JPS62241924A - ポリエン−ポリチオ−ル系硬化性組成物 - Google Patents
ポリエン−ポリチオ−ル系硬化性組成物Info
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリエン−ポリチオール系硬化性組成物に関
し、更に詳しくは、貯蔵安定性ならびに硬化物物性に優
れ、塗料、接着剤、放射線硬化型樹脂、注型品等の種々
の用途に有用な新規なポリエン−ポリチオール系硬化性
組成物に関するものである。
し、更に詳しくは、貯蔵安定性ならびに硬化物物性に優
れ、塗料、接着剤、放射線硬化型樹脂、注型品等の種々
の用途に有用な新規なポリエン−ポリチオール系硬化性
組成物に関するものである。
不飽和化合物とメルカプト化合物がラジカル付加反応す
ることは公知である。したがって、1分子中に少なくと
も2個の重合性不飽和基を有する化合物(以下ポリエン
と略記することがある。)と1分子中に少なくとも2個
のメルカプト基を有する化合物〈以下ポリチオールと略
記することがある。)との混合物に、重合開始剤を加え
て加熱または放射線照射すると、硬化して硬化物となる
ことはよく知られている。
ることは公知である。したがって、1分子中に少なくと
も2個の重合性不飽和基を有する化合物(以下ポリエン
と略記することがある。)と1分子中に少なくとも2個
のメルカプト基を有する化合物〈以下ポリチオールと略
記することがある。)との混合物に、重合開始剤を加え
て加熱または放射線照射すると、硬化して硬化物となる
ことはよく知られている。
しかしながら、ポリエンとポリチオールとの混、 合物
は、一般に不安定で、貯蔵中に徐々に増粘したりあるい
はゲル化するという欠点があった。特に、重合開始剤を
添加すれば一層不安定となるため、重合開始剤を添加し
た状態で貯蔵することは困難であった。
は、一般に不安定で、貯蔵中に徐々に増粘したりあるい
はゲル化するという欠点があった。特に、重合開始剤を
添加すれば一層不安定となるため、重合開始剤を添加し
た状態で貯蔵することは困難であった。
このような欠点を改善する方法として、重合防止剤を多
量に添加したり、あるいは特殊な重合防止剤を添加した
り、あるいは使用直前にポリエンとポリチオールとを混
合して短時間に使いきってしまうというような種々の試
みが行われているが、硬化性や硬化物物性を損なったり
して、いずれも不充分なものであった。
量に添加したり、あるいは特殊な重合防止剤を添加した
り、あるいは使用直前にポリエンとポリチオールとを混
合して短時間に使いきってしまうというような種々の試
みが行われているが、硬化性や硬化物物性を損なったり
して、いずれも不充分なものであった。
そのため、貯蔵安定性が良好でしかも硬化性や硬化物物
性の優れたポリエン−ポリチオール系硬化性組成物の開
発が望まれており、したがって、本発明の目的は、この
ような優れた物性を併せもつポリエンーボυチオール系
硬化性組成物を提供することにある。
性の優れたポリエン−ポリチオール系硬化性組成物の開
発が望まれており、したがって、本発明の目的は、この
ような優れた物性を併せもつポリエンーボυチオール系
硬化性組成物を提供することにある。
C問題点を解決するための手段および作用〕ケニル基を
含有する化合物および1分子中に少なくとも2個のメル
カプト基を含有する化合物からなる新規なポリエン−ポ
リチオール系硬化性組成物が、前記目的を達成すること
を見出して、本発明に到達したものである。このポリエ
ン−ポリチオール系硬化性組成物は、単独であるいは他
の重合性不飽和化合物と併用して、また必要に応じて重
合開始剤を添加したのち反応させることにより、塗料、
接着剤、放射線硬化型樹脂、レンズのような注型品、ハ
ードコート剤、インキ等に広い用途を有するものである
。
含有する化合物および1分子中に少なくとも2個のメル
カプト基を含有する化合物からなる新規なポリエン−ポ
リチオール系硬化性組成物が、前記目的を達成すること
を見出して、本発明に到達したものである。このポリエ
ン−ポリチオール系硬化性組成物は、単独であるいは他
の重合性不飽和化合物と併用して、また必要に応じて重
合開始剤を添加したのち反応させることにより、塗料、
接着剤、放射線硬化型樹脂、レンズのような注型品、ハ
ードコート剤、インキ等に広い用途を有するものである
。
本発明は、一般式
%式%
〔ただし式中、Rは水素原子またはメチル基であり、2
は炭素数2〜8の二価の有機基を表わし、(A)は下記
の一般式で示されるアルケニルグリシジルエーテル類の
開環基、(B)は下記の一般式で示されるアルケニルグ
リシジルエーテル類を除く環状化合物の開環基を表わし
、lは1〜20の整数、−はOまたは1〜20の整数を
表わし、しかも(A)、(B)で示されるアルケニルグ
リシジルエーテル類または環状化合物の開環基の配列は
任意である。〕 で表わされるアルケニル基含有(メタ)アクリレート(
I)および1分子中に少なくとも2fliのメルカプト
基を有する化合物(IF)を必須成分としで含有するポ
リエン−ポリチオール系硬化性組成物に関するものであ
る。
は炭素数2〜8の二価の有機基を表わし、(A)は下記
の一般式で示されるアルケニルグリシジルエーテル類の
開環基、(B)は下記の一般式で示されるアルケニルグ
リシジルエーテル類を除く環状化合物の開環基を表わし
、lは1〜20の整数、−はOまたは1〜20の整数を
表わし、しかも(A)、(B)で示されるアルケニルグ
リシジルエーテル類または環状化合物の開環基の配列は
任意である。〕 で表わされるアルケニル基含有(メタ)アクリレート(
I)および1分子中に少なくとも2fliのメルカプト
基を有する化合物(IF)を必須成分としで含有するポ
リエン−ポリチオール系硬化性組成物に関するものであ
る。
(記)
R1C’H”CH−CH20R”
(ただし式中、R1は水素原子または炭素数20以下の
(ハロ置換)炭化水素基であり、R2は炭素数20以下
のフルケニル基である。〕更に簡潔に説明すると、本発
明はポリエンとポリチオールを必須成分として含有する
ポリエン−ポリチオール系硬化性組成物において、ポリ
エンとして前記一般式で表わされる特定のアルケニル基
含有(メタ)アクリレート(I)を用いてなることを特
徴とする新規なポリエン−ポリチオール系硬化性組成物
に関するものである。
(ハロ置換)炭化水素基であり、R2は炭素数20以下
のフルケニル基である。〕更に簡潔に説明すると、本発
明はポリエンとポリチオールを必須成分として含有する
ポリエン−ポリチオール系硬化性組成物において、ポリ
エンとして前記一般式で表わされる特定のアルケニル基
含有(メタ)アクリレート(I)を用いてなることを特
徴とする新規なポリエン−ポリチオール系硬化性組成物
に関するものである。
本発明に用いる前記一般式で表わされるアルケニル基含
有(メタ)アクリレート(I)は、例えば、一般式 〔ただし式中、Rは水素原子またはメチル基、2は炭素
数2〜8の二価の有機基である。〕で表わされるヒドロ
キシ(メタ)アクリレート(イ)のヒドロキシル基に、
一般式 〔ただし式中、R1は水素原子または炭素数20以下の
(八日置換)炭化水素基であり、Rは炭素数20以下の
アルケニル基である。〕で示されるアルケニルグリシジ
ルエーテル類(ロ)および必要により前記一般式で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類(ロ)を除く環状
化合物(ハ)を付加反応させる方法により得られる。
有(メタ)アクリレート(I)は、例えば、一般式 〔ただし式中、Rは水素原子またはメチル基、2は炭素
数2〜8の二価の有機基である。〕で表わされるヒドロ
キシ(メタ)アクリレート(イ)のヒドロキシル基に、
一般式 〔ただし式中、R1は水素原子または炭素数20以下の
(八日置換)炭化水素基であり、Rは炭素数20以下の
アルケニル基である。〕で示されるアルケニルグリシジ
ルエーテル類(ロ)および必要により前記一般式で示さ
れるアルケニルグリシジルエーテル類(ロ)を除く環状
化合物(ハ)を付加反応させる方法により得られる。
ヒドロキシ(メタ)アクリレート(イ)の具体例として
は、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルア
クリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチ
レングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ヒドロキシシクロへキシルアク
リレート、ヒドロキシシクロへキシルメタクリレート等
が挙げられる。これらは単独でも、あるいは混合物とし
ても用いられる。
は、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルア
クリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチ
レングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ヒドロキシシクロへキシルアク
リレート、ヒドロキシシクロへキシルメタクリレート等
が挙げられる。これらは単独でも、あるいは混合物とし
ても用いられる。
ヒドロキシ(メタ)アクリレート(イ)へ付加反応させ
る化合物は、前記一般式で表わされるアルケニルグリシ
ジルエーテル(ロ)および要すればアルケニルグリシジ
ルエーテル類(ロ)を除く環状化合物(ハ)から選ばれ
る。
る化合物は、前記一般式で表わされるアルケニルグリシ
ジルエーテル(ロ)および要すればアルケニルグリシジ
ルエーテル類(ロ)を除く環状化合物(ハ)から選ばれ
る。
アルケニルグリシジルエーテル類(ロ)における(八日
置換)炭化水素基としては、例えば炭素数20以下のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、水添アリール基
、アラルキル基等の炭化水素基あるいはそれらの炭化水
素基の水素原子の少なくとも1個がハロゲン原子で置換
された八日置換炭化水素基が挙げられ、もちろんすべて
の水素原子がハロゲン原子で置換された基であってもよ
い。 アルケニルグリシジルエーテル類(ロ)の例とし
ては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテル、ブテニルグリシジルエーテル等が挙げられる。
置換)炭化水素基としては、例えば炭素数20以下のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、水添アリール基
、アラルキル基等の炭化水素基あるいはそれらの炭化水
素基の水素原子の少なくとも1個がハロゲン原子で置換
された八日置換炭化水素基が挙げられ、もちろんすべて
の水素原子がハロゲン原子で置換された基であってもよ
い。 アルケニルグリシジルエーテル類(ロ)の例とし
ては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテル、ブテニルグリシジルエーテル等が挙げられる。
アルケニルグリシジルエーテル類(ロ)を除く環状化合
物(ハ) (以下、これを環状化合物(ハ)と略記する
。)の例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、1.2−ブチレンオキシド、1.2−エポキシデ
カン、1.2−エポキシヘキサデカン等のようなアルキ
レンオキシド類:ブタジェンモノキシド、1.2−エポ
キシ−5−ヘキセン等のようなアルケニルオキシド類;
スチレンオキシド等のようなフェニルアルキレンオキシ
ド類:1゜5−シクロドデカジエン−9−10−エポキ
シド、1.2−エポキシシクロドデカン等のような水添
アリールアルキレンオキシド類:ε−カプロラクトン、
メチル−ε−カプロラクトン等のようなε−カプロラク
トン類;テトラヒドロフラン:メチルグリシジルエーテ
ル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエ
ーテル等のようなアルキルグリシジルエーテル類=7エ
ニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル
等のようなアリールグリシジルエーテル類;エピクロル
ヒドリン、エビブロモヒドリン等のようなエビハロヒド
リン類が挙げられる。
物(ハ) (以下、これを環状化合物(ハ)と略記する
。)の例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、1.2−ブチレンオキシド、1.2−エポキシデ
カン、1.2−エポキシヘキサデカン等のようなアルキ
レンオキシド類:ブタジェンモノキシド、1.2−エポ
キシ−5−ヘキセン等のようなアルケニルオキシド類;
スチレンオキシド等のようなフェニルアルキレンオキシ
ド類:1゜5−シクロドデカジエン−9−10−エポキ
シド、1.2−エポキシシクロドデカン等のような水添
アリールアルキレンオキシド類:ε−カプロラクトン、
メチル−ε−カプロラクトン等のようなε−カプロラク
トン類;テトラヒドロフラン:メチルグリシジルエーテ
ル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエ
ーテル等のようなアルキルグリシジルエーテル類=7エ
ニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル
等のようなアリールグリシジルエーテル類;エピクロル
ヒドリン、エビブロモヒドリン等のようなエビハロヒド
リン類が挙げられる。
本発明に用いる1分子中に少なくとも2個のメルカプト
基を有する化合物(II)としては、カルボキシル基を
有するメルカプト化合物と多価アルコールとのエステル
類、例えばトリメチロールエタントリチオグリコレート
、トリメチロールエタントリチオプロピオネート、トリ
メチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロ
ールプロバントリチオプロピオネート、ペンタエリスリ
トールテトラチオグリコレート、ペンタエリスリトール
テトラチオプロビオネート、エチレングリコ−ルジチオ
グリコレート、エチレングリコールジチオプロビオネー
ト、ポリエチレングリコールジチオグリコレート、ポリ
エチレングリコールジチオプロピオネート、ジペンタエ
リスリトールへキサチオグリコレート、ジペンタエリス
リトールへキサチオプロピオネート:脂肪族ポリチオー
ル類、例えばジメルカプトジエチルエーテル プトプロパン、ジメルカプトヘキサン:芳香族ポリチオ
ール類、例えばキシリレンジチオール;ポリエポキシ化
合物と硫化水素との反応生成物;ポリエポキシ化合物と
チオグリコール酸との反応で得られる反応生成物;不飽
和シクロアセタール基を2個以上有する化合物と硫化水
素との反応で得られる反応生成物;チオアルコールと多
価カルボン酸とのエステル;多価チオフェノールまたは
多価チオビスフェノールなどが例示される。これらは単
独でも混合物としても使用できる。
基を有する化合物(II)としては、カルボキシル基を
有するメルカプト化合物と多価アルコールとのエステル
類、例えばトリメチロールエタントリチオグリコレート
、トリメチロールエタントリチオプロピオネート、トリ
メチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロ
ールプロバントリチオプロピオネート、ペンタエリスリ
トールテトラチオグリコレート、ペンタエリスリトール
テトラチオプロビオネート、エチレングリコ−ルジチオ
グリコレート、エチレングリコールジチオプロビオネー
ト、ポリエチレングリコールジチオグリコレート、ポリ
エチレングリコールジチオプロピオネート、ジペンタエ
リスリトールへキサチオグリコレート、ジペンタエリス
リトールへキサチオプロピオネート:脂肪族ポリチオー
ル類、例えばジメルカプトジエチルエーテル プトプロパン、ジメルカプトヘキサン:芳香族ポリチオ
ール類、例えばキシリレンジチオール;ポリエポキシ化
合物と硫化水素との反応生成物;ポリエポキシ化合物と
チオグリコール酸との反応で得られる反応生成物;不飽
和シクロアセタール基を2個以上有する化合物と硫化水
素との反応で得られる反応生成物;チオアルコールと多
価カルボン酸とのエステル;多価チオフェノールまたは
多価チオビスフェノールなどが例示される。これらは単
独でも混合物としても使用できる。
本発明のポリエン−ポリチオール系硬化性組成物は、前
記一般式で表わされるアルケニル基含有(メタ)アクリ
レート(I)および1分子中に少なくとも2個のメルカ
プト基を有する化合物(U)を必須成分として含有する
ものであるが、必要によりアルケニル基含有(メタ)ア
クリレート(I)以外の重合性不飽和基を有する化合物
(]I[)を併用して、本発明のポリエン−ポリチオー
ル系硬化性組成物とすることもできる。
記一般式で表わされるアルケニル基含有(メタ)アクリ
レート(I)および1分子中に少なくとも2個のメルカ
プト基を有する化合物(U)を必須成分として含有する
ものであるが、必要によりアルケニル基含有(メタ)ア
クリレート(I)以外の重合性不飽和基を有する化合物
(]I[)を併用して、本発明のポリエン−ポリチオー
ル系硬化性組成物とすることもできる。
本発明に必要により用いられる重合性不飽和基を有する
化合物<m> としては、例えばスチレン、α−メチル
スチレン、アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド
、ジアセトンアクリルアミド、N−メチル(メタ)アク
リルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、
N−ビニルピロリドン、ジアリルフタレート、アリルグ
リシジルエーテル、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ
)アクリレートのようなアルキル(メタ)アクリレート
、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、メト
キシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(
メタ)アクリレート、ジブロモプロピル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、プロビレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ジブロビレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アク
リレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(
メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールAジ(メタ
)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シリコー
ン(メタ)アクリレート、アミド(メタ)アクリレート
、リン酸(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸と
グリコール類と多塩基酸との反応で得られるポリエステ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸とエポキ
シ化合物との反応で得られるエポキシ(メタ)アクリレ
ート、イソシアネート基含有化合物とヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートとの反応で得られるウレタン(
メタ)アクリレート、カルボン酸無水物とヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートとの反応で得られるカルボ
キシル基含有(メタ)アクリレート等を挙げることがで
き、これらは単独でも混合物としても使用できる。更に
必要に応じて各種のポリマー(例えば不飽和ポリエステ
ル系、エポキシ系、ポリアミド系、アクリル系、ポリビ
ニルアルコール系等の樹脂)、有機溶剤、充填剤、粘着
性付与剤、安定剤、可塑剤、レベリング剤、染料、顔料
、重合防止剤等を併用することもできる。
化合物<m> としては、例えばスチレン、α−メチル
スチレン、アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド
、ジアセトンアクリルアミド、N−メチル(メタ)アク
リルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、
N−ビニルピロリドン、ジアリルフタレート、アリルグ
リシジルエーテル、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ
)アクリレートのようなアルキル(メタ)アクリレート
、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、メト
キシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(
メタ)アクリレート、ジブロモプロピル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、プロビレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ジブロビレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アク
リレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(
メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールAジ(メタ
)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シリコー
ン(メタ)アクリレート、アミド(メタ)アクリレート
、リン酸(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸と
グリコール類と多塩基酸との反応で得られるポリエステ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸とエポキ
シ化合物との反応で得られるエポキシ(メタ)アクリレ
ート、イソシアネート基含有化合物とヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートとの反応で得られるウレタン(
メタ)アクリレート、カルボン酸無水物とヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートとの反応で得られるカルボ
キシル基含有(メタ)アクリレート等を挙げることがで
き、これらは単独でも混合物としても使用できる。更に
必要に応じて各種のポリマー(例えば不飽和ポリエステ
ル系、エポキシ系、ポリアミド系、アクリル系、ポリビ
ニルアルコール系等の樹脂)、有機溶剤、充填剤、粘着
性付与剤、安定剤、可塑剤、レベリング剤、染料、顔料
、重合防止剤等を併用することもできる。
アルケニル基含有(メタ)アクリレート(I)と1分子
中に少なくとも2個のメルカプト基を有する化合物(U
)との混合は、室温または加熱状態で撹拌、混線等の操
作により行えばよい。アルケニル基含有(メタ)アクリ
レート(1)中の重合性不飽和基と化合物(If)中の
メルカプト基との混合比は、特に制限なく、普通当量比
でに0゜1〜1:3、好ましくは1:0.5〜1:2の
範囲である。
中に少なくとも2個のメルカプト基を有する化合物(U
)との混合は、室温または加熱状態で撹拌、混線等の操
作により行えばよい。アルケニル基含有(メタ)アクリ
レート(1)中の重合性不飽和基と化合物(If)中の
メルカプト基との混合比は、特に制限なく、普通当量比
でに0゜1〜1:3、好ましくは1:0.5〜1:2の
範囲である。
本発明の組成物は、一般には注型するかあるいは基材に
塗布するかした後に硬化させる。本発明の組成物を硬化
するには、該組成物を加熱または紫外線や電子線のよう
な放射線で照射すればよく、特にラジカル重合開始剤や
光重合開始剤を添加しなくても硬化させることができる
。しかしながら、必要に応じてラジカル重合開始剤や光
重合開始剤を使用することもできる。
塗布するかした後に硬化させる。本発明の組成物を硬化
するには、該組成物を加熱または紫外線や電子線のよう
な放射線で照射すればよく、特にラジカル重合開始剤や
光重合開始剤を添加しなくても硬化させることができる
。しかしながら、必要に応じてラジカル重合開始剤や光
重合開始剤を使用することもできる。
ラジカル重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオ
キシド、メチルエチルケトンパーオキシド、ラウロイル
パーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、t−ブ
チルハイドロパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
ド、ジ−t−アミルパーオキシド、ジクミルパーオキシ
ド、t−ブチルパーベンゾエート、アゾビスイソブチロ
ニトリル等を用いることができ、必要に応じてラジカル
重合促進剤、例えばオクテン酸コバルト、ナフテン酸コ
バルト、オクテン酸鉄、オクテン酸マンガン、オクテン
酸バナジウム等の有機金属塩、N、N−ジメチルアニリ
ン等の有機アミン類などを併用することができる。
キシド、メチルエチルケトンパーオキシド、ラウロイル
パーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、t−ブ
チルハイドロパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
ド、ジ−t−アミルパーオキシド、ジクミルパーオキシ
ド、t−ブチルパーベンゾエート、アゾビスイソブチロ
ニトリル等を用いることができ、必要に応じてラジカル
重合促進剤、例えばオクテン酸コバルト、ナフテン酸コ
バルト、オクテン酸鉄、オクテン酸マンガン、オクテン
酸バナジウム等の有機金属塩、N、N−ジメチルアニリ
ン等の有機アミン類などを併用することができる。
光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル
のようなベンゾインアルキルエーテル類:ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、メチル−〇−ベンゾイルベンゾエ
ートのようなベンゾフェノン類;アセトフェノン、トリ
クロロアセトフェノン、2.2−ジェトキシアセトフェ
ノン、p−1−ブチルトリクロロアセトフェノン、2.
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−ジ
メチルアミノアセトフェノンのようなアセトフェノン類
:キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントンのようなチオキ
サントンW4=ベンジル、2−エチルアントラキノン、
メチル−ベンゾイルフォーメート、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒド
ロキシ−4′−イソプロピル−2−メチルプロピオフェ
ノン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
テトラメチルチウラムモノサルファイド、アリルジアゾ
ニウム塩を用いることができ、必要に応じて増感剤、例
えばアミン化合物、イオウ化合物、リン化合物などを併
用することができる。これらは単独でも、あるいは混合
しても使用される。
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル
のようなベンゾインアルキルエーテル類:ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、メチル−〇−ベンゾイルベンゾエ
ートのようなベンゾフェノン類;アセトフェノン、トリ
クロロアセトフェノン、2.2−ジェトキシアセトフェ
ノン、p−1−ブチルトリクロロアセトフェノン、2.
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−ジ
メチルアミノアセトフェノンのようなアセトフェノン類
:キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントンのようなチオキ
サントンW4=ベンジル、2−エチルアントラキノン、
メチル−ベンゾイルフォーメート、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒド
ロキシ−4′−イソプロピル−2−メチルプロピオフェ
ノン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
テトラメチルチウラムモノサルファイド、アリルジアゾ
ニウム塩を用いることができ、必要に応じて増感剤、例
えばアミン化合物、イオウ化合物、リン化合物などを併
用することができる。これらは単独でも、あるいは混合
しても使用される。
更に放射線硬化と加熱硬化とを併用することもできる。
本発明のポリエン−ポリチオール系硬化性組成物は、貯
蔵安定性が良好で、しかも硬化性や基材への密着性にす
ぐれ、かつ硬化して得られる硬化物の硬度等の硬化物物
性にもすぐれており、塗料、接着剤、放射線硬化型樹脂
、注型品、ハードコート剤、インキ等の広い用途に利用
できるものである。
蔵安定性が良好で、しかも硬化性や基材への密着性にす
ぐれ、かつ硬化して得られる硬化物の硬度等の硬化物物
性にもすぐれており、塗料、接着剤、放射線硬化型樹脂
、注型品、ハードコート剤、インキ等の広い用途に利用
できるものである。
次に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
の例によって限定されるものではない。
の例によって限定されるものではない。
なお、例中の部は重量部である。
参考例 1
温度計、撹拌機、滴下ロート、ガス導入管およびマノメ
ーターを備えた反応容器に、2−ヒドロキシエチルアク
リレート139部(1,2モル)、重合防止剤としてハ
イドロキノン0.3部、触媒としてタングスト9281
2.7部を仕込み、酸素濃度3%のチッ素・酸素混合ガ
スを吹込みながら撹拌下にアリルグリシジルエーテル4
10部(3,6モル)を4時間を要して滴下した。なお
、アリルグリシジルエーテルの滴下中、反応容器を冷却
し内温を30〜40℃に保った。滴下終了後、更に1時
間撹拌下で40℃に保って熟成し、反応を完了した。反
応終了後、吸着剤である粉末ケイ酸マグネシウム11部
を添加し、40℃で30分間撹拌したのち加圧濾過して
精製を行い、無色透明液体の反応生成物(以下アルケニ
ル基含有アクリレート(1)と呼ぶ。)539部(収率
98.1%)を得た。分析の結果、反応生成物は下記構
造のアルケニル基含有アクリレートであった。
ーターを備えた反応容器に、2−ヒドロキシエチルアク
リレート139部(1,2モル)、重合防止剤としてハ
イドロキノン0.3部、触媒としてタングスト9281
2.7部を仕込み、酸素濃度3%のチッ素・酸素混合ガ
スを吹込みながら撹拌下にアリルグリシジルエーテル4
10部(3,6モル)を4時間を要して滴下した。なお
、アリルグリシジルエーテルの滴下中、反応容器を冷却
し内温を30〜40℃に保った。滴下終了後、更に1時
間撹拌下で40℃に保って熟成し、反応を完了した。反
応終了後、吸着剤である粉末ケイ酸マグネシウム11部
を添加し、40℃で30分間撹拌したのち加圧濾過して
精製を行い、無色透明液体の反応生成物(以下アルケニ
ル基含有アクリレート(1)と呼ぶ。)539部(収率
98.1%)を得た。分析の結果、反応生成物は下記構
造のアルケニル基含有アクリレートであった。
CH2−CHCOOCH2CH20+CH2CHO←H
CH2 C82CH−CH2 参考例 2 参考例1と同様の反応容器に、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート195部(1,5モル)、重合防止剤とし
てハイドロキノンモノメチルエーテル0.21部、触媒
としてタングストケイ酸2.83部を仕込み、50℃に
てアリルグリシジルエーテル513部(4,5モル)を
3時間を要して滴下したのち、更に50℃にて1時間保
持して反応を完了した。つぎに吸着剤である粉末塩基性
マグネシウム・アルミニウム・ハイドロキシ・カーボネ
ート・ハイドレート21部を添加し、60℃で30分間
撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明液体の
反応生成物(以下アルケニル基含有メタクリレート(2
)と呼ぶ。)694部(収率98゜0%)を得た。分析
の結果、反応生成物は下記構造のアルケニル基含有メタ
クリレートであった。
CH2 C82CH−CH2 参考例 2 参考例1と同様の反応容器に、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート195部(1,5モル)、重合防止剤とし
てハイドロキノンモノメチルエーテル0.21部、触媒
としてタングストケイ酸2.83部を仕込み、50℃に
てアリルグリシジルエーテル513部(4,5モル)を
3時間を要して滴下したのち、更に50℃にて1時間保
持して反応を完了した。つぎに吸着剤である粉末塩基性
マグネシウム・アルミニウム・ハイドロキシ・カーボネ
ート・ハイドレート21部を添加し、60℃で30分間
撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明液体の
反応生成物(以下アルケニル基含有メタクリレート(2
)と呼ぶ。)694部(収率98゜0%)を得た。分析
の結果、反応生成物は下記構造のアルケニル基含有メタ
クリレートであった。
CH3
■
CH2
CH
I
CH2
参考例 3
参考例1と同様の反応容器に、2−ヒドロキシエチルア
クリレート174部(1,5モル)、重合防止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.26部、触媒と
してタングストリン酸2.6部を仕込み、内温を30〜
40℃に保ちながら、アリルグリシジルエーテル171
部(1,5モル)を1時間で滴下した。滴下終了後、更
に1.5時間、40℃に保って熟成した。つぎにプロピ
レンオキシド174部(3,0モル)を30〜40℃で
2.5時間を要して滴下したのち、更に2時間、40℃
に保って熟成し、反応を完了した。粉末ケイ酸マグネシ
ウム11部を添加したのち加圧濾過して精製し、無色透
明液体の反応生成物(以下アルケニル基含有アクリレー
ト(3)と呼ぶ。)511部(収率98.5%)を得た
。分析の結果、反応生成物は下記構造のアルケニル基含
有アクリレートであった。
クリレート174部(1,5モル)、重合防止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.26部、触媒と
してタングストリン酸2.6部を仕込み、内温を30〜
40℃に保ちながら、アリルグリシジルエーテル171
部(1,5モル)を1時間で滴下した。滴下終了後、更
に1.5時間、40℃に保って熟成した。つぎにプロピ
レンオキシド174部(3,0モル)を30〜40℃で
2.5時間を要して滴下したのち、更に2時間、40℃
に保って熟成し、反応を完了した。粉末ケイ酸マグネシ
ウム11部を添加したのち加圧濾過して精製し、無色透
明液体の反応生成物(以下アルケニル基含有アクリレー
ト(3)と呼ぶ。)511部(収率98.5%)を得た
。分析の結果、反応生成物は下記構造のアルケニル基含
有アクリレートであった。
CH2
CH
CH2
参考例 4
参考例1と同様の反応容器に、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート156部(1,2モル)、ハイドロキノン
0.3部、タングストリン酸3.1部を仕込み、30〜
40℃にてn−ブチルグリシジルエーテル468部(3
,6モル)を4時間を要して滴下したのち、更に40℃
にて1時間保持して反応を完了した。つぎに吸着剤であ
る粉末ケイ酸マグネシウム18部を添加し、40℃で3
0分間撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明
液体の反応生成物(以下比較用メタクリレート(1)と
呼ぶ。)610部(収率97.8%)を得た。分析の結
果、反応生成物は下記構造のメタクリレートであった。
タクリレート156部(1,2モル)、ハイドロキノン
0.3部、タングストリン酸3.1部を仕込み、30〜
40℃にてn−ブチルグリシジルエーテル468部(3
,6モル)を4時間を要して滴下したのち、更に40℃
にて1時間保持して反応を完了した。つぎに吸着剤であ
る粉末ケイ酸マグネシウム18部を添加し、40℃で3
0分間撹拌したのち加圧濾過して精製を行い、無色透明
液体の反応生成物(以下比較用メタクリレート(1)と
呼ぶ。)610部(収率97.8%)を得た。分析の結
果、反応生成物は下記構造のメタクリレートであった。
H3
「
■
4H9
実施例 1
参考例1で得たアルケニル基含有アクリレート(1)5
6部にペンタエリスリトールテトラ(3−メルカブトブ
ロピオネート)44部を加え、粘度(25℃、E型粘度
計、東京計器製)が104 CDSである本発明の組成
物(1)を調製した。得られた組成物(1)を鋼板パネ
ル上に15μの厚さに塗布し、80W/αの高圧水銀灯
を用い10cmの高さの距離からコンベア速度2m/分
で該パネルを移動させながら照射したところ、1回の照
射でタックフリーの硬化塗膜が得られた。さらに、得ら
れた硬化塗膜の性能をしらへたところ、鉛筆硬度は3H
であり、密着性は100/100であった。
6部にペンタエリスリトールテトラ(3−メルカブトブ
ロピオネート)44部を加え、粘度(25℃、E型粘度
計、東京計器製)が104 CDSである本発明の組成
物(1)を調製した。得られた組成物(1)を鋼板パネ
ル上に15μの厚さに塗布し、80W/αの高圧水銀灯
を用い10cmの高さの距離からコンベア速度2m/分
で該パネルを移動させながら照射したところ、1回の照
射でタックフリーの硬化塗膜が得られた。さらに、得ら
れた硬化塗膜の性能をしらへたところ、鉛筆硬度は3H
であり、密着性は100/100であった。
なお硬化塗膜の性能は下記の方法で測定した。
鉛筆硬度:JIS K 5400の方法密着性:塗
膜上にカッターナイフを用いて11間隔で10aumX
10ms+の範囲にゴバン目100個を切り、セロハン
テ ープを圧着したのち勢いよく剥離し て、ゴバン目の剥離状態を観察し、 100−(剥離したゴバン目数)/ 100で表示した。
膜上にカッターナイフを用いて11間隔で10aumX
10ms+の範囲にゴバン目100個を切り、セロハン
テ ープを圧着したのち勢いよく剥離し て、ゴバン目の剥離状態を観察し、 100−(剥離したゴバン目数)/ 100で表示した。
なお、この組成物(1)を室温に貯蔵したところ、30
日経過優も組成物の粘度は110cpsであり、はとん
ど変わらなかった。
日経過優も組成物の粘度は110cpsであり、はとん
ど変わらなかった。
比較例 1
トリアリルイソシアヌレート40部およびペンタエリス
リトールテトラ(3−メルカプトプロピオネート)60
部を混合し、粘度(25℃、E型粘度計)が389 c
psである比較用組成物(1)を調製した。得られた比
較用組成物(1)を室温に放置したところ、徐々に増粘
して3日で完全にゲル化した。
リトールテトラ(3−メルカプトプロピオネート)60
部を混合し、粘度(25℃、E型粘度計)が389 c
psである比較用組成物(1)を調製した。得られた比
較用組成物(1)を室温に放置したところ、徐々に増粘
して3日で完全にゲル化した。
実施例1および比較例1で得られた結果より、本発明の
組成物は貯蔵安定性に優れていることがわかる。
組成物は貯蔵安定性に優れていることがわかる。
実施例 2
参考例2で得たアルケニル基含有メタクリレート(2)
56部、ペンタエリスリトールテトラ(3−メルカブト
ブロピオネート)44部およびベンジルジメチルケター
ル(チバガイギー社製、イルガキュアー651)3部を
混合し、本発明の組成物(2)を調製した。得られた組
成物(2)を用いて、実施例1と同様の方法で塗布膜の
硬化性をしらべたところ、1回の照射でタックフリーの
硬化塗膜が得られた。さらに、得られた硬化塗膜の性能
を実施例1と同様の方法でしらへたところ、鉛筆硬度は
3日であり、密着性は100/100であつた。
56部、ペンタエリスリトールテトラ(3−メルカブト
ブロピオネート)44部およびベンジルジメチルケター
ル(チバガイギー社製、イルガキュアー651)3部を
混合し、本発明の組成物(2)を調製した。得られた組
成物(2)を用いて、実施例1と同様の方法で塗布膜の
硬化性をしらべたところ、1回の照射でタックフリーの
硬化塗膜が得られた。さらに、得られた硬化塗膜の性能
を実施例1と同様の方法でしらへたところ、鉛筆硬度は
3日であり、密着性は100/100であつた。
比較例 2
参考例4で得た比較用メタクリレート(1)56蔀、ペ
ンタエリスリトールテトラ(3−メルカプトプロピオネ
ート)44部およびベンジルジメチルケタール(チバガ
イギー社製、イルガキュアー651)3部を混合し、比
較用組成物(2)をII製した。得られた比較用組成物
(2)を用いて、実施例1と同様の方法で塗布膜の硬化
性をしらべたところ、タックフリーの硬化塗膜を得るの
に2回の照射を要した。さらに、得られた硬化塗膜の性
能を実施例1と同様の方法でしらべたところ、鉛筆硬度
は4Bであり、密着性は15/100であった。
ンタエリスリトールテトラ(3−メルカプトプロピオネ
ート)44部およびベンジルジメチルケタール(チバガ
イギー社製、イルガキュアー651)3部を混合し、比
較用組成物(2)をII製した。得られた比較用組成物
(2)を用いて、実施例1と同様の方法で塗布膜の硬化
性をしらべたところ、タックフリーの硬化塗膜を得るの
に2回の照射を要した。さらに、得られた硬化塗膜の性
能を実施例1と同様の方法でしらべたところ、鉛筆硬度
は4Bであり、密着性は15/100であった。
実施例2および比較例2で得られた結果より、本発明の
組成物は硬化性が良好で優れた硬化塗膜となることがわ
かる。
組成物は硬化性が良好で優れた硬化塗膜となることがわ
かる。
実施例 3〜6
参考例1または3で得られたアルケニル基含有(メタ)
アクリレート(1)または(3)、ポリチオールおよび
重合性不飽和基を有する化合物を第1表に示した組成で
配合して得た混合物のそれぞれに、ベンジルジメチルケ
タール(チバガイギー社製、イルガキュアー651>2
部を加え、本発明の組成物(3)〜(6)を調製した。
アクリレート(1)または(3)、ポリチオールおよび
重合性不飽和基を有する化合物を第1表に示した組成で
配合して得た混合物のそれぞれに、ベンジルジメチルケ
タール(チバガイギー社製、イルガキュアー651>2
部を加え、本発明の組成物(3)〜(6)を調製した。
得られた組成物(3)〜(6)のそれぞれを用いて、実
施例1と同様の方法で塗布膜の硬化性をしらべたところ
、いずれも1回の照射でタックフリーの硬化塗膜が得ら
れた。さらに、得られた硬化塗膜の性能を実施例1と同
様の方法で測定した結果を第1表に示した。
施例1と同様の方法で塗布膜の硬化性をしらべたところ
、いずれも1回の照射でタックフリーの硬化塗膜が得ら
れた。さらに、得られた硬化塗膜の性能を実施例1と同
様の方法で測定した結果を第1表に示した。
叉IM 愕 を
参考例2で得られたアルケニル基含有メタクリレート(
2)55部、トリメチ0−ルエタントリメルカブトプロ
ビオネート45部および過酸化ベンゾイル0.2部を混
合し、本発明の組成物(7)を調製した。得られた組成
物(7)を鋼板パネル上に30μの厚さに塗布し、80
℃で3時間保持することにより硬化させた。得られた硬
化塗膜の性能を実施例1と同様の方法でしらべたところ
、鉛筆硬度は3日であり、密着性は100/100であ
った。
2)55部、トリメチ0−ルエタントリメルカブトプロ
ビオネート45部および過酸化ベンゾイル0.2部を混
合し、本発明の組成物(7)を調製した。得られた組成
物(7)を鋼板パネル上に30μの厚さに塗布し、80
℃で3時間保持することにより硬化させた。得られた硬
化塗膜の性能を実施例1と同様の方法でしらべたところ
、鉛筆硬度は3日であり、密着性は100/100であ
った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ただし式中、Rは水素原子またはメチル基であり、Z
は炭素数2〜8の二価の有機基を表わし、 (A)は下記の一般式で示されるアルケニルグリシジル
エーテル類の開環基、 (B)は下記の一般式で示されるアルケニルグリシジル
エーテル類を除く環状化合物の開環基を表わし、lは1
〜20の整数、mは0または1〜20の整数を表わし、
しかも(A)、(B)で示されるアルケニルグリシジル
エーテル類または環状化合物の開環基の配列は任意であ
る。〕 で表わされるアルケニル基含有(メタ)アクリレート(
I ) および 1分子中に少なくとも2個のメルカプト基を有する化合
物(II) を必須成分として含有するポリエン−ポリチオール系硬
化性組成物。 (記) ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中、R^1は水素原子または炭素数20以下
の(ハロ置換)炭化水素基であり、 R^2は炭素数20以下のアルケニル基である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61084327A JPS62241924A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | ポリエン−ポリチオ−ル系硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61084327A JPS62241924A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | ポリエン−ポリチオ−ル系硬化性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62241924A true JPS62241924A (ja) | 1987-10-22 |
Family
ID=13827418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61084327A Pending JPS62241924A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | ポリエン−ポリチオ−ル系硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62241924A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11015115B2 (en) | 2015-12-31 | 2021-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Curable quantum dot compositions and articles |
US11015114B2 (en) | 2015-12-31 | 2021-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising particles with quantum dots |
JP2021532899A (ja) * | 2018-09-18 | 2021-12-02 | アイセンス,インコーポレーテッド | ポリアリルグリシジルエーテル基盤の酸化−還元高分子およびそれを用いた電気化学的バイオセンサ |
-
1986
- 1986-04-14 JP JP61084327A patent/JPS62241924A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11015115B2 (en) | 2015-12-31 | 2021-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Curable quantum dot compositions and articles |
US11015114B2 (en) | 2015-12-31 | 2021-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising particles with quantum dots |
JP2021532899A (ja) * | 2018-09-18 | 2021-12-02 | アイセンス,インコーポレーテッド | ポリアリルグリシジルエーテル基盤の酸化−還元高分子およびそれを用いた電気化学的バイオセンサ |
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