な条件に合致しない。 微小運動
の実施のために良好な電気的又は圧電調整要素が好適で
ある。
対象物の非常に精密な微小運動は例えばG、ビニッヒ及
びH,ローラの走査型トンネル顕微鏡(RTM)で必要
とされる(Helvetia Phys、Acta55
.1982.726頁参照)、 走査型トンネル顕微鏡
は検査されるべき対象物の運動の精度及び安定性につい
て最高値を要求する。対象物の走査のためにも対象物の
操作のためにも所望の結果を得るためにナノメータ範囲
の精密運動が前提となり、その際運動は許容可能、再生
可能かつ迅速に実施されかつ制御されなければならない
。
びH,ローラの走査型トンネル顕微鏡(RTM)で必要
とされる(Helvetia Phys、Acta55
.1982.726頁参照)、 走査型トンネル顕微鏡
は検査されるべき対象物の運動の精度及び安定性につい
て最高値を要求する。対象物の走査のためにも対象物の
操作のためにも所望の結果を得るためにナノメータ範囲
の精密運動が前提となり、その際運動は許容可能、再生
可能かつ迅速に実施されかつ制御されなければならない
。
走査型トンネル顕微鏡のために従来公知の調整要素は走
査のための3つの圧電調整部材の組合せ(3つの座標方
間x、y、zに各1つの調整部材を備えた三脚)及び対
象物操作のための他の調整部材が使用され、これらは圧
電的、電磁的又は機械的に作動する。G、 B1nn
1g und H,Rohrerの「走査型トンネル顕
微鏡」のSpektrum der Wissensc
haft 、1988年、62/68頁と、J、Mor
eland の「絞り可能なな電子トンネル接合の圧
縮のための電磁スキーザと、Rev、Sci、Inst
rumの1984年vo1.53.399頁を参照され
たい。これらの構造的に複雑な調整要素は故障し易く、
振動及び温度ドリフトが避けられない。ピエゾセラミッ
クの運転に必要な高い電圧も危険である。
査のための3つの圧電調整部材の組合せ(3つの座標方
間x、y、zに各1つの調整部材を備えた三脚)及び対
象物操作のための他の調整部材が使用され、これらは圧
電的、電磁的又は機械的に作動する。G、 B1nn
1g und H,Rohrerの「走査型トンネル顕
微鏡」のSpektrum der Wissensc
haft 、1988年、62/68頁と、J、Mor
eland の「絞り可能なな電子トンネル接合の圧
縮のための電磁スキーザと、Rev、Sci、Inst
rumの1984年vo1.53.399頁を参照され
たい。これらの構造的に複雑な調整要素は故障し易く、
振動及び温度ドリフトが避けられない。ピエゾセラミッ
クの運転に必要な高い電圧も危険である。
(発明の課題)
高い安定性、運動の精密な制御、簡単な構成、僅かな振
動性及び僅かな温度ドリフトによって特徴づけられる運
動を行うための装置を創造することを本発明の課題とす
る。
動性及び僅かな温度ドリフトによって特徴づけられる運
動を行うための装置を創造することを本発明の課題とす
る。
(発明の課題の解決のための手段)
本発明の課題は対象物は圧電材料から成る少なくとも3
つの運動要素上に支承されており、運動要素は電圧の印
加によって変形可能であることによって解決される。従
って対象物は対象物を支持する圧電材料から成る少なく
とも3つの運動要素上に支承されている。運動要素の支
持点は圧電材料の変形に起因する運動要素への電圧の印
加によってその状態が、運動要素で支持された対象物が
対象物の支台によって支台上設けられた平面内の所望の
方向に動かされるように変えられる。この運動は純粋な
並進運動であるが、対象物は運動要素によって軸線の回
りに回動され及び傾倒されることができる。このために
3つの圧電運動要素の各々は別々に制御されることがで
きる。
つの運動要素上に支承されており、運動要素は電圧の印
加によって変形可能であることによって解決される。従
って対象物は対象物を支持する圧電材料から成る少なく
とも3つの運動要素上に支承されている。運動要素の支
持点は圧電材料の変形に起因する運動要素への電圧の印
加によってその状態が、運動要素で支持された対象物が
対象物の支台によって支台上設けられた平面内の所望の
方向に動かされるように変えられる。この運動は純粋な
並進運動であるが、対象物は運動要素によって軸線の回
りに回動され及び傾倒されることができる。このために
3つの圧電運動要素の各々は別々に制御されることがで
きる。
本発明の他の構成において、特許請求の範囲第2項によ
れば、運動要素の少なくとも一部分は中空に形成されて
おり、かつ端面では運動要素に対象物のための支台を形
成することが提案される。
れば、運動要素の少なくとも一部分は中空に形成されて
おり、かつ端面では運動要素に対象物のための支台を形
成することが提案される。
そのような円筒状の運動要素は高い機械的剛性を有する
。好ましくは中空円筒状運動要素はその円筒壁上に閉じ
た電導性の層を、そして他の円筒状壁上には電気的に絶
縁された多数の導電性の部分層を備えている(特許請求
の範囲第3項)。この構成では、両円筒壁上の層の間の
電圧の印加によって運動要素の短縮又は伸長が達成され
る。運動要素をたわませるために、閉じた層と部分層と
の間の電圧が印加される。印加される電圧の重合わせに
よって対象物の運動のために必要とされる全ての位置変
化が実施されることができ、その際このために必要な電
圧は比較的小さい壁厚さで実施可能な運動要素のために
相応して小さく保持されることができる。
。好ましくは中空円筒状運動要素はその円筒壁上に閉じ
た電導性の層を、そして他の円筒状壁上には電気的に絶
縁された多数の導電性の部分層を備えている(特許請求
の範囲第3項)。この構成では、両円筒壁上の層の間の
電圧の印加によって運動要素の短縮又は伸長が達成され
る。運動要素をたわませるために、閉じた層と部分層と
の間の電圧が印加される。印加される電圧の重合わせに
よって対象物の運動のために必要とされる全ての位置変
化が実施されることができ、その際このために必要な電
圧は比較的小さい壁厚さで実施可能な運動要素のために
相応して小さく保持されることができる。
合理的に特許請求の範囲第4項によれば、相互に絶縁さ
れた部分層は円筒壁上円筒軸線の方向に延びている。部
分層は絶縁層によって相互に分離されており、絶縁層は
部分層の間を円筒軸線に対して平行になっている。この
構成では、層への電圧印加の際に軸線方向(Z方向)へ
の運動要素の伸縮の他に円筒軸線の方向に対して垂直に
、即ちX方向又はY方向にも伸縮可能である。製造技術
的理由から相互に電気的に絶縁された導電性部分層は運
動要素の外壁上に配置されている(特許請求の範囲第5
項)。
れた部分層は円筒壁上円筒軸線の方向に延びている。部
分層は絶縁層によって相互に分離されており、絶縁層は
部分層の間を円筒軸線に対して平行になっている。この
構成では、層への電圧印加の際に軸線方向(Z方向)へ
の運動要素の伸縮の他に円筒軸線の方向に対して垂直に
、即ちX方向又はY方向にも伸縮可能である。製造技術
的理由から相互に電気的に絶縁された導電性部分層は運
動要素の外壁上に配置されている(特許請求の範囲第5
項)。
運動要素の最適な電気的制御は特許請求の範囲第6項及
び第7項によれば各導電層が運動要素の円筒面上で別々
に制御可能であり、かつ所望の対象物運動に相応した運
転電圧を印加可能である場合に与えられることができる
。運動要素の各調整は運転に必要な交流に重られる直流
電圧の印加によって達成される。
び第7項によれば各導電層が運動要素の円筒面上で別々
に制御可能であり、かつ所望の対象物運動に相応した運
転電圧を印加可能である場合に与えられることができる
。運動要素の各調整は運転に必要な交流に重られる直流
電圧の印加によって達成される。
本発明による運動装置の好適な使用範囲は光学及び電子
顕微鏡を含む顕微鏡である。その際運動装置は検査され
るべき対象物のための対象物支持体として役立つ。たと
えば、電子的構造の高集積の際におけるマイクロ工学に
おける対象物の分析及び処理のために役立つ。操作のた
めの対象物が既に運動可能であるので、対象物の微小運
動、従って例えば微小回転運動のために、対象物に所定
の圧電運動要素の各々を対象物の所望の運動が行われる
ように連接することで充分である。
顕微鏡を含む顕微鏡である。その際運動装置は検査され
るべき対象物のための対象物支持体として役立つ。たと
えば、電子的構造の高集積の際におけるマイクロ工学に
おける対象物の分析及び処理のために役立つ。操作のた
めの対象物が既に運動可能であるので、対象物の微小運
動、従って例えば微小回転運動のために、対象物に所定
の圧電運動要素の各々を対象物の所望の運動が行われる
ように連接することで充分である。
運動装置が走査型トンネル顕微鏡用の対象物支持体とし
て特に有利に使用される(特許請求の範囲第8項)。こ
の使用のために、運動装置は検出針と又は上に検出針が
固定されている走査支持体と剛固に固定されている(特
許請求の範囲第9項)。対象物支持体と閉じたコンパク
トな構造体としての検出針又は走査要素とのそのような
結合は走査型トンネル顕微鏡における非常にに高い機械
的安定性と温度非感度に繋がる。特許請求の範囲第10
項によれば、走査要素は運動要素と同様な方法で形成さ
れている。従って特にその内方及び外方の円筒壁上に導
電層又は部分層を備えた中空円筒状の圧電材料から成る
。走査要素及び運動要素の類似した構成は走査型トンネ
ル顕微鏡における運動装置の使用の際に振動のないこと
及び温度ドリフトの補償に繋がる。運動要素及び走査要
素の同様な構成は走査型トンネル顕121使用のために
必要な走査運動のために走査要素に代えて運動要素によ
って実施することを特徴とする特許請求の範囲第11項
)。対象物の温度測定のために少なくとも運動要素の1
つが感熱部を備えている(特許請求の範囲第12項)。
て特に有利に使用される(特許請求の範囲第8項)。こ
の使用のために、運動装置は検出針と又は上に検出針が
固定されている走査支持体と剛固に固定されている(特
許請求の範囲第9項)。対象物支持体と閉じたコンパク
トな構造体としての検出針又は走査要素とのそのような
結合は走査型トンネル顕微鏡における非常にに高い機械
的安定性と温度非感度に繋がる。特許請求の範囲第10
項によれば、走査要素は運動要素と同様な方法で形成さ
れている。従って特にその内方及び外方の円筒壁上に導
電層又は部分層を備えた中空円筒状の圧電材料から成る
。走査要素及び運動要素の類似した構成は走査型トンネ
ル顕微鏡における運動装置の使用の際に振動のないこと
及び温度ドリフトの補償に繋がる。運動要素及び走査要
素の同様な構成は走査型トンネル顕121使用のために
必要な走査運動のために走査要素に代えて運動要素によ
って実施することを特徴とする特許請求の範囲第11項
)。対象物の温度測定のために少なくとも運動要素の1
つが感熱部を備えている(特許請求の範囲第12項)。
(実施例)
第1図は運動要素1.2及び3の間の中央にトンネル電
流の測定のための走査運動要素4を備えた走査型トンネ
ル顕微鏡のための、3つの運動要素1.2.3から成る
運動装置を示す。運動要素1.2.3は実施例中相互に
同一距離に配置されている。全ての運動要素1.2.3
及び走査要素4は同一構造を有する。要素の構成のため
に実施例中円筒状の部分は圧電材料例えばピエゾセラミ
ックから成るものが使用され、その際運動要素は端面で
走査型トンネル顕微鏡によって検査されるべき対象物6
のための支台5をそして走査要素4は検出針7(トンネ
ル尖頭)を備えている。運動要素1.2.3及び走査要
素4は実施例中共通の基板8に固定されている。要素の
各々にはセラミック材料の伸縮又はたわみを作用する可
変の電圧又は電圧経過が印加される。
流の測定のための走査運動要素4を備えた走査型トンネ
ル顕微鏡のための、3つの運動要素1.2.3から成る
運動装置を示す。運動要素1.2.3は実施例中相互に
同一距離に配置されている。全ての運動要素1.2.3
及び走査要素4は同一構造を有する。要素の構成のため
に実施例中円筒状の部分は圧電材料例えばピエゾセラミ
ックから成るものが使用され、その際運動要素は端面で
走査型トンネル顕微鏡によって検査されるべき対象物6
のための支台5をそして走査要素4は検出針7(トンネ
ル尖頭)を備えている。運動要素1.2.3及び走査要
素4は実施例中共通の基板8に固定されている。要素の
各々にはセラミック材料の伸縮又はたわみを作用する可
変の電圧又は電圧経過が印加される。
対象物6は実施例中運動要素1.2.3の球状に形成さ
れた支台5の上に乗っている。この対象物6の3点支持
によって対象物の安定した支持が保証される。これは重
力によってのみは達成されない場合、対象物はばね力に
よっても運動要素の支台5上に押し付けられることがで
きる。
れた支台5の上に乗っている。この対象物6の3点支持
によって対象物の安定した支持が保証される。これは重
力によってのみは達成されない場合、対象物はばね力に
よっても運動要素の支台5上に押し付けられることがで
きる。
運動要素1.2.3の構成を第2図に基づいて説明する
。第2図は支台5を備えた運動要素1を斜視図的に示す
。運動要素の横断面は第2a図に示す。運動要素の構成
のために圧電材料から成る管9が使用される。実施例中
ピエゾセラミック管は直径2m1I+、内径1mmであ
る。この内方の円筒壁上にピエゾセラミック管9は内方
電極として閉じた導電性の層10を備えている。運動要
素の外円筒壁は4つの導電性部分層11〜14を有すし
、これらは細長状電極として絶縁部15によって相互に
電気的に絶縁されている。部分層11〜14は外円筒壁
上に運動要素の軸線16に対して平行に配置され、絶縁
部15は軸線方向に経過する。実施例中圧電材料は第2
a図に示すように矢印17を印されたように半径方向に
分権されている。
。第2図は支台5を備えた運動要素1を斜視図的に示す
。運動要素の横断面は第2a図に示す。運動要素の構成
のために圧電材料から成る管9が使用される。実施例中
ピエゾセラミック管は直径2m1I+、内径1mmであ
る。この内方の円筒壁上にピエゾセラミック管9は内方
電極として閉じた導電性の層10を備えている。運動要
素の外円筒壁は4つの導電性部分層11〜14を有すし
、これらは細長状電極として絶縁部15によって相互に
電気的に絶縁されている。部分層11〜14は外円筒壁
上に運動要素の軸線16に対して平行に配置され、絶縁
部15は軸線方向に経過する。実施例中圧電材料は第2
a図に示すように矢印17を印されたように半径方向に
分権されている。
内層10及び部分層11〜14には運動要素に電圧を印
加可能な導線18〜22が接続されている。運動要素の
X、Y、Z方向への運動に必要な電圧は調整可能な電圧
供給部23によって発生される。
加可能な導線18〜22が接続されている。運動要素の
X、Y、Z方向への運動に必要な電圧は調整可能な電圧
供給部23によって発生される。
全ての部分層11〜14が同一電位にされ、かつこれと
内層10との間に電位差があると、運動要素は軸線方向
に変形し、即ち印加された電圧の極性に従ってZ方向に
伸縮される。しかし、圧電管90個々の部分層と内層1
0との間に電圧が印加されると、支台5を備えた運動要
素の自由端はその軸線16に対して垂直にX方向又はY
方向にたわむ。たわみは反対極性の電圧が外方の円筒壁
に向かい合う部分層の間に印加された場合に増大され、
例えば部分層11と13または12と14との間では増
加し、その際内方の層10は電位ゼロである。
内層10との間に電位差があると、運動要素は軸線方向
に変形し、即ち印加された電圧の極性に従ってZ方向に
伸縮される。しかし、圧電管90個々の部分層と内層1
0との間に電圧が印加されると、支台5を備えた運動要
素の自由端はその軸線16に対して垂直にX方向又はY
方向にたわむ。たわみは反対極性の電圧が外方の円筒壁
に向かい合う部分層の間に印加された場合に増大され、
例えば部分層11と13または12と14との間では増
加し、その際内方の層10は電位ゼロである。
前記の電圧の重合わせによって運動要素は支台5が対象
物の所望の位置のために必要な運動を実施するように変
形され、その際ここで必要な運転電圧は運動要素の寸法
及び薄い壁厚さのために比較的小さい。
物の所望の位置のために必要な運動を実施するように変
形され、その際ここで必要な運転電圧は運動要素の寸法
及び薄い壁厚さのために比較的小さい。
運動要素1.2.3及び走査要素4はその水準を基盤8
において検出要素の検出針7が運動要素の支台5への対
象物6の支持の際に検査されるべき対象物表面から充分
小さい距離を有するように調整される。検出針と対象物
表面との間の距離の精密調整は運動要素及び又は走査要
素への相応した電圧の印加によって実施される。同−基
盤上への運動要素及び走査要素の配置及び運動要素及び
走査要素のための選択された同一の構成は同一の圧電材
料から成り、かつ同一の寸法を備えたものは運動要素及
び走査要素に対して同一の熱的伸び挙動に繋がり、その
結果表面と走査要素との間に温度伸びが補償される。
において検出要素の検出針7が運動要素の支台5への対
象物6の支持の際に検査されるべき対象物表面から充分
小さい距離を有するように調整される。検出針と対象物
表面との間の距離の精密調整は運動要素及び又は走査要
素への相応した電圧の印加によって実施される。同−基
盤上への運動要素及び走査要素の配置及び運動要素及び
走査要素のための選択された同一の構成は同一の圧電材
料から成り、かつ同一の寸法を備えたものは運動要素及
び走査要素に対して同一の熱的伸び挙動に繋がり、その
結果表面と走査要素との間に温度伸びが補償される。
対象物の移動又は回転を達成するために、第3図は運動
要素のための2つの可能な運動過程を図式的に示す。
要素のための2つの可能な運動過程を図式的に示す。
第3a図は点Aから点Bまでの対象物の移送のために4
つの連続した作業ステップにおける運動要素の支台5が
次のように動かされる運動過程を示す。
つの連続した作業ステップにおける運動要素の支台5が
次のように動かされる運動過程を示す。
a)全部で3つの運動要素1.2.3の同期及び一体的
伸長によって対象物が第1のステップaにおいて先ず検
出針7の作業位置からZ方向に持ち上げられる。
伸長によって対象物が第1のステップaにおいて先ず検
出針7の作業位置からZ方向に持ち上げられる。
b)第2のステップbにおいて、運動要素はZ方向に迅
速に下降し、その際X−Y平面内で旋回され、且つ再び
持ち上げられ、その結果運動軌跡としてほぼ半円が生じ
る。この第2のステップbはその経過においてZ方向に
おける支台5の下降速度は重力の作用下でのと同一方向
における対象物の運動よりも大きいように制御される。
速に下降し、その際X−Y平面内で旋回され、且つ再び
持ち上げられ、その結果運動軌跡としてほぼ半円が生じ
る。この第2のステップbはその経過においてZ方向に
おける支台5の下降速度は重力の作用下でのと同一方向
における対象物の運動よりも大きいように制御される。
運動要素の支台5はこの第2作業ステップでは点へにお
いて対象物から外され、対象物はその慣性に基づいてそ
の位置に保持され、かつ作業ステップの終わりに点Bで
支持される。
いて対象物から外され、対象物はその慣性に基づいてそ
の位置に保持され、かつ作業ステップの終わりに点Bで
支持される。
C)第3のステップとしてX−Y平面内の支台5の緩や
かな運動が行われ、その際対象物は3つの運動要素上に
休止して止まり、かつ点Aと点Bとの間の距離に相当す
る区間だけ運動要素の運動の方向に移送される。
かな運動が行われ、その際対象物は3つの運動要素上に
休止して止まり、かつ点Aと点Bとの間の距離に相当す
る区間だけ運動要素の運動の方向に移送される。
d)再び作業針7のための作業位置に達するために、第
4の作業ステップdとしてZ方向における対象物の下降
が必要とされる。作業ステップの終わりに、運動要素は
再びその出発位置にあり、 かつ対象物は点Aと点Bと
の間の区間だけ移動される。
4の作業ステップdとしてZ方向における対象物の下降
が必要とされる。作業ステップの終わりに、運動要素は
再びその出発位置にあり、 かつ対象物は点Aと点Bと
の間の区間だけ移動される。
作業ステップb及びCは対象物が走査型トンネル顕微鏡
による検査のために所望な作業個所に達するまで任意に
繰り返される。続いて作業ステップdが検出針7への対
象物の案内のために行われる。
による検査のために所望な作業個所に達するまで任意に
繰り返される。続いて作業ステップdが検出針7への対
象物の案内のために行われる。
運動要素の前記の方法とは異なる運動過程は第3b図に
記載されている。運動要素は従って唯2つの作業ステッ
プに於いてのみ制御される。
記載されている。運動要素は従って唯2つの作業ステッ
プに於いてのみ制御される。
a)第1ステツプとして対象物表面上の点へから点Bま
での支台5の迅速な運動が行われる。運動要素のこの運
動の際、対象物はその慣性に基づいて再び殆ど不変の位
置に止まる。
での支台5の迅速な運動が行われる。運動要素のこの運
動の際、対象物はその慣性に基づいて再び殆ど不変の位
置に止まる。
b)ステップbでは、運動要素はその出発位置に戻され
、その際対象物は運動要素の緩やかな運動の際に点へと
点Bとの間の区間だけ移送される。
、その際対象物は運動要素の緩やかな運動の際に点へと
点Bとの間の区間だけ移送される。
第3a及び第3ab図に示した運動経過の各々は個々に
、又は運動要素に印加される電圧パルス列の場合、連続
的に反復されるステップで続けて実施されることができ
る。運動要素の支台のステップ幅又はステップ周波数は
相応した電圧振幅及びパルス周波数との選択によって広
い範囲内で変えられる。圧電運動要素によって10nm
よりも小さいステップ幅のステップが実施される。
、又は運動要素に印加される電圧パルス列の場合、連続
的に反復されるステップで続けて実施されることができ
る。運動要素の支台のステップ幅又はステップ周波数は
相応した電圧振幅及びパルス周波数との選択によって広
い範囲内で変えられる。圧電運動要素によって10nm
よりも小さいステップ幅のステップが実施される。
運動要素によって実施可能な運動軌跡は第3a図と第3
b図により示された運動に限られない。運動要素の運動
は各使用状態に相応して適合される。
b図により示された運動に限られない。運動要素の運動
は各使用状態に相応して適合される。
例えば、前記の運動の他に支台の楕円運動又は支台の迅
速な位置変更によって対象物の持ち上げも可能である。
速な位置変更によって対象物の持ち上げも可能である。
運動過程の制御は対象物の慣性を考慮して行われる。
記載の運動装置によって対象物の支台平面に対して垂直
の軸線の回りの回転も可能である。対象物の回転は個々
の各運動要素のためのX方向及びY方向における電圧の
相応したベクトル和によって行われる。その上側々の運
動要素は区間を相違して伸縮される。この運動装置は並
進運動の他に対象物の回転及び傾倒をも可能にする。
の軸線の回りの回転も可能である。対象物の回転は個々
の各運動要素のためのX方向及びY方向における電圧の
相応したベクトル和によって行われる。その上側々の運
動要素は区間を相違して伸縮される。この運動装置は並
進運動の他に対象物の回転及び傾倒をも可能にする。
しかし、記載ような運動要素によって対象物は広い距離
に渡って高い精度で移送されることができる。相互に隣
接して配置された多数の運動要素25を備えた移送テー
ブル24を第4図が示す。運動要素は、運動されるべき
対象物が各位置において少なくとも3つの運動要素によ
って支持されており、かつ任意の方法で移送テーブル2
4上を移動することができる程度の間隔を有する。
に渡って高い精度で移送されることができる。相互に隣
接して配置された多数の運動要素25を備えた移送テー
ブル24を第4図が示す。運動要素は、運動されるべき
対象物が各位置において少なくとも3つの運動要素によ
って支持されており、かつ任意の方法で移送テーブル2
4上を移動することができる程度の間隔を有する。
第5図は第1図に示した走査型トンネル顕微鏡用の運動
装置の走査要素の斜視図である。走査要素は運動要素と
同様な方法で形成されている。走査要素は管9と同様な
半径方向に極性を有する圧電材料からなる管26を有し
かつその内方の円筒壁に内方電極として閉じた電導電性
の層27を備え、かつその外方の円筒壁上には導電性の
部分層28〜31を備えていおり、それらの間に軸線方
向において各1つの絶縁層32が通っている。運動要素
とは異なり、走査要素の場合支台5の代わりに検出針7
が使用される。
装置の走査要素の斜視図である。走査要素は運動要素と
同様な方法で形成されている。走査要素は管9と同様な
半径方向に極性を有する圧電材料からなる管26を有し
かつその内方の円筒壁に内方電極として閉じた電導電性
の層27を備え、かつその外方の円筒壁上には導電性の
部分層28〜31を備えていおり、それらの間に軸線方
向において各1つの絶縁層32が通っている。運動要素
とは異なり、走査要素の場合支台5の代わりに検出針7
が使用される。
第5図は走査要素4のための回路を示す。運転中検出針
7によって検出されるトンネル電流は検出針7に接続さ
れた導線33を介して案内されかつ増幅器34で増幅さ
れる。増幅器の出力電圧は走査要素の2方向の運動に利
用される。
7によって検出されるトンネル電流は検出針7に接続さ
れた導線33を介して案内されかつ増幅器34で増幅さ
れる。増幅器の出力電圧は走査要素の2方向の運動に利
用される。
X方向及びY方向への検出針の制御のために、2つのラ
ンプ発電機35.36が使用され、その電圧はZ方向の
調整電圧を与える増幅器の出力電圧に重られる。ランプ
発電機の極性は走査要素の外方の円筒壁上の部分層に繋
がる。実施例中ランプ発電機35は回路39.40を介
して走査要素の部分層28.30と接続しており、ラン
プ発電機36は回路39.40を介して走査要素の部分
層29.31に接続している。
ンプ発電機35.36が使用され、その電圧はZ方向の
調整電圧を与える増幅器の出力電圧に重られる。ランプ
発電機の極性は走査要素の外方の円筒壁上の部分層に繋
がる。実施例中ランプ発電機35は回路39.40を介
して走査要素の部分層28.30と接続しており、ラン
プ発電機36は回路39.40を介して走査要素の部分
層29.31に接続している。
内方の閉じた層27と内方電極は実施例中ではアース電
位を印加されている。この方法で内方電極は導線33の
遮蔽部として役立ち、導線は第6図による実施例では有
利な方法で中空円筒状に形成された走査要素4の内方に
案内されている。第6図は走査要素の内方を通る導線3
3の走査要素を通る縦断面を示す。走査型トンネル顕微
鏡のためのトンネル電流の局部的変化の表示は走査型ト
ンネル顕微鏡で通常公知の方法で行われる 対象物表面の温度は感熱部41を介して測定され、感熱
部は実施例中では運動要素のうち3で表された運動要素
に付設される(第6図)、実施例中感熱部としてサーモ
要素が示され、これは支台5中に挿入される。第6図中
には運動要素が示され、その中空室中に電位42が印加
される。電位42は運動要素2の支台5と、対象物が運
動要素との接触の際に走査型トンネル顕微鏡検査に必要
な電位に印加されるように接続されている。
位を印加されている。この方法で内方電極は導線33の
遮蔽部として役立ち、導線は第6図による実施例では有
利な方法で中空円筒状に形成された走査要素4の内方に
案内されている。第6図は走査要素の内方を通る導線3
3の走査要素を通る縦断面を示す。走査型トンネル顕微
鏡のためのトンネル電流の局部的変化の表示は走査型ト
ンネル顕微鏡で通常公知の方法で行われる 対象物表面の温度は感熱部41を介して測定され、感熱
部は実施例中では運動要素のうち3で表された運動要素
に付設される(第6図)、実施例中感熱部としてサーモ
要素が示され、これは支台5中に挿入される。第6図中
には運動要素が示され、その中空室中に電位42が印加
される。電位42は運動要素2の支台5と、対象物が運
動要素との接触の際に走査型トンネル顕微鏡検査に必要
な電位に印加されるように接続されている。
運動装置の他の実施形態が第7図に示されている。運動
装置は第2図に示すものと同様な唯一の運動要素50か
ら成る。同一構成要素には同一の参照符号がつけられて
いる。
装置は第2図に示すものと同様な唯一の運動要素50か
ら成る。同一構成要素には同一の参照符号がつけられて
いる。
しかし、単一の支台5の代わりに、運動要素はプローブ
キャリアを形成するために、ピエゾセラミック管9のリ
ムに周方向に配列された複数の支点又は球54を有する
。第7図中には最小数、即ち3つの支持球が示されてい
る。しかし、支台54の形態、及び数は特別の要請に従
って変えられることができる。
キャリアを形成するために、ピエゾセラミック管9のリ
ムに周方向に配列された複数の支点又は球54を有する
。第7図中には最小数、即ち3つの支持球が示されてい
る。しかし、支台54の形態、及び数は特別の要請に従
って変えられることができる。
第8図及び第9図は第2図及び第5図に示された運動要
素又は走査要素の可能な変形を示す。この実施形態にお
いて、唯3つの外方の電掘は前記の構成における4個よ
りも少ない。この変形は運動要素が唯3つの電極を使用
して全てのX、Y方向に曲げられることができるよう考
慮しである。
素又は走査要素の可能な変形を示す。この実施形態にお
いて、唯3つの外方の電掘は前記の構成における4個よ
りも少ない。この変形は運動要素が唯3つの電極を使用
して全てのX、Y方向に曲げられることができるよう考
慮しである。
実施例に記載された運動装置は走査型トンネル顕微鏡で
の対象物運動のためにのみ使用可能なのではない。運動
装置は勿論各種の精密な微小運動の場合の対象物操作の
ために、顕微鏡による検査のためにも、マイクロ技術に
おける対象物の処理のためにも使用されることができる
。。運動装置が例えば、マイクロリゾグラフで使用され
る場合、運動装置は検出針による代わりに処理に相応し
た要素を装備することができる。その他運動装置の構成
は原理的には不変に保持される。
の対象物運動のためにのみ使用可能なのではない。運動
装置は勿論各種の精密な微小運動の場合の対象物操作の
ために、顕微鏡による検査のためにも、マイクロ技術に
おける対象物の処理のためにも使用されることができる
。。運動装置が例えば、マイクロリゾグラフで使用され
る場合、運動装置は検出針による代わりに処理に相応し
た要素を装備することができる。その他運動装置の構成
は原理的には不変に保持される。
電子回路の製造のための最近の高集積技術において、従
来普通の方法(写真レジスタ法、レーザ、電子エツチン
グ、イオンエツチング)によってほぼ1000オングス
トロームの横分解能の限界に達する。尚最近のマイクロ
チップ製造に必要な小さい組織には不充分である。
来普通の方法(写真レジスタ法、レーザ、電子エツチン
グ、イオンエツチング)によってほぼ1000オングス
トロームの横分解能の限界に達する。尚最近のマイクロ
チップ製造に必要な小さい組織には不充分である。
記載の方法による運動装置はRTM方法による原子構造
の解析のみならず、オングストローム範囲の横分解能の
組織にも使用される状態にある。もっとも簡単な場合、
上記のような装置の構成は−既に前に述べたように一走
査型トンネル顕微鏡に類似して行われる。処理された対
象物は再び少なくとも3つの支持体要素上に支持される
。
の解析のみならず、オングストローム範囲の横分解能の
組織にも使用される状態にある。もっとも簡単な場合、
上記のような装置の構成は−既に前に述べたように一走
査型トンネル顕微鏡に類似して行われる。処理された対
象物は再び少なくとも3つの支持体要素上に支持される
。
1つ又は複数の運動要素上に走査型トンネル顕微鏡で使
用される検出針の代わりに好適な「加工工具」が組み込
まれている。この加工工具は例えば鋭利な先頭(例えば
、ダイヤモンドセンタ)から成ることができる、センタ
は運動装置の圧電作動では処理されるべき対象物表面に
渡って案内されることができかつその路程で孔及び構造
がこの表面上に形成される。運動要素は合理的な方法で
コンピュータ制御される。操作は高速かつ高精度で実施
される。記載の装置はマイクロ技術において任意の大き
さの対象物を大きな距離移送することができかつ複数の
運動要素が加工工具で同時に平行に使用されかつ運転さ
れることができるので、大きい面が同時にマイクロ組織
にされることができる。
用される検出針の代わりに好適な「加工工具」が組み込
まれている。この加工工具は例えば鋭利な先頭(例えば
、ダイヤモンドセンタ)から成ることができる、センタ
は運動装置の圧電作動では処理されるべき対象物表面に
渡って案内されることができかつその路程で孔及び構造
がこの表面上に形成される。運動要素は合理的な方法で
コンピュータ制御される。操作は高速かつ高精度で実施
される。記載の装置はマイクロ技術において任意の大き
さの対象物を大きな距離移送することができかつ複数の
運動要素が加工工具で同時に平行に使用されかつ運転さ
れることができるので、大きい面が同時にマイクロ組織
にされることができる。
運動要素に組付けられるたの加工工具としてフィールド
エミッション尖頭が好適である。これにより電子エミッ
ション又はイオンエミッション又は高い電界に基づいて
対象物の表面原子が局部的に活性化されることができる
。この工程は例えば、炭化水素の局部的クラックに適用
され、このことは処理された分子の化学的転位に繋がる
。
エミッション尖頭が好適である。これにより電子エミッ
ション又はイオンエミッション又は高い電界に基づいて
対象物の表面原子が局部的に活性化されることができる
。この工程は例えば、炭化水素の局部的クラックに適用
され、このことは処理された分子の化学的転位に繋がる
。
記載の運動装置の他の実施例は処理要素とともにマイク
ロバイオにおける使用である。有機的分子鎖、ビイール
ス、バクテリは分析のみならず、意図した点への極部的
電界印加によっても分子鎖の分離又は変形が行われる。
ロバイオにおける使用である。有機的分子鎖、ビイール
ス、バクテリは分析のみならず、意図した点への極部的
電界印加によっても分子鎖の分離又は変形が行われる。
分子範囲におけるこれらの意図した操作の可能性は遺伝
子工学の領域においても全く新しい可能性を提供する。
子工学の領域においても全く新しい可能性を提供する。
第1図は走査型トンネル顕微鏡における対象物支持体と
走査要素としての運動装置、第2図は運動要素の斜視図
、第2a図はその横断面図、第3a図は対象物から運動
要素が持ち上げられた、対象物操作における運動要素の
運動過程、第3b図は対象物表面上の運動要素の滑り運
動状態、第4図は大きい距離に渡る対象物の精密な微小
運動のための移送装置、第5図は走査要素の斜視図、第
5a図はその横断面図、そして第6図は感熱部及び電位
供給部を備えた要素及び走査要素の縦断面図、第7図は
最小数、即ち3つの支持球を備えた実施形態、第8図及
び第9図は第2図及び第5図に示された運動要素又は走
査要素の可能な変形を示す図である。 図中符号 1.2.3 ・・・運動要素 6 ・・・・・・・対象物
走査要素としての運動装置、第2図は運動要素の斜視図
、第2a図はその横断面図、第3a図は対象物から運動
要素が持ち上げられた、対象物操作における運動要素の
運動過程、第3b図は対象物表面上の運動要素の滑り運
動状態、第4図は大きい距離に渡る対象物の精密な微小
運動のための移送装置、第5図は走査要素の斜視図、第
5a図はその横断面図、そして第6図は感熱部及び電位
供給部を備えた要素及び走査要素の縦断面図、第7図は
最小数、即ち3つの支持球を備えた実施形態、第8図及
び第9図は第2図及び第5図に示された運動要素又は走
査要素の可能な変形を示す図である。 図中符号 1.2.3 ・・・運動要素 6 ・・・・・・・対象物
Claims (13)
- (1)対象物の微小運動、特に顕微鏡的に検査されるべ
き対象物の運動のための連動装置において、 対象物(6)は圧電材料から成る少なくとも1つの運動
要素(1、2、3)上に支承されており、運動要素は電
圧の印加によって変形可能であることを特徴とする対象
物の微小運動のための運動装置。 - (2)運動要素(1、2、3)の少なくとも一部が中空
円筒状に形成されており、かつその端面に対象物(6)
のための支台(5)を有する、特許請求の範囲第1項記
載の装置。 - (3)中空円筒状に形成された連動要素(1、2、3)
は円筒壁上に閉じた、導電性層(10)をそしてその他
の円筒壁上には相互に電気的に絶縁された複数の導電性
部分層(11〜14))を有する、特許請求の範囲第2
項記載の装置。 - (4)相互に絶縁された部分層(11〜14)が円筒壁
上で円筒軸線(16)方向に延びており、かつ部分層(
11〜14)の間にあって円筒軸線(16)に対して平
行に経過する絶縁部(15)によって相互に分離されて
いる、特許請求の範囲第3項記載の装置。 - (5)相互に分離された部分装置(11〜14)は外円
筒壁上に配置されている、特許請求の範囲第3項又は4
項記載の装置。 - (6)各層(10)又は部分層(11〜14)に所望の
対象物に相応して別の電気的運転電圧が印加されること
ができる、特許請求の範囲第1項から第5項までのうち
のいずれか1つに記載の装置。 - (7)運転のために必要な交流電圧に直流電圧が重ねら
れる、特許請求の範囲第1項から第6項までのうちのい
ずれか1つに記載の装置。 - (8)走査型トンネル顕微鏡(RTM)として使用され
る、特許請求の範囲第1項から第7項までのうちのいず
れか1つに記載の装置。 - (9)運動要素(1、2、3)は走査型トンネル顕微鏡
の検出針(7)又は検出針(7)を支持する走査要素(
4)と剛固に結合されている、特許請求の範囲第8項記
載の装置。 - (10)走査要素(4)が運動要素(1、2、3)と同
様な方法で形成されている、特許請求の範囲第8項又は
9項記載の装置。 - (11)走査運動が運動要素によって実施される、特許
請求の範囲第8項から第10項までのうちのいずれか1
つに記載の装置。 - (12)運動要素(3)の少なくとも1つが対象物(6
)の温度の測定のための感熱部(41)を備えている、
特許請求の範囲第8項から第11項までのうちのいずれ
か1つに記載の装置。 - (13)顕微鏡に使用される場合、検出針(7)及び走
査要素(4)の代わりに加工要素が使用される、特許請
求の範囲第8項から第12項までのうちのいずれか1つ
に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3610540.6 | 1986-03-27 | ||
DE19863610540 DE3610540A1 (de) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | Bewegungseinrichtung zur mikrobewegung von objekten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62264543A true JPS62264543A (ja) | 1987-11-17 |
JP2667166B2 JP2667166B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=6297479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62070519A Expired - Lifetime JP2667166B2 (ja) | 1986-03-27 | 1987-03-26 | 対象物の微小移動のための装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4785177A (ja) |
EP (1) | EP0239085B1 (ja) |
JP (1) | JP2667166B2 (ja) |
AT (1) | ATE91823T1 (ja) |
AU (1) | AU601405B2 (ja) |
CA (1) | CA1259710A (ja) |
DE (2) | DE3610540A1 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01223783A (ja) * | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Seiko Instr & Electron Ltd | 微動素子 |
JPH0266841A (ja) * | 1988-07-03 | 1990-03-06 | Kernforschungsanlage Juelich Gmbh | マイクロマニピュレータ |
JPH02151277A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-06-11 | Rockwell Internatl Corp | ピエゾ電気駆動装置及び方法 |
JPH0454877A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 移動テーブル及びその駆動方法 |
US5345137A (en) * | 1991-04-08 | 1994-09-06 | Olympus Optical Co., Ltd. | Two-dimensionally driving ultrasonic motor |
JPH0727982A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロXYθステージ |
JP2004257844A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 高精度微小移動装置 |
JP2008517251A (ja) * | 2004-10-09 | 2008-05-22 | フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 物体を分析または加工するためのナノマニピュレータ |
JP2009218389A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Psc Kk | 気体圧制御型微小傾斜装置 |
JP2017067570A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 学校法人金沢工業大学 | 試料保持・走査機構、走査型プローブ顕微鏡及び探針の製造方法 |
JP2018139174A (ja) * | 2017-02-24 | 2018-09-06 | 株式会社ホロン | サンプル傾斜自動補正装置およびサンプル傾斜自動補正方法 |
JP2021048145A (ja) * | 2020-12-28 | 2021-03-25 | 株式会社ホロン | サンプル傾斜自動補正装置およびサンプル傾斜自動補正方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0640829B1 (en) * | 1987-08-12 | 2004-11-17 | Olympus Optical Co., Ltd. | Scanning probe microscope |
US4841148A (en) * | 1988-03-21 | 1989-06-20 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Variable temperature scanning tunneling microscope |
GB8807385D0 (en) * | 1988-03-29 | 1988-05-05 | British Telecomm | Semiconductor device assembly |
JPH0758164B2 (ja) * | 1988-04-22 | 1995-06-21 | 三菱電機株式会社 | 走査型トンネル顕微鏡の微動機構 |
US5338997A (en) * | 1988-04-29 | 1994-08-16 | Fraunhofer Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Micromanipulator for moving objects |
JPH0792462B2 (ja) * | 1988-05-16 | 1995-10-09 | 三菱電機株式会社 | 走査型トンネル顕微鏡の微動機構 |
US5257024A (en) * | 1988-05-26 | 1993-10-26 | Quan-Scan, Inc. | Search position encoder |
US4944580A (en) * | 1988-07-27 | 1990-07-31 | Thermo Electron Technologies Corp. | Active segmented mirror including a plurality of piezoelectric drivers |
US5043621A (en) * | 1988-09-30 | 1991-08-27 | Rockwell International Corporation | Piezoelectric actuator |
US4884003A (en) * | 1988-12-28 | 1989-11-28 | Wyko Corporation | Compact micromotion translator |
US4935634A (en) * | 1989-03-13 | 1990-06-19 | The Regents Of The University Of California | Atomic force microscope with optional replaceable fluid cell |
JP2839543B2 (ja) * | 1989-04-12 | 1998-12-16 | 株式会社東芝 | 変位発生装置 |
US5323082A (en) * | 1989-05-03 | 1994-06-21 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Piezoelectric actuator for planar alignment |
DE3918249C1 (ja) * | 1989-06-05 | 1990-09-13 | Forschungszentrum Juelich Gmbh, 5170 Juelich, De | |
NL8902094A (nl) * | 1989-08-18 | 1991-03-18 | Philips Nv | Elektro-mechanische transducent en positioneringsinrichting voorzien van een dergelijke elektro-mechanische transducent. |
US5113117A (en) * | 1989-09-08 | 1992-05-12 | Massachusetts Institute Of Technology | Miniature electrical and mechanical structures useful for constructing miniature robots |
US4999494A (en) * | 1989-09-11 | 1991-03-12 | Digital Instruments, Inc. | System for scanning large sample areas with a scanning probe microscope |
US5081391A (en) * | 1989-09-13 | 1992-01-14 | Southwest Research Institute | Piezoelectric cylindrical transducer for producing or detecting asymmetrical vibrations |
GB8928952D0 (en) * | 1989-12-21 | 1990-02-28 | Queensgate Instr Ltd | Piezo-electric actuators |
US5103095A (en) * | 1990-05-23 | 1992-04-07 | Digital Instruments, Inc. | Scanning probe microscope employing adjustable tilt and unitary head |
US5198715A (en) * | 1990-05-23 | 1993-03-30 | Digital Instruments, Inc. | Scanner for scanning probe microscopes having reduced Z-axis non-linearity |
DE4023311A1 (de) * | 1990-07-21 | 1992-01-23 | Omicron Vakuumphysik | Verstellvorrichtung fuer mikrobewegungen |
DE4025618A1 (de) * | 1990-08-13 | 1992-02-20 | Siemens Ag | Piezoelektrisches roehrchen und verfahren zur herstellung desselben |
JP2744346B2 (ja) * | 1990-10-19 | 1998-04-28 | キヤノン株式会社 | 情報記録ユニットと情報記録及び/又は再生装置と情報記録及び/又は再生方法と情報記録媒体 |
US5341056A (en) * | 1991-01-18 | 1994-08-23 | The United States Of America As Represented The Secretary Of The Navy | Magnetostrictive motor system |
US5103094A (en) * | 1991-05-02 | 1992-04-07 | Wyko Corporation | Compact temperature-compensated tube-type scanning probe with large scan range |
US5173605A (en) * | 1991-05-02 | 1992-12-22 | Wyko Corporation | Compact temperature-compensated tube-type scanning probe with large scan range and independent x, y, and z control |
US5155361A (en) * | 1991-07-26 | 1992-10-13 | The Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Potentiostatic preparation of molecular adsorbates for scanning probe microscopy |
DE4133121A1 (de) * | 1991-10-05 | 1993-04-08 | Inst Festkoerperphysik Und Ele | Anordnung zur erzeugung einer feinfokussierten niederenergetischen ionensonde |
DE4133108A1 (de) * | 1991-10-05 | 1993-04-08 | Philips Patentverwaltung | Elektrischer rotations- oder linearmotor, dessen laeufer mittels ultraschallschwingungen angetrieben wird |
EP0746857A4 (en) * | 1992-03-13 | 2001-01-03 | Thermomicroscopes Corp | SCANNING PROBE MICROSCOPE |
US5448399A (en) * | 1992-03-13 | 1995-09-05 | Park Scientific Instruments | Optical system for scanning microscope |
EP0611485B1 (en) * | 1992-09-07 | 1996-04-03 | KLEINDIEK, Stephan | Electromechanical positioning device |
DE4232079B4 (de) * | 1992-09-25 | 2004-12-23 | Carl Zeiss | Linear feinverstellbarer Tisch für ein eine spielfreie Führung erforderndes Gerät |
US5438451A (en) * | 1992-09-25 | 1995-08-01 | Schweizer; Bruno | Linearly fine-adjustable stage |
JPH0741207B2 (ja) * | 1993-02-18 | 1995-05-10 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | マイクロアクチュエータ |
DE4315628C2 (de) * | 1993-05-04 | 1995-02-23 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Inkrementelles Positionier- und Meßsystem |
US5438206A (en) * | 1993-06-02 | 1995-08-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Positioning device |
JPH08115128A (ja) * | 1993-07-15 | 1996-05-07 | Agency Of Ind Science & Technol | パラレルリンク機構 |
US5440920A (en) * | 1994-02-03 | 1995-08-15 | Molecular Imaging Systems | Scanning force microscope with beam tracking lens |
US5866805A (en) * | 1994-05-19 | 1999-02-02 | Molecular Imaging Corporation Arizona Board Of Regents | Cantilevers for a magnetically driven atomic force microscope |
US5513518A (en) * | 1994-05-19 | 1996-05-07 | Molecular Imaging Corporation | Magnetic modulation of force sensor for AC detection in an atomic force microscope |
US5753814A (en) * | 1994-05-19 | 1998-05-19 | Molecular Imaging Corporation | Magnetically-oscillated probe microscope for operation in liquids |
US5515719A (en) * | 1994-05-19 | 1996-05-14 | Molecular Imaging Corporation | Controlled force microscope for operation in liquids |
US5629577A (en) * | 1994-07-15 | 1997-05-13 | Micro Medical Devices | Miniature linear motion actuator |
US5621210A (en) * | 1995-02-10 | 1997-04-15 | Molecular Imaging Corporation | Microscope for force and tunneling microscopy in liquids |
US5750989A (en) * | 1995-02-10 | 1998-05-12 | Molecular Imaging Corporation | Scanning probe microscope for use in fluids |
US5675154A (en) * | 1995-02-10 | 1997-10-07 | Molecular Imaging Corporation | Scanning probe microscope |
US5739624A (en) * | 1995-03-02 | 1998-04-14 | Lucent Technologies Inc. | Micropositioning devices, using single-crystal piezoelectric bodies, having at least two spatial degrees of freedom |
US5569918A (en) * | 1995-03-17 | 1996-10-29 | Rhk Technology, Inc. | Probe holder and probe mounting method for a scanning probe microscope |
IL113291A0 (en) * | 1995-04-06 | 1995-07-31 | Nanomotion Ltd | A multi-axis rotation device |
DE19524068A1 (de) * | 1995-07-01 | 1997-01-02 | Behr Gmbh & Co | Aktuatoranordnung und diese verwendende Vorrichtung |
US5654546A (en) * | 1995-11-07 | 1997-08-05 | Molecular Imaging Corporation | Variable temperature scanning probe microscope based on a peltier device |
US5821545A (en) * | 1995-11-07 | 1998-10-13 | Molecular Imaging Corporation | Heated stage for a scanning probe microscope |
DE19542452A1 (de) * | 1995-11-14 | 1996-08-08 | Wilhelm Koenig | Translations - Rotations - Modul mit Multi-Piezo-Antrieb |
US5705878A (en) * | 1995-11-29 | 1998-01-06 | Lewis; Aaron | Flat scanning stage for scanned probe microscopy |
FR2745664B1 (fr) * | 1996-02-29 | 1998-05-15 | Figest Bv | Moteur piezoelectrique a onde progressive |
US5726454A (en) * | 1996-05-03 | 1998-03-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Tripod for polishing a sample and for viewing the sample under a microscope |
US6313566B1 (en) * | 1997-07-08 | 2001-11-06 | John Cunningham | Piezoelectric motor |
US6072898A (en) | 1998-01-16 | 2000-06-06 | Beaty; Elwin M. | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
US6252333B1 (en) * | 1998-02-20 | 2001-06-26 | Seiko Instruments Inc. | Stage utilizing ultrasonic motor and electronic equipment and printer utilizing the stage |
JP3905254B2 (ja) * | 1998-06-22 | 2007-04-18 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡 |
DE19833905C2 (de) * | 1998-07-22 | 2002-05-08 | Hahn Meitner Inst Berlin Gmbh | Piezoelektrische Verstelleinrichtung für die Positonierung eines Probentisches |
DE19847995A1 (de) * | 1998-10-17 | 2000-04-20 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zum Positionieren eines Objektes |
US6085581A (en) * | 1998-11-18 | 2000-07-11 | Sandia Corporation | Method for accurately positioning a device at a desired area of interest |
DE19935570C2 (de) | 1999-07-30 | 2001-07-05 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Mikromanipulator |
DE10012751B4 (de) | 2000-03-16 | 2004-05-27 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verstellvorrichtung zum Verschieben einzelner Elemente von optischen Systemen oder von Meßsystemen |
US6545385B2 (en) * | 2000-04-11 | 2003-04-08 | Sandia Corporation | Microelectromechanical apparatus for elevating and tilting a platform |
DE10156870A1 (de) * | 2000-11-22 | 2002-07-11 | Univ Ilmenau Tech | Anordnung und Verfahren zur Erzeugung variabler Kennlinien von Antrieben |
US6936951B1 (en) | 2000-11-27 | 2005-08-30 | Grq Instruments, Inc. | Smart sonic bearings and method for frictional force reduction and switching |
EP1220596A1 (en) | 2000-12-29 | 2002-07-03 | Icos Vision Systems N.V. | A method and an apparatus for measuring positions of contact elements of an electronic component |
TW558629B (en) * | 2001-09-19 | 2003-10-21 | Siemens Ag | Device and method to plain-parallel alignment of an inspectable even object-surface to a focus-plain of an objective |
DE60229980D1 (de) * | 2001-12-07 | 2009-01-02 | Chip Man Technology Oy | Mikromanipulator mit piezoelektrischen biegevorrichtungen |
US7786452B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7557358B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7488952B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-02-10 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US9159527B2 (en) | 2003-10-16 | 2015-10-13 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Systems and methods for a gas field ionization source |
US7485873B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-02-03 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7557360B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7518122B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-04-14 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7495232B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-02-24 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7601953B2 (en) * | 2006-03-20 | 2009-10-13 | Alis Corporation | Systems and methods for a gas field ion microscope |
US7504639B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-03-17 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US8110814B2 (en) | 2003-10-16 | 2012-02-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7554097B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7557361B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7786451B2 (en) * | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7511279B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-03-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7557359B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7554096B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-06-30 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7521693B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-04-21 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7511280B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-03-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
WO2006066286A1 (de) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Upper Austrian Research Gmbh | Vorrichtung zur mikroskopischen untersuchung von proben |
US7876025B2 (en) * | 2005-09-26 | 2011-01-25 | Nanyang Technological University | Ultrasonic mechanical emulsifier |
WO2007067296A2 (en) | 2005-12-02 | 2007-06-14 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
WO2007109666A2 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Alis Corporation | Systems and methods for a helium ion pump |
US7355325B2 (en) * | 2006-06-15 | 2008-04-08 | Piezomotor Uppsala Ab | Wide frequency range electromechanical actuator |
US7804068B2 (en) * | 2006-11-15 | 2010-09-28 | Alis Corporation | Determining dopant information |
US7884326B2 (en) * | 2007-01-22 | 2011-02-08 | Fei Company | Manipulator for rotating and translating a sample holder |
EP2051280A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-22 | The Regents of the University of California | Motorized manipulator for positioning a TEM specimen |
TWI472471B (zh) * | 2011-06-03 | 2015-02-11 | Academia Sinica | 多軸致動裝置 |
CN103203729A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 三点支撑台 |
CN103206593A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 带有辅助支撑点的支撑台 |
CN103203728B (zh) * | 2012-01-11 | 2017-04-05 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 三点支撑台的调平方法 |
CN103206599A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 支撑台 |
CN103206602A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 支撑架 |
CN103206600A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 三点支撑架 |
US10712364B2 (en) * | 2015-11-03 | 2020-07-14 | Board Of Regents, The University Of Texas Systems | Metrology devices for rapid specimen setup |
CN107607038A (zh) * | 2017-09-22 | 2018-01-19 | 铜陵泽辉电子有限责任公司 | 一种电容器的金属化薄膜精度智能化检测*** |
CN107677893A (zh) * | 2017-09-22 | 2018-02-09 | 铜陵泽辉电子有限责任公司 | 一种薄膜电容器精度自动化检测*** |
US11372227B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-06-28 | Raytheon Company | Microsection sample stabilizer |
CN109773748B (zh) * | 2019-03-13 | 2021-07-02 | 南方科技大学 | 微型机器人 |
CN111230919B (zh) * | 2020-01-20 | 2021-03-12 | 哈尔滨工业大学 | 一种可操纵多种相异结构动子的四指压电机械手及其激励方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4343993A (en) * | 1979-09-20 | 1982-08-10 | International Business Machines Corporation | Scanning tunneling microscope |
JPS6052230A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-25 | Omron Tateisi Electronics Co | 微動ステ−ジ機構 |
JPS6069593A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-20 | オムロン株式会社 | 微動ステ−ジ機構 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3233749A (en) * | 1963-05-20 | 1966-02-08 | George C Devol | Micromanipulators |
JPS5315060A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-10 | Hitachi Ltd | Inching device |
US4087715A (en) * | 1976-11-18 | 1978-05-02 | Hughes Aircraft Company | Piezoelectric electromechanical micropositioner |
US4195243A (en) * | 1978-11-06 | 1980-03-25 | Sperry Corporation | Piezoelectric wafer mover |
DE3168777D1 (en) * | 1981-08-10 | 1985-03-21 | Ibm | Electric travelling support |
JPS58139681A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-19 | Toshiba Corp | 回転微動機構 |
JPH0614789B2 (ja) * | 1984-06-25 | 1994-02-23 | 株式会社東芝 | テーブル微動方法およびこの方法を用いた微動装置 |
-
1986
- 1986-03-27 DE DE19863610540 patent/DE3610540A1/de active Granted
-
1987
- 1987-03-13 US US07/025,336 patent/US4785177A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-25 DE DE8787104373T patent/DE3786573D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-25 AT AT87104373T patent/ATE91823T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-03-25 EP EP87104373A patent/EP0239085B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-26 JP JP62070519A patent/JP2667166B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-26 CA CA000533024A patent/CA1259710A/en not_active Expired
- 1987-03-27 AU AU70706/87A patent/AU601405B2/en not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4343993A (en) * | 1979-09-20 | 1982-08-10 | International Business Machines Corporation | Scanning tunneling microscope |
JPS6052230A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-25 | Omron Tateisi Electronics Co | 微動ステ−ジ機構 |
JPS6069593A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-20 | オムロン株式会社 | 微動ステ−ジ機構 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2598665B2 (ja) * | 1988-03-03 | 1997-04-09 | セイコー電子工業株式会社 | 微動素子 |
JPH01223783A (ja) * | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Seiko Instr & Electron Ltd | 微動素子 |
JPH0266841A (ja) * | 1988-07-03 | 1990-03-06 | Kernforschungsanlage Juelich Gmbh | マイクロマニピュレータ |
JPH02151277A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-06-11 | Rockwell Internatl Corp | ピエゾ電気駆動装置及び方法 |
JPH03143279A (ja) * | 1988-09-30 | 1991-06-18 | Rockwell Internatl Corp | ピエゾ電気アクチュエータ |
JPH0454877A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 移動テーブル及びその駆動方法 |
US5345137A (en) * | 1991-04-08 | 1994-09-06 | Olympus Optical Co., Ltd. | Two-dimensionally driving ultrasonic motor |
JPH0727982A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロXYθステージ |
JP2004257844A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 高精度微小移動装置 |
JP2008517251A (ja) * | 2004-10-09 | 2008-05-22 | フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 物体を分析または加工するためのナノマニピュレータ |
JP2009218389A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Psc Kk | 気体圧制御型微小傾斜装置 |
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