JPS62205260A

JPS62205260A - 連続溶融金属メツキ方法

Info

Publication number: JPS62205260A
Application number: JP4659586A
Authority: JP
Inventors: Toshio Kureko; 紅粉　寿雄; Akiyoshi Yamauchi; 山内　昭良; Noriyuki Kimiwada; 君和田　宣之
Original assignee: Sumitomo Metal Industries Ltd
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1986-03-04
Filing date: 1986-03-04
Publication date: 1987-09-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、連続溶融金属メッキ方法、特に高速で薄目付
を行うのに適する連続溶融金属メッキ方法に関する。な
お、以下の説明は、主として代表的な溶融金属メッキで
ある亜鉛メッキを例にとっているが、本発明の方法はそ
の他の金属の連続溶融メッキにも同様に適用できるもの
である。

（従来の技術）第１図に示すように、溶融亜鉛メッキを始めとする連続
溶融金属メッキは、溶融金属浴２にスナウト４を介して
供給される金属ストリ・ノブ６をこの溶融金属浴２に浸
漬後、そこから連続的に引き上げることによって行って
いる。引き上げ後は、ワイピングノズル８からの気体の
吹き付けによってめっき目付は量の調節を行うのである
。

近年に至り、このような溶融金属メッキの普及には目を
見張るものがあり、特に最近ではその経済性、生産性を
さらに一層改善するために、高速での薄目付が指向され
ている。

熔融亜鉛メッキにおいて高速でかつ薄目付を実現するに
は、ワイピングノズルと金属ストリ・ノブとのいわゆる
ノズル間隔を狭める、ワイピングガス圧力を高める、ノ
ズルスリットギヤ、プを大きくする等の手段が考えられ
る。しかし、ノズル間隔を狭くするにはストリップの振
動等によって限界がある。また、ワイピングガス圧力を
大きくしても臨界圧力を超えれば効果が期待できなくな
る。

そこで、ノズルスリットギヤツブを大きくする手段が考
えられるが、その結果、ガス流量が増大し、金属ストリ
ップに当たった後のワイピングガスの流れが亜鉛浴面に
衝突し、亜鉛などの溶融金属をはねあげることとなる。

つまり、浴面スプラッシュである。

第２図に模型的に描いているように、ワイピングノズル
８からのガス流量が多いと、図中、矢印で示すように、
高速でワイピングガスが浴面１０に衝突し、浴面ｌＯか
らの溶融亜鉛のはねあげ（スプラッシュ）１２がみられ
る。

かかる亜鉛のはねあげは、周囲に危険をもたらし作業性
を著しく田なうばかりでなく、飛散した亜鉛がワイピン
グノズル下部、支持部等に付着、凝固して除去できなく
なワてしまうという事が起こる。このような傾向はワイ
ピングガス圧力が大きくなればなるほど、顕著になるた
め、今日要望されている高速薄目付方法の開発の１つの
ネックになっている。

（発明が解決しようとする問題点）かくして、本発明の一般的目的は、高速薄目付の実現を
、ノズルスリットギャップを大きくする手段により解決
する具体的方法を提供することである。

さらに、本発明の具体的目的は、遮蔽板を設けることに
より、ノズルスリットギヤツブを大きくしたときの欠点
を解消した溶融金属メッキ方法を提供することである。

（問題点を解決するための手段）本発明者らは、かかる目的達成のために種々検討を重ね
たところ、亜鉛はねあげ防止、さらにははねあげ亜鉛の
周囲への付着防止を目的として浴面に遮蔽板を設けるこ
とが有効であるが、特に効果的に亜鉛のはね上げを防止
するには、その位置が重要であり、遮蔽板を浴面上の適
切な位置に配室することにより浴面スプラッシュが防止
可能となり、ノズルスリットギヤツブを大きくし、多量
のワイピングガスを供給し、高速薄目付の操業がきるよ
うになることを知って、本発明を完成した。

また、遮蔽板への亜鉛の付着を防止するには、遮蔽板を
加熱することが有効であり、このときの加熱温度として
は亜鉛の融点以上の温度が好ましいことも併せて知った
。

ここに、本発明の要旨とするところは、溶融金属メッキ
浴から連続的に引き上げられた金属ストリップにワイピ
ングノズルを介して気体を吹付けてメッキ付着量を制御
ｎする連続溶融金属メッキ方法において、前記ワイピン
グノズルの下方に前記金属ストリップに対し対向配置さ
れた少なくとも１の遮蔽板を設け、その設置位置が次式
を満足することを特徴とする、連続溶融金属メッキ方法
であるやＤ≧２０．　　０＜Ｈ≦３０００≦（Ｄ−Ｈ２Ｓ）≦３００ただし、Ｄニストリップと遮蔽板との間隔（ＩＩＩＩｌ
）■（：浴面と遮蔽板との間隔（ＩＩｌｌ）本発明の好
適態様によれば、前記遮蔽板は該溶融金属の融点以上の
温度に加熱される。また、メッキ浴面から前記ワイピン
グノズル上までをシールボックスで囲い、内部を非酸化
性雰囲気とすると遮蔽板に付着する亜鉛の酸化が防止さ
れるため、酸化物形成による融点上昇そして付着の促進
が効果的に抑制される。

（作用）以下、添付図面を参照して本発明をさらに説明するが、
説明を簡単にするために７８融亜鉛メツキを例にとって
説明する。

本発明によれば、第２図に点線で示すように、溶融亜鉛
浴２の浴面スプラッシュＬ２を防止するために、遮蔽板
１６をワイピングノズル））の下に設置する、ただし、
表面温度がＺｎの融点より低いとＺｎが遮蔽板に付着し
て成長するため、Ｚｎの融点以上の温度に遮蔽板を加熱
するのが好ましい、その場合、電気ヒーターで内部加熱
するなどの適当な加熱方法を採用できる。

金属ストリップと遮蔽板との配置関係を第３図に示すが
、遮蔽板１６の取りつけ位置は浴面スプラッシュを効果
的に防止する位置でなくてはならない。本発明によれば
、浴面と遮蔽板との間隔（Ｈ）は３００龍以下、すなわ
ち、Ｏ＜Ｈ≦３００（■■）である。この間隔を３００
ｍより大きくすると、浴面スプラッシュが遮蔽板まで届
かず、防止には実効がない、一方、浴面上に遮蔽板を浮
かべると（Ｈ−０）、今度は発生したドロスが遮蔽板と
ストリップの間に溜まり、メッキ品質に悪影口を及ぼす
。

遮蔽板とストリップとの間隔（Ｄ）は、２０鶴以上の大
きさが必要である。２０１未満であると、エツジからの
スプラッシュが大量に遮蔽板に堆積し、ストリップと接
触するなどの不都合を生ずる。

また、（Ｄ−５／Ｈ）＜０であれば、実質上浴面スプラ
ッシュが飛んでこないため、遮蔽板嬬無意味であり、一
方、（Ｄ−５／Ｈ）　＞　３００　（鶴）であると、ス
トリップと遮蔽板との間が離れ過ぎており、浴面スプラ
ッシュを抑える効果はない。

よって、Ｄ≧２０（鶴）、０＜Ｈ≦３００　（１■）。

０≦（Ｄ−Ｈ２Ｓ）≦３００　（ｍｎ）を満足する位置
が、遮蔽板にとって最適位置である。

第４図は、上述のＤとＨとの関係をグラフに示すもので
、図中斜線で示す領域が本発明の最適範囲であり、この
範囲内にくるように遮蔽板の取り付は位置を規制するこ
とにより、常に最適の結果を得ることができるのである
。

遮蔽板の幅は最大ストリップ幅より大きい方が好ましい
が、ストリップの一部を覆うような幅の遮蔽板でのある
程度の浴面スプラッシュ防止効果は発揮される。遮蔽板
の長さは、メツキラインに合わせて効果的な長さにすれ
ばよい。

また、浴面からノズル上までをシールボックスで囲い、
その内部を非酸化性雰囲気とした上で、上記の遮蔽板を
設けると、Ｚｎが酸化されないため、遮蔽板に酸化物の
付着（エソジスプラッシュなど）がなくなり、遮蔽板を
メッキ金属の融点以上に加熱した場合はすべて溶融状態
で流れることになるので、遮蔽板への付着が情無になり
、より一層好ましい。

遮蔽板の材質については、特に規定されないが、Ｚｎぬ
れ性の悪いものが好ましく、例としては、ステンレス鋼
、表面にＣｏ−Ｗ系溶射を行った炭素鋼等が挙げられる
。

また、遮蔽板は、遮蔽板上でＺｎを流れやすくするため
に、傾斜させておくこともできる。

次に実施例によって本発明を説明する。

寒立■ 第１図に示す装置を使用し、第３図に示すような遮蔽板
をワイピングノズルとメンキ浴面との間、に設け、板厚
０．８龍の鋼板を１２０　ｍ／ａｉｎでラインスピード
で連続溶融メッキ処理した。ワイピング圧力１．０　ｋ
ｇ／−で、ノズル間隔２０　ｍのワイピング条件で窒素
ガスを吹付けてメッキ処理を行った。

このとき、′ａ遮蔽板位置を種々変えて、そのときのス
プラッシュの発生の有無を評価した。結果を第１表にま
とめて示す。

（発明の効果）このように、本発明によれば、遮蔽板を設けること、お
よびその取り付は位置を一定の範囲内に調節することと
いう、簡単な構成によって、従来高速薄目付の開発のネ
ックとなっていた浴面スプラッシュをほぼ完全に防止で
き、例えばラインスピード１２０ｍ／ａ＋ｉｎ、目付１
１６０ｇ／＋ｍ”というめっき処理が可能となるのであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、一般的な連続溶融金属メッキ装置の概念図、第２図は、メッキ浴からのスプラッシュの発生状況を示
す模式図、第３図は、本発明に係る遮蔽板と金属ストリップおよび
メッキ浴面との位置関係を示す説明図、および、第４図は、本発明の方法における、遮蔽板のストリップ
からの距離とメッキ浴面からの距離との関係を示すグラ
フである。第１図菓２凹

Claims

【特許請求の範囲】

（１）溶融金属メッキ浴から連続的に引き上げられた金
属ストリップにワイピングノズルを介して気体を吹付け
てメッキ付着量を制御する連続溶融金属メッキ方法にお
いて、前記ワイピングノズルの下方に前記金属ストリッ
プに対し対向配置された少なくとも１の遮蔽板を設け、
その設置位置が次式を満足することを特徴とする、連続
溶融金属メッキ方法。Ｄ≧２０、０＜Ｈ≦３０００≦（Ｄ−Ｈ／５）≦３００ただし、Ｄ：ストリップと遮蔽板との間隔（ｍｍ）Ｈ：
浴面と遮蔽板との間隔（ｍｍ）
（２）前記遮蔽板を該溶融金属の融点以上の温度に加熱
する、特許請求の範囲第１項記載の方法。
（３）メッキ浴面から前記ワイピングノズル上までをシ
ールボックスで囲い、内部を非酸化性雰囲気とする、特
許請求の範囲第１項または第２項記載の方法。