JPS62219611A - エツチング装置 - Google Patents
エツチング装置Info
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- JPS62219611A JPS62219611A JP61062399A JP6239986A JPS62219611A JP S62219611 A JPS62219611 A JP S62219611A JP 61062399 A JP61062399 A JP 61062399A JP 6239986 A JP6239986 A JP 6239986A JP S62219611 A JPS62219611 A JP S62219611A
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Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は電解コンデンサ用アルミニウム箔を連続的にエ
ツチングするためのエツチング装置に関するものである
。
ツチングするためのエツチング装置に関するものである
。
［従来の技術］
一般に、電解コンデンサ用アルミニウム箔は静電容量を
増大させるために適当な電解液中でその表面をエツチン
グにより増大している。
増大させるために適当な電解液中でその表面をエツチン
グにより増大している。
このエツチング方法は電解コンデンサの用途により中高
圧用（中高電圧用）と低圧用（低電圧用）とに大別され
る。特に、低圧用電解コンデンサにおける低圧用エツチ
ング箔では、エツチングにより形成される凹凸は微細な
ものほど良いために、エツチング箔をエツチング後に速
かに電解液中から引上げないと、微細な凹凸が電解液中
で溶解し、粗面化率が低下してしまうものである。
圧用（中高電圧用）と低圧用（低電圧用）とに大別され
る。特に、低圧用電解コンデンサにおける低圧用エツチ
ング箔では、エツチングにより形成される凹凸は微細な
ものほど良いために、エツチング箔をエツチング後に速
かに電解液中から引上げないと、微細な凹凸が電解液中
で溶解し、粗面化率が低下してしまうものである。
そこで、エツチング箔をエツチング後に速かに電解液中
から引上げるように構成したエツチング装置として、特
公昭４２−２１４１０号「電解蓄電器用アルミニウム箔
のエツチング方法」がすでにある。第４図に示すように
、このエツチング装置（１）は適当な電解液（２）を満
した電解槽（３）内に一対のカーボン電極（４）、（５
）を相対向させて縦設し、給電ローラ（６）、（７）を
電解槽（３）外に配設し、また電解槽（３）内には中間
ローラ（８）、（９）を配設し、給電ローラ（６）、（
７）とカーボン電極（４）、（５）との間に電源（１０
）を接続し、アルミニウム箔（１１）を第１の給電ロー
ラ（６）側から導入し、第１の中間ローラ（′８）およ
び第２（７）’中間・−ラ（９）を介し、カーボン電極
（４）、（５）間を通過させ、第２の給電ローラ（７）
側から導出するようにしたものである。このエツチング
装置（１）におけるアルミニウム！（１１）のエツチン
グは、カーボン電極（４）、（５）の下端間に進入した
時点からエツチングが開始し、その上端に向けて移行す
る間にエツチングが進行し、電解液（２）から引上げら
れると終了することになる。エツチング用の電源として
は交流電源、直流電源のほか、パルス電源あるいはこれ
らの組合せ電源などがある。また、カーボン電極（４）
、（５）には余分な電流が流れないようにその背面、底
面あるいは側面などに電流を遮断するための絶縁板（１
２）が設けられることもある。
から引上げるように構成したエツチング装置として、特
公昭４２−２１４１０号「電解蓄電器用アルミニウム箔
のエツチング方法」がすでにある。第４図に示すように
、このエツチング装置（１）は適当な電解液（２）を満
した電解槽（３）内に一対のカーボン電極（４）、（５
）を相対向させて縦設し、給電ローラ（６）、（７）を
電解槽（３）外に配設し、また電解槽（３）内には中間
ローラ（８）、（９）を配設し、給電ローラ（６）、（
７）とカーボン電極（４）、（５）との間に電源（１０
）を接続し、アルミニウム箔（１１）を第１の給電ロー
ラ（６）側から導入し、第１の中間ローラ（′８）およ
び第２（７）’中間・−ラ（９）を介し、カーボン電極
（４）、（５）間を通過させ、第２の給電ローラ（７）
側から導出するようにしたものである。このエツチング
装置（１）におけるアルミニウム！（１１）のエツチン
グは、カーボン電極（４）、（５）の下端間に進入した
時点からエツチングが開始し、その上端に向けて移行す
る間にエツチングが進行し、電解液（２）から引上げら
れると終了することになる。エツチング用の電源として
は交流電源、直流電源のほか、パルス電源あるいはこれ
らの組合せ電源などがある。また、カーボン電極（４）
、（５）には余分な電流が流れないようにその背面、底
面あるいは側面などに電流を遮断するための絶縁板（１
２）が設けられることもある。
［発明が解決しようとする問題点１
次に、アルミニウム箔を電解エツチングする際に、第５
図に示すように一定電圧を印加すると、承６図に示すよ
うな時間に対する電流の変化が見られることはよく知ら
れている。これは、アルミニウム箔の表面に自然酸化に
より形成された酸化皮膜がエツチングの開始時に界面抵
抗を高くし、電流の流れを抑制する働きをするためによ
るものである。しかし、エツチングが進行し、酸化皮膜
が破壊されるに伴って電流は上昇し、所定の電流に収束
する。
図に示すように一定電圧を印加すると、承６図に示すよ
うな時間に対する電流の変化が見られることはよく知ら
れている。これは、アルミニウム箔の表面に自然酸化に
より形成された酸化皮膜がエツチングの開始時に界面抵
抗を高くし、電流の流れを抑制する働きをするためによ
るものである。しかし、エツチングが進行し、酸化皮膜
が破壊されるに伴って電流は上昇し、所定の電流に収束
する。
□ すなわち、エツチングの開始時点では電流密度は
所定の電流密度より低く、この電流密度の低いことによ
り電流のアルミニウム箔への集中化が起こり、均一なエ
ツチングの進行を妨げ、ひいてはエツチング箔の粗面化
率の低下を招いているものである。
所定の電流密度より低く、この電流密度の低いことによ
り電流のアルミニウム箔への集中化が起こり、均一なエ
ツチングの進行を妨げ、ひいてはエツチング箔の粗面化
率の低下を招いているものである。
そこで、一般的には一定電圧を印加するのではなく、一
定電流が流れるように定電流制御を行なっている。しか
し、第４図に示したエツチング装置（１）を使用してエ
ツチングする場合は、エツチングの開始時点（Ｘ）では
所定の電流密度でアルミニウム箔（１１）がエツチング
されず、前述した一定電圧を印加した場合と同様な現象
が生じているものである。つまり、定電流コントロール
電源（１０）により一定電流を流した場合、カーボン電
極（４）、（５）全体マは一定電流になる。しかし、ア
ルミニウム’ｌａ （１１）がカーボン電極（４）、（
５）の下端から上端に向けて移動している場合、カーボ
ン電極（４）、（５）間の電解液（２，）面付近（Ｚ）
およびカーボン電極（４）、（５）の中間付近（Ｙ）、
に位置するアルミニウム箔（１１）はエツチングが充分
に進行しており、酸化皮膜は殆、ど存在せず、界面抵抗
、は堺く、電流は流れ易くなっている。惧れに対し、カ
ーボン電極（４）、（５）の下端間付近（芥）１に位置
するアルミニウム箔（１１）はカーボン電極（４）、（
５）間に突入した直後であり、、高い界面抵抗があり、
電流は流れ難くなっている。このこと相より、第７図に
示すようにカーボン電極（４）、（５）間に位置するア
ルミニウム笥、（１１）にあってはその長さ方向に電流
密度が不均一となっている。第７図に示した電流密度曲
線と第６図に示した電流曲線とは非常に類似している。
定電流が流れるように定電流制御を行なっている。しか
し、第４図に示したエツチング装置（１）を使用してエ
ツチングする場合は、エツチングの開始時点（Ｘ）では
所定の電流密度でアルミニウム箔（１１）がエツチング
されず、前述した一定電圧を印加した場合と同様な現象
が生じているものである。つまり、定電流コントロール
電源（１０）により一定電流を流した場合、カーボン電
極（４）、（５）全体マは一定電流になる。しかし、ア
ルミニウム’ｌａ （１１）がカーボン電極（４）、（
５）の下端から上端に向けて移動している場合、カーボ
ン電極（４）、（５）間の電解液（２，）面付近（Ｚ）
およびカーボン電極（４）、（５）の中間付近（Ｙ）、
に位置するアルミニウム箔（１１）はエツチングが充分
に進行しており、酸化皮膜は殆、ど存在せず、界面抵抗
、は堺く、電流は流れ易くなっている。惧れに対し、カ
ーボン電極（４）、（５）の下端間付近（芥）１に位置
するアルミニウム箔（１１）はカーボン電極（４）、（
５）間に突入した直後であり、、高い界面抵抗があり、
電流は流れ難くなっている。このこと相より、第７図に
示すようにカーボン電極（４）、（５）間に位置するア
ルミニウム笥、（１１）にあってはその長さ方向に電流
密度が不均一となっている。第７図に示した電流密度曲
線と第６図に示した電流曲線とは非常に類似している。
このことから判るように、エツチングの開始時点（Ｘ）
は所定の電流密度より著しく低くなっており、電流密度
の低いことにより電流の集中化が起こり、均一なエツチ
ングの進行を妨げているもので今る。、シ、たがって、
従来は目的とする高粗面化率を有する電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔を得ることができないもので、あっ
た。
は所定の電流密度より著しく低くなっており、電流密度
の低いことにより電流の集中化が起こり、均一なエツチ
ングの進行を妨げているもので今る。、シ、たがって、
従来は目的とする高粗面化率を有する電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔を得ることができないもので、あっ
た。
［問題点を解決するための手段］
しかる←、本発明は上述したエツチングの開始時点の電
流密度を所定値まで引上げることにより高粗面化率を有
する電解コンデンサ用アルミニウム箔を得ることが可能
なエツチング装置を提供するものであり、具体的には相
対向する一対のカー 。
流密度を所定値まで引上げることにより高粗面化率を有
する電解コンデンサ用アルミニウム箔を得ることが可能
なエツチング装置を提供するものであり、具体的には相
対向する一対のカー 。
ずン電極のそれぞれの下端の相対向する位置に突□
山部を設けたものである。
［実施例］
以下、本発明に係るエツチング装置（ＩＡ）を！１図乃
至第３図にもとづいて説明する・説明に先立って、第４
図に示した従来例と同一６箇所については同一符号を付
す、そして、本発明においては特に改良した箇所につい
てのみ説明を加えるものとする。
至第３図にもとづいて説明する・説明に先立って、第４
図に示した従来例と同一６箇所については同一符号を付
す、そして、本発明においては特に改良した箇所につい
てのみ説明を加えるものとする。
第１図に示すように、一対のカーボン電極（４）、（５
）の下端にエツチングの開始時点の電流密度を所定値ま
で引上げるために、それぞれ相対向する突出部（４１）
、（５１）を形成する。この突出部（４１）、（５１）
はカーボン電極（４）、（５）と一体または別体構造と
して形成される。突出部（４１）、（５１）の形状は、
第１図に示すように三角形状、第２図に示すように矩形
状、第３図に示すように台形状など、種々の形状を例示
することができる。
）の下端にエツチングの開始時点の電流密度を所定値ま
で引上げるために、それぞれ相対向する突出部（４１）
、（５１）を形成する。この突出部（４１）、（５１）
はカーボン電極（４）、（５）と一体または別体構造と
して形成される。突出部（４１）、（５１）の形状は、
第１図に示すように三角形状、第２図に示すように矩形
状、第３図に示すように台形状など、種々の形状を例示
することができる。
両カーボン電極（４）、（５）間の距離＜ａ＞と両案山
部（４１）、（５１）間の距離（ｂ）はエツチング条件
によって異なるが、例えば厚さが１００μｍのアルミニ
ウム箔（１１）を電流密度４００ ｍ Ａ ／ Ｃｍ
”でもってエツチングするような場合、距離（ａ）とし
ては５０ ｍ ｍ、距離（ｂ）としては１５ｍｍを例示
することができる。
部（４１）、（５１）間の距離（ｂ）はエツチング条件
によって異なるが、例えば厚さが１００μｍのアルミニ
ウム箔（１１）を電流密度４００ ｍ Ａ ／ Ｃｍ
”でもってエツチングするような場合、距離（ａ）とし
ては５０ ｍ ｍ、距離（ｂ）としては１５ｍｍを例示
することができる。
次に、具体的なエツチングとその効果について述べる。
電解液（２）の組成を、Ｈｃ（２が０．５ｐａ 、 Ａ
Ｉ２ｃ ＩＩ ｓが０．５Ｍ％Ｈ２ＳＯ４が０．０５
Ｍ、’Ｈ，ＰＯ４が０．５Ｍとし、液温６ｏ℃で、かつ
電流密度が４００ｍＡ／ｃｍ２で、純度が９１．９９％
のアルミニウム１ｍ（１１）をエツチングする。次に、
エツチングしたアルミニウム箔（１１）をアジピン酸ア
ンモニウム系水溶液にて５０ｖの電圧を印加して化成す
る。このようにして製造された化成箔（実施例）と従来
例について静電容量と折曲強度との対比を第１表に示す
。
Ｉ２ｃ ＩＩ ｓが０．５Ｍ％Ｈ２ＳＯ４が０．０５
Ｍ、’Ｈ，ＰＯ４が０．５Ｍとし、液温６ｏ℃で、かつ
電流密度が４００ｍＡ／ｃｍ２で、純度が９１．９９％
のアルミニウム１ｍ（１１）をエツチングする。次に、
エツチングしたアルミニウム箔（１１）をアジピン酸ア
ンモニウム系水溶液にて５０ｖの電圧を印加して化成す
る。このようにして製造された化成箔（実施例）と従来
例について静電容量と折曲強度との対比を第１表に示す
。
実施例１は第１図に示したカーボン電極（４）、（５）
を使用したもの、実施例２は第２図によるもの、実施例
３は第３図によるものである。
を使用したもの、実施例２は第２図によるもの、実施例
３は第３図によるものである。
なお、従来例は第４図に示した従来のエツチング装置に
より上述したエツチング条件および化成条件により得た
ものである。
より上述したエツチング条件および化成条件により得た
ものである。
第１表から判るように、本発明によって製造されたエツ
チング箔は従来例より静電容量が大きく、また折曲強度
が大きいものを得ることができるものである。
チング箔は従来例より静電容量が大きく、また折曲強度
が大きいものを得ることができるものである。
［効果］
以上に述べたように、本発明においてはエツチング装置
の相対向する一対のカーボン電極のそれぞれの下端の相
対向する位置に突出部を形成したので、従来のようにア
ルミニウム箔のエツチング開始時点におけるアルミニウ
ム箔の不均一な溶解を防止することができるものである
。このため、高粗面化率を有するエツチング箔を提供す
ることができるものである。
の相対向する一対のカーボン電極のそれぞれの下端の相
対向する位置に突出部を形成したので、従来のようにア
ルミニウム箔のエツチング開始時点におけるアルミニウ
ム箔の不均一な溶解を防止することができるものである
。このため、高粗面化率を有するエツチング箔を提供す
ることができるものである。
第１図は本発明に係るエツチング装置を示す図、第２図
および第３図はカーボン電極の他の形状を示す図、第４
図は従来のエツチング装置を示す図、第５図は印加電圧
特性を示す図、第６図は電流特性を示す図、第７図は第
４図に示したエツチング装置でのアルミニウム箔とカー
ボン電極間の長さ方向における電流密度の関係を示す図
である。 図中、（１）、（ＩＡ）・・・エツチング装置、 （
２）・・・電解液、 （３）・・・電解槽、 （
４）、（５）・・・カーボン電極、（６）、（７）、（
８）、（９） ・・・ローラ、（１０）・・・電源、
（１１）・・・アルミニウム箔、 （１２）・・
・絶縁板、 （４１）。 （５１）・・・突出部。 特許出願人 エルナー株式会社 第５図 晴Ｔ 第６１ 第７図□
および第３図はカーボン電極の他の形状を示す図、第４
図は従来のエツチング装置を示す図、第５図は印加電圧
特性を示す図、第６図は電流特性を示す図、第７図は第
４図に示したエツチング装置でのアルミニウム箔とカー
ボン電極間の長さ方向における電流密度の関係を示す図
である。 図中、（１）、（ＩＡ）・・・エツチング装置、 （
２）・・・電解液、 （３）・・・電解槽、 （
４）、（５）・・・カーボン電極、（６）、（７）、（
８）、（９） ・・・ローラ、（１０）・・・電源、
（１１）・・・アルミニウム箔、 （１２）・・
・絶縁板、 （４１）。 （５１）・・・突出部。 特許出願人 エルナー株式会社 第５図 晴Ｔ 第６１ 第７図□
Claims (1)
- （１）電解液を満した電解槽内に一対のカーボン電極を
縦設し、両カーボン電極の下端の間隙からアルミニウム
箔を導入してエッチングを開始し、アルミニウム箔の電
解液からの引上げに伴ってエッチングを終了するように
した連続エッチング装置において、両カーボン電極の下
端の相対向する位置に突出部を形成したことを特徴とす
るエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062399A JPS62219611A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062399A JPS62219611A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219611A true JPS62219611A (ja) | 1987-09-26 |
| JPH0240758B2 JPH0240758B2 (ja) | 1990-09-13 |
Family
ID=13199018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61062399A Granted JPS62219611A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62219611A (ja) |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP61062399A patent/JPS62219611A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0240758B2 (ja) | 1990-09-13 |
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