JPS62253657A - 安定化された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に耐光性の改善された高分子材料組成物、
詳しくは、２，２．６．６−チトラメチルビベリジル基
を有するジイミド化合物を含をさせてなる特に耐光性の
改善された高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及びその問題点〕

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合
成樹脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用
により劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起
こし、長期の使用に耐えないことが知られている。

そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止するために
、従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、
また安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって樹脂から抽出され易いものが多
く、さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持
っており、長期にわたって合成樹脂を安定化することが
できなかった。

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、近年特に注目
されている。

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化金物
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出されてしまうという欠点もあった。

また、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解或いはｆｉ！敵し、その効果を失う場合も多か
った。

例えば、特開昭５６−１３１５６７号公報には、２．２
．６．６−テトラメチル−４−フミノビベリジンのジカ
ルボン酸イミド化合物が記載されているが、該化合物の
効果は未だ満足し得るものではなかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、下記一般式（Ｉ）で表されるジイミド化合物が耐熱
性、耐抽出性及び光安定化能に著しく優れ、高分子材料
用の光安定剤として極めて有用であることを知見した。

（式中、Ｚは、脂肪族、芳香族又は脂環式の４価カルボ
ン酸の残基を示し、Ｒは、水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アシル基又はオキシルを示す、） 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料１００重量部に、上記一般式＜１）で表される化合物
ｏ、ｏｏｉ〜５重量部を添加してなる、安定化された高
分子材料組成物を提供するものである。

以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
において、Ｒで表されるアルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキ
シル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベン
ジル、フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒ
ドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、２．３−エ
ポキシプロビル等があげられ、アルケニル基としては、
アリル等があげられ、アシル基としては、例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイル、メタ
クリロイル、オクタノイル、ベンゾイル等があげられる
。

また、Ｚ−＋−ＣＯＯＨ）４　テ表される４価のカルボ
ン酸としては、Ｌ　　２．３．４−ブタンテトラカルボ
ン酸、チオビスコハク酸、１−メチル−３−（Ｉ°、２
°−ジカルボキシエチル）−１−シクロヘキセン−５，
６−ジカルボン酸、ピロメリット酸、３，３°、４，４
°−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３．３’、４，
４°　−ビフェニルテトラカルボン酸等があげられる。

本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
の代表例を次の表−１に示す。尚、表中、表　−ｌ 嵐１ 隘２ 隘３ ａ４ 嵐５ 隠６ 嵐９ 嵐１０ 本発明で用いられる前記一般式（りで表される化合物は
、例えば、２．２，６．６−テトラメチル−４−ピペリ
ジルアミンと、４価のカルボン酸ジ無水物或いは４価の
カルボン酸のエステルとを反応させた後、必要に応じて
、常法によりアルキル化、アシル化等することにより容
易に製造することができる。

以下に、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表され
る化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明は以下の合成例によって制限を受けるもの
ではない。

合成例１　（表−１の一１化合物の合成）１．２．３．
４−ブタンテトラカルボン酸テトラメチルエステル５．
８０　ｇ　（０，０２モル）及び２゜２．６．６−テト
ラメチル−４−ピペリジルアミン６．２４　ｇ　（０，
０４モル）をとり、窒素気流下、最高温度２１０℃で３
時間攪拌した。冷却後、トルエンを加え、水洗し、活性
炭で処理した。濾過後、脱溶媒して、融点２６６〜２６
９℃の白色結晶の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、１７００ｃ１１及
び１７７０ｃｍ−’にイミドカルボニルに基づく吸収が
あり、目的物であることを確認した。

合成例２（表−１の磁４化合物の合成）１−メチル−３
−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−１−シク
ロヘキセン−５，６−ジカルボン酸無水物２６．４ｇ（
０，１モル）、２．２゜６．６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルアミン３４．３ｇ（０，２２モル）及びジオキ
サン２００隋ｌをとり、還流下、１時間攪拌した。生成
した白色性♂を涛口「■　マ翻尤儒七硫騎ＱＩＧσ粘Ｆ
Ｋ　Ｌ　１１丁チルアミン２２．２　ｇと合わせ、８０
℃で８時間攪拌した６反応物を大量の冷水中に注ぎ、ジ
クロロエタンで抽出した。然る後、ジクロロエタン溶液
を脱溶媒して、融点６５〜７０℃の白色粉末の生成物を
得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、１７００ｃｍ−”
及び１７７０ｃｍ−’にイミドカルボニルに基づく吸収
があり、目的物であることを確認した。

合成例３（表−１の徹７化合物の合成）とロメリット酸
無水物１０．９　ｇ　（０，０５モル）をテトラヒドロ
フラン１００１に溶解させ、これに２．２，６．６−テ
トラメチル−４−ピペリジルアミン１５．６ｇ（０，１
モル）のテトラヒドロフラン溶液を室温で滴下した。生
成した白色結晶を濾別、乾燥後、アセトンに懸濁させ、
これに酢酸ニッケル四水和物０．２５ｇ、トリエチルア
ミン６゜１ｇ及び無水酢酸１２．８　ｇを加え、還流下
、７時間攪拌した０反応物を大量の冷水中に注ぎ、ジク
ロロエタンで抽出した。然る後、ジクロロエタン溶液を
脱溶媒して、融点１２７〜１２９℃の白色結晶の生成物
を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、１７００ｃｍ−’
　及び１７７０ｃｍ−’にイミドカルボニルに基づく吸
収があり、目的物であることを確認した。

本発明は、前記一般式＜１）で表される化合物を高分子
材料に添加して特にその耐光性を改善するものであり、
その添加量は、通常、高分子材料１００重量部に対し０
．００１〜５重量部、好ましくはｏ、ｏｉ〜３重量部で
ある。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニルー−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニルーエチＬ／ン共重合体、塩化ビニル−プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化
ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニルースチレンーー無水マレイ
ン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸
ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、
塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂
、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリ
アクリロニトリル、スチレン又はα−メチルスチレンと
他の単量体（例えば無水マレイン酸、ブタジェン、アク
リロニトリル等）との共重合体、ＡＢＳ樹脂（スチレン
成分の一部をα−メチルスチレンで置き換えた所謂耐熱
ＡＢＳ樹脂及びマレイミド類を共重合した所謂超耐熱Ａ
ＢＳ樹脂を含む）、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−ス
チレン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジェン−
スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレート等のメタ
クリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート等の直鎖ポリエ
ステル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂等をあげることができる。更に、イソプレンゴム
、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重
合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム等のゴム類や
これらの樹脂のブレンド品であってもよい、また、過酸
化物或いは放射線等によって架橋させた架橋ポリエチレ
ン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡させた発泡ポ
リスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、２
．６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−ジフ
ェニル−４−オクトキンフェノール、ステアリル−（３
，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリ
コレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステア
リル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキソヘンシ
ルホスホネート、２，４．６−トリス（３’　　、５’
　−−シーー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ
＞１．３，５．−トリアジン、ジステアリル（４−ヒド
ロキシ−３−メチル−５−第３ブチル）ベンジルマロネ
ート、２．２’　−メチレンビス（４−メチル−〇−第
３ブチルフェノール）、４．４°−メチレンビス（２，
６−ジー第３ブチルフエノール）、２．２°−メチレン
ビス（６−（Ｉ−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレ・／
−ル〕、ビス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第
３ブチルフエニル）ブチリックアシドコグリコールエス
テル、４，４“−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ
−クレゾール）、２，２゜−エチリデンビス（４，６−
ジー第３ブチルフエノール）、２，２°−エチリデンビ
ス（４−第２ブチル−６−第３ブチルフエノール）、１
．１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−
第３ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−
４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−
５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，
３．５−トリス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−
４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレート、１．３．
５−１−リス（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−２，４，６−１−リスチルベンゼン、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジー第３ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートコメタン、１
．３．５−トリス（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、１゜３．５−）リ
ス（（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチルコインシアヌレート、２
−オクチルチオ−４゜６−ジ（４−ヒドロキシ−３，５
−ジー第３ブチル）フェノキシ−１，３，５−）リアジ
ン、４゜４°−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾ
ール）等のフェノール類及び４，４°−ブチリデンビス
（２−第３ブチル−５−メチルフェノール）の炭酸オリ
ゴエステル（例えば重合度２，３，４゜５．６．７．８
．９．１０等）等の多価フェノール炭酸オリゴエステル
類があげられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオ
ネート）があげられる。

本発明の組成物に更にホスファイト等の含リン化合物を
添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改善
することができる。この含リン化合物としては、例えば
、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイ
ト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホ
スファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエニル
）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（
ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１゜３−
トリス（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ＋□〜１
．混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェ
ニルジホスファイト、テトラ　（トリデシル）−４，４
’−ブチリデンビス（３−メチル−６−筆３ブチルフェ
ノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー第３ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス
（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水素化
−４，４“−イソプロピリデンジフェノールポリホスフ
ァイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス〔４，４°−
ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）〕　・１．６−ヘキサンジオールジホスファイト、
フェニル・４，４°−イソプロピリデンジフェノール・
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−
ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス（２，６−ジー第３ブチル−４−メチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリ
ス〔４，４“−イソプロピリデンビス（２−第３ブチル
フエノール）〕ホスファイト、フェニル・ジイソデシル
ホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス（Ｉ，３−ジ−ステアロイ
ルオキシイソプロビル）ホスファイト、４．４°−イソ
プロピリデンビス（２−第３ブチルフェノール）・ジ（
ノニルフェニル）ホスファイト、９．１０−ジ−ハイド
ロ−９−オキサ−１０−フォスファフエナンスレンー１
０−オキサイド、テトラキス（２，４−ジー第３ブチル
フエニル’）−４，４°−ビフエニレンジホスホナイト
等があげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性を更に改善することができる。

この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２．２’−ジ−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２．４−’）ヒドロキシ
ベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２−
（２’−ヒドロキシ−３°−ｔ−ブチルー−５°−メチ
ルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（
２°−ヒドロキシ−３′　、５°−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３′５′−ジ−ｔ−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾー
ル類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−プチルフェニル
サリシレート、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘ
キサデシル−３，５−ジーも一ブチルー４−ヒドロキシ
ベンゾエート等のベンゾエート［，２，２゜−チオビス
（４−ｔ−オクチルフェノール）　Ｎｉ塩、［２，２’
−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノラート））−ｎ−
−ブチルアミンＮｉ、　　＜３．　５−ジー１−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエス
テルＮｉ塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メ
チル−β−−（Ｐ−メトキシフェニル）アクリル類メチ
ル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エチルフェ
ニル−Ｎ’　−２−エトキシ−５−第３ブチルフエニル
シユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフェニル−Ｎ’−２
−エトキシフェニルシェウ酸ジアミド等のシェラ酸ジア
ニリド類があげられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重合属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、存機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剖、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラフカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ 〈配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　　重量部ロビオネー
ト〕メタン ステアリン酸カルシウム　　　Ｏ，ＯＳ安定剤（表−２
参照）０．３ 上記配合にて厚さ０．３ｍｍのプレスシートを作成し、
このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験
を行った。また、８０℃の熱水に２４時間浸漬後のシー
トについても耐光性試験を行った。その結果を表−２に
示す。

表−２ 注〕表−２中、比較化合物Ａ及びＢは下記の通りである
（下記表−３〜表−７においても同じ）。

市１：比較化合物Ａ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
）セバケート 率２：比較化合物Ｂ Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ビヘリジル
）ドデシルコハク酸イミド 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間部合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成した（シリンダ一
温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５０℃、
回転数２０ｒｐｍ）＊押し出しを１０回繰り返し行った
後、このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作成
した（シリンダ一温度２４０℃、ノズル温度２５０℃、
射出圧４１５Ｋｇ／ｄ）。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回及び５回のものについても
同様に試験した。その結果を表−３に示す。

く配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂１００　　重量部ステ
アリン酸カルシウム　　　　　　０．２フエニルブロビ
オネート ジラウリルチオジプロピオネート　　０．２安定剤（表
−３参照）０．２ 表−３ 実施例３ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　重量部Ｃａ−ス
テアレート　　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３安定剤（表−
４参照）０．２ 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｍｍのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−４に示す。

表−４ 実施例４ く配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　ｉｏｏ重量部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　　４８エポキシ化大豆油　　
　　　　　　　２トリスノニルフエニルホスフアイト　
０．２Ｃａ−ステアレート１．０ Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定剤
（表−５参照）０．２ 上記配合物をロール上で混練し、厚さ１ｓｕｓのシート
を作成した。このシートを用いてウェザオフ−ター中で
の耐光性試験を行った。その結果を表−５に示す。

表−５ 実施例５ く配　合〉 Ｂａ−ステアレート０．７ Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　０．３２．６−
ジー第３ブチル−ｐ−クレゾールＯ９ｌ安定剤（表−６
参照）０．３ 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５ｍｍのシートを作成し
た。このシートを用いてフェードメーターにて５０時間
及び１００時間照射後の伸び残率を測定した。その結果
を表−６に示す。

表−６′ 実施例６ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
０本実施例においては金属顔料を含存するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ｎ　−ブチル
６６ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０ｇ、
メタクリル酸４ｇ１キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール
２０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビスイ
ソブチロニトリル２ｇ１ドデシルメルカプタン０．５ｇ
、キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからなる溶
液を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌し、
樹脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂温１１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０ＳＥ６０ｉ樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル溶液）５０重量部、
アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペース
ト１１２３Ｎ）５．５重量部、キシレン１０重量部、酢
酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０．２
重量部をとりベースコート塗料とした。

ｂ））ツブコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン１０重量部、キシレン１０重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部及び安定剤（表−７参照）
０．１２重量部（固形分に対し０．４％）をとり、トッ
プコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放放置後ッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間、を測定した。その結果を表−７に示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、次の一般式（ I ）で表さ
   れる化合物０．００１〜５重量部を添加してなる、安定
   化された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｚは、脂肪族、芳香族又は脂環式の４価カルボ
   ン酸の残基を示し、Ｒは、水素原子、アルキル基、アル
   ケニル基、アシル基又はオキシルを示す。）