JPS62234118A - 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 - Google Patents
光ビ−ム走査装置及びその製造方法Info
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- JPS62234118A JPS62234118A JP6084686A JP6084686A JPS62234118A JP S62234118 A JPS62234118 A JP S62234118A JP 6084686 A JP6084686 A JP 6084686A JP 6084686 A JP6084686 A JP 6084686A JP S62234118 A JPS62234118 A JP S62234118A
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、走査ビームの収差が全走査領域で均等に低減
する最適入射波を発生する収差補正用ホログラムレンズ
を有する光ビーム走査装置、および該ホログラムレンズ
の作成方法において、収差補正用ホログラムレンズの作
成波の波長は再生波である半導体レーザ光より短かくし
、球面収差波、もしくは非点収差波を参照波とし、コマ
収差波を物体波として、収差補正用ホログラムレンズを
作成する方法である。
する最適入射波を発生する収差補正用ホログラムレンズ
を有する光ビーム走査装置、および該ホログラムレンズ
の作成方法において、収差補正用ホログラムレンズの作
成波の波長は再生波である半導体レーザ光より短かくし
、球面収差波、もしくは非点収差波を参照波とし、コマ
収差波を物体波として、収差補正用ホログラムレンズを
作成する方法である。
本発明は、最適入射波を発生する収差補正用ホログラム
レンズを有する光ビーム走査装置、および該ホログラム
レンズの作成方法に関する。
レンズを有する光ビーム走査装置、および該ホログラム
レンズの作成方法に関する。
レーザプリンタのような高精度直線走査スキャナの低価
格化を実現するものとして、ホログラムを用いた光ビー
ム走査装置が注目されている。本出願人らは既出側の特
願昭６０−１６８８３０において、半導体レーザと走査
用ホログラムレンズ、及び収差補正用ホログラムレンズ
を用いた簡素な高精度直線走査を行う光ビーム走査装置
を提案した。これは、半導体レーザ光を位置的に空間周
波数分布が異なり高速に回転する走査用ホログラムレン
ズに入射することにより、走査ビームとしてフォトコン
ドラム上に走査させるものであり、その際半導体レーザ
光源と走査用ホログラムレンズの間に収差補正用ホログ
ラムレンズを配置することにより走査用ホログラムレン
ズで発生する非点及びコマ収差を該収差補正用ホログラ
ムレンズで補正し、また上記３素子を適切に配置して、
半導体レーザ光源のモードホップによる影響を最小限に
抑えることを可能にしている。この時、フォトコンドラ
ム上で走査ビームが最も小さく絞り込まれるように収差
補正を行うことを可能にする走査用水ログラムレンズ及
び収差補正用ホログラムレンズを作成する。
格化を実現するものとして、ホログラムを用いた光ビー
ム走査装置が注目されている。本出願人らは既出側の特
願昭６０−１６８８３０において、半導体レーザと走査
用ホログラムレンズ、及び収差補正用ホログラムレンズ
を用いた簡素な高精度直線走査を行う光ビーム走査装置
を提案した。これは、半導体レーザ光を位置的に空間周
波数分布が異なり高速に回転する走査用ホログラムレン
ズに入射することにより、走査ビームとしてフォトコン
ドラム上に走査させるものであり、その際半導体レーザ
光源と走査用ホログラムレンズの間に収差補正用ホログ
ラムレンズを配置することにより走査用ホログラムレン
ズで発生する非点及びコマ収差を該収差補正用ホログラ
ムレンズで補正し、また上記３素子を適切に配置して、
半導体レーザ光源のモードホップによる影響を最小限に
抑えることを可能にしている。この時、フォトコンドラ
ム上で走査ビームが最も小さく絞り込まれるように収差
補正を行うことを可能にする走査用水ログラムレンズ及
び収差補正用ホログラムレンズを作成する。
しかし前記従来技術では、走査ビームの収差が結像面の
走査中心で最も小さくなるように設定を行っていた。し
かし、高品位のレーザプリンタにおける印字では、少な
（とも３００ｄｐｉ （ドツト／インチ）以上の解像度
が要求されており、そのためには走査ビームの収差を走
査中心だけでなく走査端でも均等に低減する必要がある
。
走査中心で最も小さくなるように設定を行っていた。し
かし、高品位のレーザプリンタにおける印字では、少な
（とも３００ｄｐｉ （ドツト／インチ）以上の解像度
が要求されており、そのためには走査ビームの収差を走
査中心だけでなく走査端でも均等に低減する必要がある
。
そこで本出願人らは昭和６１年３月２０日出願の特許側
（／Ｌ）で走査ビームの収差が全走査領域で均等に低減
するように走査用ホログラムレンズへの最適入射波の決
定方法について提案した。しかし、上記最適入射波を発
生するための収差補正用ホログラムレンズの作成方法に
ついては述べていなかった。
（／Ｌ）で走査ビームの収差が全走査領域で均等に低減
するように走査用ホログラムレンズへの最適入射波の決
定方法について提案した。しかし、上記最適入射波を発
生するための収差補正用ホログラムレンズの作成方法に
ついては述べていなかった。
本発明は上記問題点を除くために、最適入射波を発生す
る収差補正用ホログラムレンズを有する光ビーム走査装
置、および該収差補正用ホログラムレンズの実用的な作
成方法を提供することを目的とする。
る収差補正用ホログラムレンズを有する光ビーム走査装
置、および該収差補正用ホログラムレンズの実用的な作
成方法を提供することを目的とする。
本発明は上記問題点を解決するために、位置的に空間周
波数の分布が異なり、半導体レーザ光である入射波を回
折させてビーム走査を行う走査用ホログラムレンズ（２
２）と、半導体レーザから出射される発散波該ホログラ
ムレンズからの走査ビームの全走査領域での複数の集束
点における収差を均等に低減する波面を有する前記入射
波に変換する収差補正用ホログラムレンズ（１２）とを
有することを特徴とする光ビーム走査装置、及び、その
製造方法を提供するものである。
波数の分布が異なり、半導体レーザ光である入射波を回
折させてビーム走査を行う走査用ホログラムレンズ（２
２）と、半導体レーザから出射される発散波該ホログラ
ムレンズからの走査ビームの全走査領域での複数の集束
点における収差を均等に低減する波面を有する前記入射
波に変換する収差補正用ホログラムレンズ（１２）とを
有することを特徴とする光ビーム走査装置、及び、その
製造方法を提供するものである。
上記手段おいて、まず、再生時の入射波（２６）の波長
（λ２）より短い波長（λ１）を有する波面を補助光学
系を通してコマ収差波とし、これを再生時の走査用ホロ
グラムレンズ（２２）への最適入射波（２６）の波面に
対応する波面と、再生時の波長（λ２）と作成時の波長
（λ１）の波長の差によって生ずる収差を補正する波面
とを有する収差波（１４）に代用する。これをホログラ
ムレンズ（１２）の作成波として用いることにより、再
生波長（λ２）において最適入射波（２６）を発生する
ホログラムレンズを作成することが可能となる。また、
収差補正用ホログラムレンズの作成方法も与えている。
（λ２）より短い波長（λ１）を有する波面を補助光学
系を通してコマ収差波とし、これを再生時の走査用ホロ
グラムレンズ（２２）への最適入射波（２６）の波面に
対応する波面と、再生時の波長（λ２）と作成時の波長
（λ１）の波長の差によって生ずる収差を補正する波面
とを有する収差波（１４）に代用する。これをホログラ
ムレンズ（１２）の作成波として用いることにより、再
生波長（λ２）において最適入射波（２６）を発生する
ホログラムレンズを作成することが可能となる。また、
収差補正用ホログラムレンズの作成方法も与えている。
以下、本発明の実施例につき詳細に説明を行う。
（本発明の詳細な説明（第２図））
上記実施例の説明を詳細に行う。まず、収差補正用ホロ
グラムレンズ１２を用いた光ビーム走査装置の構成を第
２図に示す。再生波である半導体レーザ２１からの波長
λ２の発散波２５は、収差補正用ホログラムレンズ１２
により走査ビーム２７の最適な収差補正をする入射波２
６に変換される。そしてこの入射波２６がモータ２３に
よって回転する走査用ホログラムレンズ２２に入射し、
それにより得られる走査ビーム２７はフォトコンドラム
２４上の集束点２８に集束し走査される。
グラムレンズ１２を用いた光ビーム走査装置の構成を第
２図に示す。再生波である半導体レーザ２１からの波長
λ２の発散波２５は、収差補正用ホログラムレンズ１２
により走査ビーム２７の最適な収差補正をする入射波２
６に変換される。そしてこの入射波２６がモータ２３に
よって回転する走査用ホログラムレンズ２２に入射し、
それにより得られる走査ビーム２７はフォトコンドラム
２４上の集束点２８に集束し走査される。
そして走査ビーム２７は、全走査領域で収差が均等に低
減される。走査ビーム２７の収差が全走査領域で均等に
低減する最適な入射波２６の決定方法については、昭和
６１年３月２０日出願の特許願（１２）で述べたが、そ
の決定手順につき簡単に述べる。
減される。走査ビーム２７の収差が全走査領域で均等に
低減する最適な入射波２６の決定方法については、昭和
６１年３月２０日出願の特許願（１２）で述べたが、そ
の決定手順につき簡単に述べる。
今、フォトコンドラム２４上で走査される２ｎ＋１点で
の実際の走査ビーム２７の位相をφふ（ｘ、ｙ）、
（ｉ＝ｏ、 ±１．・・・±ｎ）とする。ただし、ｘ
ｙ平面上に走査用ホログラムレンズ２２が配置されてい
るとしく第２図）、この位相はＸｒ ｙ方向の関数と
する。そして必要な波面である無収差となる２ｎ＋１点
での位相をφ比’ｒ （ｘ＋ ｙ）とすると、 Ｅ”＝、、斜ｙ ＋ｌ＜ｌ’ｏｕｙ （ｘ、 ｙ）
ａｉｒ （ｘ、ｙ））ｄｓ・ ・ ・（１） が最小となるような入射波２６の位相φ、Ｎを決定すれ
ばよい。但し、（ｘ、 ｙ）は、走査用ホログラムレ
ンズ２２に入射する入射波の再生領域Ｓ内の座標である
。（１１を最小とするようなφ、Ｎと無収差位相φ客（
ｘ、 ｙ）との関係は、で決定される。ただし、ＷＩ
は走査領域の各点での重みであり、またφ（、＋ （ｘ
、 ｙ）は走査用ホログラムレンズ２２の位相伝達関
数であり、作成時に物体波と参照波の位相差として予め
決定されている。
の実際の走査ビーム２７の位相をφふ（ｘ、ｙ）、
（ｉ＝ｏ、 ±１．・・・±ｎ）とする。ただし、ｘ
ｙ平面上に走査用ホログラムレンズ２２が配置されてい
るとしく第２図）、この位相はＸｒ ｙ方向の関数と
する。そして必要な波面である無収差となる２ｎ＋１点
での位相をφ比’ｒ （ｘ＋ ｙ）とすると、 Ｅ”＝、、斜ｙ ＋ｌ＜ｌ’ｏｕｙ （ｘ、 ｙ）
ａｉｒ （ｘ、ｙ））ｄｓ・ ・ ・（１） が最小となるような入射波２６の位相φ、Ｎを決定すれ
ばよい。但し、（ｘ、 ｙ）は、走査用ホログラムレ
ンズ２２に入射する入射波の再生領域Ｓ内の座標である
。（１１を最小とするようなφ、Ｎと無収差位相φ客（
ｘ、 ｙ）との関係は、で決定される。ただし、ＷＩ
は走査領域の各点での重みであり、またφ（、＋ （ｘ
、 ｙ）は走査用ホログラムレンズ２２の位相伝達関
数であり、作成時に物体波と参照波の位相差として予め
決定されている。
上記関係式から、第２図の実施例においては半導体レー
ザ２１からの発散波２５を（２）式で表わされる入射位
相φ、Ｎを有する最適な入射波２６に変換するホログラ
ムレンズ１２を作成すればよい。
ザ２１からの発散波２５を（２）式で表わされる入射位
相φ、Ｎを有する最適な入射波２６に変換するホログラ
ムレンズ１２を作成すればよい。
次に、走査用ホログラムレンズ２２の一実施例として本
出願人らが、既特許出願した方法（特開昭６０−１９４
４１９ ）を用いることとする。なお、この方法ではホ
ログラムディスクの偏心、および、面ぶれによる走査位
置変動の影響が小さく、ブラッグ角条件を満足し、先便
用効率が高いという利点を有している。この走査用ホロ
グラムレンズ２２に対して、収差補正用のホログラムレ
ンズ１２の再生波は半導体レーザ光であり、その波長λ
２は平均して７８７ｎｍ程度である。これに対してホロ
グラム作成時においては、再生波長より短い波長λ１を
有するレーザ光を作成波長とする。このようなレーザ光
としては例えばλＩ＝ ４８８ｎｍのＡｒレーザ光が
ある。これは、基板１２上のホログラム作成材料１２１
として、半導体レーザ光の波長で感光する高回折効率の
材料がなく、そのためにそれより短い波長のレーザ光で
ホログラムを作成する必要があるためである。
出願人らが、既特許出願した方法（特開昭６０−１９４
４１９ ）を用いることとする。なお、この方法ではホ
ログラムディスクの偏心、および、面ぶれによる走査位
置変動の影響が小さく、ブラッグ角条件を満足し、先便
用効率が高いという利点を有している。この走査用ホロ
グラムレンズ２２に対して、収差補正用のホログラムレ
ンズ１２の再生波は半導体レーザ光であり、その波長λ
２は平均して７８７ｎｍ程度である。これに対してホロ
グラム作成時においては、再生波長より短い波長λ１を
有するレーザ光を作成波長とする。このようなレーザ光
としては例えばλＩ＝ ４８８ｎｍのＡｒレーザ光が
ある。これは、基板１２上のホログラム作成材料１２１
として、半導体レーザ光の波長で感光する高回折効率の
材料がなく、そのためにそれより短い波長のレーザ光で
ホログラムを作成する必要があるためである。
そして（２）式で示される波面は、非点及びコマ収差を
示す複雑な波面であり、さらに前記のように作成時の波
長λ１は再生時の波長λ２より低いため、さらに収差が
助Ｈされる。しかし、このような波面は波長λ１の収束
球面波１３を第１図のように凹レンズに斜めに入射する
ことで発生できることが光線追跡によりわかった。そこ
で、再生時の波長λ２の入射波２６ （第２図）の位相
がφ、Ｈに最も近くなるように、減衰最小自乗法（ＤＬ
Ｓ法）による自動設計で最適化した。
示す複雑な波面であり、さらに前記のように作成時の波
長λ１は再生時の波長λ２より低いため、さらに収差が
助Ｈされる。しかし、このような波面は波長λ１の収束
球面波１３を第１図のように凹レンズに斜めに入射する
ことで発生できることが光線追跡によりわかった。そこ
で、再生時の波長λ２の入射波２６ （第２図）の位相
がφ、Ｈに最も近くなるように、減衰最小自乗法（ＤＬ
Ｓ法）による自動設計で最適化した。
（光ビーム走査装置の具体的な設計パラメータ（第３図
）） 第２図のような光ビーム走査装置に用いた場合の具体的
な設計パラメータを第３図に従い以下に示す。まず、再
生用光源の半導体レーザの波長は７８７ｎｍとする。ま
た、ホログラムディスク２２の作成波３１．３２は波長
３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光とし、出射点ＡＩ、Ａ
２からディスク面までの距離ｆＭ＋−ｆＨ２−１２５，
７Ｎとする。次に、このようにして作成されたホログラ
ムディスク２２の有効半径Ｒ’＝４０ｎ、入射波２６の
入射角または走査ビーム２７の出射角θｏ −４７，２
５°とする。さらに、第３図でａ−１０龍、ａ ｖ＝
５０．８２ ｍ。
）） 第２図のような光ビーム走査装置に用いた場合の具体的
な設計パラメータを第３図に従い以下に示す。まず、再
生用光源の半導体レーザの波長は７８７ｎｍとする。ま
た、ホログラムディスク２２の作成波３１．３２は波長
３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光とし、出射点ＡＩ、Ａ
２からディスク面までの距離ｆＭ＋−ｆＨ２−１２５，
７Ｎとする。次に、このようにして作成されたホログラ
ムディスク２２の有効半径Ｒ’＝４０ｎ、入射波２６の
入射角または走査ビーム２７の出射角θｏ −４７，２
５°とする。さらに、第３図でａ−１０龍、ａ ｖ＝
５０．８２ ｍ。
（嘆は角θ＝ １７．０３°、ホログラムレンズ１２の
回折波２６の出射角θｄ −６４，２８°と設定する。
回折波２６の出射角θｄ −６４，２８°と設定する。
この設定法は、特願昭６０−１６８８３０において述べ
たように、半導体レーザの波長のばらつきによる走査特
性の劣化を防止するためのものである。
たように、半導体レーザの波長のばらつきによる走査特
性の劣化を防止するためのものである。
（本発明による実施例の具体的な設計パラメータ（第１
図） 次に、この光ビーム走査装置における収差補正用ホログ
ラムレンズ１２の設計パラメータについて述べる。
図） 次に、この光ビーム走査装置における収差補正用ホログ
ラムレンズ１２の設計パラメータについて述べる。
上記最適化による第１図の各パラメータの具体的な値を
以下に示す。まず、収束球面波１３及び参照波１６は、
波長λ＋ −４８８ｎｍのＡｒレーザ光とした。そして
、凹レンズ１１の材質はＢＫ７、屈折率は波圏λ１にお
いてＮ −１，５２２、中心厚みＤ ＝ ２０．９９龍
、曲率Ｒ−６５龍であり、ホログラム基板１２からの傾
ける角α＝ １６．９５ °、１２＝１４０鶴、β３
＝ ８３．０８ ｗｒである。また、収束球面波１３は
光軸位置Ｙ ２ ＝ １４．９４３鰭、焦点距離「−１
１１１■、入射角θ＝ ２１．６９°である。一方、参
照波１６は垂直平行波とする。
以下に示す。まず、収束球面波１３及び参照波１６は、
波長λ＋ −４８８ｎｍのＡｒレーザ光とした。そして
、凹レンズ１１の材質はＢＫ７、屈折率は波圏λ１にお
いてＮ −１，５２２、中心厚みＤ ＝ ２０．９９龍
、曲率Ｒ−６５龍であり、ホログラム基板１２からの傾
ける角α＝ １６．９５ °、１２＝１４０鶴、β３
＝ ８３．０８ ｗｒである。また、収束球面波１３は
光軸位置Ｙ ２ ＝ １４．９４３鰭、焦点距離「−１
１１１■、入射角θ＝ ２１．６９°である。一方、参
照波１６は垂直平行波とする。
（本発明による走査ビームのスポット
ダイアグラム（第４図、第５図））
上記のようにして構成される光ビーム走査装置（第２図
、第３図）によって得られる走査ビーム２７のスポット
ダイアグラムを第４図に示す。但し、第１図において、
参照波１６は垂直平行波としているため、第２図におい
て収差補正用ホログラムレンズ１２に入射する波面は、
半導体レーザの垂直平行波とする。ここでは、走査ビー
ムは、回折像で１００μｍとなるように、入射ビーム径
を決定した。一方、前記（２）式によって得られる走査
ビーム２７の理論上のスポットダイアグラムを第５図に
示す。これより、各走査領域においてほとんど理想のも
のと同一の高度な収差補正結果が得られていることがわ
かる。このようにして、３００ｄｐｉ以上の高解像度の
光ビーム走査装置を得ることができる。
、第３図）によって得られる走査ビーム２７のスポット
ダイアグラムを第４図に示す。但し、第１図において、
参照波１６は垂直平行波としているため、第２図におい
て収差補正用ホログラムレンズ１２に入射する波面は、
半導体レーザの垂直平行波とする。ここでは、走査ビー
ムは、回折像で１００μｍとなるように、入射ビーム径
を決定した。一方、前記（２）式によって得られる走査
ビーム２７の理論上のスポットダイアグラムを第５図に
示す。これより、各走査領域においてほとんど理想のも
のと同一の高度な収差補正結果が得られていることがわ
かる。このようにして、３００ｄｐｉ以上の高解像度の
光ビーム走査装置を得ることができる。
ここで、第２図において半導体レーザの垂直平行波では
な（て、半導体レーザ２１からの発散波２５をホログラ
ムレンズ１２によって今述べた収差補正波２６に変換す
るためには、特願昭６０−１６８８３０の既出間で示し
たように、第１図における参照波１６を垂直平行波から
凸レンズを用いた球面収差波にすればよい。こうして半
導体レーザの発散ｅは、このホログラムレンズ１２によ
って仮想的に垂直平行波に変換され、この平行波は、収
差補正波２６に変換されるのである。
な（て、半導体レーザ２１からの発散波２５をホログラ
ムレンズ１２によって今述べた収差補正波２６に変換す
るためには、特願昭６０−１６８８３０の既出間で示し
たように、第１図における参照波１６を垂直平行波から
凸レンズを用いた球面収差波にすればよい。こうして半
導体レーザの発散ｅは、このホログラムレンズ１２によ
って仮想的に垂直平行波に変換され、この平行波は、収
差補正波２６に変換されるのである。
さらに、半導体レーザ２１の非点隔差が大きい場合には
、昭和６１年３月２０日出願の特許［（６）で本出願人
らが示したように、シリンドリカルレンズを介して得た
非点収差波面を参照波にすればよい。
、昭和６１年３月２０日出願の特許［（６）で本出願人
らが示したように、シリンドリカルレンズを介して得た
非点収差波面を参照波にすればよい。
なお、第２図におけるホログラムレンズ１２及びホログ
ラムディスク２２の配置は、特願昭６０−１６８８３０
で示したように半導体レーザ２１のモードホップによる
影響及びロフトのばらつきによる発振波長の変動の影響
を防止するように設定され、ビーム整形も同時に行うよ
うに設定されている。
ラムディスク２２の配置は、特願昭６０−１６８８３０
で示したように半導体レーザ２１のモードホップによる
影響及びロフトのばらつきによる発振波長の変動の影響
を防止するように設定され、ビーム整形も同時に行うよ
うに設定されている。
さらに、ホログラムレンズ１２としては昭和６１年３月
２０日出願の特許１１ＪＩ（２Ｓ）で作成されるホログ
ラムを用いたハイブリッドホログラムレンズを用いるこ
とも可能である。この時、昭和６１年３月２０日出願の
特許１ｆｌｉ（２！５）での参照波を、本特許の作成収
差波１４とすれば、上記同様の議論により所定の特性が
得られる。
２０日出願の特許１１ＪＩ（２Ｓ）で作成されるホログ
ラムを用いたハイブリッドホログラムレンズを用いるこ
とも可能である。この時、昭和６１年３月２０日出願の
特許１ｆｌｉ（２！５）での参照波を、本特許の作成収
差波１４とすれば、上記同様の議論により所定の特性が
得られる。
本発明によれば、走査ビームの収差を全走査領域で均等
に低減し、高解像度の光ビーム走査を実現することがで
きる光ビーム走査装置、およびホログラムレンズの実用
的な作成方法を提供することが可能となる。
に低減し、高解像度の光ビーム走査を実現することがで
きる光ビーム走査装置、およびホログラムレンズの実用
的な作成方法を提供することが可能となる。
第１図は、本発明による光ビーム走査装置におけるホロ
グラムレンズの作成方法の実施例の構成図、 第２図は、光ビーノ、走査装置の構成図、第３図は、光
ビーム走査装置の具体的な設計例を示した図、 第４図（ａ）、 （ｂ）、 （Ｃ）は、本発明により作
成されたホログラムレンズによる走査ビームのスポット
ダイアグラム、 第５図＋ｉｌｌ、 （ｂｌ、 （Ｃ）は、最適入射波φ
、Ｎ（（２）式）による走査ビームのスポットダイアグ
ラムである。 １１・・・凹レンズ、 １２・・・収差補正用ホログラムレンズ（基板）、１３
・・・収束球面波、 １４・・・収差波、 ２２・・・走査用ホログラムレンズ、 ２６・・・入射波、 ２７・・・走査ビーム、 ２８・・・簗束点。
グラムレンズの作成方法の実施例の構成図、 第２図は、光ビーノ、走査装置の構成図、第３図は、光
ビーム走査装置の具体的な設計例を示した図、 第４図（ａ）、 （ｂ）、 （Ｃ）は、本発明により作
成されたホログラムレンズによる走査ビームのスポット
ダイアグラム、 第５図＋ｉｌｌ、 （ｂｌ、 （Ｃ）は、最適入射波φ
、Ｎ（（２）式）による走査ビームのスポットダイアグ
ラムである。 １１・・・凹レンズ、 １２・・・収差補正用ホログラムレンズ（基板）、１３
・・・収束球面波、 １４・・・収差波、 ２２・・・走査用ホログラムレンズ、 ２６・・・入射波、 ２７・・・走査ビーム、 ２８・・・簗束点。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）位置的に空間周波数の分布が異なり、半導体レーザ
光である入射波（２６）を回折させてビーム走査を行う
走査用ホログラムレンズ（２２）と、半導体レーザから
出射される発散波（２５）を該ホログラムレンズ（２２
）からの走査ビーム（２７）の全走査領域での複数の集
束点（２８）における収差を均等に低減する波面を有す
る前記入射波（２６）に変換する収差補正用ホログラム
レンズ（１２）とを有することを特徴とする光ビーム走
査装置。 ２）光ビーム走査装置の製造方法において、レーザ光で
ある再生波の波長λ＿２よりも短い波長λ＿１のレーザ
光を用い、球面収差波もしくは非点収差波を参照波とし
、コマ収差波を物体波として、収差補正用ホログラムレ
ンズを作成することを特徴とする光ビーム走査装置の製
造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6084686A JPS62234118A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
| CA000515003A CA1320855C (en) | 1985-07-31 | 1986-07-30 | Laser beam scanner and its fabricating method |
| DE86401720T DE3689344T2 (de) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laserstrahlscanner und Herstellungsverfahren. |
| EP86401720A EP0214018B1 (en) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laser beam scanner and its fabricating method |
| US07/269,412 US4957336A (en) | 1985-07-31 | 1988-11-10 | Laser beam scanner and its fabricating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6084686A JPS62234118A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62234118A true JPS62234118A (ja) | 1987-10-14 |
| JPH0524490B2 JPH0524490B2 (ja) | 1993-04-08 |
Family
ID=13154137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6084686A Granted JPS62234118A (ja) | 1985-07-31 | 1986-03-20 | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62234118A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO1999042994A1 (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Kabushiki Kaisha Kenwood | Optical pickup device using hologram pattern and hologram pattern generating method |
Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS59201017A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP6084686A patent/JPS62234118A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201017A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
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| US7050207B1 (en) | 1998-02-19 | 2006-05-23 | Kabushiki Kaisha Kenwood | Optical pickup device using hologram pattern and hologram pattern generating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0524490B2 (ja) | 1993-04-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |