JPS62260352A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体装置に関し、特に、1つのパッケー
ジ内に多数の半導体チップを組立てるいわゆるマルチチ
ップパッケージングに適用され得る半導体装置に関する
ものである。
ジ内に多数の半導体チップを組立てるいわゆるマルチチ
ップパッケージングに適用され得る半導体装置に関する
ものである。
[従来の技術]
従来この種の半導体装置では、パッケージ内に半導体チ
ップ(以下LSIチップと称す)を平面実装していた。
ップ(以下LSIチップと称す)を平面実装していた。
第6図はこのような従来の半導体装置の斜視図であり、
第7図はその断面図である。
第7図はその断面図である。
図において、1は10mmX10mmの主面を持つ厚み
9.5mmのSiチップで、その主面にPN接合を形成
した4個のLSIチップである。この4個のLSIチッ
プ1によって、計算機システムの一部の機能を実現する
構成になっている。2は、4個のLSIチップ1を相互
に接続する配線をその主面に形成したSiからなる配線
基板であり、3はLSIチップ1と配線基板2とを電気
的、機械的に接続するP b / S n合金からなる
電極(以下バンブと称す)である。バンブ3は、LSI
チップ1の主面とこれに平行なSi配線基板2の主面と
の間の間隙に位置する。4は、セラミックからなる絶縁
基板であり、配線基板2を固定している。絶縁基板4に
は、配線基板2を電気的、機械的に保護するための蓋(
図示せず)も取付けられる。5は、Auからなるワイヤ
であり、配線基板2と絶縁基板4とを電気的に接続する
。6は、絶縁基板4に取付けられた外部ピンであり、半
導体装置の電気的機能を外部に取出すためのものである
。
9.5mmのSiチップで、その主面にPN接合を形成
した4個のLSIチップである。この4個のLSIチッ
プ1によって、計算機システムの一部の機能を実現する
構成になっている。2は、4個のLSIチップ1を相互
に接続する配線をその主面に形成したSiからなる配線
基板であり、3はLSIチップ1と配線基板2とを電気
的、機械的に接続するP b / S n合金からなる
電極(以下バンブと称す)である。バンブ3は、LSI
チップ1の主面とこれに平行なSi配線基板2の主面と
の間の間隙に位置する。4は、セラミックからなる絶縁
基板であり、配線基板2を固定している。絶縁基板4に
は、配線基板2を電気的、機械的に保護するための蓋(
図示せず)も取付けられる。5は、Auからなるワイヤ
であり、配線基板2と絶縁基板4とを電気的に接続する
。6は、絶縁基板4に取付けられた外部ピンであり、半
導体装置の電気的機能を外部に取出すためのものである
。
次に動作について説明する。
LSIチップ1の主面に形成されているPN接合による
機能は、その主面と同一平面上の任意の位置から取出さ
れ得る。相互接続配線を形成した配線基板2の主面とL
SIチップ1の主面とを平行に対向して配置するので、
その間隙に配置するバンブ3を介して、LSIチップ1
の機能と配線基板2の相互接続配線とを電気的に接続す
ることができる。この配線基板2は、ワイヤ5を介して
、絶縁基板4と電気的に接続されている。外部ピン6は
、この絶縁基板4に接続された機能を外部に取出すこと
のできる構造になっているので、結局、LSIチップ1
の複合された機能を外部ピン6によって外部に取出すこ
とができる。LSIチップ1、配線基板2、ワイヤ5は
、M(図示せず)によって保護されるので、通常の取扱
いでは、その機能が損傷を受けるということはなく、マ
ルチチップパッケージングされた半導体装置として動作
する。
機能は、その主面と同一平面上の任意の位置から取出さ
れ得る。相互接続配線を形成した配線基板2の主面とL
SIチップ1の主面とを平行に対向して配置するので、
その間隙に配置するバンブ3を介して、LSIチップ1
の機能と配線基板2の相互接続配線とを電気的に接続す
ることができる。この配線基板2は、ワイヤ5を介して
、絶縁基板4と電気的に接続されている。外部ピン6は
、この絶縁基板4に接続された機能を外部に取出すこと
のできる構造になっているので、結局、LSIチップ1
の複合された機能を外部ピン6によって外部に取出すこ
とができる。LSIチップ1、配線基板2、ワイヤ5は
、M(図示せず)によって保護されるので、通常の取扱
いでは、その機能が損傷を受けるということはなく、マ
ルチチップパッケージングされた半導体装置として動作
する。
[発明が解決しようとする問題点]
従来のマルチチップパッケージでは、LSIチップ1の
主面と配線基板2の主面とを平行に対向して配置してい
るので、配線基板2に搭載するLSIチップ1の数が制
限される。つまり、搭載できる最大LSIチップ数は、
配線基板2の主面の面積を1個のLSIチップ主面の面
積で除した値にほぼ等しくなる。したがって、機能規模
を大きくしようとしてLSIチップ数を増加しようとす
ると、配線基板2の面積を大きくしなければならず、半
導体装置の面積も増加し、結局大型の装置になってしま
うという欠点があった。
主面と配線基板2の主面とを平行に対向して配置してい
るので、配線基板2に搭載するLSIチップ1の数が制
限される。つまり、搭載できる最大LSIチップ数は、
配線基板2の主面の面積を1個のLSIチップ主面の面
積で除した値にほぼ等しくなる。したがって、機能規模
を大きくしようとしてLSIチップ数を増加しようとす
ると、配線基板2の面積を大きくしなければならず、半
導体装置の面積も増加し、結局大型の装置になってしま
うという欠点があった。
この発明は、上述のような従来の欠点を解消するために
なされたものであり、その目的は、機能規模を大きくす
るために搭載するLSIチップ数を増加したとしても、
配線基板の面積を大きくしなくてもよいような構造の半
導体装置を提供することである。
なされたものであり、その目的は、機能規模を大きくす
るために搭載するLSIチップ数を増加したとしても、
配線基板の面積を大きくしなくてもよいような構造の半
導体装置を提供することである。
[問題点を解決するための手段]
この発明に従った半導体装置は、複数個の半導体チップ
と、配線基板と、絶縁基板とを備えている。半導体チッ
プは、PN接合からなる能動機能をその四角形主面に形
成し、この機能を外部に取出すための外部電極をその四
角形主面の一辺の端に集中して配置している。配線基板
は、半導体チップの外部電極に対応する電極と、該電極
に接続され前記半導体チップの能動機能を互いに接続、
複合する配線と、複合した機能を外部に取出す外部電極
とをその主面に存している。絶縁基板は、配線基板の外
部電極に対応する電極と、該電極に接続され複合した機
能を外部に取出す外部電極とを有し、半導体チップおよ
び配線基板を電気的、機械的に保護している。
と、配線基板と、絶縁基板とを備えている。半導体チッ
プは、PN接合からなる能動機能をその四角形主面に形
成し、この機能を外部に取出すための外部電極をその四
角形主面の一辺の端に集中して配置している。配線基板
は、半導体チップの外部電極に対応する電極と、該電極
に接続され前記半導体チップの能動機能を互いに接続、
複合する配線と、複合した機能を外部に取出す外部電極
とをその主面に存している。絶縁基板は、配線基板の外
部電極に対応する電極と、該電極に接続され複合した機
能を外部に取出す外部電極とを有し、半導体チップおよ
び配線基板を電気的、機械的に保護している。
そして、半導体チップは、その主面が配線基板の主面と
交差する角度となるように配置されている。
交差する角度となるように配置されている。
[作用]
半導体チップを、その主面が配線基板の主面と交差する
角度となるように配置しているので、配線基板上に搭載
され得る半導体チップの数は、従来の平行対向配置の場
合と比べて、はるかに多くなる。たとえば、半導体チッ
プを、その主面が配線基板の主面と垂直となるように配
置すれば、配線基板に接触する半導体チップの面積は、
該チップの厚みと該チップの主面の一辺との積になる。
角度となるように配置しているので、配線基板上に搭載
され得る半導体チップの数は、従来の平行対向配置の場
合と比べて、はるかに多くなる。たとえば、半導体チッ
プを、その主面が配線基板の主面と垂直となるように配
置すれば、配線基板に接触する半導体チップの面積は、
該チップの厚みと該チップの主面の一辺との積になる。
チップの厚みは、一般に、主面の一辺に比べて極めて小
さいので、配線基板上に搭載されるLSIチップ数は、
従来の平行対向配置に比べて、はるかに多くなる。
さいので、配線基板上に搭載されるLSIチップ数は、
従来の平行対向配置に比べて、はるかに多くなる。
[実施例コ
第1図は、この発明の一実施例を示す斜視図であり、第
2図はその断面図である。図において、11は、半導体
チップ(LSIチップ)であり、10mmX10mmの
主面を持ち厚みが0. 5mmのSiからなるチップで
ある。この実施例では、LSIチップ11は、5個ある
。LSIチップ11の主面にはPN接合が形成されてお
り、その機能を外部に取出すための外部電極がその四角
形主面の一辺の端に集中して配置されている。12は、
5個のLSIチップ11を相互に接続する配線をその主
面に形成したたとえばSiからなる配線基板である。1
3は、LSIチップ11の一辺の端の電極と配線基板1
2とを電気的、機械的に接続する電極(バンブ)である
。14は、セラミックからなる絶縁基板であり、配線基
板12を固定し、それを電気的、機械的に保護する。1
5は、たとえばAuからなるワイヤであり、配線基板1
2と絶縁基板14とを電気的に接続する。16は、絶縁
基板14に取付けられた外部ビンであり、この半導体装
置の電気的機能を外部に取出すためのものである。
2図はその断面図である。図において、11は、半導体
チップ(LSIチップ)であり、10mmX10mmの
主面を持ち厚みが0. 5mmのSiからなるチップで
ある。この実施例では、LSIチップ11は、5個ある
。LSIチップ11の主面にはPN接合が形成されてお
り、その機能を外部に取出すための外部電極がその四角
形主面の一辺の端に集中して配置されている。12は、
5個のLSIチップ11を相互に接続する配線をその主
面に形成したたとえばSiからなる配線基板である。1
3は、LSIチップ11の一辺の端の電極と配線基板1
2とを電気的、機械的に接続する電極(バンブ)である
。14は、セラミックからなる絶縁基板であり、配線基
板12を固定し、それを電気的、機械的に保護する。1
5は、たとえばAuからなるワイヤであり、配線基板1
2と絶縁基板14とを電気的に接続する。16は、絶縁
基板14に取付けられた外部ビンであり、この半導体装
置の電気的機能を外部に取出すためのものである。
次に動作について説明する。
LSIチップ11の主面に形成されているPN接合によ
る機能は、その主面の一辺の端に集中して配置されてい
る外部電極とバンブ13を通じて、配線基板12の配線
に接続される。この配線は、5個のLSIチップ11の
機能を互いに・接続するように形成されているので、こ
の基板上で機能が複合され、1つのシステムを構成する
。配線基板12は、ワイヤ15を介して、絶縁基板14
に電気的に接続されている。外部ビン16は、絶縁基板
14に接続された機能を外部に取出せる構造になってい
るので、結局、LSIチップ11で構成されたシステム
が外部ビン16によって外部に取出され得る。LSIチ
ップ11、配線基板12、ワイヤ15は、それらを取り
囲む蓋(図示せず)によって保護されるので、通常の取
扱いでは、その機能が損傷を受けるということはなく、
マルチチップパッケージングされた半導体装置として動
作する。
る機能は、その主面の一辺の端に集中して配置されてい
る外部電極とバンブ13を通じて、配線基板12の配線
に接続される。この配線は、5個のLSIチップ11の
機能を互いに・接続するように形成されているので、こ
の基板上で機能が複合され、1つのシステムを構成する
。配線基板12は、ワイヤ15を介して、絶縁基板14
に電気的に接続されている。外部ビン16は、絶縁基板
14に接続された機能を外部に取出せる構造になってい
るので、結局、LSIチップ11で構成されたシステム
が外部ビン16によって外部に取出され得る。LSIチ
ップ11、配線基板12、ワイヤ15は、それらを取り
囲む蓋(図示せず)によって保護されるので、通常の取
扱いでは、その機能が損傷を受けるということはなく、
マルチチップパッケージングされた半導体装置として動
作する。
この実施例では、LSIチップ11は、その主面が配線
基板12の主面と直交する角度となるように配置されて
いる。配線基板12に接触するLSIチップ11の面積
は、該チップ11の厚みと該チップの主面の一辺との積
になる。チップの厚みは一般に主面の一辺に比べて極め
て小さいので、上述のような配置形態にすれば、配線基
板12上に搭載され得るLSIチップ数は、従来の平行
対向配置の場合に比べて、はるかに多くなる。
基板12の主面と直交する角度となるように配置されて
いる。配線基板12に接触するLSIチップ11の面積
は、該チップ11の厚みと該チップの主面の一辺との積
になる。チップの厚みは一般に主面の一辺に比べて極め
て小さいので、上述のような配置形態にすれば、配線基
板12上に搭載され得るLSIチップ数は、従来の平行
対向配置の場合に比べて、はるかに多くなる。
なお、LSIチップ11の配置形態としては、必ずしも
、その主面が配線基板12の主面と直交する角度となる
ようにする必要はない。たとえば、第3図に示すように
、LSIチップ11の主面と配線基板12の主面とが鋭
角、または鈍角に交差するようにしてもよい。要するに
、LSIチップ11は、その主面が配線基板12の主面
と交差する角度となるように配置されていればよい。
、その主面が配線基板12の主面と直交する角度となる
ようにする必要はない。たとえば、第3図に示すように
、LSIチップ11の主面と配線基板12の主面とが鋭
角、または鈍角に交差するようにしてもよい。要するに
、LSIチップ11は、その主面が配線基板12の主面
と交差する角度となるように配置されていればよい。
第4図は、この発明の他の実施例を概略的に示す断面図
である。この実施例では、絶縁基板14に、LSIチッ
プ11を保護するためのM17が取付けられている。蓋
17内には、Heガス、炭化フッ素液(フロリナート液
)等の流体18を充填するようにしてもよい。また、蓋
17の外部に放熱フィン(図示せず)等を取付けるよう
にしてもよい。
である。この実施例では、絶縁基板14に、LSIチッ
プ11を保護するためのM17が取付けられている。蓋
17内には、Heガス、炭化フッ素液(フロリナート液
)等の流体18を充填するようにしてもよい。また、蓋
17の外部に放熱フィン(図示せず)等を取付けるよう
にしてもよい。
第5図は、第4図に示した実施例をわずかに変形した実
施例の概略断面図である。この実施例では、蓋17に、
流体人口19および流体出口20が設けられている。こ
うして、蓋17内に充填された流体18は、流体出口1
9および流体出口20を通過して循環するようにされる
。
施例の概略断面図である。この実施例では、蓋17に、
流体人口19および流体出口20が設けられている。こ
うして、蓋17内に充填された流体18は、流体出口1
9および流体出口20を通過して循環するようにされる
。
以上の説明では、LSIチップ11としてSi結晶を用
いたが、Ges GaAsその他の半導体であってもよ
く、それらを組合わせたものであってもよい。また、配
線基板12の材料として、前述した実施例では、LIS
チップ11の材料と同一であったが、他の材料、たとえ
ばSi結晶と熱膨張係数がよく一致しているSiC,、
AQ、Nを用いて配線基板を構成してもよい。さらに、
前述した各実施例では、配線基板12は、絶縁基板14
と分離して構成されていたが、その配線を予め絶縁基板
14の中に作り込み、絶縁基板14と一体化しておいて
もよい。
いたが、Ges GaAsその他の半導体であってもよ
く、それらを組合わせたものであってもよい。また、配
線基板12の材料として、前述した実施例では、LIS
チップ11の材料と同一であったが、他の材料、たとえ
ばSi結晶と熱膨張係数がよく一致しているSiC,、
AQ、Nを用いて配線基板を構成してもよい。さらに、
前述した各実施例では、配線基板12は、絶縁基板14
と分離して構成されていたが、その配線を予め絶縁基板
14の中に作り込み、絶縁基板14と一体化しておいて
もよい。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、半導体チップを、そ
の主面が配線基板の主面と交差する角度となるように配
置しているので、同一配線基板面積でも、より多数の半
導体チップを搭載、装着することができる。その結果、
半導体装置の機能規模を容易に増大させることができる
。
の主面が配線基板の主面と交差する角度となるように配
置しているので、同一配線基板面積でも、より多数の半
導体チップを搭載、装着することができる。その結果、
半導体装置の機能規模を容易に増大させることができる
。
第1図は、この発明の一実施例を示す概略斜視図である
。第2図は、第1図に示した実施例の概略断面図である
。第3図は、この発明の他の実施例の概略断面図である
。第4図は、この発明のさらに他の実施例の概略断面図
である。第5図は、この発明のさらに他の実施例の概略
断面図である。 第6図は、従来の半導体装置の概略斜視図である。第7
図は、第6図に示した半導体装置の概略断面図である。 図において、11は半導体チップ、12は配線基板、1
4は絶縁基板を示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
。第2図は、第1図に示した実施例の概略断面図である
。第3図は、この発明の他の実施例の概略断面図である
。第4図は、この発明のさらに他の実施例の概略断面図
である。第5図は、この発明のさらに他の実施例の概略
断面図である。 第6図は、従来の半導体装置の概略斜視図である。第7
図は、第6図に示した半導体装置の概略断面図である。 図において、11は半導体チップ、12は配線基板、1
4は絶縁基板を示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 PN接合からなる能動機能をその四角形主面に形成し、
この機能を外部に取出すための外部電極をその四角形主
面の一辺の端に集中して配置した複数個の半導体チップ
、 前記半導体チップの外部電極に対応する電極と、該電極
に接続され前記半導体チップの能動機能を互いに接続、
複合する配線と、複合した機能を外部に取出す外部電極
とをその主面に有する配線基板、および 前記配線基板の外部電極に対応する電極と、該電極に接
続され複合した機能を外部に取出す外部電極とを有し、
前記半導体チップおよび前記配線基板を電気的、機械的
に保護する絶縁基板を備え、前記半導体チップは、その
主面が前記配線基板の主面と交差する角度となるように
配置されている、半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61105321A JPS62260352A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61105321A JPS62260352A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62260352A true JPS62260352A (ja) | 1987-11-12 |
Family
ID=14404447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61105321A Pending JPS62260352A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62260352A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5006925A (en) * | 1989-11-22 | 1991-04-09 | International Business Machines Corporation | Three dimensional microelectric packaging |
US5295045A (en) * | 1990-11-14 | 1994-03-15 | Hitachi, Ltd. | Plastic-molded-type semiconductor device and producing method therefor |
KR100265568B1 (ko) * | 1997-12-16 | 2000-09-15 | 김영환 | 멀티칩모듈 |
KR100290886B1 (ko) * | 1998-05-09 | 2001-07-12 | 김영환 | 초고집적회로반도체패키지및그제조방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55121670A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-18 | Ibm | Chip package for vertical semiconductor integrated circuit |
JPS6053035A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP61105321A patent/JPS62260352A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55121670A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-18 | Ibm | Chip package for vertical semiconductor integrated circuit |
JPS6053035A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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US5295045A (en) * | 1990-11-14 | 1994-03-15 | Hitachi, Ltd. | Plastic-molded-type semiconductor device and producing method therefor |
KR100265568B1 (ko) * | 1997-12-16 | 2000-09-15 | 김영환 | 멀티칩모듈 |
KR100290886B1 (ko) * | 1998-05-09 | 2001-07-12 | 김영환 | 초고집적회로반도체패키지및그제조방법 |
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