JPS62230273A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JPS62230273A
JPS62230273A JP61073477A JP7347786A JPS62230273A JP S62230273 A JPS62230273 A JP S62230273A JP 61073477 A JP61073477 A JP 61073477A JP 7347786 A JP7347786 A JP 7347786A JP S62230273 A JPS62230273 A JP S62230273A
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Makoto Monoi
誠 物井
Hironari Goto
後藤 弘成
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、例えば、カメラの自動焦点装置(A F =
Auto FOCLIS)の受光素子その他ニ用イられ
る電荷結合素子(COD)を用いた固体撮像装置に関す
る。
(従来の技術) 固体撮像装置の一利用形態として、例えばカメラの自動
焦点装置の受光素子としての固体ライン廿ンサがある。
第14図から第19図に従来の固体ラインセンサの一例
についての構成、電位分布、および印加パルスのタイミ
ングを示す。
第14図及び第15図において、感光画素領域1は入射
光量に応じた信号電荷を発生し、この感光画素領域1は
、第15図に示すように、例えばP形の半導体基板2に
形成されたN形の不純物領域である。感光画素領域1で
発生した信号電荷が所定の母を越えたときには、その信
号電荷は制御電極3を介して蓄積部4に流入づ゛る(第
16図参照)。制御電極3には一定の電圧が印加されて
おり、この一定電圧により感光画素領域1から蓄積部4
に流入する信号電荷のスレッショルド値が一義的に決め
られる。また、蓄積部4における信号電荷の蓄積量は蓄
積部4に設りられた蓄積電極5に印加される一定電圧値
により一義的に決められる。
蓄積部4に蓄積された信号電荷はシフトゲート6を介し
て所定のタイミングでCCD型の転送レジスタ7に流入
する。このようにして複数の感光画素領域1から転送レ
ジスタ7に並列に信号電荷が流入する。
転送レジスタフには転送ゲート8およびN形の埋め込み
チャンネル9が設【ノられており、転送ゲート8に所定
の転送用パルスが印加されると出力バッファ10から所
望の出力信号が得られるようになっている。
なお、制御電極3、蓄積電極5、シフトゲート6、およ
び転送ゲート8は半導体基板2上に絶縁層61を介して
設けられたポリシリコン層等により構成される。
また、第17図に示すように、蓄積部4には積分クリア
ゲート62を介してオーバーフロードレイン領域63が
隣接して設【プられている。第18図に示すように、積
分クリアグー1−62に所定の信号パルスが印加される
ことにより、蓄積部4から前記パルスが印加されること
ににす、蓄積部4から前記オーバーフロードレイン領域
63へと不要電荷が排出される。この前記オーバーフロ
ートレイン領域63は例えばN形の不純物領域に構成さ
れる。
第19図に積分クリアゲート62およびシフトゲート6
に印加される信号パルスを示り一6感光画素領域1で得
られた信号電荷を蓄積部4に流入さUるに先立って、ま
ず、積分クリアゲート62をオンして前記蓄積部4から
前記オーバーフロートゲレイン領域63へと不要電荷を
排出させる。
次に、前記積分クリアゲート62をオフして蓄積期間T
sだけ信号電荷を蓄積部4に蓄積させる。
この蓄積電荷はシフトゲート6に期間lshだりパルス
を印加することにより、転送レジスタ7に転送される。
転送レジスタ7は例えば2相りロック駆動方式により駆
動され、信号電荷が転送されるときには転送ゲート9に
は信号パルスが印加されてハイレベル状態になっている
。また、このとき、第16図に示すうに、感光画素領域
1は浮遊状態になっており、その電位は制m+i極3下
の電位と等しくなっている。
(発明が解決しようと覆る問題点) しかしながら、このような従来の固体撮像装置にあって
は、次のような問題点がある。
まず、第1の問題点は、被写体が暗くて感光画素領域1
で得られる信号電荷量が少ないときに暗電流(光電変換
減少以外の主として熱的原因により半導体基板2内で発
生した再結合電流)の割合が無視できない程大きくなり
、AFlf!J能が十分に働かなくなってしまうことで
ある。
また、第2の問題点は、被写体が非常に明るいときにも
、AFIa能が十分に働かなくなってしまうことである
即ち、蓄積部4への信号電荷の蓄積が終了したと判断さ
れた後にシフトゲ−1−〇に時間Tshだ【プパルスが
印加されるが、期間1−sbの間にも感光画素領域では
電荷が発生している。この間の電荷が、被写体が非常に
明るいときには、制御I電極3を介して蓄積部4へと流
入し、ざらに、転送レジスタ7へと流入した後に出力部
10から出力されてしまうこととなる。
このような自体の発生を抑えるために全蓄積期間TSに
占める期間TShの割合を通常は10%以下に設定して
いるが、規格TS11の最短時間についでも限界があり
、そのため、被写体が非常に明るいときには、出力信号
が飽和してしまい、AFIfi能が十分に働かなくなっ
てしまうのである。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、暗電流
が信号電荷に占める割合を制御して入射光量が少ない場
合でも極めて多い場合でも適切な出力信号を得ることが
できる固体撮像装置を提供することを目的とする。
〔発明の椛成〕
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明による固体撮像装置は
、入射光を受光して当該入射量に応じた信号電荷を発生
する感光画素領域と、この感光画素領域から流入する信
号電荷を一時的に蓄積1′る一時蓄積部と、この一時蓄
積部からの信号電荷量に応じた出力信号を発生ずる出力
部と、前記感光領域から前記一時蓄積部への信号蓄積部
から前記出力部への信号電荷の転送を制御する第2の制
御手段と、前記入射光量が所定値に達しているか否かを
判断するモニタ手段と、このモニタ手段の判断結果に応
じて前記信号電荷の蓄積場所を前記感光画素領域または
前記一時蓄積部のいずれかに切り換えるよう前記第1お
よび第2の制御手段を操作する操作部とを備えたことを
!lh徴とする。
(作 用) 本発明による固体撮像装置によれば、モニタ手段により
入射光量が少ない(イバ照度)と判断されたときには信
号電荷の蓄積場所を感光画素領域とすることにより暗電
流(主どして一時蓄積部で発生する暗電流)が信号電荷
に占める割合を制御して適切な出力信号を得ることがで
きるとともに、−しニタ手段により入射光間が多い(高
照度)と判断されたときには信号電荷の蓄積場所を一時
蓄積部とすることにより第1の制御手段を操作するだり
で蓄積を終了させることにより信号電荷の蓄積動作を高
速度で行うことを可能にして適切な出力信号を得ること
ができる。
(実施例) 以下、本発明を図示する実施例に基づいて詳述する。
第1図から第6図に本発明の第1の実施例ににる固体撮
像装置を示す。第1図および第2図において、′P型の
半導体基板11上には複数の感光画素領域12が形成さ
れ、これら感光画素領域12により入射光量に応じた信
号電荷が得られるようになっている。感光画素領域12
は、第2図の示すように、半導体基板11(P形)と、
この半導体基板11と逆導電形(N形第1不純物層13
と、この第1不純物層13上に形成され且つ半導体基板
11と同導電形(P+形)の第2不純物層14と、から
成る三層構造を有している。この三層構造は埋め込み感
光ダイオード(3uricd p hot。
[) 1ode・・・BPD)と呼ばれ、第1不純物層
13が空乏化されてその空乏化容Mに信号電荷が蓄積さ
れるように各層13.’14の濃度および厚ざが決めら
れでいる。また、第2不純物層1’/Iは設置されてお
り、感光画素領域12の半導体基板11の表面での暗電
流の発生が制御されている。各感光画素領域12には、
第1の制御手段としての制御グー1〜15を介して、一
時蓄積部16が隣接して設けられ、この一時蓄積部16
の電位は蓄積電極16Δに印加される電圧により一定に
保たれている。各一時蓄積部16は各感光画素領域12
から流入する信号電荷を一時的に蓄積し、また制御グー
1〜15は感光画素領域12から一時蓄積部16への信
号電荷の流入を制御するようになっている。
また、各−一蓄積部16にはシフトグー1へ17を介し
て共通の転送レジスタ18が隣接して設【プられ、シフ
トゲート17おにび転送レジスタ18により第2の制御
手段19が構成されている。複数の一時蓄積部16から
転送レジスタ18へは並列的に信号電荷が流入し、シフ
トゲ−1−17はこの際の信号電荷の流入を制御ザる。
また、転送レジスタ18には転送ゲート20 J′3.
J:びN形の埋め込みチャンネル21が設()られてい
る。転送レジスタ18には出力部22が接続され、この
出力部22は転送レジスタ18からの信号電荷Mlに応
じ    5、た出力信号を発生するようになっている
また、一時蓄積部16には、積分クリアーゲート24を
介して、一時蓄積部用オーバーフロードレイン領域25
が隣接して設【ノられ、一時蓄積部の不要電荷が積分ク
リアグー1〜の制御下で一時蓄積部用オーバーフロード
レイン領域25へと排出されるようになっている。
さらに、制御ゲート15、シフトゲート17、転送レジ
スタ18、および積分クリアゲート24の各々は操作部
26に接続され、この操作部26によって感光画素領域
12で発生した信号電荷の蓄積場所が感光画素領域12
または一時蓄積部16のいずれかに切り換えるようにし
て信号電荷が出力部22へと転送されるようになってい
る□。
また、操作部26にはモニタ手段27が接続されている
。このモニタ手段27は、感光画素領域の入射光量が所
定の値に達しているか否かを判断し、その判断結果に応
じて操作部26が信号電荷の蓄積場所を前記感光画素領
域12または前記一時蓄積部16のいずれかに切り換え
るようになっている。
なお、制御ゲート15、?b槓電極16Δ、シフトゲー
ト17、転送ゲート20、および積分クリアゲート24
は半導体基板11上に絶縁層28を介して設けられたポ
リシリコン層により構成される。
次に、本実施例の動作につき第3図から第6図を参照し
て説明する。
まず、モニタ手段27が低照度であると判断したときの
動作につぎ説明する。このときの動作を感光画素領域蓄
積モードと呼ぶ。
この感光画素領域蓄積モードは、制御ゲート15と積分
クリフゲート24とを同時にオンして(第4図中の期”
間T” a参照)、感光画素領域12と一□時蓄積部1
6の電荷をすべて一時蓄積部用オーバーフロートレイン
領域25へと排出することにより始まる。ついで、制御
グー1〜15と積分クリアゲート24とをオフして感光
画素領域12に信号電荷を蓄積させる(第4図中の期間
Tb)。
蓄積期間が収量すると、積分クリツプ−1〜24を一旦
オンして(第4図中の期間Tc )一時蓄積部16の不
要電荷(主として暗電流)を再び排出した後、制御ゲー
ト15を一旦オンして(第4図中のm間Td )感光画
素領域12から一時蓄積部16へと信号電荷を転瑳Jる
。なお、制御ゲー1−15がオン状態のときは、制御ゲ
ート15下の電位は感光画素領域12と一時蓄積部16
の中間の電位にある。
このような感光画素領域蓄積モードで【ま、感光画素領
域12で信号電荷を蓄積さぼるため、切言ずれば、全蓄
積期間Ts、、(第4図参照)のうちの大部分である期
間Tbについては一時蓄積部16で発生した暗電流が信
号電荷に全く混入することがないため、暗電流が信号電
荷に占める割合を制御できる。したがって、低照度の場
合でも適切な出力信号を得ることができる。
なお、蓄積収蚤の際に、積分り2リアゲート24をオン
し始めてから制御ゲート150オン状態が終了するまで
の期間TOが誤差発生の原因どなる。
しかし、感光画素領域蓄積モードは低照度で動作させる
ものであり、全蓄積期間Tsは長く、全蓄積期間7sに
占める期間Toの割合が低く、大きな、誤差を生じさせ
ることとはならない、。   。
次に、モニタ手g227が高熱1哀であると判断したと
きの動作につき、第3図および第5図を参照して、説明
する。このときの動作を一時蓄積部蓄積モードと呼ぶ。
この一時蓄積部蓄積モードにおいては、制御ゲート15
をオンした状態で積分クリアゲ−1−24をオンして(
第5図中の期間Ta)、感光画素領域12と一時蓄積部
16の電荷を1−べて一時蓄積部用オーバーフロードレ
イン領域25へと排出することにより始まる。ちいで、
積分クリアゲート24のりをオフし、制御グー1−15
のオン状態は雛持する。制御ゲー1へ15がオン状態の
ときは、制御ゲート15下の電位は感光画素領域12と
一時蓄積部16の中間の電位にあり、感光画素領域12
で発生した信号電荷は次々に一時蓄積部16へと流入し
ていく。蓄積期間が終了したときは、制御ゲート15を
オフする。このときの全蓄積期間は第5図中の期間TS
である。
この一時蓄積部蓄積モードでは、制御グー1〜15をオ
フするだりで蓄積の終了を完了することができるので、
蓄積の終了を判断してから実際に蓄積を終了させるまで
の時間的ずれを原理的に零。
とすることができる。したがって、最短蓄積期間を大幅
に短縮させることができる。蓄積期間が短縮されればさ
れる程、それに比例して受光可能な照度の大きさが増す
ため、この−ような最短蓄積期間の大幅な短縮により、
受光可能な最大照度が大幅に向上することとなる。
なお、このような一時蓄積モードでは、感、元画素領域
12での光電変換中に一時蓄積部16で発生する暗電流
が信号電荷にそのまま含まれ灸こととなる。しかし、暗
電流の発生量は時間に比例し、この一時蓄積部蓄積モー
ドでは高照度であるため、蓄積期間は極めて短い。その
ため、蓄積モードでの信号電荷中に含まれる暗電流の割
合は低く問題はない4゜              
  1第6図はモード切り換え動作時のパルスタイミン
グを示していφ。゛しニタ手段27のモニタ出力が所定
のレベルに達しないときく低照度時)は、感光画素領域
モードどなる。図中、期間Tslの問にモニタ出力が所
定のレベルを越える(高照度時)と、モード切り換えが
行われて一時蓄積部蓄積モードとなり、止金T s、 
2の間蓄積が行われるようになる。
なお、両モード共に蓄fft JJJ間の終了後には信
号電荷は一時蓄積部に一時的に蓄えられ、その後、シフ
トゲート17を期間Tshだ(プAンして転送レジスタ
18に信号を転送する。
このような第1の実施例によれば、感光画素領1域12
が前記の三層構造を有しているため、単なるP N、接
合型の感光画素領域に比較して感光画素領域12自体の
暗電流も大幅に減少する。
次に1.前記以外の実施例りつき説明するが、第7図か
ら第10図を用いて本発明の第2の実施例による固体撮
像装置を説明づ−る。前記実施例と同一もしくは近似す
る部分は同一符号を用いて年明を省略する。
本実施例では、第7図に示すように、一時蓄積部16の
蓄積電極16Aは負荷抵抗31を介して電源側に接続さ
れるとともに並列接続されたトランジスタ32,33を
介してアース側にも接続されている。これらトランジス
タ32.33のうちの一方のトランジスタ32のグー1
〜は積分クリアゲート24に接続され、他方の]・ラン
ジスタ33のゲートはシフトゲート17に接続されてい
る。
この付加回路により蓄積゛電極16Δには、シフトゲー
ト17および積分クリアゲート24が共にオフ状態のと
きにはハイレベル電圧(電源電圧)が印加され、シフト
ゲート17あるいき積分クリアゲート24のいずれか一
方がオン状態のときにきローレベル電圧(接地電圧)が
印加されることとなる。したがって、第8図、第9図に
示すように、一時蓄積部16に信号電荷を蓄積させると
きには一時蓄積部16の電位井戸が深くなる。
前出の第1の実施例では制御ゲート15下の電位を感光
画素領域12と一時蓄積部16の電位の中間の値とし且
つ各電位間の段差をある程度以上確保しなりればならな
い。そのため、第1の実施例では各電極(ゲート)に印
加する電圧条件が複雑となり、印加パルスのタイミング
も高精度が要求されることとなる。これに対して、本実
施例では、一時蓄積部16の電位を可変とすることによ
り信号電荷の流出入や蓄積が確実で容易となる。
次に、本発明の第3の実施例による固体撮像装置を第1
1図および第12図を用いで説明する。
本実施例では、感光画素領域12の不要電荷を排出する
だめの感光画素領域用オーバーフロードレイン領域41
が、電位障壁領域42を介して、感光画素領域12に隣
接して設置ノられている。感光画素領域用オーバーフロ
ートレイン領域41は高濃度のN影領域であり、正電圧
が印加されている。
また、電位障壁領域42は感光画素領域12よりも浅い
電位井戸が形成されるように第1の不純物13よりも低
濃度に形成されている。
このにうな本実施例によれば、制御ゲート15がオフし
ている間、感光画素領域12で発生した電荷が感光画素
領域12を溢れ出して一時蓄槓部16に流入することを
防止することができるという効果がある。
第13図に本発明の第4の実施例による固体銀=  1
9 − 像装置を示す。本実施例では、制御ゲート15の不要電
荷を排出するだめの第1の制御手段用オーバーフロード
レイン領域としての制御ゲート用オーバーフロートレイ
ン領域51が、電位障壁52を介して、制御ゲート15
に隣接して設りられている。
本実施例は第1〜3の実施例をさらに改良したものであ
る。即ち、第1〜3実施例では感光画素領域12と一時
蓄積16の電荷をすべて同時に排出させたいときには制
御ゲート15はハイレベルで蓄積電極16Δはローレベ
ルとなり、制御ゲート15の印加電圧によっては制御ゲ
ート15下の電位の方が一時蓄積部16の電位よりも深
くなり(第8図参照)、電荷を一時蓄積部16から積分
クリアゲート24へと排出できなくなるおそれがある。
しかしながら、本実施例では、このようなときにも制御
ゲート用オーバーフロードレイン領域51から確実に“
電荷を排出できる。
さらに、上記各実施例では、信号電荷が感光画素領域1
2に蓄積されるときの出力部22の利得が、信号電荷が
一時蓄積部16に蓄積されるときの出力部22の利得よ
りも大きくなるよう構成されていることが好ましい。こ
のにうに構成された出力部22を用いるとすれば、最短
蓄積期間で扱える電荷mを大きくすることが可能となり
、受光可能最大照痕を一層大きくすることができる。
また、上記各実施例は本発明がAF装置として用いられ
る場合につき説明したが、本発明による固体撮像装置は
以外の装置にも適用しうろことはいうまでもない。
〔発明の効果〕
以上の通り、本発明によれば、暗電流が信号電荷に占め
る割合を抑制して入射光量が少ない場合にも適切な出力
信号を得ることができるとともに、信号電荷の蓄積動作
を高速度で行うことを可能にして入射光量が極めて多い
場合にも適切な出力信号を得ることができる。例えば、
AF装置として用いられるときには、暗い被写体から明
るい被写体までの広い範囲にわたりAFIi能を十分に
果たすことのできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例による固体撮像装置の平
面図、第2図は同固体撮像装置のII −II線断面図
、第3図は第2図の電位を示す電位状態図、第4図、第
5図、第0図はそれぞれ同固体撮像装置における感光画
素領域蓄積モード、一時蓄積部蓄積モード、およびモー
ド切り換え時のパルスタイミングを示すタイムチャート
、第7図は本発明の第2の実施例による固体撮像装置を
示ず平面図、第8図および第9図は同固体撮像装置にお
()る電位を示す電位状rフ図、第10図は同固体撮像
装置おけるパルスタイミングを示すタイムチャート、第
11図および第12図は本発明の第3の実施例による固
体撮像装置の断面図および電位を示す電位状態図、第1
3図は本願の第4の実施例による固体撮像装置を示す平
面図、第14図は従来の固体撮像装置の一例を示J平面
図、第15図は従来の固体撮像装置のxv−xv線断面
図、第16図は第15図の電位を示づ一電位状態図、第
17図は従来の固体撮像装置の断面図、第18図は第1
7図の電位を示す電位状態図、第19図は従来の固体撮
像装置のパルスタイミングを示り゛タイムチャートであ
る。 11・・・半導体基板、12・・・感光画素領域、13
・・・第1不純物層、14・・・第2不純物層、15・
・・第1の制御手段としての制御グー1〜.16・・・
一時蓄積部、16A・・・蓄積電極、17・・・シフト
ゲート、18・・・転送レジスタ、19・・・第2の接
触手段、20・・・転送ゲート、21・・・埋め込みチ
ャンネル、22・・・出力部、24・・・積分クリアグ
ー1〜.26・・・操作部、27・・・モニタ手段、2
8・・・絶縁層、31・・・負荷抵抗、32.33・・
・トランジスタ、41・・・感光画素領域用オーバーフ
ロートレイン領域、42.52・・・電位障壁領域、5
1・・・制御ゲート用オーバーフロードレイン領域。 出願人代理人  佐  藤  −雄 第1図 第2図 旧 第3図 第4図 シフトゲート T。 第5図 第7図 O 第9・図 第10図 1 \h        礪1^ 〃/ 、41 簗14図 第15図 檗17図 第18図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、入射光を重厚して当該入射量に応じた信号電荷を発
    生する感光画素領域と、この感光画素領域から流入する
    信号電荷を一時的に蓄積する一時蓄積部と、この一時蓄
    積部からの信号電荷量に応じた出力信号を発生する出力
    部と、前記感光画素領域から前記一時蓄積部への信号電
    荷の流入を制御する第1の制御手段と、前記一時蓄積部
    から前記出力部への信号電荷の転送を制御する第2の制
    御手段と、前記入射光量が所定値に達しているか否かを
    判断するモニタ手段と、このモニタ手段の判断結果に応
    じて前記信号信号電荷の蓄積場所を前記感光画素領域ま
    たは前記一時蓄積部のいずれかに切り換えるよう前記第
    1および第2の制御手段を操作する操作部とを備えたこ
    とを特徴とする固体撮像装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記感
    光画素領域は、半導体基板と、この半導体基板と逆導電
    形の第1の不純物層と、この第1の不純物層上に形成さ
    れ且つ前記半導体基板と同導電形の第1の不純物層とか
    ら成る三層構造を有することを特徴とする固体撮像装置
    。 3、特許請求の範囲第1項または第2項記載の装置にお
    いて、前記一時蓄積部の不要電荷を排出するための一時
    蓄積部用オーバーフロードレイン領域が、積分クリアゲ
    ートを介して、前記一時蓄積部に隣接して設けられてい
    ることを特徴とする固体撮像装置。 4、特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれかに記載
    の装置において、前記第2の制御手段は、前記一時蓄積
    部の信号電荷を前記出力部に転送する電荷転送部と、前
    記一時蓄積部から前記電荷転送部への電荷の流入を制御
    するシフトゲートとを有することを特徴とする固体撮像
    装置。 5、特許請求の範囲第3項または第4項記載の装置にお
    いて、前記一時蓄積部は、前記一時蓄積部の電位井戸を
    制御する蓄積電極を有し、この蓄積電極には、前記シフ
    トゲートおよび前記積分クリアゲートが共にオフ状態の
    ときにはハイレベル電圧が印加され、前記シフトゲート
    あるいは前記積分クリアゲートのいずれか一方がオン状
    態のときにはローレベル電圧が印加されることを特徴と
    する固体撮像装置。 6、特許請求の範囲第1項乃至第5項のいずれかに記載
    の装置において、前記感光画素領域の不要電荷を排出す
    るための感光画素領域用オーバーフロードレイン領域が
    、前記感光画素領域に隣接して設けられていることを特
    徴とする固体撮像装置。 7、特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載
    の装置において、前記第1の制御手段の不要電荷を排出
    するための第1の制御手段用オーバーフロードレイン領
    域が、前記第1の制御手段に隣接して設けられているこ
    とを特徴とする固体撮像装置。 8、特許請求の範囲第1項乃至第7項のいずれかに記載
    の装置において、信号電荷が前記感光画素領域に蓄積さ
    れるときの前記出力部の利得が、信号電荷が前記一時蓄
    積部に蓄積されるときの前記出力部の利得よりも大きい
    ことを特徴とする固体撮像装置。
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