JP2001255480A - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

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JP2001255480A
JP2001255480A JP2000067558A JP2000067558A JP2001255480A JP 2001255480 A JP2001255480 A JP 2001255480A JP 2000067558 A JP2000067558 A JP 2000067558A JP 2000067558 A JP2000067558 A JP 2000067558A JP 2001255480 A JP2001255480 A JP 2001255480A
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JP
Japan
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light beam
light
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polarization
polarization direction
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JP2000067558A
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English (en)
Inventor
Yoshiaki Hayashi
善紀 林
Atsushi Kawamura
篤 川村
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型かつ安価な構成により、サイドローブを
低減しメインビームのビームスポット径を小さくする。 【解決手段】 光源1と偏向器7との間に、1/2波長
板からなる光変換素子4及び偏光フィルタ5を配置し
て、光源1からの光ビームの光束をカップリングレンズ
2を通してアパーチャ3の口径で入射する有効域内の光
束を光変換素子4によって通過後に偏光方向が異なる複
数の領域をもつ偏光状態の光束に変換し、偏光フィルタ
5によって特定の偏光方向の光束のみを通過させ、シリ
ンドリカルレンズ6によって副走査方向に収束させて偏
光器7に入射することにより、走査レンズ8及び9を通
ったメインビームの感光体10の走査面のビームスポッ
ト径を小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザービームプ
リンタ、普通紙ファクシミリ、デジタル複写機等の装置
に用いられる光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザービームのビームスポット
径を小さくして解像度を上げる方法が研究されている。
例えば、電子情報通信学会の信学技報999−09(液
晶超解像光学素子と光ピックアップへの応用)には、液
晶素子と偏光フィルタとを用いて、ビームスポット径を
小さくする提案が記載されている。この提案によれば、
直線偏光が液晶素子で直交直線偏光群に変換され超解像
効果が発生するとともに、サイドローブはメインローブ
と異なる方位の直線偏光に変換され、偏光フィルタでそ
のサイドローブが除去可能となる。また、特開平10−
227992号公報(ベッセルビーム発生方法及びそれ
を用いた光走査装置)には、ベッセルビームを利用して
微小なビームスポットと大きな焦点深度を得る技術が開
示されている。この技術によれば、円錐プリズムとほぼ
等価な光学特性を有するバイナリー光学素子より成る回
折光学素子にレーザービームを入射させることにより、
ベッセルビームを発生させている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら信学技報
999−09において使用されている液晶素子を光走査
装置に適用すると、装置が大きくなり、なおかつ、コス
トアップ及び消費電力の増大を招くことになる。また、
特開平10−227992号公報においては、メインビ
ームのビームスポット径を小さくすることはできても、
サイドローブはかえって大きくなるという問題がある。
本発明の課題は、小型かつ安価な構成により、サイドロ
ーブを低減しメインビームのビームスポット径を小さく
することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の光走査
装置は、光ビームの光束を発光する光源(実施形態にお
いては、図1の光源1に対応する)と、前記光源からの
光束をカップリングするカップリング光学系手段(実施
形態においては、図1のカップリングレンズ2に対応す
る)と、前記カップリング光学系手段からの光束を偏向
する偏向器(実施形態においては、図1のポリゴンミラ
ー7に対応する)と、前記光源と前記偏向器との間に、
入射する有効域内の光束に対して通過後に偏光方向が異
なる複数の領域をもつ偏光状態の光束に変換する光変換
素子(実施形態においては、図1の光変換素子4に対応
する)と光束の特定の偏光方向のみを通過させる偏光フ
ィルタ(実施形態においては、図1の偏光フィルタ5に
対応する)とを配置したことを特徴とする構成になって
いる。請求項1の構成によれば、光源からの光束をカッ
プリングした後、光変換素子によって入射する有効域内
の光束に対して通過後に偏光方向が異なる複数の領域を
もつ偏光状態の光束に変換し、偏光フィルタによって特
定の偏光方向の光束のみを通過させて、偏光器に入射す
る。上記請求項1の構成において、請求項2に記載した
ように、前記光変換素子は、直線偏光の入射光束に対し
て出射光束の偏光方向をほぼ直交するように変換する性
質を有する第1の領域と、前記直線偏光の入射光束に対
して同一の偏光方向の出射光束を出す性質を有する第2
の領域とからなることを特徴とする。また、請求項1の
構成において、請求項3に記載したように、前記前記光
変換素子は、入射する光束の有効域よりも小さい面積で
形成され、出射光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に
対しほぼ直交するように変換する性質を有することを特
徴とする。
【0005】また、請求項2又は3の構成において、請
求項4に記載したように、前記前記光変換素子は、出射
光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に対しほぼ直交す
るように変換する領域が入射する光束の有効域の中央部
に配置されていることを特徴とする。また、請求項4の
構成において、請求項5に記載したように、前記光変換
素子は、出射光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に対
しほぼ直交するように変換する面積と入射する光束の有
効域の面積との面積比が出射光束の第1次のサイドロー
ブを有効に除去する値に設定されていることを特徴とす
る。また、請求項1〜5のいずれか1項の構成におい
て、請求項6に記載したように、前記変換素子は、副走
査方向に均一な偏光特性を有することを特徴とする。ま
た、請求項1〜5のいずれか1項の構成において、請求
項7に記載したように、前記変換素子は、主走査方向に
均一な偏光特性を有することを特徴とする。また、請求
項1〜7のいずれか1項の構成において、請求項8に記
載したように、前記前記光変換素子は、主走査方向及び
副走査方向に直交する線に略並行な軸を中心に回動可能
であることを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明による光走査装置の
実施形態について図を参照して説明する。図1は、実施
形態における偏向回転面を含む平面に、光学系の手段を
展開した図である。この図において、1は光ビームを発
光する半導体レーザーからなる光源、2はカップリング
レンズ、3はアパーチャ(絞り開口)、4は光変換素子
(偏光素子)、5は偏光フィルタ(偏光素子)、6はシ
リンドリカルレンズ、7はポリゴンミラー(偏向器)で
ある。8及び9は走査レンズ、10は感光体である。図
1において、光源1から発光して発散したレーザー光は
カップリングレンズ2によってカップリングされて一定
の偏光方向の光束となり、アパーチャ3に応じた有効域
の光束として光変換素子4に入射する。この光変換素子
4は、中央部が1/2波長板、周辺部が均質なガラス板
で構成されている。したがって、光変換素子4では、入
射した光束の有効域内の中央部と周辺部で偏光方向が異
なる複数の領域をもつように通過後の光束の偏光状態を
変換する。すなわち、図2に示すように、偏光方向が副
走査方向に対して垂直な方向(紙面に対して垂直なAの
方向)の光束が光変換素子4に入射すると、光変換素子
4の中央部を通過した光束は偏光方向が光軸を中心に9
0度回転し、偏光方向が副走査方向に対して水平な方向
(紙面に対して水平なBの方向)の光束に変換されて出
射する。一方、光変換素子4の周辺部を通過した光束
は、偏光方向は変化せず、偏光方向が副走査方向に対し
て垂直な方向(紙面に対して垂直なCの方向)の光束で
出射する。図3は、光変換素子4を異なる条件で通過し
たと仮定した場合の光束が、走査レンズによって結像し
たときの振幅分布を示している、破線で示す(A)は、
光変換素子4に入射した光束の全範囲を通過したと仮定
した場合の振幅分布である。一点鎖線でしめす(B)
は、光変換素子4の中央部を入射光束が通過したと仮定
した場合の光束の振幅分布であり、広がったビームとな
っている。実線で示す(C)は、光変換素子4の周辺部
を入射光束が通過したと仮定した場合の光束の振幅分布
であり、(A)の分布に比べて、メインビームは小さく
サイドローブは大きい分布になっている。
【0007】ところで、偏光方向が互いに直交している
(B)及び(C)の光束は干渉しないので、図2に示す
ような紙面に対して垂直なAの方向の光束に対して、光
変換素子4のみを挿入すると、ビームプロファイルは図
4に示すように、小さいビームスポットのメインビーム
の両側にサイドローブ部分をもつ形状になる。図5
(a)は、図4のビームプロファイルをB部分とC部分
の合成として示したベクトル図である。ところが実際
は、サイドローブ部分の位相は反転しているので、図5
(b)に示すようにB部分と位相が反転した−C部分の
合成となる。したがって、図5(a)におけるDの方向
すなわちB部分と−C(マイナスC)部分の合成方向に
垂直な方向の直線偏光のみを通過させるような偏光フィ
ルタ(直線偏光子)5を光変換素子4の後に挿入するこ
とにより、サイドローブ部分のみを除去し、ビームスポ
ット径の小さいメインビームを得ることが可能になる。
しかもこの場合において、1/2波長板の光変換素子4
及び直線偏光子からなる偏光フィルタを用いるので、小
型で安価な構成でビームスポット径の小さいメインビー
ムを得ることが可能になる。またこの場合において、光
変換素子4は、直線偏光の入射光束に対して出射光束の
偏光方向を入射光束の偏光方向に対しほぼ直交するよう
に変換する性質を有する中央部の1/2波長板の領域
と、直線偏光の入射光束に対して同一の偏光方向の出射
光束を出す性質を有する周辺部のガラス板の領域とから
なる構成になっているので、小型で安価な構成でビーム
スポット径の小さいメインビームを効率よく得ることが
可能になる。なおこの場合において、図6に示すよう
に、光束の有効域より小さい1/2波長板11をカップ
リングレンズ2に接着等により装着する構成にしてもよ
い。光変換素子11は、入射する光束の有効域よりも小
さい面積で形成され、出射光束の偏光方向を入射光束の
偏光方向に対しほぼ直交するように変換する性質を有す
る。この場合には、光変換素子11とカップリングレン
ズ2とを一体化することにより、さらに小型化及びコス
トダウンを図ることができる。さらにこの場合におい
て、光変換素子11は、図7に示すように、出射光束の
偏光方向を入射光束の偏光方向に対しほぼ直交するよう
に変換する面積SCと、入射する光束の有効域の面積S
との面積比が、出射光束の第1次のサイドローブを有効
に除去する値に設定されている。したがって、偏光フィ
ルタ5の偏光特性の方向があらかじめ定まっていれば、
この面積比を適切に設定することにより、出射光束の第
1次のサイドローブを有効に除去することができる。
【0008】一般に、走査光学系は主走査方向と副走査
方向で光学系のパワー配置が異なっており、光束径も異
なっている。このため、光学系によっては主走査方向に
ついて、図5(b)に示すようにサイドローブを有効に
除去できるが、副走査方向については逆にサイドローブ
が大きくなる可能性もある。そのような不具合を解消す
るために、図8又は図9に示すような光変換素子12又
は13を用いる。図8に示す光変換素子12は、副走査
方向には均一な偏光特性を有し、主走査方向の中央部が
1/2波長板となっている。したがって、主走査方向の
ビームスポット径を小さくでき、サイドローブを除去で
きる。一方、図9に示す光変換素子13は、主走査方向
には均一な偏光特性を有し、副走査方向の中央部が1/
2波長板となっている。したがって、副走査方向のビー
ムスポット径を小さくでき、サイドローブを除去でき
る。また、計算によって偏光フィルタ5の偏光軸をどこ
に設定すれば良いかは導出できるが、実際には光源1を
構成する半導体レーザーの発散角のばらつき等により、
適切な設定値がずれてくる。そこで、適切な設定値を得
るために、光変換素子4を、主走査方向及び副走査方向
に直交する線に略並行な軸を中心に回動可能な構成にす
る。なお、上記実施形態においは、図6に示したよう
に、1/2波長板の光変換素子11をカップリングレン
ズ2に装着する構成にしたが、図10に示す変形例のよ
うに、この光変換素子11をシリンドリカルレンズ6の
入射側の面に装着し、さらにシリンドリカルレンズ6の
出射側の面に偏光フィルタ5を装着する構成にしてもよ
い。この場合にも、光変換素子11、シリンドリカルレ
ンズ6、及び偏光フィルタ5とを一体化することによ
り、さらに一層、小型化及びコストダウンを図ることが
できる。また、上記実施形態又は変形例においては、カ
ップリングレンズ2の面に光変換素子11又はシリンド
リカルレンズ6の面に光変換素子11及び偏光フィルタ
5を装着する構成にしたが、光変換素子及び偏光フィル
タの偏光特性を有するコーティングを施す構成にしても
よい。この場合には、部品点数を低減することにより、
なお一層の小型化及びコストダウンを図ることができ
る。また、本発明は、最大強度の1/e^2径で定義さ
れるビームスポット径が60μm以下のときに最も効果
を発揮する。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば、光源からの光束をカッ
プリングした後、光変換素子によって入射する有効域内
の光束に対して通過後に偏光方向が異なる複数の領域を
もつ偏光状態の光束に変換し、偏光フィルタによって光
束の特定の偏光方向のみを通過させて、偏向器に入射す
る。したがって、小型かつ安価な構成により、サイドロ
ーブを低減しメインビームのビームスポット径を小さく
することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態における光走査装置の構成を
偏向回転面から見た図。
【図2】図1における光変換素子及び偏光フィルタの部
分の拡大図。
【図3】異なる条件の仮定における走査光学系により結
像する振幅分布を示す図。
【図4】図1において偏光フィルタを除いた場合のビー
ムプロファイルを示すず図。
【図5】メインビームとサイドローブとの合成を示すベ
クトル図。
【図6】光学変換素子をカップリングレンズに装着した
実施形態の変形例の構成を偏向回転面から見た図。
【図7】光変換素子における光束の有効域の面積及び変
換する領域の面積を示す図。
【図8】他の実施形態における光変換素子の1/2波長
板の部分を示す平面図。
【図9】さらに他の実施形態における光変換素子の1/
2波長板の部分を示す平面図。
【図10】光学変換素子をシリンドリカルレンズに装着
した実施形態の変形例の構成を偏向回転面から見た図。
【符号の説明】
1 光源 2 カップリングレンズ 3 アパーチャ 4、11,12,13 光変換素子 5 偏光フィルタ 6 シリンドリカルレンズ 7 ポリゴンミラー 8、9 走査レンズ 10 感光体

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ビームの光束を発光する光源と、 前記光源からの光束をカップリングするカップリング光
    学系手段と、 前記カップリング光学系手段からの光束を偏向する偏向
    器と、 前記光源と前記偏向器との間に、入射する有効域内の光
    束に対して通過後に偏光方向が異なる複数の領域をもつ
    偏光状態の光束に変換する光変換素子と、光束の特定の
    偏光方向のみを通過させる偏光フィルタとを配置したこ
    とを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記光変換素子は、
    直線偏光の入射光束に対して出射光束の偏光方向を入射
    光束の偏光方向に対しほぼ直交するように変換する性質
    を有する第1の領域と、前記直線偏光の入射光束に対し
    て同一の偏光方向の出射光束を出す性質を有する第2の
    領域とからなることを特徴とする光走査装置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記光変換素子は、
    入射する光束の有効域よりも小さい面積で形成され、出
    射光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に対しほぼ直交
    するように変換する性質を有することを特徴とする光走
    査装置。
  4. 【請求項4】 請求項2又は3において、前記光変換素
    子は、出射光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に対し
    ほぼ直交するように変換する領域が入射する光束の有効
    域の中央部に配置されていることを特徴とする光走査装
    置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記光変換素子は、
    出射光束の偏光方向を入射光束の偏光方向に対しほぼ直
    交するように変換する面積と入射する光束の有効域の面
    積との面積比が出射光束の第1次のサイドローブを有効
    に除去する値に設定されていることを特徴とする光走査
    装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項において、
    前記光変換素子は、副走査方向に均一な偏光特性を有す
    ることを特徴とする光走査装置。
  7. 【請求項7】 請求項1〜5のいずれか1項において、
    前記光変換素子は、主走査方向に均一な偏光特性を有す
    ることを特徴とする光走査装置。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項において、
    前記光変換素子は、主走査方向及び副走査方向に直交す
    る線に略並行な軸を中心に回動可能であることを特徴と
    する光走査装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267712A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2008268586A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2009053379A (ja) * 2007-08-27 2009-03-12 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2010127992A (ja) * 2008-11-25 2010-06-10 Ricoh Co Ltd 光走査装置、画像形成装置及び多色画像形成装置

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