JPS62240655A - イソフタロニトリル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は放射線交叉結合可能な下記の一般式を有する文
献等に未記載の新規化合物に関する。

（式中、Ｒは水素ま友はメチル基、ＡはＢは酸素または
硫黄、Ｘは７ツ索またはＣＨ２＝わす。） 〔従来の技術〕 光重合反応等放射線重合反応を利用して、木材、紙、プ
ラスチック、金属等各種の材料の表面にポリマー薄膜を
形成して被覆剤、塗料、接着剤等とすることは公知であ
り、従来は薄膜形成材料として放射線重合可能な物質ま
たは組成物を適当な揮発性溶剤に溶解して対象物に塗布
または噴霧等していた。しかし、近年大気中への溶剤放
出による環境汚染を回避する為揮発性成分を含まないも
のが望まれ、かかる目的に用いる無溶剤タイプの放射線
重合材料の例として、例えば、被膜形成用の活性二重結
合を有するオリゴマーまたはポリマーと単官能性及び多
官能性アクリル酸エステル、例えばエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
トやグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトールなどの多価アルコールのポリアクリレートな
どとを組合せて塗布可能なように低粘度液体化したもの
が試みられている。無溶剤タイプの放射線重合用材料に
おけるこれらアクリル基の含有割合は、当然反応性、粘
度及びかたさ、接着性、硬化したフィルムの弾力性、人
体に対する有害性などの諸物性に影響を及ぼすが、従来
提案されているアクリレート・珀は性能上必ずしも充分
なものとは趙°い難く、史に優れた物性を有する放射線
重合用材料が望まれている。

〔発明が角γ決しようとする課題〕

本発明者らは無溶剤タイプの放射線重合用材料として優
れた物性を有する化合物を開発すべく４山秒検肘した結
果、前記一般式で示される化合物が所期の目的に適うも
のであることを見出した。

〔問題を解決するための手段〕

即ち、本発明は式 （式中、Ｒは水素またはメチル基、Ａは一０ＣＨ２ＣＨ
２−基、−００ＨＣＨ２−基または一０ＣＨ２ＣＨＣＨ
２−基、Ｂは酸素または硫黄、Ｘはフッ素またはＣＨ２
＝　Ｏ わす。）にて表わされるイソフタロニトリル誘導体を提
供せんとするものである。

以下、本発明の化合物について更に詳細に説明する。

本発明の化合物は文献等に未記載の新規化合物であるが
、その製造法としては有機化合物の合成法として種々の
方法を応用することができる。代表的な方法としては、
例えば よびＢは上記の通シ、ｎは１，２．３および４を表わす
。）にて表わされる化合物と５−クロロ−２，４，６−
トリフルオロインフタロニトリル（以後、ＣＴＦＩＰＮ
と略す。）とを反応させる方法。

ｂ）式（Ｉ［）、 Ｒ′ ＨＢ−（ＣＨ２−ＣＨ−０后Ｈ（式中、Ｂは酸素または
硫黄原子を、Ｒ′は水素またはメチル基を、ｎは１，２
゜３または４を表わす。）で表わされる化合物とＣＴＦ
ＩＰＮとを反応させた後、アクリル酸またはメタアクリ
ル酸（以後、両者を合わせて（メタ）アクリル酸と称す
。）または（メタ）アクリル酸ハライドによジエステル
化する方法。

ｃ）　　ＣＴＦＩＰＮを加水分解して得られる５−クロ
ロ−２−フルオロ−４，６−シヒドロキシイソフタロニ
トリル、もしくは５−クロロ−２，４，６−）リヒドロ
キシイソフタロニトリルにエチレンオキシドまたはプロ
ピレンオキシドを付加した後、方法ｂ）におけるエステ
ル化法を用いる方法。

ｄ）　　５−クロロ−２−フルオロ−４，６−シヒドロ
キシイソフタロニトリルまたは５−クロロ−２゜４．６
−　）リヒドロキシイソフタロニトリルとグリシジル（
メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリル酸または（
メタ）アクリル酸ハライドとを反応させる方法。

などが挙げられる。

方法ａ）および方法ｂ）におけるＣＴＦＩＰＮと式（１
）ｔたは弐〇）の化合物との反応は無溶媒または溶媒の
存在下に混合することによ）行うことができる。

溶媒として非プロント性の溶媒が使用出来、たとエバベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサンなどの炭化水素
類、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、エチレ
ンジクロライド等の塩素系溶媒、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレンクリコールジエチルエーテル、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ア
セトニトリル、ゾロピオニトリル、ベンゾニトリル等の
ニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドなどが挙げられる。

これらのうち特に好ましい溶媒はアセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類である。

反応温度は通常Ｏから５０℃であシ、好ましくは１０〜
３０℃である。

さらに上記反応は塩基または塩の存在下に行い反応を促
進することができる。塩基または塩としては苛性ソーダ
、苛性カリのような苛性アルカリ類、炭酸カリ、炭酸ソ
ーダのような炭酸塩類、トリエチルアミン、ピリジン、
１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−
７（以後ＤＢＵと称す）のような３級アミン類、フッ化
カリウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物が挙げられる
。これらのうち好ましいものは３級アミンおよびフッ化
物である。これらの塩基または塩の使用量は通常ＣＴＦ
ＩＰＮ　１モルに対して、０．００５モル〜１０．０モ
ル、好ましくは０．０１％ル〜５．０モルさらに好まし
く　ハ０．１モル〜２．０モルである。０．００５モル
よシ少い場合には触媒効果が少くまた１０．０モルよシ
多い場合には副反応によシ収率が低下するので好ましく
ない。

方法ａ）および方法ｂ）においてＣＴＦ　Ｉ　ＰＮに対
する一般式（１）または一般式（Ｉｎの化合物の反応モ
ル比はＣＴＦ　Ｉ　ＰＮに対し、通常０．７〜５．０、
好ましくは１．５〜３．５である。０．７よシ少い場合
および５．０よシ多い場合、未反応原料が残るかあるい
は副生物が生じ精製工程が必要となり好ましくない。

方法ｂ）およびＣ）において（メタ）アクリル酸または
（メタ）アクリル酸ハライドによジエステル化する方法
は通常の方法を用いることができる。

すなわち（メタ）アクリル酸を使用する場合にハ、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、塩化
メチレン、エチレンジクロライド等の溶媒の存在下また
は非存在下に、硫酸、・ぐラドルエンスルホン酸、スル
ホン酸型イオン交換樹脂等の触媒の存在下、通常７０℃
〜１５０℃、好ましくは８０℃〜１３０℃にてエステル
化を行う。

（メタ）アクリル酸ノ１ライドを使用する場合には、上
記の溶媒の存在下または非存在下に通常−１０℃〜８０
℃、好ましくは一５℃〜６０℃にて反応を行う。この際
苛性カリ、苛性ソーダのようなアルカリ、ピリシン、ト
リエチルアミン、　ＤＢＵ等の３級アミン類の存在下に
反応を行うことができる。

これらアルカリ、３級アミン類の使用量は（メタ）アク
リル酸ハライド１モルに対し通常０．５〜５．０モル、
好ましくは１．５〜３．５モル使用される。

ＣＴＦ　Ｉ　ＰＮと一般式Ｑｌ）の化合物との反応生成
物１．０モルまたは、　ＣＴＦＩＰＮとエチレンオキシ
ド、もしくはプロピレンオキシドとの反応生成物１．０
モルに対する、（メタ）アクリル酸または（メタ）アク
リル酸ハライドの使用量は通常０．８〜５．０モル、好
ましくは１．５〜３．５モルである。

方法Ｃ）においてＣＴＦＩＰＮを加水分解する方法とし
ては、苛性アルカリの存在下または非存在下にＣＴＦＩ
ＰＮと水とを、通常Ｏ℃〜１００℃、好ましくは５℃〜
６０℃で反応させることによシ容易に５−クロロ−２−
フルオロ−４，６−ジヒドロキシイソフタロニトリルま
たは５−クロロ−２，４，６−トリヒドロキシイソフタ
ロニトリルを得ることがテキる。得られたヒドロキシニ
トリル類にアルキレンオキシドを付加する方法としては
、苛性ソーダ、苛性カリ、ナトリウムメチラート等のア
ルカリ触媒、トリエチルアミン、ＤＢＵ、トリエチレン
ジアミンなどのアミン触媒、テトラメチルアンモニウム
クロライドのような第４級アンモニウム塩触媒等の存在
下、通常５０℃〜１７０℃の温度で常圧〜１０　ｋｇ／
　ｃＡの加圧下に行う方法を用いることができる。この
反応においてベンゼン、トルエン、塩化メチレンエチレ
ンジクロライド、アセトニトリル、ジグライム、その他
の溶媒を使用することができる。

方法ｄ）ニおいて５−クロロ−２−フルオロ−４゜６−
シヒドロキシイソフタロニトリルまたは５−クロロ−２
，４，６−）リヒドロキシイソフタロニトリルとグリシ
ジル（メタ）アクリレートとを反応させる方法としては
、方法ａ）において使用できる溶媒の存在下又は非存在
下、方法Ｃ）において記載したアルカリ触媒、アミン触
媒、第４級アンモニウム塩触媒の存在下に通常５０〜１
５０℃、好ましくは６０〜１３０℃にて反応させる方法
が挙げられる。

方法ａ）において５−クロロ−２−フルオロ−４゜６−
シヒドロキシイソフタロニトリルまたは５−クロロ−２
，４，６−）すビトロキシイソフタロニトリルと（メタ
）アクリル酸または（メタ）アクリル酸ハライドとを反
応させる方法としては、方法ｂ）におけるエステル化法
が採用できる。

本発明の化合物を製造する際、（メタ）アクリル酸およ
びその誘導体が使用される工程においては通常重合禁止
剤を使用することが好ましい。重合禁止剤としてはハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、ベンゾキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、フェノール、フェッ
チアシン、ニトロベンゼン、イオウ、各種の銅塩及びア
ミン類など通常の使用されるものを用いることができる
。

表−１に本発明化合物の代表的な例を示す。以後、表中
の化合物番号を用いて説明する。

以下に本発明化合物の製造法として代表的な例を示し、
更に具体的に説明するがこれらは単なる例示であシ、従
って製造法としてはこれらのみに限定されないことは言
うまでもない。

合成例１ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（アクリロイ
ルオキシ）インフタロニトリル （化合物ＡＩ） ５−クロロ−２１４１６−）　ＩＪフルオロイソフタロ
ニトリル４．３　ｊｉ　（２０ｍｍｏｌ　）　、アクリ
ル酸７．２　ＩＩ（１００ｍｍｏｌ　）、フッ化カリウ
ム５．８　ｇ（１００ｍｍｏｌ　）および重合禁止剤と
してメチルハイドロキノン約８■をアセトニトリル４０
−中で室温下１２時間反応させた。アセトニトリルを留
去し、水Ｌｏｏｍ／を加え攪拌後、油層と水層に分離し
た。

水層をクロロホルムで抽出し、油層に加え、その混合液
を水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

クロロホルムを留去し、シリカダルカラムクロマトグラ
フィー（展開液、ｎ−ヘキサｌ酢酸エチル＝３／１　）
で精製した。さらに減圧下で溶剤を留去して化合物Ａ１
を４．５９ｇ（純度９５チ）を得た。収率６°８％ ”Ｆｎｍｒ　（ＣＤＣｌ２）　：　　δ　２１．１（ｓ
）ＩＲ（ｎｅａｔ）　　　　　：２２４０（ＣミＮ）、
１７３０（Ｃ＝Ｏ）。

１６４０（ＣミＣ） 合成例２ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（アクリロイ
ルオキシエトキシ）イソフタロニトリル（化合物＆２） ５−クロロ−２，４，６−トリフルオロイソフタロニト
リル２１６．５．ｌｉ’（１ｍｏｌ）、ヒドロキシエチ
ルアクリレ−）３５０Ｊｉ’（３ｍｏｌ）、フッ化カリ
ウム１７４Ｊ（３ｍｏｌ）および重合禁止剤としてメチ
ルハイドロキン０．４Ｉ！をアセトニトリル２Ｊ中で室
温下１２時間反応させた。アセトニトリルを留去し、水
３ｍｌを加え攪拌後、油層と水層に分離した。水層をク
ロロホルムで抽出し、油層に加え、その混合液を水で３
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。クロロホ
ルムを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（
展開液ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１　）で精製し
た。さらに減圧下で、溶剤を留去して化合物Ａ２を２５
５１（純度９６チ）を得た。収率６０チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＤＣｌ２）　：δ２０．５（ｓ）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　　：２２４５（Ｃ三Ｎ）、１７３
０（Ｃ＝Ｃ）。

１６１５（Ｃ＝Ｃ） 合成例３ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（アクリロイ
ルオキシエトキシエトキシ）イソフタロニトリル （化合物扁３） 合成例−２に於いて、ヒドロキシエチルアクリレート３
５０！ｊの代シにヒドロキシエトキシエチルアクリレー
ト４８０ｇ（３ｍｏｌ）を用い、合成例２と同様にして
化合物Ａ３を３１５１純度９３チを得た。収率５９チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＤＣ２３）　：δ２０．８（ｓ）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　：２２４５（Ｃ＝Ｎ）　、　１７
２５（Ｃ＝Ｃ）　。

１６２０（Ｃ＝Ｃ） 合成例４ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（メタアクリ
ロイルオキシ）インフタロニトリル（化合物＆１１） 合成例１に於いて、アクリル酸７２ｆ１の代シにメタク
リル酸８．６１を用い、合成例１と同様にして化合物＆
１１が、４．３６　、！ｉ’　（純度９４チ）が得られ
た。収率６１チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＣ４４）　　：δ２１．３（ａ）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　　：２２５０（ＣミＮ）、１７０
０（Ｃ＝Ｃ）。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） 合成例５ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（メタアクリ
ロイルオキシエトキシ）イソフタロニトリル （化合物扁１２） ５−クロロ−２，４，６−トリフルオロインフタロニト
リル１００．ｌｉ’（０，５ｍｏｌ）、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート１９５ｇ（１，５ｍｏｆ　）、フッ化
カリウム８７．９および重合禁止剤としてメチルハイド
ロキノン０．２５　ｇをアセトニトリル１００〇−中で
室温下１２時間反応させた。アセトニトリルを留去し、
水２０００ｍを加え攪拌し、以下合成例２と同様にして
化合物＆１２をｘ４ｏ、ｐ（純度９５％）得た。収率６
２チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＤＣｌ２）　：　２０．３　（ｓ　）
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　　　：　２２４５　（ＣＥＥＮ）
　、　１７３０　（Ｃ＝０）　。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） 合成例６ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（メタアクリ
ロイルオキシイソゾロピルオキシ）インフタロニトリル （化合物Ａ　１６　） ５−クロロ−２，４，６−トリフルオロイソフタロニト
リル１４０．！ｉ＋（０，７ｍｏｌ）、ヒドロキシイソ
プロピルメタクリレート１１１Ｎ　（０，７７ｍｏｌ　
）、フッ化カリウム５８９　（１，０ｍｏｌ　）及び重
合禁止剤としてメチルハイドロキノン０．４ｇをアセト
ニトリル３０〇−中で室温で１５時間反応させた。

アセトニトリルを留去し、水５００−を加え、良く攪拌
した後、油層（上層）と水層（下層）に分離した。水層
をクロロホルムによシ抽出し、油層に加え、その混合液
を水で３回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロ
ホルムを留去シ、６−クロロ−２，４−フシアノ−３，
５−ジフルオｅフ〜フエノキシイソグロピルメタアクリ
レートを２２２ｇ得た。収率９３チ ロ−クロロ−２，４−ジシアノ−３，５−ジフルオｏフ
ェノキシイソゾロビルメタクリレー）　６．８．９（２
０ｍｍｏｌ　）、ヒドロキシイソプロピルメタクリレー
ト１４．４ｇ（１００ｍｍｏｌ　）、フッ化カリウム５
．８１１（１００ｍｍｏｌ　）および重合禁止剤として
メチルハイドロキノンを１５■をアセトニトリル４０−
中で室温下１５時間攪拌した。以下合成例２と同様にし
て化合物＆１６が５．９３　ｆｉ　（純度９４％）得ら
れた。収率６０チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＣｌ２）　　：δ２０．６（ａ）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　　　：２２４０（ＣミＮ）、１７
２０（Ｃ＝Ｃ）。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） 合成例７ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（メタクリロ
イルオキシ−２−ヒドロキシゾロビルオキシ）イソフタ
ロニトリル （化合物Ａ２０） ５−クロロ−２，４，６−トリフルオロイソフタロニト
リル１４．！ｉ’　（０，０７ｍｏｌ　）、水酸化カリ
ウム８、！ｉ’（０，１４ｍｏｌ）を水２００−に入れ
、２．０時間加熱還流した。冷却後、濃塩酸で中和して
エーテルで抽出した。抽出液を水洗後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去し、得られた結晶をクロロホル
ムから再結晶して、５−クロロ−２−フルオロ−４，６
−シヒドロキシイソフタロニトリルを１０．４！１（収
率７０％）得た。５−クロロ−２−フルオロ−４，６−
シヒドロキシイソフタロニトリル８．５１　（０，０４
ｍｏｌ　）をアセトニトリル３０ｄに溶解し、グリシジ
ルメタクリレート１１．４ｇ（０，０８ｍｏｌ）、テト
ラエチルアンモニウムクロライド０．０４，９及び重合
防止剤としてメチルハイドロキノン０．０６Ｆを加え６
０℃で８時間加熱後、水にあけ、塩化メチレンによ９２
回抽出し、水洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。塩化メチレンを留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開液ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／ｌ）
で精製した。さらに真空ポンプでポンプアップして残っ
たグリシジルメタクリレートを除去して、化合物煮２０
を１３．２．９（純度９２チ）得た。

収率６１チ １９Ｆｎｍｒ（ＣＤＣｌ２）　：δ２１．４（Ｓ）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　　：２２４０（ＣミＮ）、１７３
０（Ｃ＝Ｃ）。

１６４０（Ｃ＝Ｃ）　、３４５０（０−Ｈ）合成例８ ５−クロロ−２，４，６−）リス（アクリロイルオキシ
エトキシ）イソフタロニトリル （化合物黒２２） 化合物４２　７０＃（０，１７ｍｏｌ）をアセトニトリ
ル２００−に溶かし、とドロキシエチルアクリレート２
３ｇ（０，２０ｍｏｌ　）、水酸化カリウム１２．３１
１　（０，１９ｍｏｌ　）、重合禁止剤メｆ　／ｌ／　
ハイドロキノン１４０■を加えた後、室温で３時間攪拌
させた。水を加えて酢酸エチルによシ抽出し、３回水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去
し、さらに真空ポンプによシポンプアッデして化合物煮
２２を６７．７　、！ｉ＋　（純度９５ｔｌｂ）得た。

収率７５チ ＩＲ（ｎｅａｔ）　　　　　：２２４０（ＣミＮ）、１
７２０（Ｃ＝０）。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） 合成例９ ５−クロロ−２，４９６−）　ＩＪス（メタクリロイル
オキシエトキシ）イソ７タロニトリル （化合物ム３２） 合成例８に於いて化合物４２７０．９及びヒドロキシエ
チルアクリレート２３Ｉの代りに、化合物４１２　７４
．２ｇ及びヒドロキシエチルメタクリレ−）　２４．７
　＃を用い合成例８と同様にして化合物＆３２を６５．
８　Ｊ　（純度９６％）得た。収率６８チ ＩＲ（ｎｅａｔ）　　　　　：２２４０（ＣミＮ）、１
７１０（Ｃ＝Ｃ）。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） 合成例１０ ５−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（メタアクリ
ロイルオキシエチルチオ）イソフタロニトリル （化合物ム４９） ５−クロロ−２，４，６−トリフルオロイソフタロニト
リル１１．０．９　（５０ｍｍｏｌ　）をアセトニトリ
ル５０−に溶解し、フッ化カリウム８．７．９　（１５
０ｍｍｏｌ　＞を加える。片冷下で２−メルカプトエタ
ノール１０．６４ｍ（１５０ｍｍｏｆ　）を滴下し、滴
下後室温で８時間攪拌した。反応後アセトニトリルを留
去し、水を加えて攪拌した後酢酸エチルで抽出した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルで再結し、５
−クロロ−２−フルオロ−４，６−ビス（ハイドロオキ
シエチルチオ）イソフタロニトリルを１５．０．９　（
収率９０％）を得た。

窒素気流下で、上記化合物３．３３１　（１０ｍｍｏｌ
）を無水塩化メチレン２０−に溶解し、メタクリル酸ク
ロライド２．１３ｓｄ（２２ｍｏｌ　）および重合禁止
剤としてメチルハイドロキノン約４■を加え、水冷後ぎ
りジン１．７７ｄ（２２ｍｏｌ　）を滴下し、滴下後室
温で２時間攪拌した。反応後ＩＮ・塩酸を加え、酢酸エ
チルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製しく展開液ｎ−ヘキサン／酢酸工チル＝１／１　
）化合物Ａ４９を３．６０　ｇ（純度９５％）を得た。

収率７３チ。

１９Ｆｎｍｒ（ＣＤＣｔ、）　：δ２０．８（８）ＩＲ
（ｎｅａｔ）　　　　：　２２４０　（ＣＥＥＮ）　、
　１７２０　（Ｃ＝Ｃ）　。

１６４０（Ｃ＝Ｃ） なお、合成例の中で”　Ｆ’ｎｍｒは溶媒として重クロ
ロホルム、四塩化炭素又はアセトニトリルを用いた＋９
ｒの核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法による分析を示し、δ
は外部標準としてトリフルオロ酢酸を使用して測定した
化合物分子内の１９ｐの化学シフト値（ｐｐｍ）、Ｓは
該化学シフト値における吸収ピークが一重線であること
を示す。

本発明化合物は単独で硬化被覆剤とすることもできるが
、通常は被膜形成樹脂である接合剤と併用し、該樹脂の
粘度を低下させて用、いる。

本発明で用いる接合剤としては、分子中に（メタ）アク
リロイル基など、重合性反応基を少なくとも１つを含む
高分子量の化合物で６Ｄ、エポキシ系、エステル系、ウ
レタン系、エーテル系の（メタ）アクリレート、および
これらの油脂変性物、ポリブタジェンの（メタ）アクリ
レート変性物の不飽和ポリエステルなどが挙げられる。

例えばエステル系（メタ）アクリレートとしては、多塩
基性酸と多価アルコールとから得られるポリエステルの
（メタ）アクリレートがあり、代表的なものとして下記
のものが挙げられる。

本発明の化合物は１〜１００重量％、好ましくは５〜７
０重量−の割合で放射線硬化可能な組成物中に存在する
ことができる。

本発明の化合物は粘稠な放射線硬化可能樹脂の粘度を効
果的に減少させる。また本発明化合物を用いた放射線重
合可能な組成物は、高エネルギー放射線、例えば紫外線
、電子線、Ｘ線、ｒ線など好ましくは紫外線によって全
体が硬化し揮発性成分を放出しない。

紫外線を用いて重合を行なう場合には通常光重合開始剤
を使用するが、この目的に普通に用いられる任意の化合
物でよい。例えばアセトフェノン類（アセトフェノン、
ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２．２−ジ
ェトキシアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなど
）、チオキサントン類（チオキサントン、２−クロロチ
オキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソブ
チルチオキサントンなど）、ミヒラーケトン類（４，４
’−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなト）、ベンゾ
インエーテル類（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンブチルエーテルなト）、ベンジルジメチルケタールな
どが使用可能である。

上述の光重合開始剤は、本発明の化合物を用いた放射線
重合可能な組成物の使用目的により該組成物に対して０
．２〜２０好ましくは１〜８重量％で用いることができ
、これは単独でも成るいは相剰効果のために互いに組み
合わせて使用することができる。重合反応性をさらに増
加させる有効な添加剤は三級アミン（例えばトリエチル
アミンなどである）、フォスフイン又はチオエーテルな
どがある。これらの物質は本発明の組成物に対し、０〜
５重量％の量で用いることが好ましい。

本発明の化合物は他のビニル重合を行いうる任意の系と
同様に高度の貯蔵安定性を得るため重合禁止剤を添加す
る方が好ましい。ここで用いられる重合禁止剤としては
、例えばｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ヒドロキノンモノメチル
エーテルナトのフェノール化合物またはフェノチアジン
などがあげられる。添加量は、必要な安定度及び安定剤
の添加によって生じる反応性の損失の許容度によって決
定される。安定剤の種類及び最適量は、安定剤の濃度を
変えて時に応じて行なわれる濃度試験によって決定すれ
ばよい。一般に安定剤は放射線硬化可能組成物に対し０
．００１〜１．０重量％の量で加えられる。

本発明の化合物を用いてつくられる放射線硬化可能組成
物は木材、紙、カードボード、プラスチックス、レザー
、金属、織物、セラミックス、電子部品、プリント基板
などに対する被覆剤、含浸剤、オフセットインキ、グラ
ビアインキなどのインキ及び接着剤、フォトレジストな
どのエレクトロニクス素材として用いるのに適している
。又これらの用途において必要によシスリップ剤、つや
消し剤、消泡剤、レベリング剤なども併用することがで
きる。

〔発明の効果〕

以下本発明化合物の効果を具体的に説明するため代表的
な試験例を示す。但しこれらは単なる例示であシ本発明
の適用例はこれらのみに限られないことは言うまでもな
い。

試験例　１ 各モノマーに光重合開始剤としてダロキエアー１１７３
（メルク社製、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロノぐノー１−オン）４．８重量％およびベンゾ
フェノン１．２重量％を加え均一に溶解させたのち、そ
の溶液を３ミルのアプリケーターでガラス板上に塗布し
、紫外線照射を行いタック（指触乾燥）がなくなるまで
の照射回数を測定し、その硬化性を試験した。その結果
を下表に示す。

照射条件二ラング出力　：８０Ｗ／ｃｍ（オゾン有ラン
プ）ラング高さ　　＝１２５■ コンベアスピード：　１５　ｍ／ｍ１ｎ（使用装置：ユ
ニキュアーシステムＵＶＣ−１８３〔ウシオ電機社製〕
） 試験例−２ 試験例−１と同様な配合、処理を行い同様な試験を行っ
た。但し、試験例−１の照射条件のうち、ランプ出カニ
　１６０　Ｗｌｏｎ　（オゾン有ランプ）とした。

試験例−３ ウレタン系オリゴマーのフォトマー６００８（ダイヤモ
ンドジャムロックケミカルス社製品）４０部に本発明化
合物６０部または比較化合物（トリエチレングリコール
ジアクリレート６０部またはトリメチロールプロパント
リアクリレート６０部）およびベンゾフェノン３部およ
びダロキーア−１１７３（３部）を均一配合した。各々
の混合物の粘度はＢ型粘度計によル２０℃で測定した。

耐摩耗性は脱脂処理したブリキ板上に３ミルアｆ　＋）
ケータ−で混合物を塗布しその直後１６０Ｗ／ｃｍの強
度を有する高圧水銀灯の下１２．５１Ｍのところで１０
　ｎｙ’ｓｅｔで通過させた後、その塗面をメチルエチ
ルケトンを浸した脱脂綿でこすシ表面に変化が生じるま
での、ζすシ回数でもって示した。

耐水性は、得られた塗膜について沸とう水中に１０時間
浸漬後の表面状態の変化の有無で示した。

その結果を下表に示す。

試験例−４ 試験例−３と同様な配合を行い同様な試験を行った。但
し、試験例−３の照射条件のうち、照射回数を４回とし
た。結果を下表に示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素またはメチル基、Ａは −ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−基、▲数式、化学式、表等があ
   ります▼基または▲数式、化学式、表等があります▼基
   、Ｂは酸素または硫黄、Ｘはフッ素または▲数式、化学
   式、表等があります▼基、ｎは０または１〜４の整数を
   表 わす。）にて表わされるイソフタロニトリル誘導体。