JPS62226934A - ノルボルネン誘導体 - Google Patents

ノルボルネン誘導体

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JPS62226934A
JPS62226934A JP6897586A JP6897586A JPS62226934A JP S62226934 A JPS62226934 A JP S62226934A JP 6897586 A JP6897586 A JP 6897586A JP 6897586 A JP6897586 A JP 6897586A JP S62226934 A JPS62226934 A JP S62226934A
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JP
Japan
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formula
group
represented
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norbornene derivative
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JP6897586A
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English (en)
Inventor
Hisao Kitano
尚男 北野
Fumio Tanimoto
文男 谷本
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Petrochemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は石油化学工業において得られるビニルノルボル
ネン、エチリデンノルボルネンまたはエチルノルボルネ
ンを原料として、他のノルボルネン化合物を合成するた
めの有力な基本的技術となりうるものであや、また本製
品は香料、可塑剤。
架橋剤1反応性希釈剤、生化学的薬物等として産業上の
利用分野は広いものである。
〔従来の技術〕、〔発明が解決しようとする問題点〕 ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネンまたはエ
チルノルボルネンにおける環内二重結合の選択的反応性
を利用して、それぞれに相当するカルボニル基を有する
ノルボルナンもしくはその類縁化合物を合成し、これか
らさらに有力な合成中間物である本発明の製品を得よう
とするような技術は従来知られていす、またその製品も
存在していない。ここにおいて本発明者らは永年にわ友
り研究を重ね努力を傾注してきた結果、今般本発明にい
う新規なノルボルネン誘導体を開発することに成功した
のである。
〔問題点を解決するための手段〕、〔作用〕本発明は下
記の一般式(1)で表わされる新規なノルボルネン誘導
体に関するものである。
ただし式<1)において比はビニル基、エチリデン基ま
たはエチル基のいずれかを表わし、 R2,R1は水酸
基、アルコキシ基、ヒドロキシメチル基、アルコキシメ
チル基、アシル基、アシロキシ基、カルボキシル基、カ
ルボアルコキシ基、アシロキシメチル基、シアン基、カ
ルボアミノ基よりなる群から選ばれた少くとも一つの原
子団であり、また&、R3のいずれか一つが水素原子ま
たはアルキル基であってもよく、へは単結合または二重
結合を表わすものである。
式(1)で示される化合物のうち特に重要なものは以下
に示す式CI[)〜(亘)で表わされる新規なノルボル
ネン誘導体である。ただし弐〇D〜(XI)においてR
4゜陀というのは水素原子またはアルキル基を、(I>
(I)、(■)式の場合は更にアシル基をも、また(「
)式の場合には水酸基をも表わしこれらは同一でも別異
でもよく、またnは0または1の整数を表わすものとす
る。
本発明の新規なノルボルネン誘導体を合成する友めにい
くつかの方法が含まれているが1代表的なものを上式(
1)〜傭)の追白な化合物に当てはめて以下に例示して
みることにする。
このウイツチツヒ反応を用いる方法は実肢室的には大抵
のものが合成できる点で便利であるが。
原料的な面の制約があり、や−安価でない短所がある。
この方法はグリニヤール型、ヴルツ型またはウルマン型
の反応にあたるもので原料の構造によって収率が上下す
るとともに副生成物の種類も一般に多いようであるが、
特定の化合物の合成には安価な方法である。
このアルドール縮合反応は原料により自己縮合物その他
の副生成物ができる欠点はあるが条件が設定されれば工
業的に広〈実施できるものである。
このエルレートアニオンの関与する反応でLハロゲン化
物の構造によシ脱ノ・ロゲン化水素が盛んに起夛、収率
も良くないものもある。一般に(lO) 第2級ハライド) CHBrよシも第1級ハライド−C
H2Br型の原料を用いた方が収率がよい。
この活性メチレン化合物の縮合反応(クネーフエナゲル
反応等)を用いる方法は一般に収率がよく本発明の多く
の化合物を合成するのに便利である。活性メチレン化合
物としてはR4COCH2C0RB (D ホ7% W
 a 7 酸ニスf A/ R40COCH2COOR
5。
マロノニトリルCH2(ON )2 、アセを酢酸エス
テ/I/CH3COCH2COOR4等が用いられる。
以上の■〜■等の反応を利用して得られた化合物は■に
示したごと(NaBH4とか、あるいはL’x#H4も
しくはH2/Pd−炭素 H2/ニッケル触媒等を用い
る還元反応によυ本発明に示すようなアルコール系化合
物等になり、さらにこれのアルキル化またはアシル化に
よりアルコキシ化合物またはエステル化合物に誘導する
ことができ、さらにこれから側鎖を延長してゆくことが
できる。これらの方。
法については実施例において詳述されるであろう。
本発明者らは多数の笑験を行ない本発明の優秀性を明ら
かにしたのであるが、さらに本発明の技術的内容を解説
するため、多数の実験例中より代表的なものを抽出して
以下に実施例として示すことにする。
〔実施例〕
実施例1゜ 5−または6−ピニルー2−ノルボルナンカルバルデヒ
ド0.10モルとマロン酸ジエチ/L10.12モル。
ピペリジン1m1.酢酸2耐およびトルエン300g/
を煮沸して生成する水を共沸混合物として除去した後9
反応混合物を減圧蒸留すると5−または6−ピニ/v−
2−ノルボルニルメチリテンマロン酸ジエチ/l/(b
p、 130℃/ 0.5 ffHI )を65チの収
率でうる。分析結果は次のとおシである。
iで(液膜) 、 (n−1) i 3060.293
5.2870.1720゜1650、1180゜ ”Hrml:(CC114)i δ6.75〜6.60
(d、IH)、6.15〜5.60 (m、 IH)、
 5.20〜4.75 (m、 2H)、 3.85〜
3.65(q、4H)、2.50〜t10(m、16H
)。
元素分析値藁C= 69. s aチ、 H=8.30
%、(計算値。
C17H2404、!: シテ、 C=69.83%、
 H=8.2796 )。
実施例2〜3 実施例1において5−または6−ピニルー2−ノルボル
ナンカルバルデヒドを次表のアルデヒドに変えて同じよ
うに操作すると次表に示す結果が得られた。
実施例4〜6 実施例1〜3に得た生成物(次表の原料)0.05モル
をエタノ−z100g/Ki解して、これに水素化ホウ
素ナトリウム5yを加えて水冷下で1時間反応させたの
ち反応混合物を5チ塩酸水痔液に投入してベンゼン抽出
し、ベンゼン抽出液を分取して無水硫酸ナトリウムで乾
燥後蒸留すると次表の結果がえられた。
実施例7〜9 実施例4〜乙に得た生成物(次表の原料)0.02モ/
I/ftエーテ/l150IIllに容解してこれに水
素化リチウムアルミニウムcL03モルを加えて室温で
2時間反応させたのち酢酸エチルで希釈して1夜放置後
5俤塩酸水溶液中に投入してベンゼン抽出し。
ベンゼン抽出液を分取して無水硫酸ナトリウムで乾燥後
蒸留すると次表の結果がえられた。
実施例10〜12 実施例7〜9に得た生成物(次表の原料)0.01モル
をピリジン60g/および無水酢酸30m?の混合物に
酵解して50℃で5時間反応させたのち9反応混合物を
冷水中に投入し、以後実施例4〜6と同様に操作した結
果は次表のとおりである。
実施例13 5−ま几は6−ピニルー2−ノルボルナンカルバルデヒ
ド1.0モル、アセト酢酸エチ/L’1.1モル。
ピペリジン3 ml +酢酸6xlおよびベンゼン11
(7)混合物を実施例1と同じように操作すると2−(
5−または6−ピニルー2−ノルボルニル)メチリデン
アセト酢酸エチル(bp、125℃/611#Hf )
が80%の収率で得られた。分析結果はつぎのとおりで
ある。
i、r(液膜)、 (cII−”) ; 3050.2
920.2870.1690゜1660、1640.1
150゜ 1恥ご(C(J4);δ6.80〜6.78 (d、 
IH)、 6.15〜5.70(m、 IH)、 5.
15〜4.70(m、 2H)、 3.30〜3.20
(q、 2H)、 2.20(s、 3H)、 2.5
0〜0.95(m、 1!IH)。
元素分析値; C=73.09%、 H=8.60%、
(計算値。
016、H2203としてC=73.25%、 H=8
.45%)。
実施例14〜21 実施例13の5−また6−ピニルー2−ノルボルナンカ
ルバルデヒドのかわりに次表のアルデヒドを、tたアセ
)酢酸エチルのかわシに次表の活性メチレン化合物を用
いて実施例13とはy同じ条件下で操作すると次表に示
す結果が得られた。
上表の化合物は実施例4〜乙の方法を用いて水素化ホウ
素ナトリウムによシ新しく形成された二重結合を還元し
て飽和結合にかえることができる。
ついで、実施例7〜9の方法を用いて水素化アルミニウ
ムリチウムによジエステル結合をアルコールまで還元す
ることができる。また上表の実施例15、16.18.
19.21およびその還元物は加水分解によってC00
CHs、 COOC2H5およびONの各基をそれぞれ
C0OH基に変化させることも容易である。なおON基
を含むものはH2/ラネーニッケル、H2/白kA触媒
を用いて還元するとCH2NH2基にすることもでき、
また部分的加水分解によってCONH2基にすることも
容易である。
実施例22 水素化ナトリウム3.2g、エトキシカルボニルメチル
スルホン酸ジエチIL/376F、ベンゼン40tpt
lの混合物に5−または6−ビニルノルボルナノン20
1を加えて室温〜60℃にて3時間反応させたのち、ベ
ンゼン層を分取して蒸留すると2−(カルボエトキシメ
チリデン)−5−または6−ビニルノルボルナン(1)
p、110℃/4ffHf)を70%の収率でうる。こ
の生成物4.09fテトラヒドロフラン50 mlに溶
解して水素化アルミニウムリチウム0.36fを加えて
水冷し乍ら一夜反応させたのち反応混合物を希硫酸中に
投入し、エーテル抽出して抽出液を無水硫酸ナトリウム
で戦慄して蒸留すると2−(2−ヒドロキシエチリデン
)−5−またはる−ビニルノルボルナン(bp、88℃
/2鯨Hp)が48%の収率で得られる。分析結果はつ
ぎのとおりである。
j−r(液膜)、 (ffl−”) i 3360.3
060.2930.2870゜1645、1100゜ ”Hnmr(CDC”) ;δ6.15〜5.30(m
、 2H)、 5.20〜4.60(m、2H)、3.
95〜3.80(d、2H)、、’1.55〜3.30
(t、IH)、2.60〜1.10(m、9H)。
元素分析値、 C=80.61%、H=9.87%、(
計算値。
CnHxsOとしてC=80.44%、H=9.83係
)。
実施例26 実施例22で得られた2−(カルボエトキシメチリデン
)−5−または6−ピニルノルポルナン20f、エタノ
−1v300ml?、 5チパンジウム・炭素触媒1.
5ノを加圧釜に入れ水素圧3.5 kq/cdで水素添
加すると(5−または6−エチ/L’−2−ノルボルニ
fi/)酢酸:’−f /l’ (bp、 91〜93
℃/2.0m*Hf)を収率80%でうるのでこれをア
ルカリ水溶液で加水分解すると2−(5−または6−エ
チ/l/−2−ノルボルニル)エタノ−#(bp、83
℃/1.5鰭HfI)を収率90チでうることができる
。分析結果は次のとおりである。
ir(液膜)、 Can ) ; 3400.2925
.2870.1100゜”Hnmr、 (CDOIIs
) ;δ3.60〜3.50 (t、 2H)、 3.
40〜3.30 (t、 1H)、 2.55〜1.1
0(m、 17H)。
元素分析値; C=78.65%、 H=12.08%
、 (計!([。
C11H200としてC=78.51%、 H=11.
98チ)。
実施例24 実施例22の5−または6−ビニルノルボルナノンのか
わシに5−または6−ビニルノルボルナンカルバルデヒ
ドを用いて同様に操作すれば3−(5−または6−ピニ
ルー2−ノルボルニル)アクリル酸エチル(bp、99
℃/1.0訪Hy )を86%の収率でうる。この生成
物を実施例23と同様にしてパラジウム−水素還元する
と3−(5−またd6−ビ二A/−2−ノルボルニル)
プロピオン酸エチル(bp、 92 /1.0ffHf
 )を79−の収率でうる。この生成物をラネー・ニッ
ケルを触媒として常法により水素還元すると3−(5−
’l’たは6−エチル−2−/Nホl二N) −1−f
ロバ/−N (1)p、 100’0/2.OmHl 
)を90%の収率でうる。分析結果はつぎのとお夛であ
る。
ir(液膜)、 (3−”月3450.2935.28
70.1100゜”Hnmr (CD0A’3 ) i
δ3.75〜3.60 (t、 2H)、 3.40〜
3.30(t、IH)、2.60〜1.05(m、19
H)。
元素分析値i C=79.20チ、 H=12.03%
、 C計算値。
Cl2H220とLテC=79.06%、 H=12.
16% )。
実施例25 実施例22の5−または6−ビニルノルボルナノンのか
わ夛に5−または6−エチリデン−2−ノルボルナンカ
ルバルデヒドを用いて同様に操作すると3−(5−また
は6−エチリデン−2−ノルボルニル)アクリル酸エチ
ル(bp、i1o℃/ 0.7 fiHy)を96俤の
収率でうる。分析結果はつぎのとおシである。
j−r(液膜)、 (alに−”) ; 3070.2
930.2875.1720゜1665、1180゜ ”Hnl[’(C(J4)iδ6.80〜6.70 (
4ケのd、IH)。
5.60〜5.50 (2ケの(1,IH)、 5.5
0〜5.05(m、 IH)。
3.65〜3.55 (t、 2H)、 2.50〜1
.10 (m、 15H)。
元素分析値i C=76.43チ、H=9.20先(計
算値。
014H2002としてC=76.32%、H=9.1
5%)。
〔発明の効果〕
本発明の完成によって石油化学工業において得られるノ
ルボルネン系材料の化学的加工法が著しく展開できるこ
とになり、その産業面への寄与は絶大なものである。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、下記一般式( I )で表わされるノルボルネン
    誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ただし式( I )においてR_1はビニル基、エチリデ
    ン基またはエチル基のいずれかを表わし、R_2、R_
    3は水酸基、アルコキシ基、ヒドロキシメチル基、アル
    コキシメチル基、アシル基、アシロキシ基、カルボキシ
    ル基、カルボアルコキシ基、アシロキシメチル基、シア
    ン基、カルボアミノ基よりなる群から選ばれた少くとも
    一つの原子団であり、またR_2、R_3のいずれか一
    つが水素原子またはアルキル基であつてもよく、■は単
    結合または二重結合を表わす。
  2. (2)、式( I )で示されるものが下記の一般式(II
    )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボルネ
    ン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ただし式(II)においてR_4は水素原子、アルキル基
    もしくはアシル基を表わす。
  3. (3)、式( I )で示されるものが下記の一般式(II
    I)で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボル
    ネン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ただし式(III)においてR_4は水素原子、アルキル
    基もしくはアシル基を表わす。
  4. (4)、式( I )で示されるものが下記の一般式(IV
    )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボルネ
    ン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ただし式(IV)においてR_4は水素原子もしくはアル
    キル基を表わす。
  5. (5)、式( I )で示されるものが下記の一般式(V
    )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボルネ
    ン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ただし式(V)においてR_4は水素原子もしくはアル
    キル基を表わす。
  6. (6)、式( I )で示されるものが下記の一般式(VI
    )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボルネ
    ン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) ただし式(VI)においてR_4、R_5は水素原子、ア
    ルキル基もしくはアシル基を表わし、これらは同一でも
    別異でもよい。
  7. (7)、式( I )で示されるものが下記の一般式(VI
    I)で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボル
    ネン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) ただし式(VII)においてR_4、R_5は水素原子も
    しくはアルキル基を表わし、これらは同一でも別異でも
    よい。
  8. (8)、式( I )で示されるものが下記の一般式(VI
    II)で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボル
    ネン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) ただし式(VIII)においてR_4、R_5は水素原子も
    しくはアルキル基を表わし、これらは同一でも別異でも
    よい。
  9. (9)、式( I )で示されるものが下記の一般式(IX
    )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボルネ
    ン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) ただし式(IX)においてR_4、R_5は水素原子、水
    酸基もしくはアルキル基を表わし、これらは同一でも別
    異でもよい。
  10. (10)、式( I )で示されるものが下記の一般式(
    X)で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノルボル
    ネン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) ただし式(X)においてR_4、R_5は水素原子もし
    くはアルキル基を表わし、これらは同一でも別異でもよ
    く、nは0または1の整数である。
  11. (11)、式( I )で示されるものが下記の一般式(
    X I )で表わされる特許請求の範囲第1項記載のノル
    ボルネン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I )
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100778405B1 (ko) * 2001-11-16 2007-11-27 삼성에스디아이 주식회사 화학증폭형 네가티브 포토레지스트용 단량체, 중합체 및포토레지스트 수지 조성물
US8575386B2 (en) 2006-06-15 2013-11-05 Givaudan S.A. Fragrance compounds

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